JP3051538B2 - ポリフェノールにおける特定部位のフェノールヒドロキシの新規な単一官能化方法 - Google Patents

ポリフェノールにおける特定部位のフェノールヒドロキシの新規な単一官能化方法

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Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】この発明は、ポリフェノールにお
ける特定部位のフェノールヒドロキシの新規な単一官能
化方法に関する。
【0002】
【発明が解決しようとする課題】しかして、本発明の主
題は、次式(I)
【化4】 (ここで、Rは水素原子、多くとも8個の炭素原子を含
有する直鎖若しくは分岐鎖状のアルキル、アルケニル若
しくはアルキニル基、シアノ、ホルミル若しくはカルボ
キシ基、多くとも9個の炭素原子を含有するアルコキシ
カルボニル基、多くとも12個の炭素原子を含有する
[(アリールアルキル)オキシ]カルボニル基又はハロ
ゲン原子を表わし、R' はヒドロキシ基の保護基を表わ
す)の化合物を製造する方法において、次式(II)
【化5】 (ここで、Rは前記の通りである)のポリフェノールを
塩基で処理して相当するジアニオンを得、これを次式 B(Oalk)3 (ここで、alkは1〜6個の炭素原子を含有するアル
キル基を表わす)の硼酸トリアルキルで処理して次式(I
II)
【化6】 (ここで、alk及びRは前記の通りである)の化合物
を得、この化合物をヒドロキシル基に保護基を導入でき
る薬剤で処理して保護されたヒドロキシ基を含有する相
当する化合物を得、この化合物を酸素−硼素結合の加水
分解剤で処理して式(I)の所期化合物を得ることを特
徴とする式(I)の化合物の製造方法にある。
【0003】
【発明の具体的な説明】前記の式において、Rがアルキ
ル基を表わすときは、それは特に直鎖又は分岐鎖状のメ
チル、エチル、プロピル、ブチル、ペンチル又はヘキシ
ル基である。Rがアルケニル基を表わすときは、それは
特にビニル、アリル、イソプロペニル、2−メチルアリ
ル又はイソブテニル基である。Rがアルキニル基を表わ
すときは、それは特にエチニル、プロパルギル、ブチニ
ル又はペンチニル基である。Rがアルコキシカルボニル
基を表わすときは、それは特にメトキシカルボニル、エ
トキシカルボニル、プロポキシカルボニル、イソプロポ
キシカルボニル、ブトキシカルボニル、イソブトキシカ
ルボニル又はt−ブトキシカルボニル基を表わす。Rが
[(アリールアルキル)オキシ]カルボニル基を表わす
ときは、それは特にベンジルオキシカルボニル基を表わ
す。Rがハロゲン原子を表わすときは、それは弗素、塩
素、臭素又は沃素原子であってよい。ヒドロキシ基の保
護基はフェノールの化学において当業者に周知の任意の
基であってよく、特にTh.グリーン氏の「有機合成に
おける保護基」(ジョンウイリーアンドソンズ社発行)
に挙げられたものである。例えば、第一及び第二アルキ
ル基、特にメチル、エチル及びイソプロピル;アルケニ
ル基、特にアリル;[(アルキルオキシ)アルキルオキ
シ]アルキル基、特に[(メトキシ)エトキシ]メチ
ル;アルカノイル基、特にピバロイル;置換されていて
もよいアリール基、特にニトロフェニル、;アリールア
ルキル基、特にベンジル又はフェネチル;アリールスル
ホニル基、特にp−トルエンスルホニル;アリールシリ
ル又はアルキルアリールシリル基、特にジフェニルt−
