JPH035439A - 光学活性なアシルビフェニル誘導体の製造法 - Google Patents
光学活性なアシルビフェニル誘導体の製造法Info
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- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
〈産業上の利用分野〉
本発明は、農薬、医薬、有機電子材料等の中間体として
有用な光学活性なアシルビフェニル誘導体の製造法に関
する。
有用な光学活性なアシルビフェニル誘導体の製造法に関
する。
〈従来の技術〉
特開昭64−49号公報には、強誘電性液晶組成物の成
分として有用・なオメガ−置換−光学活性−2−アルカ
ノールのエステル誘導体の光学活性なテトラヒドロピラ
ニルエーテル化合物を出発原料とする製造法が記載され
ている。
分として有用・なオメガ−置換−光学活性−2−アルカ
ノールのエステル誘導体の光学活性なテトラヒドロピラ
ニルエーテル化合物を出発原料とする製造法が記載され
ている。
〈発明が解決しようとする課題〉
本発明は、農薬、医薬、有機電子材料等の中間体として
、さらに詳しくは有機電子材料の中、特に強誘電性液晶
物質の中間体として有用な光学活性なアシルビフェニル
誘導体の製造法を提供する。
、さらに詳しくは有機電子材料の中、特に強誘電性液晶
物質の中間体として有用な光学活性なアシルビフェニル
誘導体の製造法を提供する。
く課題を解決するための手段〉
本発明は、一般式(I[)
(式中、Rは低級アルキル基を、*印は不斉炭素原子を
それぞれ表わす。) で示される光学活性なエステル誘導体を溶媒中でアシル
化することを特徴とする一般式(I)(式中、Roは低
級アルキル基を、Rおよび*印は前記と同じ意味をそれ
ぞれ表わす。)で示される光学活性なアシルビフェニル
誘導体の製造法である。
それぞれ表わす。) で示される光学活性なエステル誘導体を溶媒中でアシル
化することを特徴とする一般式(I)(式中、Roは低
級アルキル基を、Rおよび*印は前記と同じ意味をそれ
ぞれ表わす。)で示される光学活性なアシルビフェニル
誘導体の製造法である。
このアシル化は通常のフリーデルクラフト反応が適用さ
れる。アシル化剤としては、酢酸、アセチルクロリドお
よびアセチルプロミド等の低級カルボン酸またはその誘
導体があげられ、これらの使用量は、光学活性なエステ
ル誘導体(n)に対して1モル倍以上必要であり、その
上限は特に制限されないが好ましくは3モル倍以下であ
る。アシル化に使用される触媒は、通常のフリーデルク
ラフト反応に用いられる触媒が使用され、かかる触媒と
しては、塩化アルミ、臭化アルミ、塩化亜鉛、臭化亜鉛
、四塩化チタン、ポIJ +Jン酸、三フッ化ホウ素等
が例示され、これらは光学活性なエステル誘導体(II
)に対して0.3〜3モル倍使用される。溶媒としては
塩化メチレン、1.2−ジクロルエタン等のハロゲン化
炭化水素類が挙げられる。反応は通常−30〜150℃
、好ましくは一1O〜100℃で行う。
れる。アシル化剤としては、酢酸、アセチルクロリドお
よびアセチルプロミド等の低級カルボン酸またはその誘
導体があげられ、これらの使用量は、光学活性なエステ
ル誘導体(n)に対して1モル倍以上必要であり、その
上限は特に制限されないが好ましくは3モル倍以下であ
る。アシル化に使用される触媒は、通常のフリーデルク
ラフト反応に用いられる触媒が使用され、かかる触媒と
しては、塩化アルミ、臭化アルミ、塩化亜鉛、臭化亜鉛
、四塩化チタン、ポIJ +Jン酸、三フッ化ホウ素等
が例示され、これらは光学活性なエステル誘導体(II
)に対して0.3〜3モル倍使用される。溶媒としては
塩化メチレン、1.2−ジクロルエタン等のハロゲン化
