JP3055891B2 - 一体化プレ・イオナイザを有する小型エキシマレーザ絶縁体 - Google Patents
一体化プレ・イオナイザを有する小型エキシマレーザ絶縁体Info
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Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は一般的にはレーザに
関し、より詳しく述べれば、エキシマレーザシステムに
おいてガスをプレ・イオン化する装置に関する。
関し、より詳しく述べれば、エキシマレーザシステムに
おいてガスをプレ・イオン化する装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】レーザはいろいろな応用に広範に、そし
て拡張的に使用されている。例えば、レーザは、目の裂
傷または網膜剥離の治療、または動脈からのプラクの除
去のような、種々な医療応用に使用されている。またレ
ーザは、半導体の製造にも使用され、半導体層の表面上
に電気回路のパターンを発生させたり、半導体内の精密
な位置に孔をあけたりしている。レーザは、それらが波
長の狭い帯域内で高強度のコヒーレント放射を生成する
ので、これらの及び他の応用に有利である。一般にレー
ザシステムは、レーザの陽極と陰極との間に放電を発生
させる時にキャビティ内のガスのイオン化及び化学反応
を容易にするために、レーザ内のガスをプレ・イオン化
するサブシステムを含んでいる。プレ・イオナイザは、
キャビティ内のガスにコロナ放電を導く少なくとも１つ
の管を含むことができる。コロナ放電は、管の内側の導
体と、管の外側の少なくとも１つの導体との間に電圧パ
ルスを好ましく印加した時に発生する。管の両端付近に
はブシュが配置されていて、管を絶縁された関係に維持
する。管には、管をレーザ内の特定の位置に関連付ける
部材が設けられている。
て拡張的に使用されている。例えば、レーザは、目の裂
傷または網膜剥離の治療、または動脈からのプラクの除
去のような、種々な医療応用に使用されている。またレ
ーザは、半導体の製造にも使用され、半導体層の表面上
に電気回路のパターンを発生させたり、半導体内の精密
な位置に孔をあけたりしている。レーザは、それらが波
長の狭い帯域内で高強度のコヒーレント放射を生成する
ので、これらの及び他の応用に有利である。一般にレー
ザシステムは、レーザの陽極と陰極との間に放電を発生
させる時にキャビティ内のガスのイオン化及び化学反応
を容易にするために、レーザ内のガスをプレ・イオン化
するサブシステムを含んでいる。プレ・イオナイザは、
キャビティ内のガスにコロナ放電を導く少なくとも１つ
の管を含むことができる。コロナ放電は、管の内側の導
体と、管の外側の少なくとも１つの導体との間に電圧パ
ルスを好ましく印加した時に発生する。管の両端付近に
はブシュが配置されていて、管を絶縁された関係に維持
する。管には、管をレーザ内の特定の位置に関連付ける
部材が設けられている。
【０００３】現在使用されているプレ・イオナイザは、
若干の固有の欠陥を有している。多くのシステムではブ
シュは管と同質ではないので、接着剤による等によって
ブシュを管に取付ける必要がある。接着剤はコロナ環境
の効果の下で劣化する傾向があるので、これは特に長期
間にわたるプレ・イオナイザの使用を制限する。接着剤
のこの劣化はレーザガスを汚染させ、ガスをより屡々交
換することが必要になる。また接着剤は、キャパシタの
板間（これらの板間に管が誘電体として含まれている）
に印加する電圧をも制限する。米国特許第 5,337,330号
「レーザ用プレ・イオナイザ」には改良されたプレ・イ
オン化管が開示されている。この開示されている管は、
両端にブシュを含み、これらのブシュは管と同質であ
る。同質の管は、接着剤劣化の問題を回避する。それで
もこのシステムは、従来システムと同様に管及びブシュ
組立体のための充分な空間を得るために、過大な長さの
キャビティを必要としている。付加的に要求される長さ
が総合効率を、従って出力パワーを低下させる。
若干の固有の欠陥を有している。多くのシステムではブ
シュは管と同質ではないので、接着剤による等によって
ブシュを管に取付ける必要がある。接着剤はコロナ環境
の効果の下で劣化する傾向があるので、これは特に長期
間にわたるプレ・イオナイザの使用を制限する。接着剤
のこの劣化はレーザガスを汚染させ、ガスをより屡々交
換することが必要になる。また接着剤は、キャパシタの
板間（これらの板間に管が誘電体として含まれている）
に印加する電圧をも制限する。米国特許第 5,337,330号
「レーザ用プレ・イオナイザ」には改良されたプレ・イ
オン化管が開示されている。この開示されている管は、
両端にブシュを含み、これらのブシュは管と同質であ
る。同質の管は、接着剤劣化の問題を回避する。それで
もこのシステムは、従来システムと同様に管及びブシュ
組立体のための充分な空間を得るために、過大な長さの
キャビティを必要としている。付加的に要求される長さ
が総合効率を、従って出力パワーを低下させる。
【０００４】以上に鑑みて、レーザ電極組立体を越えて
伸びない改良されたプレ・イオナイザが要望されること
は明白である。
伸びない改良されたプレ・イオナイザが要望されること
は明白である。
【０００５】
【発明の概要】本発明は、プレ・イオナイザ要素が陰極
絶縁板と一体化されているようなプレ・イオン化システ
ムを提供する。陰極絶縁板は、その前面内に加工された
凹み領域を含む。陰極はこの凹み領域内に嵌め込まれ、
絶縁体前面と実質的に同一の面をなすように配置され
る。陰極が凹みに取付けられているために、近くの接地
電位構造へのトラッキングまたはアーキングを防ぐため
の充分な電気的絶縁を維持しながら、絶縁板の幅を小さ
くすることができる。絶縁板の背面は、陰極の長手軸に
平行に走る１対のスロットを含んでいる。プレ・イオン
化棒がこれらのスロット内に嵌め込まれている。スロッ
トは、陰極の端にほぼ接して棒を配置するように充分な
深さを有している。棒を接地電位に維持することによっ
てキャパシタが形成され、棒と陰極との間の絶縁板材料
がこのキャパシタの誘電性材料として働く。従って、絶
縁材料は容量性コロナ放電を支える特性を呈さなければ
ならない。
絶縁板と一体化されているようなプレ・イオン化システ
ムを提供する。陰極絶縁板は、その前面内に加工された
凹み領域を含む。陰極はこの凹み領域内に嵌め込まれ、
絶縁体前面と実質的に同一の面をなすように配置され
る。陰極が凹みに取付けられているために、近くの接地
電位構造へのトラッキングまたはアーキングを防ぐため
の充分な電気的絶縁を維持しながら、絶縁板の幅を小さ
くすることができる。絶縁板の背面は、陰極の長手軸に
平行に走る１対のスロットを含んでいる。プレ・イオン
化棒がこれらのスロット内に嵌め込まれている。スロッ
トは、陰極の端にほぼ接して棒を配置するように充分な
深さを有している。棒を接地電位に維持することによっ
てキャパシタが形成され、棒と陰極との間の絶縁板材料
がこのキャパシタの誘電性材料として働く。従って、絶
縁材料は容量性コロナ放電を支える特性を呈さなければ
ならない。
【０００６】好ましい実施形態では、プレ・イオン化棒
は背面に沿う接地に電気的に接続れている。棒は陰極と
ほぼ同じ長さであり、絶縁板を越えて伸びてはいない。
