JP3073376B2 - 成膜装置の基板搬送装置 - Google Patents
成膜装置の基板搬送装置Info
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- JP3073376B2 JP3073376B2 JP27949793A JP27949793A JP3073376B2 JP 3073376 B2 JP3073376 B2 JP 3073376B2 JP 27949793 A JP27949793 A JP 27949793A JP 27949793 A JP27949793 A JP 27949793A JP 3073376 B2 JP3073376 B2 JP 3073376B2
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Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、プラズマＣＶＤ（chem
ical vapor deposition,化学蒸着）装置、スパッタリン
グ装置など、真空中で薄膜を形成する成膜装置の真空容
器内へ、ガラス、シリコンウエハー基板等を搬送するた
めの基板搬送装置に関するものである。
ical vapor deposition,化学蒸着）装置、スパッタリン
グ装置など、真空中で薄膜を形成する成膜装置の真空容
器内へ、ガラス、シリコンウエハー基板等を搬送するた
めの基板搬送装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】従来、プラズマＣＶＤ装置、スパッタリ
ング装置などの真空容器への基板の出し入れを行う場
合、一般に基板を基板ホルダーに固定し、該基板ホルダ
ーを基板と一緒に搬送する方法が採用されている。
ング装置などの真空容器への基板の出し入れを行う場
合、一般に基板を基板ホルダーに固定し、該基板ホルダ
ーを基板と一緒に搬送する方法が採用されている。
【０００３】図１０は従来の成膜装置の斜視図である。
図に示すように、成膜は真空容器０１内で行うようにし
ており、開閉自在の扉０２には電極０３が設けられてい
る。基板０４を搬送するためには、通常基板ホルダー０
５に複数の基板０４を取付け、この基板ホルダー０５を
真空容器０１内の上部に設けられた基板搬送部０６に吊
下げることによって、図示しない移動装置によって基板
搬送部０６と共に移動するようにしている。真空容器０
１の中央には加熱ヒータ０７が設けられている。搬送部
０６に吊り下げられた基板ホルダー０５が加熱ヒータ０
７と電極０３との間に移動していき停止した後に、基板
０４上に成膜が施される。
図に示すように、成膜は真空容器０１内で行うようにし
ており、開閉自在の扉０２には電極０３が設けられてい
る。基板０４を搬送するためには、通常基板ホルダー０
５に複数の基板０４を取付け、この基板ホルダー０５を
真空容器０１内の上部に設けられた基板搬送部０６に吊
下げることによって、図示しない移動装置によって基板
搬送部０６と共に移動するようにしている。真空容器０
１の中央には加熱ヒータ０７が設けられている。搬送部
０６に吊り下げられた基板ホルダー０５が加熱ヒータ０
７と電極０３との間に移動していき停止した後に、基板
０４上に成膜が施される。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】前述した従来技術に係
る搬送方法では、基板ホルダー０５に基板０４を取り付
けるのに手間がかかり、自動化するためには非常に複雑
なロボットが必要になる。また、基板０４の代表例とし
て例えばガラスを真空中で加熱する場合、基板ホルダー
０５も一緒に加熱することになり、搬送系のトラブルの
原因になるばかりか、ガラスが割れる原因となる。特に
大面積基板は割れやすい。さらに、ガラスのみを加熱及
び冷却する場合に比べて、基板ホルダー０５に取り付け
て加熱等を行う場合は長い処理時間を要する。また、基