炭化水素類が挙げられる。反応は通常−30〜150℃
、好ましくは一1O〜100℃で行う。
反応時間は特に制限されないが、通常1〜10時間であ
る。
る。
光学活性なアシルビフェニル誘導体(I)の取出しは、
反応混合物から例えば、分液、濃縮、蒸留、結晶化等の
後処理操作を加えることにより行われる。
反応混合物から例えば、分液、濃縮、蒸留、結晶化等の
後処理操作を加えることにより行われる。
光学活性なエステル誘導体(I[)は式(II[)(式
中、*印は不斉炭素原子を表わす。)で示される光学活
性なアルコールと一般式(rV)RCOOH(rV) (式中、Rは低級アルキル基を表わす。)で示されるカ
ルボン酸もしくはその誘導体とを、触媒の存在下に反応
させることにより製造される。
中、*印は不斉炭素原子を表わす。)で示される光学活
性なアルコールと一般式(rV)RCOOH(rV) (式中、Rは低級アルキル基を表わす。)で示されるカ
ルボン酸もしくはその誘導体とを、触媒の存在下に反応
させることにより製造される。
カルボン酸(rV)もしくはその誘導体としては、例え
ば酢酸、プロピオン酸、無水酢酸、無水プロピオン酸、
酢酸クロリドもしくはプロミド、プロピオン酸クロリド
もしくはプロミド、ブチリルクロリドもしくはプロミド
、バレロイルクロリドもしくはプロミドなどが挙げられ
る。
ば酢酸、プロピオン酸、無水酢酸、無水プロピオン酸、
酢酸クロリドもしくはプロミド、プロピオン酸クロリド
もしくはプロミド、ブチリルクロリドもしくはプロミド
、バレロイルクロリドもしくはプロミドなどが挙げられ
る。
これらは、光学活性なアルコール(I[I)ニ対して1
当量倍以上必要であり、上限については特に制限されな
いが、好ましくは1〜4当量倍使用される。反応は触媒
の存在下に行われ、該触媒としては、たとえばジメチル
アミノピリジン、トリエチルアミン、トリーn−ブチル
アミン、ピリジン、ピコリン、イミダゾール、炭酸ナト
リウム、ナトリウムメチラート、炭酸水素カリウム等の
有機あるいは無機塩基物質があげられる。又、トルエン
スルホン酸、メタンスルホン酸、硫酸等の酸類を触媒と
して用いることもできる。その使用量は特に制限されな
いが、通常、光学活性なアルコール(I)に対して1〜
5当量倍である。
当量倍以上必要であり、上限については特に制限されな
いが、好ましくは1〜4当量倍使用される。反応は触媒
の存在下に行われ、該触媒としては、たとえばジメチル
アミノピリジン、トリエチルアミン、トリーn−ブチル
アミン、ピリジン、ピコリン、イミダゾール、炭酸ナト
リウム、ナトリウムメチラート、炭酸水素カリウム等の
有機あるいは無機塩基物質があげられる。又、トルエン
スルホン酸、メタンスルホン酸、硫酸等の酸類を触媒と
して用いることもできる。その使用量は特に制限されな
いが、通常、光学活性なアルコール(I)に対して1〜
5当量倍である。
この反応において溶媒を使用する場合、それは、例えば
テトラヒドロフラン、エチルエーテル、アセトン、メチ
ルエチルケトン、ヘキサン、トルエン、ベンゼン、クロ
ルベンゼン、ジクロルメタン、ジクロルエタン、クロロ
ホルム、四塩化炭素、ジメチルホルムアミド、ピリジン
等の脂肪族もしくは芳香族炭化水素、エーテル、ハロゲ
ン化炭化水素、非プロトン性極性溶媒あるいは有機アミ
ン等の反応に不活性な溶媒の単独または混合物があげら
れる。その使用量については特に制限なく使用すること
ができる。
テトラヒドロフラン、エチルエーテル、アセトン、メチ
ルエチルケトン、ヘキサン、トルエン、ベンゼン、クロ
ルベンゼン、ジクロルメタン、ジクロルエタン、クロロ
ホルム、四塩化炭素、ジメチルホルムアミド、ピリジン
等の脂肪族もしくは芳香族炭化水素、エーテル、ハロゲ
ン化炭化水素、非プロトン性極性溶媒あるいは有機アミ
ン等の反応に不活性な溶媒の単独または混合物があげら