この構成によれば、レーザキャビティの長さが実質的に
短縮され、従って動作効率及び出力パワーが改善される
ようになる。本発明の別の実施形態では、キャビティハ
ウジングが、スタンドオフを使用することなく、絶縁板
の背面に直接取付けられる。これによりプレ・イオン化
棒をキャビティハウジングに直接接触させることが可能
になり、付加的なワイヤを使用せずに接地電位に保つこ
とができる。以下の添付図面を参照しての説明から、本
発明の本質及び長所を更に理解することができよう。
は背面に沿う接地に電気的に接続れている。棒は陰極と
ほぼ同じ長さであり、絶縁板を越えて伸びてはいない。
この構成によれば、レーザキャビティの長さが実質的に
短縮され、従って動作効率及び出力パワーが改善される
ようになる。本発明の別の実施形態では、キャビティハ
ウジングが、スタンドオフを使用することなく、絶縁板
の背面に直接取付けられる。これによりプレ・イオン化
棒をキャビティハウジングに直接接触させることが可能
になり、付加的なワイヤを使用せずに接地電位に保つこ
とができる。以下の添付図面を参照しての説明から、本
発明の本質及び長所を更に理解することができよう。
【０００７】
【発明の実施の形態】従来の技術の一例では全体を１０
０で示すレーザは、図１の破線１０２で示すキャビティ
内に配置されている。このレーザの全体的な構成は、全
て本願出願人に譲渡され、本明細書に参照として採り入
れられている米国特許第 4,959,840号（「レーザの壁に
絶縁関係に取付けられた電極を含む小型エキシマレー
ザ」）、第 5,033,055号（「小型エキシマレーザ」）、
第 5,377,215号（「エキシマレーザ」）、及び第 5,37
7,330号（「レーザ用プレ・イオナイザ」）に開示され
ているものに対応する。レーザ１００は陽極１０４及び
陰極１０６を含み、これらはキャビティ１０２内に配置
されており、またこれらは第１の方向に互いに離間され
ている。陽極１０４は電気的に接地することができる。
導電性部材１０８は、陰極１０６から導電性ブロック１
１０までの電気的な連続性を与える。ガスはキャビティ
内に導入される。一つの型のシステムでは、ガスはクリ
プトン（Ｋｒ）及びフッ素（Ｆ2）であることができ
る。代替として、他のガスを使用することもできる。ガ
スはキャビティ１０２内の位置１１２に点によって概示
されている。ガス１１２は再循環させることができ、ま
た再循環中に浄化することができる。
０で示すレーザは、図１の破線１０２で示すキャビティ
内に配置されている。このレーザの全体的な構成は、全
て本願出願人に譲渡され、本明細書に参照として採り入
れられている米国特許第 4,959,840号（「レーザの壁に
絶縁関係に取付けられた電極を含む小型エキシマレー
ザ」）、第 5,033,055号（「小型エキシマレーザ」）、
第 5,377,215号（「エキシマレーザ」）、及び第 5,37
7,330号（「レーザ用プレ・イオナイザ」）に開示され
ているものに対応する。レーザ１００は陽極１０４及び
陰極１０６を含み、これらはキャビティ１０２内に配置
されており、またこれらは第１の方向に互いに離間され
ている。陽極１０４は電気的に接地することができる。
導電性部材１０８は、陰極１０６から導電性ブロック１
１０までの電気的な連続性を与える。ガスはキャビティ
内に導入される。一つの型のシステムでは、ガスはクリ
プトン（Ｋｒ）及びフッ素（Ｆ2）であることができ
る。代替として、他のガスを使用することもできる。ガ
スはキャビティ１０２内の位置１１２に点によって概示
されている。ガス１１２は再循環させることができ、ま
た再循環中に浄化することができる。
【０００８】パルス電圧源１１４から陽極１０４と陰極
１０６との間に電圧パルスが印加されると（好ましく
は、陰極を高電圧にする）、陽極と陰極との間に放電が
発生する。この放電がガス１１２をイオン化し、ガス間
に化学反応を発生させる。例えば、キャビティ１０２内
のＫｒ及びＦ2 が化学反応してフッ化クリプトン（Ｋｒ
Ｆ）が発生する。この化学反応が発生すると、光の形状
のエネルギが特定の波長でキャビティ１０２内に発生す
る。このコヒーレントエネルギは高強度で、且つ狭いビ
ームで発生する。これはキャビティから窓（図示してな
い）を通して導かれる。紫外光を導入することによって
ガス１１２のイオン化を容易にするために、全体を１１
６で示すプレ・イオナイザをキャビティ１０２内に配置
することができる。紫外光は、各電圧パルスを陽極１０
４と陰極１０６との間に印加する直前に、ガスへのコロ
ナ放電によって発生される。コロナ放電によって放出さ
れる放射の方向は図１に矢印付きの波線１１８によって
示されている。
１０６との間に電圧パルスが印加されると（好ましく
は、陰極を高電圧にする）、陽極と陰極との間に放電が
発生する。この放電がガス１１２をイオン化し、ガス間
に化学反応を発生させる。例えば、キャビティ１０２内
のＫｒ及びＦ2 が化学反応してフッ化クリプトン（Ｋｒ
Ｆ）が発生する。この化学反応が発生すると、光の形状
のエネルギが特定の波長でキャビティ１０２内に発生す
る。このコヒーレントエネルギは高強度で、且つ狭いビ
ームで発生する。これはキャビティから窓（図示してな
い）を通して導かれる。紫外光を導入することによって
ガス１１２のイオン化を容易にするために、全体を１１
６で示すプレ・イオナイザをキャビティ１０２内に配置
することができる。紫外光は、各電圧パルスを陽極１０
４と陰極１０６との間に印加する直前に、ガスへのコロ
ナ放電によって発生される。コロナ放電によって放出さ
れる放射の方向は図１に矢印付きの波線１１８によって
示されている。
【０００９】プレ・イオナイザ１１６は電極１０４と１
０６との間に配置することができ、第１の方向に対して
横方向の、好ましくは直角の第２の方向に互いに離間さ
せることができる。プレ・イオナイザ１１６は第１及び
第２の方向に対して横方向の、好ましくは直角の第３の
方向に伸びている。電極１０４及び１０６もキャビティ
１０２内において第３の方向に伸びている。この第３の
方向は、図１の紙面に直角であるものと考えてよい。図
２は、レーザキャビティから分離させた特定の陰極／プ
レ・イオナイザ組立体の斜視図である。陰極１０６の両
側を陰極１０６と同一方向に走っているのがプレ・イオ
ナイザ１１６である。各プレ・イオナイザは、高誘電定
数と高誘電強度とを呈する適当な材料で作られた中空管
２０１を含んでいる。好ましい管２０１は、多結晶質半
透明の酸化アルミニウム製である。
０６との間に配置することができ、第１の方向に対して
横方向の、好ましくは直角の第２の方向に互いに離間さ
せることができる。プレ・イオナイザ１１６は第１及び
第２の方向に対して横方向の、好ましくは直角の第３の
方向に伸びている。電極１０４及び１０６もキャビティ
１０２内において第３の方向に伸びている。この第３の
方向は、図１の紙面に直角であるものと考えてよい。図
２は、レーザキャビティから分離させた特定の陰極／プ
レ・イオナイザ組立体の斜視図である。陰極１０６の両
側を陰極１０６と同一方向に走っているのがプレ・イオ
ナイザ１１６である。各プレ・イオナイザは、高誘電定
数と高誘電強度とを呈する適当な材料で作られた中空管
２０１を含んでいる。好ましい管２０１は、多結晶質半
透明の酸化アルミニウム製である。
