JP3053319B2 - 磁気記録媒体基板およびその耐久性試験装置 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、単結晶シリコンからな
る磁気ディスク用基板のような磁気記録媒体基板（以
下、基板と略称する）および該基板を高速回転させた場
合の耐衝撃性を試験するための耐久性試験装置に関す
る。

【０００２】

【従来の技術】情報化社会の進展に伴い、大容量の記録
媒体が必要とされ、特にコンピュータの外部メモリとし
て中心的な役割をはたしている磁気ディスクは年々記録
容量、記録密度ともに増加しているが、さらに高密度な
記録を行うための開発が進められている。特に、ノート
型パソコンやパームトップパソコンの開発により、小型
で衝撃に強い記録装置が望まれ、そのために、より高密
度記録ができ、機械強度の強い磁気記録媒体が望まれて
いる。すなわち、磁気ディスクは、後記するようにかな
りの高速回転で使用されるため、基板はこの高速回転に
耐えうる材質と構造のものでなければならない。

【０００３】このような磁気記録媒体である磁気ディス
ク用の基板としては、従来アルミニウム合金が用いられ
ているが、記録密度の向上に伴い、より表面荒さが小さ
く、耐磨耗性のよい堅い基板が求められている。特にノ
ート型パソコンの普及に伴い消費電力の少なくてすむ磁
気ディスクが求められている。磁気ディスクドライブの
電力消費の多くはスピンドルモータによるものである
が、電力消費を少なくするため、基板は軽量でなければ
ならない。

【０００４】高記録密度のためには記録膜の保磁力は大
きい方が望ましい。一般に用いられているコバルト系合
金では、ある温度までは成膜温度が高ければ高いほど保
磁力は大きくなる。そこで、保磁力を大きくする目的で
成膜前に基板加熱を行なう。しかし、アルミニウム合金
は柔らかいため耐磨耗性、加工性が悪く、これを補うた
めに、表面にＮｉＰメッキ処理が必要であるが、このＮ
ｉＰ膜とアルミニウム合金との熱膨張率の差のために、
成膜するときに行う基板加熱時に基板が反り易い。ま
た、ＮｉＰは２８０℃以上に温度を上げると磁性を帯び
てしまうため、あまり高温で成膜することはできない。

【０００５】特に基板強度、表面荒さを小さくする目的
でガラス基板が一部用いられているが、磁気ディスクに
用いられているガラス基板は強化処理してあり、そのた
め表面に歪み層があり、圧縮応力が働いている。このた
め、基板を加熱すると基板が反り易いという欠点があ
る。また、基板が加熱しにくいため、十分な保磁力をだ
すのに、大きなパワーを必要とするという欠点がある。

【０００６】これに対し、単結晶シリコンは高温特性が
よく、熱膨張率が小さく、アルミニウム合金より比重が
小さく、導電性があるなど多くの長所を有するため基板
材として最適のものである。すなわち、単結晶シリコン
基板は、ガラス基板と比べて 基板加熱に用いる赤外線ヒーターが少ないパワーです
む、 異種質材からなる層がないために温度上昇で基板に反
りが生じない、 ６００℃以上の高温に耐える、 等の利点がある。また、ＬＳＩ製造プロセスの進歩と共
に微細加工技術が進歩し、これを応用することにより、
トラッキング用の溝等を容易に形成することができる。

【０００７】ところで、このような単結晶シリコンから
なる基板の製造方法としては、例えば、単結晶シリコン
棒の外周を円筒研削し、中心孔をあけ、スライス、面取
り、表面研磨の順に加工する方法が知られている。