板ホルダー０５が真空容器０１内を移動するため、不純
物の混入の原因と成ると共に、基板を取り付けた基板ホ
ルダー０５を出口から入口へ戻さなければならないとい
う問題がある。
る搬送方法では、基板ホルダー０５に基板０４を取り付
けるのに手間がかかり、自動化するためには非常に複雑
なロボットが必要になる。また、基板０４の代表例とし
て例えばガラスを真空中で加熱する場合、基板ホルダー
０５も一緒に加熱することになり、搬送系のトラブルの
原因になるばかりか、ガラスが割れる原因となる。特に
大面積基板は割れやすい。さらに、ガラスのみを加熱及
び冷却する場合に比べて、基板ホルダー０５に取り付け
て加熱等を行う場合は長い処理時間を要する。また、基
板ホルダー０５が真空容器０１内を移動するため、不純
物の混入の原因と成ると共に、基板を取り付けた基板ホ
ルダー０５を出口から入口へ戻さなければならないとい
う問題がある。
【０００５】本発明は以上述べた従来技術の欠点を解消
し、基板ホルダーを不要とし、大面積基板でも割れがな
く、真空容器内への不純物の混入を防止し、且つ基板加
熱及び冷却に要する時間の短縮を図った成膜装置の基板
搬送装置を提供することを目的とする。
し、基板ホルダーを不要とし、大面積基板でも割れがな
く、真空容器内への不純物の混入を防止し、且つ基板加
熱及び冷却に要する時間の短縮を図った成膜装置の基板
搬送装置を提供することを目的とする。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明は上記課題を解決
したものであって、真空容器内でヒータと電極との間で
基板に成膜を施す成膜装置のヒータの加熱面へ基板を搬
送する装置において、基板を安定する角度に傾けて保持
し上記ヒータに平行かつ水平の方向へ移動することので
きる台車、同台車を上記方向で移動させる駆動装置、上
記ヒータの加熱面に向き合う位置に設けられたポジショ
ナー、及び上記台車に保持された基板に対しほぼ直交す
る斜め上方へ向けて上記ポジショナーを移動させる斜め
送り装置からなり、同斜め送り装置は、上記台車が上記
ヒータとポジショナーの間に到着した時、上記ポジショ
ナーを上記台車上の基板の方向へ移動させ、台車上の同
基板を保持させ、更に同ポジショナーを移動させてそれ
が保持している上記基板をヒータの加熱面に密着させ、
かつ、上記駆動装置は、空になった上記台車を元に返す
ことを特徴とする成膜装置の基板搬送装置に関するもの
である。
したものであって、真空容器内でヒータと電極との間で
基板に成膜を施す成膜装置のヒータの加熱面へ基板を搬
送する装置において、基板を安定する角度に傾けて保持
し上記ヒータに平行かつ水平の方向へ移動することので
きる台車、同台車を上記方向で移動させる駆動装置、上
記ヒータの加熱面に向き合う位置に設けられたポジショ
ナー、及び上記台車に保持された基板に対しほぼ直交す
る斜め上方へ向けて上記ポジショナーを移動させる斜め
送り装置からなり、同斜め送り装置は、上記台車が上記
ヒータとポジショナーの間に到着した時、上記ポジショ
ナーを上記台車上の基板の方向へ移動させ、台車上の同
基板を保持させ、更に同ポジショナーを移動させてそれ
が保持している上記基板をヒータの加熱面に密着させ、
かつ、上記駆動装置は、空になった上記台車を元に返す
ことを特徴とする成膜装置の基板搬送装置に関するもの
である。
【０００７】
【作用】前記構成において、台車上に基板を斜めに立て
かけた状態で保持し、台車を真空容器内に移動させる。
基板をヒータとポジショナーの間へ移動させた後、ポジ
ショナーを斜め上方へ移動させて基板をポジショナーに
受渡し、該ポジショナーを移動させて加熱ヒータと密着
させ成膜処理等の基板処理を行う。これによって従来用
いていた基板を保持するための基板ホルダーが不要とな
る。
かけた状態で保持し、台車を真空容器内に移動させる。
基板をヒータとポジショナーの間へ移動させた後、ポジ
ショナーを斜め上方へ移動させて基板をポジショナーに