ブチルシリル基が挙げられる。
【0004】本発明の製造法を実施するのに好ましい条
件下では、 ・式(II)の化合物は少なくとも2当量の塩基で処理さ
れる。塩基は、好ましくは水素化ナトリウム、又は基R
と適合できる有機金属化合物、特にアルキルリチウムで
ある。 ・硼酸エステルによる保護反応は、無水の中性有機溶
媒、特にテトラヒドロフラン又はジメチルホルムアミド
中で行われる。 ・使用される硼酸エステルは硼酸トリメチル、トリエチ
ル、トリプロピル、トリイソプロピル又はトリブチルで
ある。 ・この操作は生成した中間体化合物を単離することなく
周囲温度で実施される。 ・ヒドロキシ基の保護基を導入するための薬剤はハロゲ
ン化物である。 ・加水分解剤は酸、特に塩酸又は酸化剤、特に過酸化水
素である。
【0005】式(III) の中間体である環状硼酸エステル
について上記した構造式は、いずれにしても、硼酸トリ
アルキルによる保護反応の機構を阻害しない。しかし、
この中間体(III) は、平衡反応によりその場において、
ある数の他の中間体をもたらすものと思われる。この中
間体には次式(IV)
【化7】 の硼酸エステルがある。全く例示であるが、保護された
ヒドロキシ基を含有する中間体化合物の構造は上記の硼
酸エステルの構造から生じ、したがって多分次式(V)
【化8】 のようなものであると推定できる。
【0006】式(I)のタイプの化合物の製造法は過去
においてすでに報告されている。そのいくつかは硼素誘
導体を使用する。特に、シェリン氏(Acta. Chem. Scan
d. 20(1966) No.6 p.1182) により報告され且つ加藤氏
(Synth. Commun. (1980) p.172)により要約された方法
がそうである。この方法は、2個の1,2−ヒドロキシ
基の保護を達成するものであって、硼酸ナトリウムを使
用する。また、より一般的には、硼酸の誘導体によるジ
オールの保護は特に糖の化学においてすでに報告された
といえる。これらの保護は、特に、式A−B(OH)2
(ここで、Aはアリール又はポリスチリル基を表わす)
の硼酸の誘導体を使用する(フレシュ氏他、J. Am. Che
m. Soc. 101(1979) p.432).
【0007】本発明の方法は、文献に記載されたものと
比較して重要な利点を有する。これは、低価格で取扱い
が非常に容易な商業用の薬剤を使用し、どんな中間体の
単離も必要とせず、優れた収率を与え、結局、塩基性及
び水性の両条件の使用を回避するために、非常に一般的
である。上記のような条件の使用は、R' が低級アルキ
ル基、実際にはメチル基を表わす式(I)のタイプの化
合物を製造するための従来技術の方法を制約する。これ
らの方法における水性条件の使用は、これらの条件で不
安定であるか又はフェノールに対してあまりにもゆっく
りと反応する保護用薬剤の使用を正当化させないし、ま
た保護されえたヒドロキシ基が不安定である化合物の製
造はこれらの条件では許容されない。さらに、本発明の
方法は、基Rの一体性を保持するという利点を提供す
る。しかし、従来技術の方法ではそうではない。
【0008】式(I)の化合物は、特に基Rの存在のた
めに有機合成において非常に有用な化合物であり、この
化合物から出発して、特に同族体化反応が可能である。
しかし、もちろん、環上での置換も可能である。前記の
用途のうちでは、コタルニン型のアルカロイドの合成、
さらに一般的には、出発時に没食子酸、その類似体又は
誘導体を使用する合成が挙げられる(例えば、G.J.
