JP3048819B2 - ホログラフィック回折格子の製造方法 - Google Patents
ホログラフィック回折格子の製造方法Info
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- JP3048819B2 JP3048819B2 JP6014314A JP1431494A JP3048819B2 JP 3048819 B2 JP3048819 B2 JP 3048819B2 JP 6014314 A JP6014314 A JP 6014314A JP 1431494 A JP1431494 A JP 1431494A JP 3048819 B2 JP3048819 B2 JP 3048819B2
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Description
【０００１】
【産業上の利用分野】この発明はホログラフィック回折
格子の製造方法に関する。製造されたホログラフィック
回折格子は、例えばＣＤ（コンパクト・オーディオ・デ
ィスク）再生装置の光ピックアップの構成要素として用
いられる。
格子の製造方法に関する。製造されたホログラフィック
回折格子は、例えばＣＤ（コンパクト・オーディオ・デ
ィスク）再生装置の光ピックアップの構成要素として用
いられる。
【０００２】
【従来の技術】従来、この種のホログラフィック回折格
子を作製する場合、図８(a)に示すように、ガラス基板
１０１の表面にフォトリソグラフィによって０．１〜５
μｍピッチのマスク１０２を形成し、このガラス基板１
０１をイオン源１０３に対して斜めにセットする。そし
て、同図(b)に示すように、イオンミリングによって、
ガラス基板１０１の表面に、基板表面に対して傾斜した
ブレーズド格子１０１ａを形成する。上記マスク１０２
を除去した後、格子面１０１ａにコーティング材として
Ａl2Ｏ3，ＺｒＯ2，ＭｇＦ2を順に蒸着して、一様な厚
さで格子面１０１ａを覆い反射防止機能を持つコーティ
ング膜（図示せず）を形成する（作製完了）。なお、こ
のホログラフィック回折格子の全体を参照数字１１０で
示している。
子を作製する場合、図８(a)に示すように、ガラス基板
１０１の表面にフォトリソグラフィによって０．１〜５
μｍピッチのマスク１０２を形成し、このガラス基板１
０１をイオン源１０３に対して斜めにセットする。そし
て、同図(b)に示すように、イオンミリングによって、
ガラス基板１０１の表面に、基板表面に対して傾斜した
ブレーズド格子１０１ａを形成する。上記マスク１０２
を除去した後、格子面１０１ａにコーティング材として
Ａl2Ｏ3，ＺｒＯ2，ＭｇＦ2を順に蒸着して、一様な厚
さで格子面１０１ａを覆い反射防止機能を持つコーティ
ング膜（図示せず）を形成する（作製完了）。なお、こ
のホログラフィック回折格子の全体を参照数字１１０で
示している。
【０００３】このホログラフィック回折格子１１０で
は、図７（簡単のため、格子１０１ａを断面凹状に表し
ている）に示すように、＋１次回折光の強度を、−１次
回折光の強度よりも大きくすることができる（逆も可
能）。したがって、このホログラフィック回折格子１１
０を光ピックアップの構成要素とした場合に、必要な信
号、例えばＣＤの記録情報を表すピット信号、記録面で
の焦点ずれを表すフォーカス誤差信号、トラッキングの
ずれを表すラジアル誤差信号の強度を高めることがで
き、記録情報を安定に再生することができる。
は、図７（簡単のため、格子１０１ａを断面凹状に表し
ている）に示すように、＋１次回折光の強度を、−１次
回折光の強度よりも大きくすることができる（逆も可
能）。したがって、このホログラフィック回折格子１１
０を光ピックアップの構成要素とした場合に、必要な信
号、例えばＣＤの記録情報を表すピット信号、記録面で
の焦点ずれを表すフォーカス誤差信号、トラッキングの
ずれを表すラジアル誤差信号の強度を高めることがで
き、記録情報を安定に再生することができる。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記従
来の製造方法は、格子１０１ａをイオンミリングによっ
て形成しているため、作製時間が長くかかり、生産性が
良くないという問題がある。例えば、市販のイオンミリ