受渡し、該ポジショナーを移動させて加熱ヒータと密着
させ成膜処理等の基板処理を行う。これによって従来用
いていた基板を保持するための基板ホルダーが不要とな
る。
【０００８】
【実施例】図１は本発明の一実施例に係る成膜装置の斜
視図である。本実施例の成膜装置は、プラズマＣＶＤ装
置等に応用する装置の一例を示したものである。図には
真空容器の内部に配置されている内部機構のみを示して
いる。真空容器自体は図示していない。１１は真空容器
の内部中央に設けられているヒータであり、両面に熱を
伝えるものである。１２はヒータ１１の両側に設けられ
ているポジショナーであり、成膜処理の時、基板を保持
するものである。１３は台車、１７は同台車に設けられ
ている基板支持棒、１４は同台車上に載せられている基
板、２６は基板位置決め爪である。２２はポジショナー
１２に取付けられている支持アーム、２３は真空容器の
外部から駆動される斜め送り装置である。また２５はポ
ジショナーに設けられている切欠きであり、ポジショナ
ーが移動した時基板位置決め爪との接触を避けるために
設けられているものである。
視図である。本実施例の成膜装置は、プラズマＣＶＤ装
置等に応用する装置の一例を示したものである。図には
真空容器の内部に配置されている内部機構のみを示して
いる。真空容器自体は図示していない。１１は真空容器
の内部中央に設けられているヒータであり、両面に熱を
伝えるものである。１２はヒータ１１の両側に設けられ
ているポジショナーであり、成膜処理の時、基板を保持
するものである。１３は台車、１７は同台車に設けられ
ている基板支持棒、１４は同台車上に載せられている基
板、２６は基板位置決め爪である。２２はポジショナー
１２に取付けられている支持アーム、２３は真空容器の
外部から駆動される斜め送り装置である。また２５はポ
ジショナーに設けられている切欠きであり、ポジショナ
ーが移動した時基板位置決め爪との接触を避けるために
設けられているものである。
【０００９】図２は上記実施例の側面図である。図にお
いて、１５は台車に取付けられているガイドローラー、
１６は同ガイドローラーがその上を転動するガイドレー
ル、２０は台車に設けられている駆動力伝達部（ラッ
ク）、２１は同伝達部を介して台車１３を移動させる駆
動装置（ピニオン）である。１８はポジショナー１２に
設けられている爪であり、基板を取付けるためのもので
ある。１９はヒータ１１に設けられている窪みであり、
前記の爪１８が挿入される部分である。
いて、１５は台車に取付けられているガイドローラー、
１６は同ガイドローラーがその上を転動するガイドレー
ル、２０は台車に設けられている駆動力伝達部（ラッ
ク）、２１は同伝達部を介して台車１３を移動させる駆
動装置（ピニオン）である。１８はポジショナー１２に
設けられている爪であり、基板を取付けるためのもので
ある。１９はヒータ１１に設けられている窪みであり、
前記の爪１８が挿入される部分である。
【００１０】図１および図２におけるＺ軸は装置の鉛直
軸、Ｙ軸は装置の前後方向水平軸、Ｘ軸は装置の横方向
水平軸であり、かつ台車１３の移動方向、矢印θ方向
は、前記Ｙ軸と角θをなす斜め上方向きの方向であり、
前記斜め送り装置２３によって行われるポジショナー１
２の移動方向である。台車１３の基板支持棒１７も鉛直
に対して角θだけ傾斜して基板を保持している。台車が
移動した時、基板はポジショナーの移動方向（θ方向）
と直交する。角θは約１０度である。斜め送り装置２３
は真空容器の外部から図示していない油圧装置等によっ
て駆動される。
軸、Ｙ軸は装置の前後方向水平軸、Ｘ軸は装置の横方向
水平軸であり、かつ台車１３の移動方向、矢印θ方向
は、前記Ｙ軸と角θをなす斜め上方向きの方向であり、
前記斜め送り装置２３によって行われるポジショナー１
２の移動方向である。台車１３の基板支持棒１７も鉛直
に対して角θだけ傾斜して基板を保持している。台車が
移動した時、基板はポジショナーの移動方向（θ方向）
と直交する。角θは約１０度である。斜め送り装置２３