【０００８】

【発明が解決しようとする課題】前記単結晶シリコンか
らなる基板の製造における面取り加工は、以下の理由で
行われる。すなわち、単結晶シリコンはアルミニウム合
金と異なり硬脆性があるので、基板に角部があると該基
板周辺部に欠けが発生し易く、これを防止するために、
基板の外周面および中心孔内周面に対して面取り加工が
施されるものである。しかしながら、面取り加工後では
該面取り部表面に厚さ約数μｍから数十μｍの加工歪み
が残留するため、機械強度が下がり、磁気記録媒体装置
駆動時の高速回転で歪みが広がり耐衝撃性が弱くなった
り、磁気記録媒体の製造工程中に欠け、ひび割れが生じ
易くなり、製造装置の能率を低下させることはもとよ
り、割れた破片によって製造装置を破損したり、他の磁
気記録媒体に傷をつけ不良品が生じることもあるという
問題点があった。

【０００９】一方、磁気記録媒体は使用に際し高速回転
されるものであるから、磁気記録媒体用基板の品質評価
項目の一つとして、高速回転時の耐久性（耐破損性）を
試験することが必要である。その理由は、ディスク回転
速度が速くなればなるほど磁気ディスクへのデータの書
き込み速度、読み取り速度が速くなるため、年々回転速
度が速くなっているからである。現在、磁気ディスクド
ライブで一般的に用いられているディスク回転数は3600
rpm から5000rpm を超えるものもある。もし，ディスク
端面、特に、内周部に微小クラックや加工歪み層がある
と、ディスクが高速回転した時に遠心力が加わり、ディ
スクが割れる可能性がある。特に、端面に角部があると
ハンドリングの最中にそこから微小クラックがはいりや
すい。そこで本発明者らは、耐久性試験装置として、試
料基板の中心孔を回転テーブルの突起部分に挿入して、
該基板を回転テーブル面に載置・固定するようにしたも
のを検討した。

【００１０】また、前記の耐久性試験装置は１台だけ
で、中心孔の孔径が異なる種々の寸法の基板に対応でき
るものであるのが望ましい。

【００１１】本発明は上記の点に鑑みなされたもので、
その第１の目的は、割れや欠けが生じにくく、特に高速
回転時の耐衝撃性が向上した、単結晶シリコンからなる
磁気記録媒体基板を提供することにある。また、本発明
の第２の目的は、中心孔の孔径が異なる種々の磁気記録
媒体基板に対応可能な耐久性試験装置を提供することに
ある。

【００１２】

【課題を解決するための手段】前記第１の目的を達成す
るための本発明の磁気記録媒体基板は、単結晶シリコン
からなる磁気記録媒体基板において、ドーナツ状の単結
晶シリコン基板の外周縁部および中心孔が機械加工によ
り形成された後に、加工面にケミカルエッチングを施し
たり、面取り形状を円弧状にすることを特徴とする。

【００１３】また、前記第２の目的を達成するための本
発明の磁気記録媒体基板の耐久性試験装置は、強制回転
可能なスピンドルシャフトの一端部に複数の円環状定着
面を前記スピンドルシャフトと同心状、かつ段差部を介
し山型階段状に重層して磁気記録媒体基板の定着部材
を、構成すると共に、該定着部材の上端部にねじ軸を突
設し、該ねじ軸には、押さえナットを螺合すると共に、
該押さえナットと前記定着部材との間に、一端部に前記
複数の円環状定着面のいずれか一つと当接しうる当接面
を形成したディスククランプを挿入し、さらに前記定着
部材の段差部は、前記磁気記録媒体基板の中心孔内周面
と嵌合しうるものとしたことを特徴とする。

【００１４】

【作用】本発明の磁気記録媒体基板では、基板の割れや
欠けの主原因部分である面取り部の角部を丸め、または
ケミカルエッチングを行なうことによって、基板の耐衝
撃性が著しく向上する。

【００１５】一方、本発明に係る磁気記録媒体基板の耐
久性試験装置を使用するに当たっては、試料基板を、前
記定着部材の複数の円環状定着面のうち寸法が適合する
ものに載置したのち、該定着面に適合するディスククラ
ンプをねじ軸に挿入し、次いで該ねじ軸に押さえナット
を螺合して締めつけ、試料基板を、ディスククランプの
当接面と前記円環状定着面とにより適宜の締めつけ力で
挟持固定し、スピンドルシャフトを所望の回転数で回転
させる。この耐久性試験装置では、内径が異なる複数の
円環状定着面を設けてあるので、中心孔の孔径が異なる
複数種類の試料基板を、取り換えて固定することができ
る。