れる。その使用量については特に制限なく使用すること
ができる。
溶媒として有機アミンを使用する場合は、該アミンが触
媒として作用することもある。
媒として作用することもある。
反応は、通常−30℃〜100℃、好ましくは一20℃
〜90℃で行う。
〜90℃で行う。
反応時間は特に制限されず、光学活性なアルコール(I
II)が反応系から消失した時点をもって反応の終点と
することができる。
II)が反応系から消失した時点をもって反応の終点と
することができる。
光学活性なエステル誘導体(n)の取出しは、反応混合
物に通常の分離手段、例えば抽出、分液、濃縮、再結晶
等の後処理操作を加えることにより行われる。
物に通常の分離手段、例えば抽出、分液、濃縮、再結晶
等の後処理操作を加えることにより行われる。
光学活性なアルコール(III)は、一般式(V)(式
中、Xはハロゲン原子を表わす。)で示される有機マグ
ネシウム化合物と式(VT)* (式中、*印は不斉炭素原子を表わす。)で示される光
学活性なプロピレンオキシドとを溶媒中で反応させるこ
とにより製造することができる。反応は、−船釣なグリ
ニヤール反応の条件が適用される。
中、Xはハロゲン原子を表わす。)で示される有機マグ
ネシウム化合物と式(VT)* (式中、*印は不斉炭素原子を表わす。)で示される光
学活性なプロピレンオキシドとを溶媒中で反応させるこ
とにより製造することができる。反応は、−船釣なグリ
ニヤール反応の条件が適用される。
溶媒としては、エチルエーテル、テトラヒドロフラン、
ジオキサン等のエーテル類、ベンゼン、トルエン、キン
レン等の芳香族炭化水素類もしくはヘキサン、シクロヘ
キサン等の脂肪族炭化水素類などの反応に不活性な溶媒
の単独または混合物があげられる。溶媒の使用量は特に
制限されない。
ジオキサン等のエーテル類、ベンゼン、トルエン、キン
レン等の芳香族炭化水素類もしくはヘキサン、シクロヘ
キサン等の脂肪族炭化水素類などの反応に不活性な溶媒
の単独または混合物があげられる。溶媒の使用量は特に
制限されない。
有機マグネシウム化合物(V)としてはビフェニルプロ
ピルマグネシウムクロリド、ピフェニルブロピルマグネ
シウムブロミドまたはビフェニルプロピルマグネシウム
アイオダイドが例示されるが、これらの中でもビフェニ
ルプロピルマグネシウムクロリドおよびビフェニルブロ
ビルマグネシウムブロミドが好ましい。
ピルマグネシウムクロリド、ピフェニルブロピルマグネ
シウムブロミドまたはビフェニルプロピルマグネシウム
アイオダイドが例示されるが、これらの中でもビフェニ
ルプロピルマグネシウムクロリドおよびビフェニルブロ
ビルマグネシウムブロミドが好ましい。
光学活性なプロピレンオキシド(VI)は、有機マグネ
シウム化合物(V)に対して1当量倍以上必要であり、
上限は特に制限されないが、通常、1〜5当量倍使用さ
れる。
シウム化合物(V)に対して1当量倍以上必要であり、
上限は特に制限されないが、通常、1〜5当量倍使用さ
れる。
反応は、通常、−100℃〜100℃、好ましくは一8
0℃〜80℃で行う。
0℃〜80℃で行う。
反応時間は特に制限されない。
光学活性なアルコール(III)の取出しは、通常の後
処理、例えば、加水分解、抽出、分液、濃縮または再結
晶等の後処理操作を加えることにより行われる。
処理、例えば、加水分解、抽出、分液、濃縮または再結
晶等の後処理操作を加えることにより行われる。
一般式(V)で示される有機マグネシウム化合物の原料
化合物である4−(3−クロロプロピル)ビフェニル、
4− (3−ブロモプロピル)ビフェニルまたは4−(
3−アイオドプロピル)ビフェニルは、例えば、4−ブ
ロモビフェニル、オキセタンおよびマグネシウムのグリ
ニヤール反応によ1−(3−ヒドロキシプロピル)ビフ
ェニルを得、次いでこの化合物の水酸基を公知の方法に