は真空容器の外部から図示していない油圧装置等によっ
て駆動される。
【００１１】図３は上記実施例におけるポジショナー１
２の斜視図、図４は同ポジショナーの二面図であり、同
図（ａ）は正面図、同図（ｂ）は側面図である。ポジシ
ョナー１２の中央部は基板１４と同じ寸法に切欠かれて
おり、その下端部は基板受取りの際、台車１３をかわす
ために基板と同じ幅で切取られている。２９はポジショ
ナー１２の中央欠落部の四隅に設けられている止め部で
あって、基板を保持する部分、図中の点線２４は基板外
形、２５は基板位置決め爪２６をかわすための切欠きで
ある。
２の斜視図、図４は同ポジショナーの二面図であり、同
図（ａ）は正面図、同図（ｂ）は側面図である。ポジシ
ョナー１２の中央部は基板１４と同じ寸法に切欠かれて
おり、その下端部は基板受取りの際、台車１３をかわす
ために基板と同じ幅で切取られている。２９はポジショ
ナー１２の中央欠落部の四隅に設けられている止め部で
あって、基板を保持する部分、図中の点線２４は基板外
形、２５は基板位置決め爪２６をかわすための切欠きで
ある。
【００１２】図５は台車１３とポジショナー１２とが接
近した状態における相互位置関係を示す図であり、同図
（ａ）は正面図、同図（ｂ）はポジショナーの側面図、
同図（ｃ）は台車の一部の側面図である。本図は基板位
置決め爪２６と切欠き２５の相互位置関係を示したもの
である。
近した状態における相互位置関係を示す図であり、同図
（ａ）は正面図、同図（ｂ）はポジショナーの側面図、
同図（ｃ）は台車の一部の側面図である。本図は基板位
置決め爪２６と切欠き２５の相互位置関係を示したもの
である。
【００１３】図６は上記実施例におけるポジショナーの
他の形状例を示す斜視図で、１２’は左右に分離したポ
ジショナーである。基板を保持することができ、かつ台
車とポジショナーとが接触しない形状であればよい。図
に示すように爪１８と斜め送り装置２３があればポジシ
ョナーとして成立する。図示のもの以外にも色々な形状
が考えられる。
他の形状例を示す斜視図で、１２’は左右に分離したポ
ジショナーである。基板を保持することができ、かつ台
車とポジショナーとが接触しない形状であればよい。図
に示すように爪１８と斜め送り装置２３があればポジシ
ョナーとして成立する。図示のもの以外にも色々な形状
が考えられる。
【００１４】基板１４は平板のガラスなどが使用され、
台車１３の上方に角θ（約１０°）傾斜して伸びた基板
支持棒１７に立て掛けられた状態で基板位置決め爪２６
により着脱自在に固定され、加熱ヒータ１１と平行なＸ
軸方向に搬送されるものである。この基板搬送台車１３
は、図２に示すように、真空容器内底部に設けられたガ
イドレール１６上にガイドローラ（車輪等）１５を介し
て載置された台であり、その横方向には駆動伝達部２０
が設けられ、真空容器の底外部より貫通して立設された
駆動装置２１に接している。この駆動装置２１はガイド
レール１６に従って、複数個が一定の間隔（搬送台車１
３の駆動伝達部２０の長さより狭い）で配置され、外部
より回転力が伝えられることにて、駆動装置２１が回転
し、この回転力が駆動伝達部２０に伝わり基板搬送台車
１３を移動するようにしている。本実施例における駆動
装置にはピニオン、また駆動伝達部２０にはラックなど
を使用した場合を示しているが、これらはそれぞれロー
ラ、平板に置き換えても良く、また必要に応じてその他
の伝達手段を使用しても良い。
台車１３の上方に角θ（約１０°）傾斜して伸びた基板
支持棒１７に立て掛けられた状態で基板位置決め爪２６
により着脱自在に固定され、加熱ヒータ１１と平行なＸ
軸方向に搬送されるものである。この基板搬送台車１３
は、図２に示すように、真空容器内底部に設けられたガ
イドレール１６上にガイドローラ（車輪等）１５を介し
て載置された台であり、その横方向には駆動伝達部２０
が設けられ、真空容器の底外部より貫通して立設された
駆動装置２１に接している。この駆動装置２１はガイド