【００１６】

【実施例】以下、本発明を図面に示す実施例により、さ
らに詳細に説明する。 実施例１ 図１，２は単結晶シリコンからなる磁気記録媒体用の基
板の製造工程を示すもので、図１（ａ），（ｂ）はドー
ナツ状円板の切り出し工程を、図２は面取り工程および
ケミカルエッチング工程を示している。また、図３は基
板の外周縁部の他、特に中心孔をなす内周側面取部のケ
ミカルエッチングの要領を示すものである。

【００１７】基板の製造に際しては、まず大口径の単結
晶シリコン棒を作製し、これをスライスして、図１に示
す大口径の単結晶シリコンウェーハ（以下、ウェーハと
略称する）１２を用意する。このウェーハ１２について
砥石を用いてラップ仕上げを行い、その厚みと表面を整
えたのち、レーザ切断装置（図示せず）により図１
（ａ），（ｂ）に示すように複数枚の小口径のドーナツ
状円板１４を切り出す。

【００１８】次に、このドーナツ状円板１４について、
図２，図３に示すように面取り加工、表面研磨およびケ
ミカルエッチングの順に処理を施す。すなわち、面取り
砥石（図示せず）による外周縁部１６および中心孔１８
の面取り加工、およびメカノケミカルポリッシング装置
（図示せず）による上面２０および下面２２の鏡面研磨
を行い〔図２（ａ）→（ｂ）〕、次いでケミカルエッチ
ングでは、図３に示す方法により面取り加工により発生
した加工歪み層２４，２６を除去し〔図２（ｃ）〕、最
後に基板全体を洗浄して、所望の磁気記録媒体基板２８
の作製が完了する。

【００１９】前記ケミカルエッチングは、面取り加工後
のドーナツ状円板１４の全体をエッチング液に浸漬して
行い、これにより前記上下面の鏡面研磨工程を省略する
こともできるが、図３に示すようにドーナツ状円板１４
を多数枚重層したものをクランプ３０で挟持固定し、こ
のクランプ３０をエッチング液に浸漬すれば、多数枚の
基板について、前記面取部における加工歪み層２４，２
６のみを選択的かつ同時にエッチング処理することがで
きる。なお、この場合、ドーナツ状円板１４同士を直接
重層しているが、所望により基板間にダミー基板を挿入
してもよい。図３において４７はエッチング液を通過さ
せるための貫通孔、３２，３４は挟持板、３６，３８は
ボルト、４０，４２は締めつけ用のナット、４４，４６
は座金である。

【００２０】前記面取り加工は、一般には図２（ｂ）に
示すように角部のある形に施されるが、該角度を丸めた
形に面取りすることによって、磁気記録媒体基板の耐衝
撃性をさらに高めることができる。

【００２１】前記エッチング液としては酸性液またはア
ルカリ液が用いられる。前者の具体例としてフッ酸（Ｈ
Ｆ濃度５０ｗｔ％）、硝酸（濃度７０ｗｔ％）、メタノ
ール（濃度１００％）の混合液（混合容積比２：５：
３）が、後者の具体例として適宜濃度のＫＯＨ水溶液ま
たはＮａＯＨ水溶液を用いることができ、これらにより
ケミカルエッチングを短時間に行うことができる。前記
面取り加工による加工歪みの厚さは約１０μｍであるた
め、エッチング液として前記混合酸性液すなわち混酸を
用いた場合のエッチング時間は１０〜２０秒程度でよ
い。

