JP3086013B2 - 光学性能測定方法および装置 - Google Patents
光学性能測定方法および装置Info
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- JP3086013B2 JP3086013B2 JP03185260A JP18526091A JP3086013B2 JP 3086013 B2 JP3086013 B2 JP 3086013B2 JP 03185260 A JP03185260 A JP 03185260A JP 18526091 A JP18526091 A JP 18526091A JP 3086013 B2 JP3086013 B2 JP 3086013B2
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- Japan
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- optical system
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- Instruments For Measurement Of Length By Optical Means (AREA)
- Testing Of Optical Devices Or Fibers (AREA)
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は光学系の性能を測定する
方法および装置に関する。
方法および装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】光学系の光学性能の測定方法、特にＭＴ
Ｆ（空間周波数特性）について測定する方法としては、
干渉計により被検光学系の透過波面収差を測定し、その
波面収差からＭＴＦを求める方法が知られており、その
一般的方法として、従来は「位相変調干渉法を用いた表
面形状計測」（「オプトロニクス」１９８９年１１月
号、４２〜４７頁）に記載されている。
Ｆ（空間周波数特性）について測定する方法としては、
干渉計により被検光学系の透過波面収差を測定し、その
波面収差からＭＴＦを求める方法が知られており、その
一般的方法として、従来は「位相変調干渉法を用いた表
面形状計測」（「オプトロニクス」１９８９年１１月
号、４２〜４７頁）に記載されている。
【０００３】図７はこの方法に使用されている従来の光
学性能測定装置であり、光源から出射したレーザービー
ムａは、光路途中のビームスプリッターｅにより２分さ
れ、一方は、被検光学系ｄを透過し反射鏡ｊで反射し物
体光として再び光路を戻る。２分された他方の光は精度
良く作られた参照鏡ｃで反射され参照光となる。そし
て、物体光と参照光はビームスプリッターｅで重合わさ
れて干渉する。このとき、回折の影響を抑えるためにこ
れらの光を結像レーザーｆに通過させた後、二次元の撮
像素子ｇに干渉縞を投影させる。撮像素子ｇで測定され
た干渉縞の強度情報は、コンピューターｉに送られる
が、この強度情報はコントローラーｈの制御により駆動
する位相変調素子ｂにより参照鏡ｃの位置を変化させた
ものであり、これにより強度情報は光路長を変化させた
状態においての情報となっている。この情報に基づいて
コンピューターｉが位相を計算し、被検光学系の透過波
面収差を計算する。
学性能測定装置であり、光源から出射したレーザービー
ムａは、光路途中のビームスプリッターｅにより２分さ
れ、一方は、被検光学系ｄを透過し反射鏡ｊで反射し物
体光として再び光路を戻る。２分された他方の光は精度
良く作られた参照鏡ｃで反射され参照光となる。そし
て、物体光と参照光はビームスプリッターｅで重合わさ
れて干渉する。このとき、回折の影響を抑えるためにこ
れらの光を結像レーザーｆに通過させた後、二次元の撮
像素子ｇに干渉縞を投影させる。撮像素子ｇで測定され
た干渉縞の強度情報は、コンピューターｉに送られる
が、この強度情報はコントローラーｈの制御により駆動
する位相変調素子ｂにより参照鏡ｃの位置を変化させた
ものであり、これにより強度情報は光路長を変化させた
状態においての情報となっている。この情報に基づいて
コンピューターｉが位相を計算し、被検光学系の透過波
面収差を計算する。
【０００４】図８はこの透過波面収差からＭＴＦを算出
するアルゴリズムであり、波面収差をフーリエ変換する