【００１０】管２０１の両端にはブシュ２０３が配置さ
れている。好ましくは、ブシュ２０３の材料は、管２０
１の材料と同質とする。更に好ましいのは、ブシュ２０
３の材料は管２０１の材料と同一とすることである。管
２０１及びブシュ２０３を材料の単一片から作ることに
より、同一の高誘電特性を達成し、管２０１とブシュ２
０３との間の接着剤の必要性を排除することができる。
導体２０５が各管２０１内に配置されている。導体２０
５は、接地されたレーザハウジングに電気的に結合され
ている。導体２０７が管２０１の表面上に配置され、ブ
シュ２０３の間を電極１０６のほぼ全長にわたって走っ
ている。導体２０７は関連する管２０１の表面に配置さ
れ、それに対して適度の力で拘束されている弾力性ばね
の形状であることができる。導体２０７は陰極１０６の
電位に保たれている。ブシュ２０３は、導体２０７から
レーザハウジングへ管２０１に沿う放電またはアーキン
グを防いでいる。
れている。好ましくは、ブシュ２０３の材料は、管２０
１の材料と同質とする。更に好ましいのは、ブシュ２０
３の材料は管２０１の材料と同一とすることである。管
２０１及びブシュ２０３を材料の単一片から作ることに
より、同一の高誘電特性を達成し、管２０１とブシュ２
０３との間の接着剤の必要性を排除することができる。
導体２０５が各管２０１内に配置されている。導体２０
５は、接地されたレーザハウジングに電気的に結合され
ている。導体２０７が管２０１の表面上に配置され、ブ
シュ２０３の間を電極１０６のほぼ全長にわたって走っ
ている。導体２０７は関連する管２０１の表面に配置さ
れ、それに対して適度の力で拘束されている弾力性ばね
の形状であることができる。導体２０７は陰極１０６の
電位に保たれている。ブシュ２０３は、導体２０７から
レーザハウジングへ管２０１に沿う放電またはアーキン
グを防いでいる。
【００１１】管２０１は幾つかの位置決め部材２０９に
よって定位置に、そして導体２０７に対して保持されて
いる。図３は、位置ＡＡにおける陰極／プレ・イオナイ
ザ組立体の断面図である。位置決め部材２０９は、管２
０１を導体２０７に対して保持する。好ましくは、位置
決め部材２０９は絶縁材料で作る。部材２０９は導電性
材料であることもできるが、そのような構成は下流アー
キングを発生させる恐れがある。また導電性位置決め部
材は、部材の直ぐ近傍を取り囲む領域においてコロナ放
電の形成を妨害する恐れもある。導体２０５及び２０７
は、キャパシタの第１及び第２の板を限定している。管
２０１は、キャパシタの板の間の誘電体材料として働
く。好ましくは、導体２０７に陰極電位を、また導体２
０５に接地電位を印加するのように、高電圧を印加す
る。管２０１の誘電性材料は、誘電体破壊を起こすこと
なく容量性コロナ放電を支える特性を有している。
よって定位置に、そして導体２０７に対して保持されて
いる。図３は、位置ＡＡにおける陰極／プレ・イオナイ
ザ組立体の断面図である。位置決め部材２０９は、管２
０１を導体２０７に対して保持する。好ましくは、位置
決め部材２０９は絶縁材料で作る。部材２０９は導電性
材料であることもできるが、そのような構成は下流アー
キングを発生させる恐れがある。また導電性位置決め部
材は、部材の直ぐ近傍を取り囲む領域においてコロナ放
電の形成を妨害する恐れもある。導体２０５及び２０７
は、キャパシタの第１及び第２の板を限定している。管
２０１は、キャパシタの板の間の誘電体材料として働
く。好ましくは、導体２０７に陰極電位を、また導体２
０５に接地電位を印加するのように、高電圧を印加す
る。管２０１の誘電性材料は、誘電体破壊を起こすこと
なく容量性コロナ放電を支える特性を有している。
【００１２】源１１４からの電圧パルスが導体２０５と
２０７との間に印加されると、電荷が管２０１の表面か
らコロナ放電を発生させる（図１に波形矢印１１８によ
って示す）。これらのコロナ放電は放射を放出し、この
放射はガス１１２が位置している空間へ走行する。放射
はガス１１２をプレ・イオン化し、電圧パルスが発生し
た時に陽極１０４と陰極１０６との間のガスのイオン化
を容易にする。図３に示す特定の陰極組立体では、陰極
１０６はスペーサ３０１に取付けられている。スペーサ
３０１は陰極１０６と主絶縁体板３０３との間に伸びて
いる。主絶縁体板３０３は、酸化アルミニウムのような
セラミック製であることが好ましい。スペーサ３０１
は、金属棒３０５と陰極１０６とを電気的に接続する。
各金属棒３０５を取り巻いているのは、好ましくはセラ
ミックのような材料製の絶縁ブシュ３０７である。主絶
縁体板３０３は、陰極１０６（好ましくは、接地電位に
保つ）をレーザハウジング１０２の壁から電気的に絶縁
する。従って、絶縁体板３０３は、陰極１０６と陽極１
０４との間に適切な放電が発生するようにしている。
２０７との間に印加されると、電荷が管２０１の表面か
らコロナ放電を発生させる（図１に波形矢印１１８によ
って示す）。これらのコロナ放電は放射を放出し、この
放射はガス１１２が位置している空間へ走行する。放射
はガス１１２をプレ・イオン化し、電圧パルスが発生し
た時に陽極１０４と陰極１０６との間のガスのイオン化
を容易にする。図３に示す特定の陰極組立体では、陰極
１０６はスペーサ３０１に取付けられている。スペーサ
３０１は陰極１０６と主絶縁体板３０３との間に伸びて
いる。主絶縁体板３０３は、酸化アルミニウムのような
セラミック製であることが好ましい。スペーサ３０１
は、金属棒３０５と陰極１０６とを電気的に接続する。
各金属棒３０５を取り巻いているのは、好ましくはセラ
ミックのような材料製の絶縁ブシュ３０７である。主絶
縁体板３０３は、陰極１０６（好ましくは、接地電位に
保つ）をレーザハウジング１０２の壁から電気的に絶縁
する。従って、絶縁体板３０３は、陰極１０６と陽極１
０４との間に適切な放電が発生するようにしている。
【００１３】棒３０５を介して高電圧が陰極１０６に印
加されると、望ましくない電流が主絶縁体板３０３の表
面上を接地されたハウジング１０２の壁に向かって流れ
る傾向がある。絶縁体３０３がこの電流の流れにどれ程
良く耐えるかは、部分的にはこれらの電流が流れなけれ
ばならない距離に（長い程良い）、また主絶縁体の表面
が接地されたハウジング壁１０２にどれ程接近している
か（これも長い程よい）に依存する。好ましくは、ハウ
ジング１０２の壁は、主絶縁体３０３をハウジング壁か
ら孤立させる、即ち壁に対して浮かせるように下方向に
伸びる部分を含んでいる。ハウジング１０２に対して浮
いている絶縁体３０３は、所与の絶縁体サイズに対し
て、寄生電流が接地電位に保たれているハウジング１０
２へ到達するのに流れなければならない距離を最大にす
る。更に、主絶縁体板３０３の表面が接地されたハウジ
ング１０２から離されているので、寄生表面電流と接地
との間の容量性結合が減少する。励起が極めて短い持続
時間の間印加されるようになっている短パルスレーザで
は、表面電流と接地との間の容量性結合が電流の流れを
強める。主絶縁体３０３をハウジング１０２から離間さ
せることによって、容量性結合が、従って寄生電流の流
れが減少する。
加されると、望ましくない電流が主絶縁体板３０３の表
面上を接地されたハウジング１０２の壁に向かって流れ
る傾向がある。絶縁体３０３がこの電流の流れにどれ程