【００２２】本発明の特徴は磁気記録媒体において、ケ
ミカルエッチングを施し、面取り後の歪み層を完全に除
去した単結晶シリコンを基板として用いることにあり、
この上に積層される膜の材質、構成が特別なものに限定
されることはない。例えば、記録膜としては従来から一
般に用いられているコバルト系合金やフェライト系でも
よく、膜構成としては基板側から下地膜、記録膜、保護
膜の順に積層したもの、またはこの膜構成で下地膜、保
護膜のどちらか一方または両方が欠如したものでもよ
く、下地膜、記録膜、保護膜のうち一層または二層以上
が多層膜で構成されているものも含まれる。また、島状
成長等を利用し、磁気ヘッドとの吸着防止のための層を
設けたものも含まれる。

【００２３】なお、前記面取り工程前のドーナツ状円板
〔図２（ａ）の符号１４に相当〕の作製方法の別例とし
ては、直径が該ドーナツ状円板よりわずかに大きい単結
晶シリコン棒の外周を円筒研削し、これに前記中心孔１
８に相当する貫通孔を形成したのち、所定の厚みにスラ
イスする方法も採用できる。

【００２４】（試験例）前記実施例により得られた外径
９５．０ｍｍ，内径２５．０ｍｍ基板と、面取り部にケ
ミカルエッチングを施さない以外は前記実施例と全く同
一の工程および条件で得られた基板（比較例）多数枚に
ついて、高速回転による耐衝撃性試験を行った。この場
合、エッチング液として前記混酸または濃度２０ｗｔ％
のＫＯＨ水溶液を使用した。また、耐衝撃試験はまず１
ｍの高さから基板を落下させたのち、回転試験を行なっ
た。回転試験では、まず15000 ｒｐｍまで15秒で立ち上
げ、15000 ｒｐｍのまま５分間保持し、次に15秒で停止
させ、また15000 ｒｐｍまで回転速度を上げる。この周
期を１０回繰り返した後、割れたもの、顕微鏡下で内周
部のクラック、割れが見えるものを不良品としたとこ
ろ、図４のような結果が得られた。

【００２５】この図から明らかなように、比較例におい
て「角部有りで、エッチングなし」の不良品数の割合を
１．０とした場合、本発明の試験例では「丸みを付与
で、エッチングなし」では同上割合が約０．６４で、
「角部有りで、エッチング有り」の場合、同上割合は
０．３前後となり、「丸みを付与で、エッチング有り」
の場合には同上割合はゼロと、究めて良好な結果が得ら
れた。以上のことから、歪み層をエッチングにより取り
除いたり、面取り部を丸めたりした方がよく、さらに両
方の処理をしたほうがさらによいことがわかる。

【００２６】（実施例２）次に、本発明に係る耐久性試
験装置の実施例を図５，６を参照して説明する。この試
験装置は、磁気記録媒体用の基板１０１を定着するため
の定着部材５０と、この定着部材５０と協働して基板１
０１を挟持固定するためのディスククランプ６０と、こ
のディスククランプ６０を前記定着部材５０側に締め付
けるための押さえナット７０および座金８０とを備えて
いる。そして、図５は定着部材５０の最下段の円環状定
着面５６ａに基板１０１を載置し、ディスククランプ６
０ａ次いで座金８０をねじ軸５８に挿入したのち、該ね
じ軸に押さえナット７０を螺合してディスククランプ６
０ａを締め付けることにより、前記基板１０１をディス
ククランプ６０ａと前記定着面５６ａとで挟持固定し、
スピンドルシャフト５２を高速回転させて耐久性試験を
行うようにした状態を示している。

【００２７】前記定着部材５０は、スピンドルシャフト
５２と、該スピンドルシャフトの上端部に一体的に設け
た山型階段状の基板定着部５４とにより構成し、スピン
ドルシャフト５２は、例えばあらかじめ無段変速可能な
回転装置（図示せず）の回転軸に連結しておく。前記基
板定着部５４は、直径が異なる複数の円環状定着面５６
ａ〜５６ｅを、前記スピンドルシャフト５２の回転軸線
と同心状に（すなわち該回転軸線と直交させて）互いに
平行に、かつ直径の大きさの順に段差部５５を介して階
段状に、しかも直径が最大の定着面５６ａをスピンドル
シャフト５２側に最寄りに形成して構成する。そして、
この基板定着部５４の頂部にねじ軸５８を前記回転軸線
と同心状に突設する。