ことにより点像強度分布を求め、さらにフーリエ変換し
てＯＴＦ（光学的伝達関数）を求める。そしてこのＯＴ
Ｆの振幅情報を求めることによりＭＴＦを求めることが
できる。従って上述した一連の処理により、被検光学系
の透過波面収差からＭＴＦを求め、被検光学系の光学性
能を評価することができる。
するアルゴリズムであり、波面収差をフーリエ変換する
ことにより点像強度分布を求め、さらにフーリエ変換し
てＯＴＦ（光学的伝達関数）を求める。そしてこのＯＴ
Ｆの振幅情報を求めることによりＭＴＦを求めることが
できる。従って上述した一連の処理により、被検光学系
の透過波面収差からＭＴＦを求め、被検光学系の光学性
能を評価することができる。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来技
術では被検光学系の透過波面収差だけからＭＴＦを求め
るものであり、被検光学系のフレア成分が考慮されてい
ない。このため、被検光学系の光学性能を精度良く、正
確に測定することができない問題があった。
術では被検光学系の透過波面収差だけからＭＴＦを求め
るものであり、被検光学系のフレア成分が考慮されてい
ない。このため、被検光学系の光学性能を精度良く、正
確に測定することができない問題があった。
【０００６】本発明は上記事情を考慮してなされたもの
であり、被検光学系の光学性能を高精度に、正確に測定
することができる光学性能測定方法およびその装置に関
する。
であり、被検光学系の光学性能を高精度に、正確に測定
することができる光学性能測定方法およびその装置に関
する。
【０００７】
【課題を解決するための手段および作用】図１は本発明
の光学性能測定装置１の基本構成を示し、被検光学系の
透過波面収差を測定する干渉計部２と、被検光学系のフ
レア率を測定するフレア測定部３と、前記透過波面収差
から被検光学系のＭＴＦを算出し、このＭＴＦと前記フ
レア率とからフレア率を考慮したＭＴＦを算出する演算
部４と、この演算部で算出されたＭＴＦを表示する表示
部５とを備えている。
の光学性能測定装置１の基本構成を示し、被検光学系の
透過波面収差を測定する干渉計部２と、被検光学系のフ
レア率を測定するフレア測定部３と、前記透過波面収差
から被検光学系のＭＴＦを算出し、このＭＴＦと前記フ
レア率とからフレア率を考慮したＭＴＦを算出する演算
部４と、この演算部で算出されたＭＴＦを表示する表示
部５とを備えている。
【０００８】上記構成において、干渉計部２で被検光学
系の透過波面収差を測定し、フレア測定部３で被検光学
系のフレア率を測定する。そして、これらの測定値にも
とついて演算部４がフレア率を考慮したＭＴＦを算出
し、算出した値を表示部５が表示する。図２は演算部４
に処理のフローチャートを示し、干渉計部２で測定され
た被検光学系の透過波面収差６からＯＴＦ７を求める。
このＯＴＦの振幅情報を求めることによりＭＴＦ８を求
める。さらに、フレア測定部３で測定されたフレア率Ｅ
に基づき、ＭＴＦ８の値Ｍ０に対してフレア率を考慮し
たＭＴＦ９の値Ｍを式Ｍ＝２×Ｍ０／（２＋Ｅ×（１＋
Ｍ０））により求める。
系の透過波面収差を測定し、フレア測定部３で被検光学
系のフレア率を測定する。そして、これらの測定値にも
とついて演算部４がフレア率を考慮したＭＴＦを算出
し、算出した値を表示部５が表示する。図２は演算部４
に処理のフローチャートを示し、干渉計部２で測定され
た被検光学系の透過波面収差６からＯＴＦ７を求める。
このＯＴＦの振幅情報を求めることによりＭＴＦ８を求
める。さらに、フレア測定部３で測定されたフレア率Ｅ
に基づき、ＭＴＦ８の値Ｍ０に対してフレア率を考慮し
たＭＴＦ９の値Ｍを式Ｍ＝２×Ｍ０／（２＋Ｅ×（１＋
Ｍ０））により求める。
【０００９】
【実施例１】図３および図４は本発明の実施例１を示
し、図１および図２と同一要素は同一の符号を付して対
応させてある。図３は光学性能測定装置１の構成を示
し、干渉計部２と、フレア測定部３と、演算部としての
コンピュータ４と、表示部としてのモニター５とを備え
ている。干渉計部２はトワイマングリーン型構造が使用
されており、レーザー光源１１と、レーザー光源１１の
光源を広げるビームエキスパンダー１２と、ビームエキ
スパンダー１２からの光線を２光束に分けるビームスプ
リッター１３と、ビームスプリッター１３の一方の光路
に設けられた反射鏡１５と、ビームスプリッター１３の