レール１６に従って、複数個が一定の間隔（搬送台車１
３の駆動伝達部２０の長さより狭い）で配置され、外部
より回転力が伝えられることにて、駆動装置２１が回転
し、この回転力が駆動伝達部２０に伝わり基板搬送台車
１３を移動するようにしている。本実施例における駆動
装置にはピニオン、また駆動伝達部２０にはラックなど
を使用した場合を示しているが、これらはそれぞれロー
ラ、平板に置き換えても良く、また必要に応じてその他
の伝達手段を使用しても良い。
【００１５】本装置は次のようにして用いられる。搬送
台車１３は基板１４を保持した状態でＸ方向に移動し、
基板１４が加熱ヒータ１１とポジショナー１３との間の
所定位置に達したとき停止する。図２はこの状態を示し
た側面図である。
台車１３は基板１４を保持した状態でＸ方向に移動し、
基板１４が加熱ヒータ１１とポジショナー１３との間の
所定位置に達したとき停止する。図２はこの状態を示し
た側面図である。
【００１６】次いで真空容器の底外部より貫通して設け
られた斜め送り装置２３がポジショナーをθ方向に移動
させる。ポジショナー１２は台車１３を図５（ａ）の位
置関係でかわし、基板１４のみを受取り成膜装置に固定
する。基板１４はそれぞれ１枚ずつ両面加熱用のヒータ
１１の両面に位置しているポジショナー１２に受け渡さ
れ、ヒータ１１に押しあてられ、加熱される。このとき
ポジショナー１２の爪１８はヒータ１１に設けられた窪
み１９に収納されるので、基板はヒータに密着する。図
７はこの状態を示した側面図である。図において２７は
ヒータに密着させられた基板１４の位置、すなわち成膜
位置であり、この時、ポジショナー１２は基板１４の背
後に密接している。２８は基板搬送位置（基板の元の位
置）、３０はポジショナーの元の位置である。
られた斜め送り装置２３がポジショナーをθ方向に移動
させる。ポジショナー１２は台車１３を図５（ａ）の位
置関係でかわし、基板１４のみを受取り成膜装置に固定
する。基板１４はそれぞれ１枚ずつ両面加熱用のヒータ
１１の両面に位置しているポジショナー１２に受け渡さ
れ、ヒータ１１に押しあてられ、加熱される。このとき
ポジショナー１２の爪１８はヒータ１１に設けられた窪
み１９に収納されるので、基板はヒータに密着する。図
７はこの状態を示した側面図である。図において２７は
ヒータに密着させられた基板１４の位置、すなわち成膜
位置であり、この時、ポジショナー１２は基板１４の背
後に密接している。２８は基板搬送位置（基板の元の位
置）、３０はポジショナーの元の位置である。
【００１７】この状態で台車を成膜室から基板を運んで
来た元の室へ戻せば、基板１４だけが残ることとなり、
その後基板１４に成膜が施される。図８は成膜室に基板
が残されている状態を示す側面図である。プラズマＣＶ
Ｄ装置にこの搬送手段を用いる事により、基板１４への
不純物の混入を最小限に抑えることが可能となり、加熱
冷却時間の短縮によって処理速度を上げることができ
る。
来た元の室へ戻せば、基板１４だけが残ることとなり、
その後基板１４に成膜が施される。図８は成膜室に基板
が残されている状態を示す側面図である。プラズマＣＶ
Ｄ装置にこの搬送手段を用いる事により、基板１４への
不純物の混入を最小限に抑えることが可能となり、加熱
冷却時間の短縮によって処理速度を上げることができ
る。
【００１８】このように、台車１３によりＸ軸方向へ基
板１４を運搬し、ポジショナー１２をθ方向へ移動する
とヒータ１１に基板１４だけがセットされる。さらに成
膜終了後は台車を定位置に置き、ポジショナー１２をθ
下方へ戻せば、基板１４が台車１３に戻る。図９は再び
台車を成膜室へ移動し、ポジショナーを後退させ、台車
に基板を受け渡した状態を示す側面図である。この後基
板は台車によって他の室へ移動される。
板１４を運搬し、ポジショナー１２をθ方向へ移動する
とヒータ１１に基板１４だけがセットされる。さらに成
膜終了後は台車を定位置に置き、ポジショナー１２をθ
下方へ戻せば、基板１４が台車１３に戻る。図９は再び