【００２８】前記ディスククランプ６０は、前記５つの
定着面５６ａ〜５６ｅに対応して５種類のものを用意し
ておく。図５に示すディスククランプ６０ａは定着面５
６ａに対応し、図６に示すディスククランプ６０ｄは定
着面５６ｄに対応しており、これら５種類のディスクク
ランプは互いにほぼ相似形である。したがって、以下デ
ィスククランプ６０ａの構造について説明する。

【００２９】ディスククランプ６０ａは、前記基板定着
部５４の全体を被蓋できる円錐台状（円筒状でもよい）
のキャップ体とし、底面６１を定着面５６ａとほぼ合同
の円環状として、実質的に全面が該定着面５６ａの全面
と密着しうるように形成する。また、このディスククラ
ンプ６０ａの頂部中心部には貫通孔６２を形成し、前記
ねじ軸５８に挿入可能とする。この場合、ディスククラ
ンプ６０ａの底部の内径は、段差部５５ａ（円柱体の外
周面に相当する）の直径よりも大きくする必要がある
が、図５に示すように、わずかに大として前記底部の内
周面が、前記段差部５５ａと嵌合するように設定するの
が好ましく、これにより、スピンドルシャフト５２とデ
ィスククランプ６０ａとの芯出しを簡便に行うことがで
きる。

【００３０】また、各ディスククランプ６０ａの底面６
１すなわち前記定着面との当接可能な面には、図５に示
すように軟質のゴム板または軟質のプラスチック板から
なるパッキング６３を装着することが好ましく、これに
より、基板１０１の表面を保護することができ、該基板
を、的確かつ均等な挟圧力で挟持固定することが可能に
なると共に、押さえナット７０の締め過ぎによる基板１
０１の損傷を防止することができる。さらに、基板定着
部５４の段差部５５ａの直径は、図５に示すように基板
１０１の中心孔内周面と嵌合するように設定することが
好ましく、これにより、基板１０１と段差部５５ａとの
隙間にゴミ等が挟まったり、基板１０１が面ブレする心
配がなくなる。

【００３１】前記スピンドルシャフト５２は、高速回転
装置（図示せず）の出力軸にあらかじめ連結しておく
か、または着脱自在に連結するが、この回転装置として
は例えば、５００ｒｐｍ〜１５０００ｒｐｍの範囲内で
無段変速可能であり、かつスピンドルシャフト５２を回
転させた場合の直径方向、軸方向の振れができるだけ小
さいもの（例えば１５０００ｒｐｍにおいて３μｍ以
下）とするのが好ましい。

【００３２】前記押さえナット７０は、めねじを貫通形
成した通常のナットを用いることもできるが、図５のよ
うに袋ナットとすると共に表面にローレット加工を施し
たものが好ましい。なお、図５において９０はねじ穴、
９２は加工上直角に形成できないために設ける溝であ
り、この溝により、基板の内周部に力がかからなくな
り、クランプ時の割れを防ぐことができる。

【００３３】この試験装置では、前記のように同一のス
ピンドルシャフト上に直径の異なる複数の円環状定着面
を複数段に形成すると共に、これらの定着面に対応して
複数のディスククランプを用意したので、中心孔の孔径
が異なる磁気記録媒体基板を一つの試験装置で試験する
ことができる。