ング装置を使用する場合、１回の処理枚数が１枚で、真
空排気からビーム引き出し、エッチング、ガラス基板取
り出しまでの１サイクルに１時間程度かかる。
来の製造方法は、格子１０１ａをイオンミリングによっ
て形成しているため、作製時間が長くかかり、生産性が
良くないという問題がある。例えば、市販のイオンミリ
ング装置を使用する場合、１回の処理枚数が１枚で、真
空排気からビーム引き出し、エッチング、ガラス基板取
り出しまでの１サイクルに１時間程度かかる。
【０００５】そこで、この発明の目的は、＋１次回折光
と−１次回折光との強度差をつけることができるホログ
ラフィック回折格子を短時間で作製できる製造方法を提
供することにある。
と−１次回折光との強度差をつけることができるホログ
ラフィック回折格子を短時間で作製できる製造方法を提
供することにある。
【０００６】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、この発明は、基板と、該基板の表面に形成され一方
向に延びる縞状パターンをなして矩形状の凹凸をなす断
面を持つ格子と、格子を有する基板表面に蒸着されたコ
ーティング材と、を備えたホログラフィック回折格子の
製造方法において、下方に向かって開いた円錐面の形状
を持つホルダ支持部材の内壁に沿って、上記基板を保持
するためのホルダを周方向に複数並べ、かつ上記ホルダ
を上下方向に複数段に配置し、上記蒸発源を上記ホルダ
支持部材の円錐の中心軸上に配置し、上記ホルダ支持部
材の上段側および下段側のホルダに、それぞれ上記基板
を上記格子が延びる方向が水平になる向きに保持して、
上記コーティング膜を、上記上段側のホルダに保持した
基板の格子の各凸部の上側よりも下側に厚く形成する一
方、上記下段側のホルダに保持した基板の格子の各凸部
の下側よりも上側に厚く形成するようにしたことを特徴
としている。
に、この発明は、基板と、該基板の表面に形成され一方
向に延びる縞状パターンをなして矩形状の凹凸をなす断
面を持つ格子と、格子を有する基板表面に蒸着されたコ
ーティング材と、を備えたホログラフィック回折格子の
製造方法において、下方に向かって開いた円錐面の形状
を持つホルダ支持部材の内壁に沿って、上記基板を保持
するためのホルダを周方向に複数並べ、かつ上記ホルダ
を上下方向に複数段に配置し、上記蒸発源を上記ホルダ
支持部材の円錐の中心軸上に配置し、上記ホルダ支持部
材の上段側および下段側のホルダに、それぞれ上記基板
を上記格子が延びる方向が水平になる向きに保持して、
上記コーティング膜を、上記上段側のホルダに保持した
基板の格子の各凸部の上側よりも下側に厚く形成する一
方、上記下段側のホルダに保持した基板の格子の各凸部
の下側よりも上側に厚く形成するようにしたことを特徴
としている。
【０００７】また、一実施形態のホログラフィック回折
格子は、前記一方向に延びる縞状パターンは、１つの基
板内にピッチの異なる領域を有してなることを特徴とし
ている。
格子は、前記一方向に延びる縞状パターンは、１つの基
板内にピッチの異なる領域を有してなることを特徴とし
ている。
【０００８】
【作用】この発明のホログラフィック回折格子の製造方
法によれば、表面に、一方向に延びる縞状パターンをな
し、矩形状の凹凸をなす断面を持つ格子が形成された基
板を備え、この基板表面に上記格子の各凸部の両側での
厚さが異なるコーティング膜を有するホログラフィック
回折格子が作製される。このホログラフィック回折格子
は、格子の各凸部の両側でのコーティング膜の厚さの違
いに応じて、＋１次回折光の強度が、−１次回折光の強
度よりも大きくなる（逆も可能）。つまり、実質的にブ
レーズド格子を持つホログラフィック回折格子を作製す
ることができる。この製造方法では、イオンミリングに
よってブレーズド格子を形成する従来法と異なり、矩形
状の凹凸をなす断面を持つ格子を形成しているので、例
えばリアクティブ・イオン・エッチング法などを採用す
ることによって短時間で格子を形成することができる。
この後、コーティング膜形成に要する時間は従来と同じ
である。したがって、全体として、上記ホログラフィッ
ク回折格子が短時間で作製される。
法によれば、表面に、一方向に延びる縞状パターンをな
し、矩形状の凹凸をなす断面を持つ格子が形成された基