台車を成膜室へ移動し、ポジショナーを後退させ、台車
に基板を受け渡した状態を示す側面図である。この後基
板は台車によって他の室へ移動される。
【００１９】以上詳しく述べたように、実施例によれ
ば、基板ホルダーを使用することなく基板処理を施すこ
とができるので、真空容器内の不純物の混入を最小限に
抑え、大面積基板においても割れることなく、基板加熱
及び冷却に関する時間を短縮できる。また、従来の基板
ホルダーのリターン機能が不要な真空用基板搬送装置が
可能となり、例えば大面積のプラズマＣＶＤ装置及びス
パッタリングなどの真空を要する薄膜製造装置に用いて
極めて有効である。
ば、基板ホルダーを使用することなく基板処理を施すこ
とができるので、真空容器内の不純物の混入を最小限に
抑え、大面積基板においても割れることなく、基板加熱
及び冷却に関する時間を短縮できる。また、従来の基板
ホルダーのリターン機能が不要な真空用基板搬送装置が
可能となり、例えば大面積のプラズマＣＶＤ装置及びス
パッタリングなどの真空を要する薄膜製造装置に用いて
極めて有効である。
【００２０】
【発明の効果】本発明の成膜装置の基板搬送装置におい
ては、基板を安定する角度に傾けて保持しヒータに平行
かつ水平の方向へ移動することのできる台車、同台車を
上記方向で移動させる駆動装置、上記ヒータの加熱面に
向き合う位置に設けられたポジショナー、及び上記台車
に保持された基板に対しほぼ直交する斜め上方へ向けて
上記ポジショナーを移動させる斜め送り装置からなり、
同斜め送り装置は、上記台車が上記ヒータとポジショナ
ーの間に到着した時、上記ポジショナーを上記台車上の
基板の方向へ移動させ、台車上の同基板を保持させ、更
に同ポジショナーを移動させてそれが保持している上記
基板をヒータの加熱面に密着させ、かつ、上記駆動装置
は、空になった上記台車を元に返すので、基板ホルダー
を使用することなく基板処理を施すことができるので、
真空容器内の不純物の混入を最小限に抑え、大面積基板
においても割れることなく、基板加熱及び冷却に関する
時間を短縮できる。
ては、基板を安定する角度に傾けて保持しヒータに平行
かつ水平の方向へ移動することのできる台車、同台車を
上記方向で移動させる駆動装置、上記ヒータの加熱面に
向き合う位置に設けられたポジショナー、及び上記台車
に保持された基板に対しほぼ直交する斜め上方へ向けて
上記ポジショナーを移動させる斜め送り装置からなり、
同斜め送り装置は、上記台車が上記ヒータとポジショナ
ーの間に到着した時、上記ポジショナーを上記台車上の
基板の方向へ移動させ、台車上の同基板を保持させ、更
に同ポジショナーを移動させてそれが保持している上記
基板をヒータの加熱面に密着させ、かつ、上記駆動装置
は、空になった上記台車を元に返すので、基板ホルダー
を使用することなく基板処理を施すことができるので、
真空容器内の不純物の混入を最小限に抑え、大面積基板
においても割れることなく、基板加熱及び冷却に関する
時間を短縮できる。
【図１】本発明の一実施例に係る成膜装置の斜視図。
【図２】上記実施例の側面図。
【図３】上記実施例におけるポジショナーの斜視図。
【図４】同ポジショナーの二面図。（ａ）は正面図、
（ｂ）は側面図。
（ｂ）は側面図。
【図５】上記実施例において、台車とポジショナーとが
接近した状態における相互位置関係を示す図。（ａ）は
正面図、（ｂ）はポジショナーの側面図、（ｃ）は台車
の一部の側面図。
接近した状態における相互位置関係を示す図。（ａ）は
正面図、（ｂ）はポジショナーの側面図、（ｃ）は台車
の一部の側面図。
【図６】上記実施例におけるポジショナーの他の形状例
を示す斜視図。
を示す斜視図。
【図７】上記実施例の作用説明図。
【図８】上記実施例の作用説明図。
【図９】上記実施例の作用説明図。
【図１０】従来の成膜装置の斜視図。