良く耐えるかは、部分的にはこれらの電流が流れなけれ
ばならない距離に（長い程良い）、また主絶縁体の表面
が接地されたハウジング壁１０２にどれ程接近している
か（これも長い程よい）に依存する。好ましくは、ハウ
ジング１０２の壁は、主絶縁体３０３をハウジング壁か
ら孤立させる、即ち壁に対して浮かせるように下方向に
伸びる部分を含んでいる。ハウジング１０２に対して浮
いている絶縁体３０３は、所与の絶縁体サイズに対し
て、寄生電流が接地電位に保たれているハウジング１０
２へ到達するのに流れなければならない距離を最大にす
る。更に、主絶縁体板３０３の表面が接地されたハウジ
ング１０２から離されているので、寄生表面電流と接地
との間の容量性結合が減少する。励起が極めて短い持続
時間の間印加されるようになっている短パルスレーザで
は、表面電流と接地との間の容量性結合が電流の流れを
強める。主絶縁体３０３をハウジング１０２から離間さ
せることによって、容量性結合が、従って寄生電流の流
れが減少する。
【００１４】図４は、従来の技術による陰極／プレ・イ
オナイザ組立体全体の断面図である。図示のように、単
一の陰極１０６は、３組の、各組が５つの導電性棒３０
５に結合されている。各組の導電性棒３０５は単一の導
電性スペーサ３０１に結合されている。３つの主絶縁体
板３０３が図示されているが、代わりに、より大きい単
一の絶縁板を使用することもできる。図５に、本発明に
よる主絶縁体板５０１を示す。従来の技術と同様に、板
５０１は酸化アルミニウムのようなセラミックで作るこ
とが好ましい。陰極１０６は板５０１の凹み領域内に嵌
め込まれている。板５０１には、一連の溝５０３が加工
されている。図６は、絶縁板５０１の好ましい実施形態
の詳細断面図である。陰極が導電性スペーサ３０１によ
って絶縁板３０３の上に取付けられている図３に示した
従来の技術とは対照的に、本発明の陰極は、殆ど完全に
絶縁板５０１の凹み６０１内に埋め込まれている。この
構成は陰極の電気的絶縁を援助し、従って陰極を、レー
ザハウジングのような接地電位にある表面に極めて接近
させて配置することができる。
オナイザ組立体全体の断面図である。図示のように、単
一の陰極１０６は、３組の、各組が５つの導電性棒３０
５に結合されている。各組の導電性棒３０５は単一の導
電性スペーサ３０１に結合されている。３つの主絶縁体
板３０３が図示されているが、代わりに、より大きい単
一の絶縁板を使用することもできる。図５に、本発明に
よる主絶縁体板５０１を示す。従来の技術と同様に、板
５０１は酸化アルミニウムのようなセラミックで作るこ
とが好ましい。陰極１０６は板５０１の凹み領域内に嵌
め込まれている。板５０１には、一連の溝５０３が加工
されている。図６は、絶縁板５０１の好ましい実施形態
の詳細断面図である。陰極が導電性スペーサ３０１によ
って絶縁板３０３の上に取付けられている図３に示した
従来の技術とは対照的に、本発明の陰極は、殆ど完全に
絶縁板５０１の凹み６０１内に埋め込まれている。この
構成は陰極の電気的絶縁を援助し、従って陰極を、レー
ザハウジングのような接地電位にある表面に極めて接近
させて配置することができる。
【００１５】溝５０３は、絶縁体板５０１の電気的絶縁
能力を更に高めるために使用されている。好ましいのは
溝を必要とせず、従って製造時間及び費用を最小にする
ことである。必要な溝５０３（もし必要とすれば）の数
は、レーザの特定の設計によって決まる。主要ファクタ
は、陰極と、何等かの電流担持部材及び／または接地電
位に保たれた何等かの部材との接近度であり、従ってレ
ーザシステムの総合サイズに大きく影響する。従って、
陰極に印加される高電圧パルスの大きさが、溝５０３の
設計の主ファクタである。前述したように、本発明は、
図３に示した従来の技術のスペーサ３０１のような導電
性スペーサの使用を必要としない。その代わりとして、
陰極１０６は導電性棒３０５に直接結合される。前述し
たように、棒３０５は絶縁体３０７を用いて絶縁されて
いる。
能力を更に高めるために使用されている。好ましいのは
溝を必要とせず、従って製造時間及び費用を最小にする
ことである。必要な溝５０３（もし必要とすれば）の数
は、レーザの特定の設計によって決まる。主要ファクタ
は、陰極と、何等かの電流担持部材及び／または接地電
位に保たれた何等かの部材との接近度であり、従ってレ
ーザシステムの総合サイズに大きく影響する。従って、
陰極に印加される高電圧パルスの大きさが、溝５０３の
設計の主ファクタである。前述したように、本発明は、
図３に示した従来の技術のスペーサ３０１のような導電
性スペーサの使用を必要としない。その代わりとして、
陰極１０６は導電性棒３０５に直接結合される。前述し
たように、棒３０５は絶縁体３０７を用いて絶縁されて
いる。
【００１６】プレ・イオン化ワイヤ６０３は、絶縁板５
０１の背面に形成されている溝６０５の中に保持されて
いる。従来の技術と同様にワイヤ６０３は接地電位に維
持することが好ましい。図７は本発明の別の実施形態を
示している。この実施形態では、絶縁板５０１はキャビ
ティハウジング７０１のある区分に直接結合されてい
る。溝６０５の中にはプレ・イオン化部材７０３が存在
している。この実施形態では、プレ・イオン化部材７０
３はハウジング７０１と接触しており、従って接地電位
に保たれている。従って、この実施形態は、接地電位に
保たれているハウジングまたは別の部材の何れかにプレ
・イオン化棒を結合するワイヤを必要とせず、レーザシ
ステムの所要サイズを更に減少させる。プレ・イオン化
ワイヤを絶縁板５０１の背面内に統合したことによっ
て、レーザの総合長さをかなり短縮することができる。
長さを短くしたことの結果として、レーザ動作効率及び
出力パワーが改善される。図２に示したように、従来の
技術のアプローチは、管２０１の両端をブシュ２０３に
結合することを必要としていた。ブシュ２０３はプレ・
イオン化ワイヤ２０５を絶縁するために必要であり、そ
れによってワイヤ２０５から、陰極１０６または導体２
０７の何れかへの放電を防いでいる。ブシュ２０３を追
加することにより、レーザキャビティの長さがかなり追
加され、レーザの効率及び出力パワーが低下する。
０１の背面に形成されている溝６０５の中に保持されて
いる。従来の技術と同様にワイヤ６０３は接地電位に維
持することが好ましい。図７は本発明の別の実施形態を
示している。この実施形態では、絶縁板５０１はキャビ
ティハウジング７０１のある区分に直接結合されてい
る。溝６０５の中にはプレ・イオン化部材７０３が存在
している。この実施形態では、プレ・イオン化部材７０
３はハウジング７０１と接触しており、従って接地電位
に保たれている。従って、この実施形態は、接地電位に
保たれているハウジングまたは別の部材の何れかにプレ
・イオン化棒を結合するワイヤを必要とせず、レーザシ
ステムの所要サイズを更に減少させる。プレ・イオン化
ワイヤを絶縁板５０１の背面内に統合したことによっ
て、レーザの総合長さをかなり短縮することができる。
長さを短くしたことの結果として、レーザ動作効率及び
出力パワーが改善される。図２に示したように、従来の
技術のアプローチは、管２０１の両端をブシュ２０３に
結合することを必要としていた。ブシュ２０３はプレ・
イオン化ワイヤ２０５を絶縁するために必要であり、そ
れによってワイヤ２０５から、陰極１０６または導体２