カパデア氏他のJ. Pharm. Sci. 58 No.9 (1969) p.115
7、又は三菱化成のY.タクマ氏のIUPAC 京都会議での
「コタミンの効率的合成」(1988年5月29日〜6
月3日)、又はY.カトー氏のSynth. Comm. 172 (198
0) を参照)。
【0009】
【実施例】下記の実施例は本発明を例示するものであっ
て、これを何ら制限するものではない。
【0010】例1:3−[(4−メチルフェニル)スル
ホニルオキシ]−4,5−ジヒドロキシ安息香酸メチル 不活性ガス雰囲気下に1gの没食子酸メチルを30cc
の無水ジメチルホルムアミドに導入し、0.492gの
53%水素化ナトリウム油中懸濁液をゆっくりと添加
し、全体を周囲温度で1時間撹拌し続ける。次いで、
9.953ccの硼酸トリエチルを添加し、30分間撹
拌し続け、1.036gの塩化トシルを10ccの無水
ジメチルホルムアミドに溶解してなる溶液を周囲温度で
2時間で導入する。周囲温度で2時間撹拌し、次いで1
5分間放置した後、全体を氷冷水と1N塩酸との混合物
(pH約3)中に注ぐ。結晶を分離し、水洗し、減圧下
に乾燥する。1.78gの粗製の所期化合物を得た。こ
れをイソプロピルエーテルで洗浄する。最後に、1.6
6gの所期化合物を得た。収率90.4%。NMR スペクトル(CDCl3 、60MHz) ヒドロキシH 3ppm 芳香族H 7.05〜7.9ppm エステルのメチルH 3.86ppm フェニルの4位置のメチルH 2.5ppm
【0011】例2:3−[(4−メチルフェニル)スル
ホニルオキシ]−4,5−ジヒドロキシ安息香酸メチル 1リットルの無水テトラヒドロフランを不活性ガス雰囲
気下に置き、次いで118gの水素化ナトリウムの油中
懸濁液を周囲温度で撹拌しながら添加する。次いで55
5ccの硼酸トリエチルを15分間で添加し、次いで3
79gの没食子酸メチルを1.8リットルのテトラヒド
ロフランに溶解してなる溶液を2時間で添加する。全体
を15時間撹拌し続け、次いで283gの無水炭酸カリ
ウムを添加する。次いで、410gの塩化トシルを82
0ccのテトラヒドロフランに溶解してなる溶液を30
分間で添加し、全体を24時間撹拌し続け、次いで2時
間還流し、冷却し、氷−1N塩酸(2リットル)混合物
中に注ぎ、酢酸エチルで抽出する。有機相を塩化ナトリ
ウム飽和水で洗浄し、乾燥し、溶媒を除去する。残留物
をイソプロピルエーテル、次いで塩化メチレン中でペー
スト状にし、分離し、乾燥した後、576gの所期化合
物を得た。収率89.8%。Mp=196℃。これは例
1で得られたものと同一である。
【0012】例3:3−[(4−メチルフェニル)スル
ホニルオキシ]−4,5−ジヒドロキシ安息香酸プロピ
ル 400ccの無水テトラヒドロフランを不活性ガス雰囲
気下に置き、62gの水素化ナトリウムの油中懸濁液を
添加する。次いで、294ccの硼酸トリエチルを撹拌
下に5分間で添加し、次いで230gの没食子酸プロピ
ルを600ccのテトラヒドロフランに溶解してなる溶
液を15℃で2時間45分で添加する。この混合物を1
8℃で2時間攪拌し、次いで217gの塩化トシルを5
00ccのテトラヒドロフランに溶解してなる溶液を添
加し、次いで70gの炭酸カリウムを添加し、全体を周
囲温度で17時間攪拌し続ける。次いで、混合物を環流
させ、さらに70gの炭酸カリウムを添加し、次いで冷
却し、氷と400ccの22度Beの塩酸との混合物中