【００３４】ところで、図５は基板１０１を、その中心
孔１０２を段差部５５ａに遊嵌させて定着面５６ａとデ
ィスククランプ６０ａとで固定した場合を示している
が、中心孔径がこれよりも小さい基板１０３を固定する
要領について、図５，６により説明する。図５の状態か
ら押さえナット７０、座金８０、ディスククランプ６０
ａ、基板１０１の順に取り外したのち、図６のように、
この基板より小径（したがって中心孔の孔径も小径）の
基板１０３を定着面５６ｄ上に載置して、次いで前記デ
ィスククランプ６０ａより小径のディスククランプ６０
ｄをねじ軸５８に挿入し、押さえナット７０の螺合、締
め付けを行えばよい。この場合、ディスククランプ６０
ｄは基板定着部５４の上半部を被蓋するものとなる。な
お、所望により、同一寸法の基板を複数枚、共通の定着
面上に載置し、固定してもよい。また、この試験装置
は、単結晶シリコンからなる磁気記録媒体基板に限ら
ず、ガラス製の基板や、半導体ウェーハの耐久性試験用
に供することもできる。

【００３５】

【発明の効果】以上の説明で明らかなように、本発明の
磁気記録媒体基板では、中心孔の縁部を円弧状に面取り
加工後に残留する加工歪み層をケミカルエッチングによ
り除去して鏡面状態に仕上げてあるから、面取り加工部
の強度が向上し、耐久性に優れた磁気記録媒体基板とな
るものである。また、本発明の磁気記録媒体基板の耐久
性試験装置では、同一のスピンドルシャフト上に直径の
異なる複数の円環状定着面を複数段に形成すると共に、
これらの定着面に対応して複数のディスククランプを用
意したので、中心孔の孔径が異なる磁気記録媒体基板を
一つの試験装置で試験することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の磁気記録媒体基板を製造する工程の一
例を示すもので、（ａ）はドーナツ状円板の切り出し要
領の説明平面図であり、（ｂ）は図１の側面図である。

【図２】図１の要領で切り出されたドーナツ状円板の仕
上げ加工工程を、その断面図で示したものであり、
（ａ）は面取り加工前の、（ｂ）は面取り加工後の、
（ｃ）はケミカルエッチング後の状態をそれぞれ示す。

【図３】図２（ｂ）のドーナツ状円板をケミカルエッチ
ングする要領を示すもので、多数枚の基板をクランプで
固定した状態の断面図である。

【図４】本発明の試験例および比較例の結果を示すグラ
フである。

【図５】本発明に係る耐久性試験装置の実施例の構造お
よび使用要領の一例を示す縦断面図である。

【図６】図５実施例の使用要領の別例を示す縦断面図で
ある。

【符号の説明】

１２ 単結晶シリコンウェーハ １４ ドーナツ状円板 １６ 外周縁部 １８ 中心孔 ２０ 上面 ２２ 下面 ２４，２６ 加工歪み層 ２８ 磁気記録媒体基板 ３０ クランプ ３２，３４ 挟持板 ３６，３８ ボルト ４０，４２ ナット ４４，４６ 座金 ４７ 貫通孔 ５０ 定着部材 ５２ スピンドルシャフト ５４ 基板定着部 ５５，５５ａ 段差部 ５６ａ〜５６ｅ 円環状定着面 ５８ ねじ軸 ６０，６０ａ，６０ｄ ディスククランプ ６１ 底面 ６２ 貫通孔 ６３ パッキン ７０ 押さえナット ８０ 座金 ９０ ねじ孔 ９２ 溝 １０１，１０３ 基板 １０２ 中心孔

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 中里 泰章 長野県更埴市大字屋代1393番地 長野電 子工業株式会社内 (72)発明者 青木 豊文 長野県更埴市大字屋代1393番地 長野電 子工業株式会社内 (72)発明者 黒柳 逸夫 東京都千代田区丸の内１丁目４番２号 信越半導体株式会社内 (56)参考文献 特開 昭61−172220（ＪＰ，Ａ) 特開 昭64−67714（ＪＰ，Ａ) 特表 昭61−502787（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.⁷，ＤＢ名) G11B 5/84

Claims (10)