より、ハロゲン原子に置換することにより製造すること
ができる。
化合物である4−(3−クロロプロピル)ビフェニル、
4− (3−ブロモプロピル)ビフェニルまたは4−(
3−アイオドプロピル)ビフェニルは、例えば、4−ブ
ロモビフェニル、オキセタンおよびマグネシウムのグリ
ニヤール反応によ1−(3−ヒドロキシプロピル)ビフ
ェニルを得、次いでこの化合物の水酸基を公知の方法に
より、ハロゲン原子に置換することにより製造すること
ができる。
〈発明の効果〉
本発明によれば一般式(I)で示される光学活性なアシ
ルビフェニル誘導体が、工業的有利に製造される。
ルビフェニル誘導体が、工業的有利に製造される。
〈実施例〉
以下、実施例により、本発明を説明する。
参考例1
温度計、滴下ロートおよび撹拌装置を装着した4つロフ
ラスコにマグネシウム片4.9g (0,2モル)およ
び無水テトラヒドロフラン50mj!を仕込み、4−ブ
ロモビフェニル9.3g (0,04モル)の無水テト
ラヒドロフラン(10rnり溶液を加えた。この混合物
に少量のヨウ素を加え、30分放置した後、撹拌下に4
−ブロモビフェニル37.3g (0,16モル)の無
水テトラヒドロフラン(40r!dり溶液を滴下した。
ラスコにマグネシウム片4.9g (0,2モル)およ
び無水テトラヒドロフラン50mj!を仕込み、4−ブ
ロモビフェニル9.3g (0,04モル)の無水テト
ラヒドロフラン(10rnり溶液を加えた。この混合物
に少量のヨウ素を加え、30分放置した後、撹拌下に4
−ブロモビフェニル37.3g (0,16モル)の無
水テトラヒドロフラン(40r!dり溶液を滴下した。
滴下終了後、反応混合物を昇温しで2時間還流した。そ
の後、室温まで冷却した。
の後、室温まで冷却した。
この混合物を、0〜5℃でオキセタン13.9g(0,
24モル)および無水テトラヒドロフラン5〇−の混合
物中に滴下し、滴下終了後、室温まで昇温しで同温度で
10時間撹拌した。
24モル)および無水テトラヒドロフラン5〇−の混合
物中に滴下し、滴下終了後、室温まで昇温しで同温度で
10時間撹拌した。
反応終了後、IN塩酸200 ml中に反応混合物を注
ぎ入れ、エーテル300 rnlで抽出処理した。得ら
れた有機層を水、5%重曹水、飽和食塩水の順に洗浄し
、無水硫酸マグネシウムで乾燥の後、得られたエーテル
溶液を減圧濃縮した。
ぎ入れ、エーテル300 rnlで抽出処理した。得ら
れた有機層を水、5%重曹水、飽和食塩水の順に洗浄し
、無水硫酸マグネシウムで乾燥の後、得られたエーテル
溶液を減圧濃縮した。
得られた濃縮残渣をトルエン−ヘキサン混合液から再結
晶して 4−(3−ヒドロキシプロピル)ビフェニル2
8.9g(収率68%)を得た。
晶して 4−(3−ヒドロキシプロピル)ビフェニル2
8.9g(収率68%)を得た。
次に、4− (3−ヒドロキシプロピル)ビフェニル2
5.5g (0,12モル)を四塩化炭素150m7!
に溶かし、この溶液に0〜5℃で三臭化リン16.2
g(0,06モル)を滴下した。滴下終了後、室温まで
昇温し、同温度で5時間撹拌した。
5.5g (0,12モル)を四塩化炭素150m7!
に溶かし、この溶液に0〜5℃で三臭化リン16.2
g(0,06モル)を滴下した。滴下終了後、室温まで
昇温し、同温度で5時間撹拌した。
反応終了後、反応混合物を氷水中に注ぎ入れ、分液後、
得られた有機層を水および飽和食塩水で洗浄し、得られ
た四塩化炭素層を無水硫酸マグネシウムで乾燥の後、減
圧濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマト
グラフィー(溶出液:トルエン/酢酸エチル=20/1
)に供して4−(3−ブロモプロピル)ビフェニル27
.7g (収184%)を白色固体として得た。