他方の光路に設けられた参照鏡２４とを備えている。被
検光学系２５はビームスプリッター１３の一方の光路に
おける反射鏡１５の前側に挿入される。また、他方の光
路の参照鏡２４は精度良く作成されていると共に、コン
トローラー１８により駆動される位相変調素子１４を備
えており、同素子１４により参照鏡２４は光路長が変化
するように光路内で移動する。そして、この参照鏡２４
で反射した参照光と、被検光学系２５を通り、反射鏡１
５で反射した物体光とはビームスプリッター１３で重ね
合わせられて干渉し、結像レンズ１６を介して二次元の
撮像素子１７に入射し、同素子１７に干渉縞が投影され
る。撮像素子１７では干渉縞の強度を測定し、その強度
情報がコンピューター４に送られる。なお、結像レンズ
１６は回折の影響を抑制するために設けられるものであ
る。
し、図１および図２と同一要素は同一の符号を付して対
応させてある。図３は光学性能測定装置１の構成を示
し、干渉計部２と、フレア測定部３と、演算部としての
コンピュータ４と、表示部としてのモニター５とを備え
ている。干渉計部２はトワイマングリーン型構造が使用
されており、レーザー光源１１と、レーザー光源１１の
光源を広げるビームエキスパンダー１２と、ビームエキ
スパンダー１２からの光線を２光束に分けるビームスプ
リッター１３と、ビームスプリッター１３の一方の光路
に設けられた反射鏡１５と、ビームスプリッター１３の
他方の光路に設けられた参照鏡２４とを備えている。被
検光学系２５はビームスプリッター１３の一方の光路に
おける反射鏡１５の前側に挿入される。また、他方の光
路の参照鏡２４は精度良く作成されていると共に、コン
トローラー１８により駆動される位相変調素子１４を備
えており、同素子１４により参照鏡２４は光路長が変化
するように光路内で移動する。そして、この参照鏡２４
で反射した参照光と、被検光学系２５を通り、反射鏡１
５で反射した物体光とはビームスプリッター１３で重ね
合わせられて干渉し、結像レンズ１６を介して二次元の
撮像素子１７に入射し、同素子１７に干渉縞が投影され
る。撮像素子１７では干渉縞の強度を測定し、その強度
情報がコンピューター４に送られる。なお、結像レンズ
１６は回折の影響を抑制するために設けられるものであ
る。
【００１０】前記フレア測定部３は干渉計２のレーザー
光源１１と同一波長の光を出射する光源１９と、光源１
９からの光を平行光束とするコンデンサーレンズ２０
と、コンデンサーレンズ２０からの光が照射する標本２
１と、結像レンズ２２と、結像レンズ２２からの光が集
光する光電検出器２３とを備えている。ここで標本２１
はガラス板からなり、その中心に黒点塗装が施されてい
る。また、光電検出器２３は集光した光が入射するピン
ホールが中心に設けられ、その検出信号をコンピュータ
ー４に送出する。このようなフレア測定部３に対し、被
検光学系２５は標本２１と結像２２との間の光路内に挿
入される。
光源１１と同一波長の光を出射する光源１９と、光源１
９からの光を平行光束とするコンデンサーレンズ２０
と、コンデンサーレンズ２０からの光が照射する標本２
１と、結像レンズ２２と、結像レンズ２２からの光が集
光する光電検出器２３とを備えている。ここで標本２１
はガラス板からなり、その中心に黒点塗装が施されてい
る。また、光電検出器２３は集光した光が入射するピン
ホールが中心に設けられ、その検出信号をコンピュータ
ー４に送出する。このようなフレア測定部３に対し、被
検光学系２５は標本２１と結像２２との間の光路内に挿
入される。
【００１１】上記構造による光学性能測定は、まず被検
光学系２５を干渉計部２における図示の位置に挿入し、
レーザー光源１１から光を出射することにより行う。こ
のレーザー光源１１の光線はビームエキスパンダー１２
により広げられた後、光路途中のビームスプリッター１
３により２分され、一方は被検光学系２５を透過し反射
鏡１５で反射し物体光として再び光路を戻る。２分され
た他方の光は精度良く作られた参照鏡２４で反射され参
照光となる。これらの物体光と参照光はビームスプリッ
ター１３で重合わされて干渉する。このとき、回折の影
響を抑えるための結像レンズ１６を通した後、２次元の
撮像素子１７に干渉縞を投影する。撮像素子１７で測定
された干渉縞の強度情報は、コンピューター４に送られ
る。このとき、送られる強度情報はコントローラー１８
を通じた位相変調素子１４の駆動で参照鏡２４の位置を
変化させたものであり、光路長を変化させた状態におい