０７の何れかへの放電を防いでいる。ブシュ２０３を追
加することにより、レーザキャビティの長さがかなり追
加され、レーザの効率及び出力パワーが低下する。
【００１７】プレ・イオン化ワイヤ６０３、または図７
に示した実施形態のプレ・イオン化棒７０３は、陰極１
０６の長手方向軸に対応する方向に、決して絶縁板５０
１を越えて伸びることはないから、本発明はブシュ２０
３に類似の成分を必要としない。このためより小型化さ
れ、従ってより効率的なレーザシステムがもたらされ
る。改善された動作効率の利点に加えて、本発明はより
簡単さをもたらし、従って少ない設計費用で済む。例え
ば、図７に示す実施形態は、分離したプレ・イオン化管
２０１、ブシュ２０３、導電性部材２０７、プレ・イオ
ン化管支持部材２０９、または導電性スペーサ３０１を
必要としない。更に、本発明の凹み内陰極設計により、
絶縁板５０１は従来の技術の絶縁板のように幅広ではな
く、従って板を製造するのに必要なセラミック材料のサ
イズが減少する。
に示した実施形態のプレ・イオン化棒７０３は、陰極１
０６の長手方向軸に対応する方向に、決して絶縁板５０
１を越えて伸びることはないから、本発明はブシュ２０
３に類似の成分を必要としない。このためより小型化さ
れ、従ってより効率的なレーザシステムがもたらされ
る。改善された動作効率の利点に加えて、本発明はより
簡単さをもたらし、従って少ない設計費用で済む。例え
ば、図７に示す実施形態は、分離したプレ・イオン化管
２０１、ブシュ２０３、導電性部材２０７、プレ・イオ
ン化管支持部材２０９、または導電性スペーサ３０１を
必要としない。更に、本発明の凹み内陰極設計により、
絶縁板５０１は従来の技術の絶縁板のように幅広ではな
く、従って板を製造するのに必要なセラミック材料のサ
イズが減少する。
【００１８】図８は、絶縁板５０１の斜視図である。こ
の特定の実施形態では、板５０１の両端の板の中に小さ
いチャンネル８０１が切ってあり、絶縁板がレーザ光キ
ャビティを妨害しないようにしてある。チャンネル８０
１は、陰極１０６の外面が、それを取り囲む絶縁板より
も僅かに低いことによる予防措置に過ぎない。更に、光
クリッピングが恐らく陰極１０６を侵食し始め、陰極外
面をより多く凹ませ始める。当業者ならば、本発明は、
その思想または本質的な特徴から逸脱することなく他の
特定形状で実施できることが理解されよう。従って、以
上の説明は単なる例示に過ぎず、特許請求の範囲に記載
の本発明の範囲を限定するものではない。
の特定の実施形態では、板５０１の両端の板の中に小さ
いチャンネル８０１が切ってあり、絶縁板がレーザ光キ
ャビティを妨害しないようにしてある。チャンネル８０
１は、陰極１０６の外面が、それを取り囲む絶縁板より
も僅かに低いことによる予防措置に過ぎない。更に、光
クリッピングが恐らく陰極１０６を侵食し始め、陰極外
面をより多く凹ませ始める。当業者ならば、本発明は、
その思想または本質的な特徴から逸脱することなく他の
特定形状で実施できることが理解されよう。従って、以
上の説明は単なる例示に過ぎず、特許請求の範囲に記載
の本発明の範囲を限定するものではない。
【図１】 従来の技術のプレ・イオナイザを含むエキシ
マレーザの概要端面図
マレーザの概要端面図
【図２】 レーザキャビティから分離した特定陰極／プ
レ・イオナイザ組立体の斜視図
レ・イオナイザ組立体の斜視図
【図３】 図２に示す陰極／プレ・イオナイザ組立体の
断面図
断面図
【図４】 従来の技術の陰極／プレ・イオナイザ組立体
全体の断面図
全体の断面図
【図５】 本発明による主絶縁体板を示す図
【図６】 絶縁体板の好ましい実施形態の詳細断面図
【図７】 本発明の特定実施形態を示す図
【図８】 図５に示す絶縁板の斜視図
１００ レーザ １０２ キャビティ １０４ 陽極 １０６ 陰極 １０８ 導電性部材 １１０ 導電性ブロック １１２ ガス １１４ パルス電圧源 １１６ プレ・イオナイザ ２０１ 中空管 ２０３ ブシュ ２０５、２０７ 導体 ２０９ 位置決め部材 ３０１ スペーサ ３０３ 主絶縁体板 ３０５ 金属棒 ３０７ 絶縁用ブシュ ５０１ 主絶縁体板 ５０３ 溝 ６０１ 凹み ６０３ プレ・イオン化ワイヤ ６０５ 溝 ７０１ キャビティハウジング ７０３ プレ・イオン化部材 ８０１ チャンネル
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 平３−255682（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) H01S 3/097 H01S 3/03
Claims (5)
- 【請求項１】 レーザに使用するためのプレ・イオナイ
ザにおいて、 第１の表面及び第２の表面を有し、誘電体破壊を生ずる
ことなく容量性コロナ放電を支える特性を有する誘電性
材料で作られている部材と、 上記部材の上記第１の表面内の凹み領域と、 上記第１の表面の上記凹み領域内にあって、第１のキャ
パシタ板を限定している第１の電極と、 上記部材の上記第２の表面内の少なくとも１つの凹み領
域と、 上記第２の表面の上記凹み領域内にあって、第２のキャ
パシタ板を限定している第２の電極と、 上記第１の電極と第２の電極との間に電圧を印加して上
記キャパシタを充電し、上記部材からコロナ放電を形成
させる電圧源と、を備え、 上記部材は、上記第１の表面上に少なくとも１つの連続
溝を有し、この溝は上記第１の表面上に上記凹み領域を
画していることを特徴とするプレ・イオナイザ。 - 【請求項２】 ハウジングと、 第１の表面及び第２の表面を有し、この第２の表面が上
記ハウジングの内面に結合されている絶縁板と、 上記絶縁板の第１の表面に結合されている陰極と、 陽極と、 上記絶縁板の上記第２の表面に形成されたスロット内に
配置されているプレ・イオン化要素と、を備え、 上記陰極がキャパシタの第１の板を限定し、上記プレ・
イオン化要素が上記キャパシタの第２の板を限定し、上
記プレ・イオン化要素は誘電体破壊を生ずることなく容
量性コロナ放電を支える特性を有する誘電性材料で作ら
れ、 更に、上記ハウジング内のレーザ可能なガス媒体と、 上記陰極と上記プレ・イオン化要素との間に電圧を印加
して上記キャパシタを充電し、コロナ放電を形成させる
電圧源と、を備え、 上記コロナ放電は上記レーザ可能なガス媒体のイオン化
を容易にするようになっており、 少なくとも１つの連続溝が上記絶縁板の上記第１の表面
内に形成されており、 この溝は上記陰極の周囲を画していることを特徴とする
レーザ。 - 【請求項３】 ハウジングと、 第１の表面及び第２の表面を有し、この第２の表面が上
記ハウジングの内面に結合されている絶縁板と、 上記絶縁板の第１の表面に結合されている陰極と、 陽極と、 上記絶縁板の上記第２の表面に形成されたスロット内に
配置されているプレ・イオン化要素と、を備え、 上記陰極がキャパシタの第１の板を限定し、上記プレ・
イオン化要素が上記キャパシタの第２の板を限定し、上
記プレ・イオン化要素は誘電体破壊を生ずることなく容
量性コロナ放電を支える特性を有する誘電性材料で作ら
れ、 更に、上記ハウジング内のレーザ可能なガス媒体と、 上記陰極と上記プレ・イオン化要素との間に電圧を印加
して上記キャパシタを充電し、コロナ放電を形成させる
電圧源と、を備え、 上記コロナ放電は上記レーザ可能なガス媒体のイオン化