得られた有機層を水および飽和食塩水で洗浄し、得られ
た四塩化炭素層を無水硫酸マグネシウムで乾燥の後、減
圧濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマト
グラフィー(溶出液:トルエン/酢酸エチル=20/1
)に供して4−(3−ブロモプロピル)ビフェニル27
.7g (収184%)を白色固体として得た。
次に、マグネシウム片2.7g (0,11モル)右よ
び無水エーテル100−の混合物中に、上で得た4−(
3−ブロモプロピル)ビフェニル2.8g(10ミリモ
ル)の無水エーテル5mj!溶液および少量のヨウ素を
加え、30分間放置した。その後、この混合物に、撹拌
下、4− (3−ブロモプロピル)ビフェニル24.8
g (90ミリモル)の無水エーテル(45mf>
溶液を滴下した。滴下終了後、得られた混合物を昇温し
、2時間還流した後、室温まで冷却して反応混合物を得
た。
び無水エーテル100−の混合物中に、上で得た4−(
3−ブロモプロピル)ビフェニル2.8g(10ミリモ
ル)の無水エーテル5mj!溶液および少量のヨウ素を
加え、30分間放置した。その後、この混合物に、撹拌
下、4− (3−ブロモプロピル)ビフェニル24.8
g (90ミリモル)の無水エーテル(45mf>
溶液を滴下した。滴下終了後、得られた混合物を昇温し
、2時間還流した後、室温まで冷却して反応混合物を得
た。
実施例1
参考例1で得た反応混合物を、0〜5℃で(S)−(−
)−プロピレンオキシド6.4g (0,11モル)お
よび無水エーテル50mj!の混合物中に滴下した。
)−プロピレンオキシド6.4g (0,11モル)お
よび無水エーテル50mj!の混合物中に滴下した。
滴下終了後、室温まで昇温しで8時間撹拌した。
反応終了後、反応混合物に10%塩酸100 rnlを
加えて30分撹拌した後、分液し、得られた有機層を水
、5%重曹水、水のl1ljtに洗浄し、無水硫酸マグ
ネシウムで乾燥の後、減圧濃縮した。得られた残渣をシ
リカゲルカラムクロマトグラフィー(溶出液:トルエン
/酢酸エチル=20/1)に供して(+)−4−(5−
ヒドロキシヘキシル)ビフェニル(Ift) 17.0
g (収率67%、〔α〕ε0=+3.6゜(c =
1 、 C)ICIs) )を得た。
加えて30分撹拌した後、分液し、得られた有機層を水
、5%重曹水、水のl1ljtに洗浄し、無水硫酸マグ
ネシウムで乾燥の後、減圧濃縮した。得られた残渣をシ
リカゲルカラムクロマトグラフィー(溶出液:トルエン
/酢酸エチル=20/1)に供して(+)−4−(5−
ヒドロキシヘキシル)ビフェニル(Ift) 17.0
g (収率67%、〔α〕ε0=+3.6゜(c =
1 、 C)ICIs) )を得た。
次に、上で得た(III) 15.3g(60ミリモル
)をピリジン100m1!に溶かし、この溶液に0〜5
℃で塩化アセチル5.7g<72ミ!Jモル)を滴下し
た。滴下終了後、室温まで昇温して3時間撹拌した。
)をピリジン100m1!に溶かし、この溶液に0〜5
℃で塩化アセチル5.7g<72ミ!Jモル)を滴下し
た。滴下終了後、室温まで昇温して3時間撹拌した。
反応終了後、反応混合物を氷水中に注ぎ入れ、酢酸エチ
ルで抽出処理した。得られた有機層を10%塩酸、水、
5%重曹水、飽和食塩水の順に洗浄し、無水硫酸マグネ
シウムで乾燥の後、減圧濃縮して(−)−4−(5−ア
セトキシヘキシル)ビフェニル(II−1) 17.
4 g (収率98%、[α]g’= 3.6°(C
=1、CHClj) )を得た。
ルで抽出処理した。得られた有機層を10%塩酸、水、
5%重曹水、飽和食塩水の順に洗浄し、無水硫酸マグネ
シウムで乾燥の後、減圧濃縮して(−)−4−(5−ア
セトキシヘキシル)ビフェニル(II−1) 17.