板を備え、この基板表面に上記格子の各凸部の両側での
厚さが異なるコーティング膜を有するホログラフィック
回折格子が作製される。このホログラフィック回折格子
は、格子の各凸部の両側でのコーティング膜の厚さの違
いに応じて、＋１次回折光の強度が、−１次回折光の強
度よりも大きくなる（逆も可能）。つまり、実質的にブ
レーズド格子を持つホログラフィック回折格子を作製す
ることができる。この製造方法では、イオンミリングに
よってブレーズド格子を形成する従来法と異なり、矩形
状の凹凸をなす断面を持つ格子を形成しているので、例
えばリアクティブ・イオン・エッチング法などを採用す
ることによって短時間で格子を形成することができる。
この後、コーティング膜形成に要する時間は従来と同じ
である。したがって、全体として、上記ホログラフィッ
ク回折格子が短時間で作製される。
【０００９】また、下方に向かって開いた円錐面の形状
を持つホルダ支持部材の内壁に沿って、上記基板を保持
するためのホルダを周方向に複数並べ、かつ上記ホルダ
を上下方向に複数段に配置しているので、１回のサイク
ルで多数の基板にコーティング膜を形成することが可能
となる。したがって、基板１枚当たりの作製時間がさら
に短縮される。
を持つホルダ支持部材の内壁に沿って、上記基板を保持
するためのホルダを周方向に複数並べ、かつ上記ホルダ
を上下方向に複数段に配置しているので、１回のサイク
ルで多数の基板にコーティング膜を形成することが可能
となる。したがって、基板１枚当たりの作製時間がさら
に短縮される。
【００１０】なお、上記コーティング膜を、上段側のホ
ルダに保持した基板の格子の各凸部の上側よりも下側に
厚く形成する一方、下段側のホルダに保持した基板の格
子の各凸部の下側よりも上側に厚く形成するようにして
いるので、上段側と下段側の両方のホルダを利用するこ
とができる。
ルダに保持した基板の格子の各凸部の上側よりも下側に
厚く形成する一方、下段側のホルダに保持した基板の格
子の各凸部の下側よりも上側に厚く形成するようにして
いるので、上段側と下段側の両方のホルダを利用するこ
とができる。
【００１１】また、一実施形態のホログラフィック回折
格子の製造方法では、前記一方向に延びる縞状パターン
は、１つの基板内にピッチの異なる領域を有してなるの
で、製造されたホログラフィック回折格子が光ピックア
ップの構成要素として用いられ得る。
格子の製造方法では、前記一方向に延びる縞状パターン
は、１つの基板内にピッチの異なる領域を有してなるの
で、製造されたホログラフィック回折格子が光ピックア
ップの構成要素として用いられ得る。
【００１２】
【実施例】以下、この発明のホログラフィック回折格子
の製造方法を実施例により詳細に説明する。
の製造方法を実施例により詳細に説明する。
【００１３】図１は一実施例のホログラフィック回折格
子の製造過程を模式的に示している。
子の製造過程を模式的に示している。
【００１４】まず、同図(a)に示すように、公知の手
法によって、透明なガラス基板１の表面１ａに、一方向
に延びる縞状パターンをなし、矩形状の凹凸をなす断面
を持つ格子３を形成する。例えば、ガラス基板１の表面
１ａにフォトリソグラフィによって０．１〜５μｍピッ
チのマスク（図示せず）を形成し、リアクティブ・イオ
ン・エッチングを行えば良い。
法によって、透明なガラス基板１の表面１ａに、一方向
に延びる縞状パターンをなし、矩形状の凹凸をなす断面
を持つ格子３を形成する。例えば、ガラス基板１の表面
１ａにフォトリソグラフィによって０．１〜５μｍピッ
チのマスク（図示せず）を形成し、リアクティブ・イオ
ン・エッチングを行えば良い。
【００１５】次に、真空チャンバ９内で、コーティン
グ材蒸発源８に対して上記格子３を形成したガラス基板
１を離間させて、ガラス基板１に対するコーティング材
の蒸着方向が実質的に平行となる距離に配置する。詳し
くは、ガラス基板１を保持するためのホルダ４を、基板
受け面が蒸発源８に対して斜めに傾斜した状態に設け
る。そして、ガラス基板１を、蒸着方向に対して上記格
子３が延びる方向が垂直をなす向きにセットする。この
状態で上記コーティング材を基板表面１ａに蒸着する。
これにより、基板表面１ａに格子３の各凸部３ｔの両側
での厚さが異なるコーティング膜２を形成する。コーテ