に注ぎ、塩化ナトリウムを飽和させ、酢酸エチルで抽出
する。有機相を乾燥し、溶媒を蒸発させ、残留物を塩化
メチレン中でペースト状にする。324.6gの所期化
合物を得た。Mp=152℃。収率81.7%。
【0013】例4:3−(ベンジルオキシ)−4,5−
ジヒドロキシ安息香酸メチル 1gの没食子酸メチルと30ccの無水ジメチルホルム
アミドを不活性ガス雰囲気下に混合し、次いで0.49
gの水素化ナトリウムの53%油中懸濁液を15℃で添
加する。1時間後に、0.606ccの硼酸トリメチル
を周囲温度で添加し、地で0.645ccの臭化ベンジ
ルを10ccのジメチルホルムアミドに溶解してなる溶
液を1時間で添加する。混合物を周囲温度で3時間撹拌
し続け、次いで水、氷及び10ccの2N塩酸の混合物
中に注ぐ。酢酸エチルで抽出し、有機相を乾燥し、乾固
させる。残留物をエチルエーテル−イソプロピルエーテ
ル混合物で溶解し、結晶をろ過し、乾燥した後、得られ
た1.47gの化合物をトルエンから再結晶させる。最
後に、1.02gの純化合物を得た。収率80.2%。分析 :C15145 =274.27 計算:C%65.7 H%5.1 実測:C%65.4 H%5.1NMR スペクトル:CDCl3 、60MHz エステルのメチルのH 3.9ppm ベンジルのCH2 のH 5.17ppm 芳香族のH 7.32〜7.45ppm
【0014】例5:3−(ベンジルオキシ)−4,5−
ジヒドロキシ安息香酸メチル 下記の表に示す種々の硼酸エステルを使用し、例4に記
載のようにして操作を行う。いずれの場合も、表1に示
す収率でもって、純粋な所期化合物が得られた。
【0015】
【表1】
【0016】例6:3−(アリルオキシ)−4,5−ジ
ヒドロキシ安息香酸メチル 5gの没食子酸メチルと150ccのジメチルホルムア
ミドを不活性ガス雰囲気下に混合し、次いで2.46g
の水素化ナトリウムの53%油中懸濁液を15℃で10
分間で添加する。1時間後に、4.76ccの硼酸トリ
エチルをゆっくりと添加し、次いで2.35ccの臭化
アリルを50ccのジメチルホルムアミドに溶解してな
る溶液を1時間で添加する。混合物を周囲温度で2時間
撹拌し続け、次いで水−氷−塩酸混合物中に注ぐ。酢酸
エチルで抽出し、次いで水洗し、乾燥し、蒸発乾固させ
る。残留物をシリカでクロマトグラフィーし、シクロヘ
キサン−酢酸エチル混合物(6−4)で溶離し、5.2
gの所期化合物を得た。Mp=109℃。分析 :C11125 =224.216 計算:C%58.93 H%5.4 実測:C%59.2 H%5.5NMR スペクトル:CDCl3 、60MHz エステルのCH3 のH 3.92ppm アリルのCH2 のH 4.63−4.72ppm −CH2 =CH2 のH 5.25−6.46ppm 2−ヒドロキシのH 5.75−6.10ppm 芳香族のH 7.25−7.44
【0017】例7:3−(イソプロピルオキシ)−4,
5−ジヒドロキシ安息香酸メチル 出発時に1gの没食子酸メチル、0.96ccの硼酸ト
リエチル及び0.56ccの臭化イソプロピルを使用
し、例6におけるように操作を行う。さらに0.56c
cの臭化イソプロピルを添加し、次いで55℃で8時間
加熱する。全体を水−氷−2N塩酸混合物中に注ぎ、次
いで酢酸エチルで抽出し、生成物を例6におけるように
してシリカでクロマトグラフィーする。0.8gの所期