4 g (収率98%、[α]g’= 3.6°(C
=1、CHClj) )を得た。
次に、塩化アルミニウム13.3 g (0,1モル)
および無水ジクロルメタン200−の混合物に塩化ア
セチル7.9g(0,1モル)を加えて室温で1時間撹
拌し、塩化アルミニウムを溶解させた。この溶液に、0
〜5℃で上で得た( II −1)14.8g (5
0ミリモル)および無水ジクロルメタン200 rdの
混合物を滴下した。
および無水ジクロルメタン200−の混合物に塩化ア
セチル7.9g(0,1モル)を加えて室温で1時間撹
拌し、塩化アルミニウムを溶解させた。この溶液に、0
〜5℃で上で得た( II −1)14.8g (5
0ミリモル)および無水ジクロルメタン200 rdの
混合物を滴下した。
滴下終了後、同温度で5時間撹拌した後、反応混合物を
氷水中に注ぎ入れた。生じたアルミニウム塩を濃塩酸を
加えて溶解させた後、分岐し、得られた有機層を水、5
%重曹水、飽和食塩水の順に洗浄し、さらに無水硫酸マ
グネシウムで乾燥の後、減圧濃縮した。得られた残渣を
シリカゲルカラムクロマトグラフィー(溶出液:トルエ
ン/酢酸エチル−10/l)に供して(−) −4−(
5アセトキシヘキシル)−4’−アセチルビフェニル(
1−1)14.7g (収率87%、 [αコ呂’
= −3,5(C=1、C)lc13) )を得た。
氷水中に注ぎ入れた。生じたアルミニウム塩を濃塩酸を
加えて溶解させた後、分岐し、得られた有機層を水、5
%重曹水、飽和食塩水の順に洗浄し、さらに無水硫酸マ
グネシウムで乾燥の後、減圧濃縮した。得られた残渣を
シリカゲルカラムクロマトグラフィー(溶出液:トルエ
ン/酢酸エチル−10/l)に供して(−) −4−(
5アセトキシヘキシル)−4’−アセチルビフェニル(
1−1)14.7g (収率87%、 [αコ呂’
= −3,5(C=1、C)lc13) )を得た。
(以下余白)
Claims (3)
- (1)一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、Rは低級アルキル基を、*印は不斉炭素原子を
それぞれ表わす。) で示される光学活性なエステル誘導体を溶媒中でアシル
化することを特徴とする一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、R′は低級アルキル基を、Rおよび*印は前記
と同じ意味をそれぞれ表わす。)で示される光学活性な
アシルビフェニル誘導体の製造法。 - (2)式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、*印は不斉炭素原子を表わす。) で示される光学活性なアルコールと、一般式RCOOH (式中、Rは低級アルキル基を表わす。) で示されるカルボン酸もしくはその誘導体とを、触媒の
存在下に反応させて光学活性なエステル誘導体を得る請
求項1に記載の光学活性なアシルビフェニル誘導体の製
造法。 - (3)一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、Xはハロゲン原子を表わす。) で示される有機マグネシウム化合物と式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、*印は不斉炭素原子を表わす。) で示される光学活性なプロピレンオキシドとを溶媒中で
反応させて光学活性なアルコールを得る請求項2に記載
の光学活性なアシルビフェニル誘導体の製造法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1139796A JP2722673B2 (ja) | 1989-05-31 | 1989-05-31 | 光学活性なアシルビフェニル誘導体の製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1139796A JP2722673B2 (ja) | 1989-05-31 | 1989-05-31 | 光学活性なアシルビフェニル誘導体の製造法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH035439A true JPH035439A (ja) | 1991-01-11 |
JP2722673B2 JP2722673B2 (ja) | 1998-03-04 |
Family
ID=15253626
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP1139796A Expired - Lifetime JP2722673B2 (ja) | 1989-05-31 | 1989-05-31 | 光学活性なアシルビフェニル誘導体の製造法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2722673B2 (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006524711A (ja) * | 2003-04-25 | 2006-11-02 | ギリアード サイエンシーズ, インコーポレイテッド | 抗ウイルス性ホスホネート類似物 |
US8951986B2 (en) | 2008-07-08 | 2015-02-10 | Gilead Sciences, Inc. | Salts of HIV inhibitor compounds |
US9457035B2 (en) | 2004-07-27 | 2016-10-04 | Gilead Sciences, Inc. | Antiviral compounds |
-
1989
- 1989-05-31 JP JP1139796A patent/JP2722673B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006524711A (ja) * | 2003-04-25 | 2006-11-02 | ギリアード サイエンシーズ, インコーポレイテッド | 抗ウイルス性ホスホネート類似物 |
US8022083B2 (en) | 2003-04-25 | 2011-09-20 | Gilead Sciences, Inc. | Antiviral phosphonate analogs |
US8871785B2 (en) | 2003-04-25 | 2014-10-28 | Gilead Sciences, Inc. | Antiviral phosphonate analogs |
US9139604B2 (en) | 2003-04-25 | 2015-09-22 | Gilead Sciences, Inc. | Antiviral phosphonate analogs |
US9457035B2 (en) | 2004-07-27 | 2016-10-04 | Gilead Sciences, Inc. | Antiviral compounds |
US8951986B2 (en) | 2008-07-08 | 2015-02-10 | Gilead Sciences, Inc. | Salts of HIV inhibitor compounds |
US9381206B2 (en) | 2008-07-08 | 2016-07-05 | Gilead Sciences, Inc. | Salts of HIV inhibitor compounds |
US9783568B2 (en) | 2008-07-08 | 2017-10-10 | Gilead Sciences, Inc. | Salts of HIV inhibitor compounds |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2722673B2 (ja) | 1998-03-04 |
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