を容易にするようになっており、 上記絶縁板の上記第１の表面に凹みが設けられており、 上記絶縁板は、第１の端及び第２の端を有し、第１のチ
ャンネル及び第２のチャンネルが上記絶縁板の上記第１
の表面内に形成され、上記第１のチャンネルは上記凹み
から上記第１の端まで走り、上記第２のチャンネルは上
記凹みから上記第２の端まで走り、上記第１及び第２の
チャンネルは上記絶縁板による光クリッピングを最小に
するようになっていることを特徴とするレーザ。 - 【請求項４】 レーザに使用するためのプレ・イオナイ
ザにおいて、 ある幅、ある長さ、第１の表面、及び第２の表面を有
し、容量性コロナ放電を支える特性を有する誘電性材料
で作られている絶縁板と、 上記絶縁板の上記第１の表面内に形成され、上記絶縁板
の長さよりも小さい長さと、上記絶縁板の幅よりも小さ
い幅とを有する凹みと、 上記凹み内に嵌め込まれ、第１のキャパシタの第１のキ
ャパシタ板及び第２のキャパシタの第１のキャパシタ板
を限定し、そして上記凹みに関連する深さと実質的に等
しい厚みを有する陰極と、 上記絶縁板の上記第２の表面内に形成され、上記凹みの
長さと実質的に等しい長さを有する第１のスロットと、 上記絶縁板の上記第２の表面内に形成され、上記凹みの
長さと実質的に等しい長さを有し、上記第１のスロット
と実質的に平行な第２のスロットと、 上記第１のスロット内に嵌め込まれ、上記第１のキャパ
シタの第２のキャパシタ板を限定し、そして接地電位に
電気的に接続されている第１のプレ・イオン化要素と、 上記第２のスロット内に嵌め込まれ、上記第２のキャパ
シタの第２のキャパシタ板を限定し、そして上記接地電
位に電気的に接続されている第２のプレ・イオン化要素
と、 上記陰極と上記第１のプレ・イオン化要素との間、及び
上記陰極と上記第２のプレ・イオン化要素との間にある
電圧を印加し、上記陰極の近傍に第１及び第２のコロナ
放電を形成させる電圧源と、 上記絶縁板の上記第１の表面に形成され、上記凹みを画
している少なくとも１つの連続溝と、 を備えていることを特徴とするプレ・イオナイザ。 - 【請求項５】 レーザに使用するためのプレ・イオナイ
ザにおいて、 ある幅、ある長さ、第１の表面、及び第２の表面を有
し、容量性コロナ放電を支える特性を有する誘電性材料
で作られている絶縁板と、 上記絶縁板の上記第１の表面内に形成され、上記絶縁板
の長さよりも小さい長さと、上記絶縁板の幅よりも小さ
い幅とを有する凹みと、 上記凹み内に嵌め込まれ、第１のキャパシタの第１のキ
ャパシタ板及び第２のキャパシタの第１のキャパシタ板
を限定し、そして上記凹みに関連する深さと実質的に等
しい厚みを有する陰極と、 上記絶縁板の上記第２の表面内に形成され、上記凹みの
長さと実質的に等しい長さを有する第１のスロットと、 上記絶縁板の上記第２の表面内に形成され、上記凹みの
長さと実質的に等しい長さを有し、上記第１のスロット
と実質的に平行な第２のスロットと、 上記第１のスロット内に嵌め込まれ、上記第１のキャパ
シタの第２のキャパシタ板を限定し、そして接地電位に
電気的に接続されている第１のプレ・イオン化要素と、 上記第２のスロット内に嵌め込まれ、上記第２のキャパ
シタの第２のキャパシタ板を限定し、そして上記接地電
位に電気的に接続されている第２のプレ・イオン化要素
と、 上記陰極と上記第１のプレ・イオン化要素との間、及び
上記陰極と上記第２のプレ・イオン化要素との間にある
電圧を印加し、上記陰極の近傍に第１及び第２のコロナ
放電を形成させる電圧源と、を備え、 上記絶縁板は第１の端及び第２の端を有し、第１のチャ
ンネル及び第２のチャンネルが上記絶縁板の上記第１の
表面内に形成され、上記第１のチャンネルは上記凹みか
ら上記第１の端まで走り、上記第２のチャンネルは上記
凹みから上記第２の端まで走り、上記第１及び第２のチ
ャンネルは上記絶縁板による光クリッピングを最小にす
るようになっていることを特徴とするレーザ。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US08/857395 | 1997-05-16 | ||
| US08/857,395 US5818865A (en) | 1997-05-16 | 1997-05-16 | Compact excimer laser insulator with integral pre-ionizer |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10326929A JPH10326929A (ja) | 1998-12-08 |
| JP3055891B2 true JP3055891B2 (ja) | 2000-06-26 |
Family
ID=25325904
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10128976A Expired - Fee Related JP3055891B2 (ja) | 1997-05-16 | 1998-05-12 | 一体化プレ・イオナイザを有する小型エキシマレーザ絶縁体 |
Country Status (7)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5818865A (ja) |
| EP (1) | EP0981845A4 (ja) |
| JP (1) | JP3055891B2 (ja) |
| KR (1) | KR100545484B1 (ja) |
| AU (1) | AU6883698A (ja) |
| TW (1) | TW391075B (ja) |
| WO (1) | WO1998052259A1 (ja) |
Families Citing this family (46)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP3796038B2 (ja) * | 1997-11-18 | 2006-07-12 | 株式会社小松製作所 | ガスレーザ発振装置 |
| US6456643B1 (en) | 1999-03-31 | 2002-09-24 | Lambda Physik Ag | Surface preionization for gas lasers |
| US6424666B1 (en) | 1999-06-23 | 2002-07-23 | Lambda Physik Ag | Line-narrowing module for high power laser |
| US6650679B1 (en) | 1999-02-10 | 2003-11-18 | Lambda Physik Ag | Preionization arrangement for gas laser |
| US6381256B1 (en) | 1999-02-10 | 2002-04-30 | Lambda Physik Ag | Molecular fluorine laser with spectral linewidth of less than 1 pm |
| US6490307B1 (en) | 1999-03-17 | 2002-12-03 | Lambda Physik Ag | Method and procedure to automatically stabilize excimer laser output parameters |