ての情報である。この情報に基づいてコンピューター４
が位相を計算し、被検光学系２５の透過波面収差を計算
する。次に被検光学系２５を干渉計部２から取り出し、
フレア測定部３における図示位置に配置し、光源１９か
ら光を出射する。この光源１９からの光はコンデンサー
レンズ２０を通って標本２１に照射する。この標本２１
の中心の黒点を被検光学系２５から結像レンズ２２を通
し、光電検出器２３に投影する。この標本２１上の黒点
の輝度情報と、何の塗装もしてない位置での輝度情報を
光電検出器２３で検出し、コンピューター４に送出し、
コンピューター４がフレア率を計算する。そして、コン
ピューター４ではフレア率を考慮したＭＴＦを算出し、
算出した値をモニター５が表示する。
光学系２５を干渉計部２における図示の位置に挿入し、
レーザー光源１１から光を出射することにより行う。こ
のレーザー光源１１の光線はビームエキスパンダー１２
により広げられた後、光路途中のビームスプリッター１
３により２分され、一方は被検光学系２５を透過し反射
鏡１５で反射し物体光として再び光路を戻る。２分され
た他方の光は精度良く作られた参照鏡２４で反射され参
照光となる。これらの物体光と参照光はビームスプリッ
ター１３で重合わされて干渉する。このとき、回折の影
響を抑えるための結像レンズ１６を通した後、２次元の
撮像素子１７に干渉縞を投影する。撮像素子１７で測定
された干渉縞の強度情報は、コンピューター４に送られ
る。このとき、送られる強度情報はコントローラー１８
を通じた位相変調素子１４の駆動で参照鏡２４の位置を
変化させたものであり、光路長を変化させた状態におい
ての情報である。この情報に基づいてコンピューター４
が位相を計算し、被検光学系２５の透過波面収差を計算
する。次に被検光学系２５を干渉計部２から取り出し、
フレア測定部３における図示位置に配置し、光源１９か
ら光を出射する。この光源１９からの光はコンデンサー
レンズ２０を通って標本２１に照射する。この標本２１
の中心の黒点を被検光学系２５から結像レンズ２２を通
し、光電検出器２３に投影する。この標本２１上の黒点
の輝度情報と、何の塗装もしてない位置での輝度情報を
光電検出器２３で検出し、コンピューター４に送出し、
コンピューター４がフレア率を計算する。そして、コン
ピューター４ではフレア率を考慮したＭＴＦを算出し、
算出した値をモニター５が表示する。
【００１２】図４はコンピューターによる演算処理のフ
ローチャートを示し、まず干渉計部２で測定された被検
光学系２５の透過波面収差６の値をフーリエ変換して、
点像強度分布１０を算出し、この点像強度分布１０をさ
らにフーリエ変換してＯＴＦ７を算出する。そして、こ
のＯＴＦ７の振幅情報を求めることによりＭＴＦのＭ０
値８を求める。さらに、このＭＴＦのＭ０値８に対して
フレア測定部３で測定されたフレア率Ｅを考慮したＭＴ
ＦのＭ値をＭ＝２×Ｍ０／（２＋Ｅ×（１＋Ｍ０））に
より算出する。
ローチャートを示し、まず干渉計部２で測定された被検
光学系２５の透過波面収差６の値をフーリエ変換して、
点像強度分布１０を算出し、この点像強度分布１０をさ
らにフーリエ変換してＯＴＦ７を算出する。そして、こ
のＯＴＦ７の振幅情報を求めることによりＭＴＦのＭ０
値８を求める。さらに、このＭＴＦのＭ０値８に対して
フレア測定部３で測定されたフレア率Ｅを考慮したＭＴ
ＦのＭ値をＭ＝２×Ｍ０／（２＋Ｅ×（１＋Ｍ０））に
より算出する。
【００１３】従って、このような本実施例では、被検光
学系のフレア成分を考慮したＭＴＦを算出するため、被
検光学系のＭＴＦを正確に測定することができる。ま
た、本実施例では、この演算をコンピューター４で統一
して行うことができるため、構成を簡単にすることがで
きる。
学系のフレア成分を考慮したＭＴＦを算出するため、被
検光学系のＭＴＦを正確に測定することができる。ま
た、本実施例では、この演算をコンピューター４で統一
して行うことができるため、構成を簡単にすることがで
きる。
【００１４】
【実施例２】図５は本発明の実施例２の構成を示し、実
施例１と同一の要素は同一の符号で対応させ、重複する
説明を省略する。この実施例２では干渉計部２をフィゾ
ー型構成としたものであり、ビームスプリッター１３と
被検光学計２５との間に参照板２６が配置されている。
参照板２６は片面に反射防止コーティングが施されたガ
ラス板からなり、その外周側にはコントローラ１８によ