化合物を得た。収率65%。分析 :C11145 =226.232 計算:C%58.4 H%6.24 実測:C%58.5 H%6.3NMR スペクトル:CDCl3 、60MHz イソプロピルのメチルのH 1.32−1.42pp
m イソプロピルのCHのH 4.37〜4.97ppm エステルのメチルのH 3.9ppm 芳香族のH 7.23〜7.37ppm 2個のOHのH 5.63〜6.05ppm
【0018】例8:3−[(メトキシエトキシ)メトキ
シ]−4,5−ジヒドロキシ安息香酸メチル 出発時に1gの没食子酸メチル、0.96ccの硼酸ト
リエチル及び0.682ccの塩化(メトキシエトキ
シ)メチルを使用し、例6におけるようにして操作を行
う。 例6に記載の条件でクロマトグラフィーした後、0.9
27gの所期化合物を油状物の形で得た。収率63%。分析 :C12167 =272.26 計算:C%52.94 H%5.92 実測:C%53.0 H%6.3NMR スペクトル:CDCl3 、60MHz O−CH3 のH 3.45ppm エステルのCH3 のH 3.88ppm O−CH2 −CH2 −OのH 3.5〜4ppm O−CH2 −OのH 5.27ppm 芳香族のH 7.35〜7.45ppm
【0019】例9:3−(ジフェニル−t−ブチルシリ
ルオキシ)−4,5−ジヒドロキシ安息香酸メチル 出発時に1gの没食子酸メチル、0.96ccの硼酸ト
リエチル及び1.482gの塩化ジフェニル−t−ブチ
ルシリルを使用し、例6に記載のように操作を行う。例
6に記載の条件でクロマトグラフィーした後、1.63
gの所期化合物を油状物の形で得た。収率71%。分析 :C24265 Si=422.56 計算:C%68.2 H%6.2 実測:C%69.2 H%6.4NMR スペクトル:CDCl3 、60MHz tBuSiのH 1.13ppm CH3 エステルのH 3.63ppm 2個のOHのH 5.47ppm 芳香族のH 6.75〜7.75ppm
【0020】例10:3−(ピバロイルオキシ)−4,
5−ジヒドロキシ安息香酸メチル 出発時に1gの没食子酸メチル、0.96ccの硼酸ト
リエチル及び0.66ccの塩化ピバロイルを使用し、
例6に記載のように操作を行う。シリカでクロマトグラ
フィーし、1‰のトリエチルアミンを含むシクロヘキサ
ン−酢酸エチル混合物(6−4)で溶離した後、1.0
7gの所期化合物を油状物として得た。 収率73.5%。分析 :C13166 計算:C%58.2 H%6.0 実測:C%58.1 H%5.9NMR スペクトル:CDCl3 、60MHz tBuのH 1.4ppm CH3 エステルのH 3.87ppm 芳香族のH 7.33〜7.36ppm OHのH 6.3ppm
【0021】例11:3−[(2−ニトロフェニル)オ
キシ]−4,5−ジヒドロキシ安息香酸メチル 出発時に5.525gの没食子酸メチル、2.72gの
水素化ナトリウム、5.8ccの硼酸トリエチル及び
3.5ccの2−ニトロフルオルベンゼンを使用し、例
6に記載のように操作を行う。粗生成物をシリカでクロ
マトグラフィーし、シクロヘキサン−酢酸エチル混合物
(1−1)で溶離した後、7.9gの結晶化した所期化
合物を得た。収率86.3%。分析 :C1410NO7 =305.25 計算:C%55.09 H%3.63 N%4.6 実測:C%55.3 H%3.6 N%4.6NMR スペクトル:DM50−250MHz エステルのH 3.78ppm 芳香族のH 7.13及び7.38ppm並びに6.