ィング膜２は、Ａl2Ｏ3，ＺｒＯ2，ＭｇＦ2を順に積層
したものとし、波長７８５μｍのレーザ光を透過率９５
％以上で透過させるために、厚い部分の厚さを４０００
〜５０００Åに設定する。
グ材蒸発源８に対して上記格子３を形成したガラス基板
１を離間させて、ガラス基板１に対するコーティング材
の蒸着方向が実質的に平行となる距離に配置する。詳し
くは、ガラス基板１を保持するためのホルダ４を、基板
受け面が蒸発源８に対して斜めに傾斜した状態に設け
る。そして、ガラス基板１を、蒸着方向に対して上記格
子３が延びる方向が垂直をなす向きにセットする。この
状態で上記コーティング材を基板表面１ａに蒸着する。
これにより、基板表面１ａに格子３の各凸部３ｔの両側
での厚さが異なるコーティング膜２を形成する。コーテ
ィング膜２は、Ａl2Ｏ3，ＺｒＯ2，ＭｇＦ2を順に積層
したものとし、波長７８５μｍのレーザ光を透過率９５
％以上で透過させるために、厚い部分の厚さを４０００
〜５０００Åに設定する。
【００１６】このようにして作製したホログラフィック
回折格子１０は、格子３の各凸部３ｔの両側でのコーテ
ィング膜の厚さの違いに応じて、＋１次回折光の強度
が、−１次回折光の強度よりも大きくなる（逆も可
能）。つまり、実質的にブレーズド格子を持つホログラ
フィック回折格子を作製することができる。
回折格子１０は、格子３の各凸部３ｔの両側でのコーテ
ィング膜の厚さの違いに応じて、＋１次回折光の強度
が、−１次回折光の強度よりも大きくなる（逆も可
能）。つまり、実質的にブレーズド格子を持つホログラ
フィック回折格子を作製することができる。
【００１７】この例では、イオンミリングによってブレ
ーズド格子を形成する従来法と異なり、矩形状の凹凸を
なす断面を持つ格子３をリアクティブ・イオン・エッチ
ング法で形成している（上記）ので、従来に比して短
時間で格子を形成することができる。この後、コーティ
ング膜形成（上記）に要する時間は従来と同じであ
る。したがって、全体として、実質的にブレーズド格子
を持つホログラフィック回折格子を短時間で作製するこ
とができる。
ーズド格子を形成する従来法と異なり、矩形状の凹凸を
なす断面を持つ格子３をリアクティブ・イオン・エッチ
ング法で形成している（上記）ので、従来に比して短
時間で格子を形成することができる。この後、コーティ
ング膜形成（上記）に要する時間は従来と同じであ
る。したがって、全体として、実質的にブレーズド格子
を持つホログラフィック回折格子を短時間で作製するこ
とができる。
【００１８】本発明者は、図２(a)，(b)に示すような試
料ホルダ３０を用いて作製実験を行った。同図(a)，(b)
はそれぞれ試料ホルダ３０を側方，下方から見たところ
を示している。この試料ホルダ３０は、下方に向かって
開いた円錐面の形状を持つホルダ支持部材４０を有して
いる。ホルダ支持部材４０の内壁に沿って、ガラス基板
１を保持するためのホルダ４１，４２，４３を周方向に
複数並べ、かつ上記ホルダを上下方向に複数段に配置し
ている。なお、４１，４２，４３はそれぞれ上段，中
段，下段のホルダを示しており、いずれも基板受け面が
円錐の内壁に沿って設けられている。
料ホルダ３０を用いて作製実験を行った。同図(a)，(b)
はそれぞれ試料ホルダ３０を側方，下方から見たところ
を示している。この試料ホルダ３０は、下方に向かって
開いた円錐面の形状を持つホルダ支持部材４０を有して
いる。ホルダ支持部材４０の内壁に沿って、ガラス基板
１を保持するためのホルダ４１，４２，４３を周方向に
複数並べ、かつ上記ホルダを上下方向に複数段に配置し
ている。なお、４１，４２，４３はそれぞれ上段，中
段，下段のホルダを示しており、いずれも基板受け面が
円錐の内壁に沿って設けられている。
【００１９】コーティング対象のガラス基板１は、図３
に示すように、表面１ａに円形領域に形成されたの回折
格子３を行列状に配置したものである。各回折格子３
は、凹凸ピッチが小さい領域３ａと凹凸ピッチが大きい
領域３ｂとに２分割されている。ガラス基板１には向き
を表すためのマーク１ｂが設けられている。マーク１ｂ
が延びる向きは縞状の格子が延びる向きと一致してい
る。
に示すように、表面１ａに円形領域に形成されたの回折
格子３を行列状に配置したものである。各回折格子３