り駆動される位相変調素子１４が取り付けられている。
施例１と同一の要素は同一の符号で対応させ、重複する
説明を省略する。この実施例２では干渉計部２をフィゾ
ー型構成としたものであり、ビームスプリッター１３と
被検光学計２５との間に参照板２６が配置されている。
参照板２６は片面に反射防止コーティングが施されたガ
ラス板からなり、その外周側にはコントローラ１８によ
り駆動される位相変調素子１４が取り付けられている。
【００１５】上記構成において、被検光学計２５を干渉
計部２の図示の位置に配置して測定を行う。レーザー光
源１１の光線はビームエキスパンダー１２により広げら
れた後、光路途中のビームスプリッター１３及び参照板
２６に導かれる。このとき、光は参照板２６を透過する
と共に反射するが、参照板２６の透過光は被検光学系２
５を透過し、反射鏡１５で反射し物体光として再び光路
を戻る。一方、参照板２６の反射光は、参照光となる。
これらの物体光と参照光は重合わされて干渉する。そし
て、回折の影響を抑えるための結像レーザー１６から二
次元の撮像素子１７に干渉縞が投影される。この撮像素
子１７で測定された干渉縞の強度情報はコンピューター
４に送られるが、このとき送られる強度情報はコントロ
ーラ１８を通じた位相変調素子１４の駆動で参照板２６
の位置を変化させたものであり、光路長を変化させた状
態においての情報である。この情報に基づいてコンピュ
ーター４が位相を計算し、被検光学系２５の透過波面収
差を計算する。次に、被検光学系２５を干渉計部２から
取り出し、フレア測定部３の図示位置に配置してフレア
率を測定するが、この測定は実施例１と同様なため説明
を省略する。
計部２の図示の位置に配置して測定を行う。レーザー光
源１１の光線はビームエキスパンダー１２により広げら
れた後、光路途中のビームスプリッター１３及び参照板
２６に導かれる。このとき、光は参照板２６を透過する
と共に反射するが、参照板２６の透過光は被検光学系２
５を透過し、反射鏡１５で反射し物体光として再び光路
を戻る。一方、参照板２６の反射光は、参照光となる。
これらの物体光と参照光は重合わされて干渉する。そし
て、回折の影響を抑えるための結像レーザー１６から二
次元の撮像素子１７に干渉縞が投影される。この撮像素
子１７で測定された干渉縞の強度情報はコンピューター
４に送られるが、このとき送られる強度情報はコントロ
ーラ１８を通じた位相変調素子１４の駆動で参照板２６
の位置を変化させたものであり、光路長を変化させた状
態においての情報である。この情報に基づいてコンピュ
ーター４が位相を計算し、被検光学系２５の透過波面収
差を計算する。次に、被検光学系２５を干渉計部２から
取り出し、フレア測定部３の図示位置に配置してフレア
率を測定するが、この測定は実施例１と同様なため説明
を省略する。
【００１６】本実施例によれば、実施例１に加えて、参
照光と物体光が共通光路となるため振動の影響や、参照
光路により誤差の影響を低減できるメリットがある。
照光と物体光が共通光路となるため振動の影響や、参照
光路により誤差の影響を低減できるメリットがある。
【００１７】
【実施例３】図６は本発明の実施例３を示し、実施例２
と同一の要素は同一の符号で対応させてある。この実施
例３では干渉計部２の光路と、フレア測定部３の光路と
が直交するように配置される。そして、これらの光路の
交差点部分に被検光学系２５が配置される。被検光学系
２５は回転治具２７に保持された状態で図示位置に配置
され、回転治具２７の回転により、干渉計部２の光路か
らフレア測定部３の光路に切り替えることが可能となっ
ている。従って、この実施例３では、干渉計部２とフレ
ア測定部３との間で被検光学系２５を移し替える必要が
なくなり、その着脱操作が不要となるため、測定を迅速
に行うことができる。
と同一の要素は同一の符号で対応させてある。この実施
例３では干渉計部２の光路と、フレア測定部３の光路と
が直交するように配置される。そして、これらの光路の
交差点部分に被検光学系２５が配置される。被検光学系
２５は回転治具２７に保持された状態で図示位置に配置
され、回転治具２７の回転により、干渉計部２の光路か
らフレア測定部３の光路に切り替えることが可能となっ
ている。従って、この実施例３では、干渉計部２とフレ
ア測定部３との間で被検光学系２５を移し替える必要が
なくなり、その着脱操作が不要となるため、測定を迅速
に行うことができる。
【００１８】