０１ 従来の真空容器 ０２ 従来の扉 ０３ 従来の電極 ０４ 従来の基板 ０５ 従来の基板ホルダー ０６ 従来の基板搬送部 ０７ 従来の加熱ヒータ １１ ヒータ １２ ポジショナー １３ 台車 １４ 基板 １５ ガイドローラ １６ ガイドレール １７ 基板支持棒 １８ 爪 １９ 窪み ２０ 駆動力伝達部 ２１ 駆動装置 ２２ 支持アーム ２３ 斜め送り装置 ２４ 基板外形 ２５ 基板位置決め爪用切欠き ２６ 基板位置決め爪 ２７ 成膜装置 ２８ 基板搬送装置（基板の元の位置） ２９ 止め部 ３０ ポジショナーの元の位置
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ Ｈ０１Ｌ 21/68 Ｈ０１Ｌ 21/68 Ｎ (72)発明者 近藤 敬宣 長崎市飽の浦町１番１号 三菱重工業株 式会社長崎造船所内 (72)発明者 縄田 芳一 長崎市飽の浦町１番１号 三菱重工業株 式会社長崎造船所内 (56)参考文献 特開 平１−208466（ＪＰ，Ａ) 実開 平１−114670（ＪＰ，Ｕ) (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) C23C 14/00 - 14/58 B01J 3/02 C23C 16/44 C30B 25/12 H01L 21/68
Claims (1)
- 【請求項１】 真空容器内でヒータと電極との間で基板
に成膜を施す成膜装置のヒータの加熱面へ基板を搬送す
る装置において、基板を安定する角度に傾けて保持し上
記ヒータに平行かつ水平の方向へ移動することのできる
台車、同台車を上記方向で移動させる駆動装置、上記ヒ
ータの加熱面に向き合う位置に設けられたポジショナ
ー、及び上記台車に保持された基板に対しほぼ直交する
斜め上方へ向けて上記ポジショナーを移動させる斜め送
り装置からなり、同斜め送り装置は、上記台車が上記ヒ
ータとポジショナーの間に到着した時、上記ポジショナ
ーを上記台車上の基板の方向へ移動させ、台車上の同基
板を保持させ、更に同ポジショナーを移動させてそれが
保持している上記基板をヒータの加熱面に密着させ、か
つ、上記駆動装置は、空になった上記台車を元に返すこ
とを特徴とする成膜装置の基板搬送装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP27949793A JP3073376B2 (ja) | 1993-11-09 | 1993-11-09 | 成膜装置の基板搬送装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP27949793A JP3073376B2 (ja) | 1993-11-09 | 1993-11-09 | 成膜装置の基板搬送装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07126848A JPH07126848A (ja) | 1995-05-16 |
| JP3073376B2 true JP3073376B2 (ja) | 2000-08-07 |
Family
ID=17611877
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP27949793A Expired - Fee Related JP3073376B2 (ja) | 1993-11-09 | 1993-11-09 | 成膜装置の基板搬送装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3073376B2 (ja) |
Families Citing this family (4)
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-
1993
- 1993-11-09 JP JP27949793A patent/JP3073376B2/ja not_active Expired - Fee Related
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