| US6208674B1 (en) * | 1998-09-18 | 2001-03-27 | Cymer, Inc. | Laser chamber with fully integrated electrode feedthrough main insulator |
| US6421365B1 (en) | 1999-11-18 | 2002-07-16 | Lambda Physik Ag | Narrow band excimer or molecular fluorine laser having an output coupling interferometer |
| US6546037B2 (en) | 1999-02-10 | 2003-04-08 | Lambda Physik Ag | Molecular fluorine laser with spectral linewidth of less than 1 pm |
| US6389052B2 (en) | 1999-03-17 | 2002-05-14 | Lambda Physik Ag | Laser gas replenishment method |
| US6757315B1 (en) | 1999-02-10 | 2004-06-29 | Lambda Physik Ag | Corona preionization assembly for a gas laser |
| US6463086B1 (en) | 1999-02-10 | 2002-10-08 | Lambda Physik Ag | Molecular fluorine laser with spectral linewidth of less than 1 pm |
| US6965624B2 (en) | 1999-03-17 | 2005-11-15 | Lambda Physik Ag | Laser gas replenishment method |
| US6727731B1 (en) | 1999-03-12 | 2004-04-27 | Lambda Physik Ag | Energy control for an excimer or molecular fluorine laser |
| US6700915B2 (en) | 1999-03-12 | 2004-03-02 | Lambda Physik Ag | Narrow band excimer laser with a resonator containing an optical element for making wavefront corrections |
| DE29907349U1 (de) | 1999-04-26 | 2000-07-06 | Lambda Physik Gmbh | Laser zur Erzeugung schmalbandiger Strahlung |
| US6700908B1 (en) | 1999-06-21 | 2004-03-02 | Tui Laser Ag | Device for avoiding sliding discharges in pre-ionization in a gas laser with corona discharge |
| DE19934013C1 (de) * | 1999-06-21 | 2000-08-10 | Tui Laser Ag | Vorrichtung zur Vermeidung von Gleitentladungen bei der Vorionisierung in einem Gaslaser mit Coronaentladung |
| JP3428632B2 (ja) * | 1999-08-04 | 2003-07-22 | ウシオ電機株式会社 | ガスレーザ装置用コロナ予備電離電極 |
| US6785316B1 (en) | 1999-08-17 | 2004-08-31 | Lambda Physik Ag | Excimer or molecular laser with optimized spectral purity |
| US6553050B1 (en) | 1999-11-18 | 2003-04-22 | Lambda Physik Ag | Narrow band excimer or molecular fluorine laser having an output coupling interferometer |
| US6603788B1 (en) | 1999-11-23 | 2003-08-05 | Lambda Physik Ag | Resonator for single line selection |
| US6907058B2 (en) | 2000-01-25 | 2005-06-14 | Lambda Physik Ag | Energy monitor for molecular fluorine laser |
| US7075963B2 (en) | 2000-01-27 | 2006-07-11 | Lambda Physik Ag | Tunable laser with stabilized grating |
| US6735232B2 (en) | 2000-01-27 | 2004-05-11 | Lambda Physik Ag | Laser with versatile output energy |
| US6941259B2 (en) * | 2000-03-01 | 2005-09-06 | Lamda Physik Ag | Laser software control system |
| US20010049618A1 (en) * | 2000-03-23 | 2001-12-06 | Rainer Patzel | Method for allocating predictable costs for consumable items |
| WO2001084678A2 (en) | 2000-04-18 | 2001-11-08 | Lambda Physik Ag | Stabilization technique for high repetition rate gas discharge lasers |
| US6862307B2 (en) * | 2000-05-15 | 2005-03-01 | Lambda Physik Ag | Electrical excitation circuit for a pulsed gas laser |
| US6690706B2 (en) * | 2000-06-09 | 2004-02-10 | Cymer, Inc. | High rep-rate laser with improved electrodes |
| US6577663B2 (en) | 2000-06-19 | 2003-06-10 | Lambda Physik Ag | Narrow bandwidth oscillator-amplifier system |