【発明の効果】本発明は被検光学系のフレア成分を考慮
したＭＴＦを測定できるため、高精度の測定を行いこと
ができる。
したＭＴＦを測定できるため、高精度の測定を行いこと
ができる。
【図１】本発明の基本構成を示すブロック図。
【図２】演算部での処理を示すフローチャート。
【図３】本発明の実施例１の構成を示す光路図。
【図４】実施例１の演算処理を示すフローチャート。
【図５】本発明の実施例２の構成を示す光路図。
【図６】本発明の実施例３の構成を示す光路図。
【図７】従来装置の構成を示す光路図。
【図８】従来装置の演算処理のフローチャート。
１ 光学性能測定装置 ２ 干渉計部 ３ フレア測定部 ４ 演算部 ５ 表示部
フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) G01M 11/00 - 11/02 G01B 9/00 - 11/00 ＪＩＣＳＴファイル（ＪＯＩＳ)
Claims (2)
- 【請求項１】 被検光学系の透過波面収差から被検光学
系のＭＴＦ値Ｍ０を測定すると共に、前記被検光学系の
フレア率Ｅを測定し、式Ｍ＝２×Ｍ０／（２＋Ｅ×（１
＋Ｍ０））によりフレア率を考慮したＭＴＦ値Ｍを算出
することを特徴とする光学性能測定方法。 - 【請求項２】 被検光学系の透過波面収差を測定する干
渉計部と、被検光学系のフレア率を測定するフレア測定
部、前記透過波面収差から被検光学系のＭＴＦを算出
し、このＭＴＦと前記フレア率とからフレア率を考慮し
たＭＴＦを算出する演算部と、この演算部で算出された
ＭＴＦを表示する表示部とを備えていることを特徴とす
る光学性能測定装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP03185260A JP3086013B2 (ja) | 1991-06-28 | 1991-06-28 | 光学性能測定方法および装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP03185260A JP3086013B2 (ja) | 1991-06-28 | 1991-06-28 | 光学性能測定方法および装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0510850A JPH0510850A (ja) | 1993-01-19 |
| JP3086013B2 true JP3086013B2 (ja) | 2000-09-11 |
Family
ID=16167712
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP03185260A Expired - Fee Related JP3086013B2 (ja) | 1991-06-28 | 1991-06-28 | 光学性能測定方法および装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3086013B2 (ja) |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| FR2472601A1 (fr) * | 1979-12-27 | 1981-07-03 | Rhone Poulenc Ind | Procede de fabrication de compositions de polissage a base de cerium |
| WO2006075869A1 (en) * | 2005-01-11 | 2006-07-20 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Apparatus and method for ciphering/deciphering a signal in a communication system |
-
1991
- 1991-06-28 JP JP03185260A patent/JP3086013B2/ja not_active Expired - Fee Related
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| JPH0510850A (ja) | 1993-01-19 |
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