(57)【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 単結晶シリコンからなる磁気記録媒体基
   板において、ドーナツ状の単結晶シリコン基板の外周縁
   部および中心孔が機械加工により形成され、その後の機
   械加工終了後にケミカルエッチングを施したものである
   ことを特徴とする磁気記録媒体基板。
2. 【請求項２】 単結晶シリコンからなる磁気記録媒体基
   板において、ドーナツ状の単結晶シリコン基板の外周縁
   部および中心孔が機械加工により形成された後、該外周
   縁部および中心孔の縁部に面取り加工を行なった後に、
   該面取り加工面にケミカルエッチングを施したものであ
   ることを特徴とする磁気記録媒体基板。
3. 【請求項３】 単結晶シリコンからなる磁気記録媒体基
   板において、ドーナツ状の単結晶シリコン基板の外周縁
   部および中心孔が機械加工により形成された後、該外周
   縁部および中心孔に円弧状の面取り面を形成したもので
   あることを特徴とする磁気記録媒体基板。
4. 【請求項４】 単結晶シリコンからなる磁気記録媒体基
   板において、ドーナツ状の単結晶シリコン基板の外周縁
   部および中心孔が機械加工により形成された後、該外周
   縁部および中心孔に円弧状の面取り面を形成した後にケ
   ミカルエッチングを施したものであることを特徴とする
   磁気記録媒体基板。
5. 【請求項５】 強制回転可能なスピンドルシャフトの一
   端部に複数の円環状定着面を前記スピンドルシャフトと
   同心状、かつ段差部を介し、山型階段状に重層して磁気
   記録媒体基板の定着部材を構成すると共に、該定着部材
   の上端部にねじ軸を突設し、該ねじ軸には、押さえナッ
   トを螺合すると共に、該押さえナットと前記定着部材と
   の間に、一端部に前記複数の円環状定着面のいずれか一
   つと当接しうる当接面を形成したディスククランプを挿
   入し、さらに前記定着部材の段差部は、前記磁気記録媒
   体基板の中心孔内周面と嵌合しうるものとしたことを特
   徴とする磁気記録媒体基板の耐久性試験装置。
6. 【請求項６】 前記ディスククランプは前記定着部材の
   上部を被蓋しうる円錐台状または円筒状のキャップ体と
   し、該キャップ体の底部内周面は前記定着部材の段差部
   と嵌合しうるものとすると共に、底面は円環状に形成し
   て前記円環状定着面との当接面となし、さらに該当接面
   に軟質のゴム板または軟質のプラスチック板を装着した
   ものとしたことを特徴とする請求項５に記載の耐久性試
   験装置。
7. 【請求項７】 単結晶シリコンからなる磁気記録媒体基
   板の製造方法において、ドーナツ状の単結晶シリコン基
   板の外周縁部および中心孔を機械加工により形成し、そ
   の後の機械加工終了後にケミカルエッチングを施すこと
   を特徴とする磁気記録媒体基板の製造方法。
8. 【請求項８】 単結晶シリコンからなる磁気記録媒体基
   板の製造方法において、ドーナツ状の単結晶シリコン基
   板の外周縁部および中心孔を機械加工により形成した
   後、該外周縁部および中心孔の縁部に面取り加工を行な
   った後に、該面取り加工面にケミカルエッチングを施す
   ことを特徴とする磁気記録媒体基板の製造方法。
9. 【請求項９】 単結晶シリコンからなる磁気記録媒体基
   板の製造方法において、ドーナツ状の単結晶シリコン基
   板の外周縁部および中心孔を機械加工により形成した
   後、該外周縁部および中心孔に円弧状の面取り面を形成
   することを特徴とする磁気記録媒体基板の製造方法。
10. 【請求項１０】 単結晶シリコンからなる磁気記録媒体
    基板の製造方法において、ドーナツ状の単結晶シリコン
    基板の外周縁部および中心孔を機械加工により形成した
    後、該外周縁部および中心孔に円弧状の面取り面を形成
    した後にケミカルエッチングを施すことを特徴とする磁
    気記録媒体基板の製造方法。