| US6603789B1 (en) | 2000-07-05 | 2003-08-05 | Lambda Physik Ag | Narrow band excimer or molecular fluorine laser with improved beam parameters |
| US6807205B1 (en) | 2000-07-14 | 2004-10-19 | Lambda Physik Ag | Precise monitor etalon calibration technique |
| US6721345B2 (en) | 2000-07-14 | 2004-04-13 | Lambda Physik Ag | Electrostatic precipitator corona discharge ignition voltage probe for gas status detection and control system for gas discharge lasers |
| US6671302B2 (en) | 2000-08-11 | 2003-12-30 | Lambda Physik Ag | Device for self-initiated UV pre-ionization of a repetitively pulsed gas laser |
| US6801561B2 (en) | 2000-09-25 | 2004-10-05 | Lambda Physik Ag | Laser system and method for spectral narrowing through wavefront correction |
| US6747741B1 (en) | 2000-10-12 | 2004-06-08 | Lambda Physik Ag | Multiple-pass interferometric device |
| JP2003060270A (ja) * | 2001-08-10 | 2003-02-28 | Gigaphoton Inc | パルス発振ガスレーザ装置 |
| US6998620B2 (en) | 2001-08-13 | 2006-02-14 | Lambda Physik Ag | Stable energy detector for extreme ultraviolet radiation detection |
| US7095774B2 (en) | 2001-09-13 | 2006-08-22 | Cymer, Inc. | Cathodes for fluorine gas discharge lasers |
| KR100940782B1 (ko) * | 2001-09-13 | 2010-02-11 | 사이머 인코포레이티드 | 향상된 전극을 구비한 고반복률 레이저 |
| US7301980B2 (en) * | 2002-03-22 | 2007-11-27 | Cymer, Inc. | Halogen gas discharge laser electrodes |
| US7633989B2 (en) | 2005-06-27 | 2009-12-15 | Cymer, Inc. | High pulse repetition rate gas discharge laser |
| US7542502B2 (en) * | 2005-09-27 | 2009-06-02 | Cymer, Inc. | Thermal-expansion tolerant, preionizer electrode for a gas discharge laser |
| US20070071047A1 (en) * | 2005-09-29 | 2007-03-29 | Cymer, Inc. | 6K pulse repetition rate and above gas discharge laser system solid state pulse power system improvements |
| US7706424B2 (en) * | 2005-09-29 | 2010-04-27 | Cymer, Inc. | Gas discharge laser system electrodes and power supply for delivering electrical energy to same |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| US4959840A (en) * | 1988-01-15 | 1990-09-25 | Cymer Laser Technologies | Compact excimer laser including an electrode mounted in insulating relationship to wall of the laser |
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| EP0532751B1 (en) * | 1991-02-08 | 1995-05-03 | Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha | Transverse discharge pumping type pulse laser |
| DE4113241C2 (de) * | 1991-04-23 | 1994-08-11 | Lambda Physik Forschung | Gepulster Gasentladungslaser |
| US5239553A (en) * | 1991-04-23 | 1993-08-24 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Discharge-pumped gas laser with baffle partition for controlled laser gas flow at preionizers |
| JP2758730B2 (ja) * | 1991-04-25 | 1998-05-28 | 三菱電機株式会社 | 放電励起パルスレーザ発振装置 |
| US5337330A (en) * | 1992-10-09 | 1994-08-09 | Cymer Laser Technologies | Pre-ionizer for a laser |
| US5377215A (en) * | 1992-11-13 | 1994-12-27 | Cymer Laser Technologies | Excimer laser |
| DE4426723A1 (de) * | 1994-07-22 | 1996-01-25 | Atl Lasertechnik & Accessoires | Gleitentladungsvorionisation für Gaslaser |
| US5719896A (en) * | 1996-03-29 | 1998-02-17 | Cymer Inc. | Low cost corona pre-ionizer for a laser |
-
1997
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