91−7.61−7.26及び8.63ppm
【0022】例12:1−(アリルオキシ)−2,3−
ジヒドロキシベンゼン 3.8gのピロガロール、76ccの無水ジメチルホル
ムアミド及び2.72gの水素化ナトリウムの53%油
中懸濁液の混合物を不活性ガス雰囲気下に3時間撹拌
し、次いで5.27ccの硼酸トリエチルを添加し、次
いで30分間撹拌し、2.6ccの硼酸アリルを26c
cのジメチルホルムアミドに溶解してなる溶液を45分
間で添加し、16時間撹拌する。全体を水−氷−1N塩
酸混合物中に注ぎ、酢酸エチルで抽出し、粗生成物をシ
リカでクロマトグラフィーし、シクロヘキサン−酢酸エ
チル混合物(7−3)で溶離する。3.8gの所期化合
物を白色結晶として得た。収率76.3%。NMR スペクトル:CDCl3 、60MHz アリルの−CH2 −のH 4.58ppm アリルの=CH2 −のH 5.35ppm アリルの−CH2 =のH 6.06ppm 芳香族のH 6.47〜6.73ppm 2個のOHのH 5.53ppm
【0023】例13:1−[(2−ニトロフェニル)オ
キシ]−2,3−ジヒドロキシベンゼン 18.9gのピロガロール、380ccの無水ジメチル
ホルムアミド及び13.6gの水素化ナトリウムの53
%油中懸濁液を不活性ガス雰囲気下に混合する。周囲温
度で45分間撹拌し、29ccの硼酸トリエチルを添加
し、再び30分間撹拌し、次いで17.6gの2−ニト
ロフルオルベンゼンを0℃で添加し、次いで周囲温度で
20時間撹拌する。混合物を水−氷−1N塩酸混合物中
に注ぎ、沈殿を分離し、石油エーテルで洗浄し、エチル
エーテルで溶解し、1N塩酸で洗浄し、約27gの所期
化合物をベージュ色結晶の形で得た。収率は約76%。NMR スペクトル:DM50−250MHz 芳香族のH 6.46−6.55−6.67〜6.7
4−6.81−6.91−7.16及び7.53ppm
【0024】例14:1−[(4−メチルフェニル)ス
ルホニルオキシ]−2,3−ジヒドロキシベンゼン 出発時に18.9gのピロガロール、26.3ccの硼
酸トリエチル及び28.6gの塩化トシルを使用し、例
13に記載のように操作を行う。32gの粗生成物を赤
色樹脂状物の形で得た。収率76.2%。IR スペクトル:CHCl3 3547cm-1の吸収 フェノールのOH 1598−1499−1482cm-1の吸収 芳香族 1365−1192−1180−1166cm-1の吸収
SO2
【0025】例15:1−(ベンジルオキシ)−2,3
−ジヒドロキシベンゼン 出発時に25.22gのピロガロール、35.1gの硼
酸トリエチル及び23.76gの臭化ベンジルを使用
し、例13に記載のように操作を行う。シリカでクロマ
トグラフィーし、シクロヘキサン−酢酸エチル混合物
(6−4)で溶離した後、33.8gの所期化合物を濃
赤色油状物の形で得た。収率78%。NMR スペクトル:CDCl3 、60MHz ベンジルCH2 のH 5.13ppm 芳香族のH 6.5〜7.37ppm 2個のOHのH 6.63ppm
【0026】例16:1−[(4−メチルフェニル)ス
ルホニルオキシ]−3,4−ジヒドロキシベンゼン 1.37gの1,2,4−トリヒドロキシベンゼンと4
0ccの無水ジメチルホルムアミドを不活性ガス雰囲気
下に混合し、次いで0.984gの水素化ナトリウムの
53%油中懸濁液を15〜20℃でゆっくりと添加す
る。1時間撹拌し、次いで1.906ccの硼酸トリエ
チルを添加し、次いで1時間撹拌し、次いで2.072
gの塩化トシルを15ccのジメチルホルムアミドに溶
解してなる溶液を2時間で添加し、混合物を周囲温度で
4時間撹拌する。全体を水−氷−塩酸混合物中に注ぎ、
酢酸エチルで抽出し、次いで蒸発乾固させ、粗残留物を
石油エーテルで洗浄する。シリカでクロマトグラフィー
し、シクロヘキサン−酢酸エチル混合物(1−1)で溶
離した後、1.53gの所期化合物を得、これをフルジ
ェン−イソプロピルエーテル混合物で結晶化する。NMR スペクトル:CDCl3 、60MHz フェニルの4位置のCH3 のH 2.47ppm 芳香族のH 6.28〜7.88ppm 2個のOHのH 6.33ppm
【0027】例17:1−(ベンジルオキシ)−3,4
−ジヒドロキシベンゼン 1.37gの1,2,4−トリヒドロキシベンゼンと3
0ccの無水ジメチルホルムアミドを不活性ガス雰囲気
下に混合し、次いで0.984gの水素化ナトリウムの
油中懸濁液を15〜20℃で添加する。1時間撹拌し、
次いで1.906gの硼酸トリエチルを添加する。1時
間撹拌し、次いで1.29ccの臭化ベンジルを20c
cのジメチルホルムアミドに溶解してなる溶液を2時間
で添加する。混合物を周囲温度で16時間撹拌し続け、
次いで水−氷−1N塩酸混合物中に注ぎ、酢酸エチルで
抽出し、次いで蒸発乾固させる。抽出物を石油エーテル
で洗浄し、シリカでクロマトグラフィーし、シクロヘキ
サン−酢酸エチル混合物(6−4)で溶離する。1.3
6gの結晶した所期化合物を得た。収率58%。NMR スペクトル:CDCl3 、60MHz 2個のOHのH 4.57ppm ベンジルCH2 のH 5.03ppm 芳香族のH 6.37〜7.43ppm
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI C07C 309/73 C07C 309/73 C07F 7/18 C07F 7/18 J (56)参考文献 特公 昭45−27101(JP,B1) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) C07C 67/29 C07C 69/92 C07C 201/12 C07C 205/38 C07C 303/28 C07C 309/73 C07F 7/18 CA(STN) REGISTRY(STN)

Claims (9)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 次式(I) 【化1】 (ここで、Rは水素原子、多くとも8個の炭素原子を含
    有する直鎖若しくは分岐鎖状のアルキル、アルケニル若
    しくはアルキニル基、シアノ、ホルミル若しくはカルボ
    キシ基、多くとも9個の炭素原子を含有するアルコキシ
    カルボニル基、多くとも12個の炭素原子を含有する
    「(アリールアルキル)オキシ]カルボニル基又はハロ
    ゲン原子を表わし、R' はヒドロキシ基の保護基を表わ
    す)の化合物を製造する方法において、次式(II) 【化2】 (ここで、Rは前記の通りである)のポリフェノールを
    塩基で処理して相当するジアニオンを得、これを次式 B(Oalk)3 (ここで、alkは1〜6個の炭素原子を含有するアル
    キル基を表わす)の硼酸トリアルキルで処理して次式(I
    II) 【化3】 (ここで、alk及びRは前記の通りである)の化合物
    を得、この化合物をヒドロキシル基に保護基を導入でき
    る薬剤で処理して保護されたヒドロキシ基を含有する相
    当する化合物を得、この化合物を酸素−硼素結合の加水
    分解剤で処理して式(I)の所期化合物を得ることを特
    徴とする式(I)の化合物の製造方法。
  2. 【請求項2】 式(II)の化合物を少なくとも2当量
    の、水素化ナトリウム又はアルキルリチウムである塩基
    で処理することを特徴とする請求項1記載の方法。
  3. 【請求項3】 塩基が水素化ナトリウムであることを特
    徴とする請求項2記載の方法。
  4. 【請求項4】 保護操作を中性有機溶媒中で硼酸トリア
    ルキルで行うことを特徴とする請求項1〜3のいずれか
    に記載の方法。
  5. 【請求項5】 操作をテトラヒドロフラン又はジメチル
    ホルムアミド中で行うことを特徴とする請求項4記載の
    方法。
  6. 【請求項6】 硼酸トリメチル、トリエチル、トリプロ
    ピル、トリイソプロピル又はトリブチルを使用すること
    を特徴とする請求項1〜5のいずれかに記載の方法。
  7. 【請求項7】 生成した中間体化合物を単離することな
    く周囲温度で実施することを特徴とする請求項1〜6の
    いずれかに記載の方法。
  8. 【請求項8】 加水分解剤が酸又は酸化剤であることを
    特徴とする請求項1〜7のいずれかに記載の方法。
  9. 【請求項9】 加水分解剤が塩酸であることを特徴とす
    る請求項8記載の方法。
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