は、凹凸ピッチが小さい領域３ａと凹凸ピッチが大きい
領域３ｂとに２分割されている。ガラス基板１には向き
を表すためのマーク１ｂが設けられている。マーク１ｂ
が延びる向きは縞状の格子が延びる向きと一致してい
る。
【００２０】図５に示すように、上記のようなガラス基
板１０枚をそれぞれ特定のホルダ（Ｎｏ．１〜１０）
に、それぞれ向きを特定してセットした。つまり、各ガ
ラス基板のマーク１ｂから分かるように、蒸着時に、Ｎ
ｏ．１，２，３，１０のホルダには縞状の格子が上下に
傾斜して延びる向き、Ｎｏ．４，５，６，７，８，９の
ホルダには縞状の格子が水平に延びる向きにセットし
た。なお、Ｎｏ．４〜６とＮｏ．７〜９とでは、ガラス
基板のマーク１ｂが上下逆になっている。この状態で、
図４に示すように、各ガラス基板１の表面にコーティン
グ膜２を形成した。コーティングの再現性を見るため、
蒸着は３回行い、計３０枚のホログラフィック回折格子
を作製した。ここで、図４および図５から分かるよう
に、ガラス基板１の表面に対するコーティング材の蒸着
角度は、上段のホルダ４１（Ｎｏ．３，６，９）にセッ
トしたガラス基板１ではθ1≒１２０°、中段のホルダ
４２（Ｎｏ．２，５，８，１０）にセットしたガラス基
板ではθ2≒９０°、下段のホルダ４３（Ｎｏ．１，
４，７）にセットしたガラス基板ではθ3≒６０°とな
っている。
板１０枚をそれぞれ特定のホルダ（Ｎｏ．１〜１０）
に、それぞれ向きを特定してセットした。つまり、各ガ
ラス基板のマーク１ｂから分かるように、蒸着時に、Ｎ
ｏ．１，２，３，１０のホルダには縞状の格子が上下に
傾斜して延びる向き、Ｎｏ．４，５，６，７，８，９の
ホルダには縞状の格子が水平に延びる向きにセットし
た。なお、Ｎｏ．４〜６とＮｏ．７〜９とでは、ガラス
基板のマーク１ｂが上下逆になっている。この状態で、
図４に示すように、各ガラス基板１の表面にコーティン
グ膜２を形成した。コーティングの再現性を見るため、
蒸着は３回行い、計３０枚のホログラフィック回折格子
を作製した。ここで、図４および図５から分かるよう
に、ガラス基板１の表面に対するコーティング材の蒸着
角度は、上段のホルダ４１（Ｎｏ．３，６，９）にセッ
トしたガラス基板１ではθ1≒１２０°、中段のホルダ
４２（Ｎｏ．２，５，８，１０）にセットしたガラス基
板ではθ2≒９０°、下段のホルダ４３（Ｎｏ．１，
４，７）にセットしたガラス基板ではθ3≒６０°とな
っている。
【００２１】このようにして作製したホログラフィック
回折格子の光学特性は、表１のような結果となった。表
１は、第１回目〜第３回目の蒸着について、各ホルダに
セットしたガラス基板毎に、＋１次回折光の強度と−１
次回折光の強度との比（−１次回折光の強度／＋１次回
折光の強度）を示している。分かるように、縞状の格子
が上下に傾斜して延びる向きにセットしたもの（Ｎｏ．
１，２，３，１０）では、＋１次回折光の強度と−１次
回折光の強度との比が略１となっている。これは、蒸着
時に縞上の格子が上下方向に延びた状態にあるため、蒸
発源に対して格子の各凸部が陰をつくらないからであ
る。同様に、縞状の格子が水平に延びる向きにセットし
たものであっても、中段のホルダ４２にセットしたした
もの（Ｎｏ．５，８）は、＋１次回折光の強度と−１次
回折光の強度との比が１に近い値となっている。これ
は、図４に示したように、ガラス基板１の表面が蒸着方
向に略垂直になっているため、蒸発源８に対して格子の
各凸部３ｔが陰をつくらないからである。これに対し
て、縞状の格子が水平に延びる向きで、かつ上段または
下段のホルダ４１，４３にセットしたもの（Ｎｏ．４，
６，７，９）は、＋１次回折光の強度と−１次回折光の
強度との比が１から離れた値となっている。これは、上
段側のホルダ４１（Ｎｏ．６，９）にセットしたガラス
基板の格子の各凸部３ｔの上側よりも下側にコーティン
グ膜が厚く形成され、また、下段側のホルダ４３（４，
７）にセットしたガラス基板の格子の各凸部３ｔの下側
よりも上側にコーティング膜が厚く形成されたからであ
る。
回折格子の光学特性は、表１のような結果となった。表
１は、第１回目〜第３回目の蒸着について、各ホルダに
セットしたガラス基板毎に、＋１次回折光の強度と−１
次回折光の強度との比（−１次回折光の強度／＋１次回
折光の強度）を示している。分かるように、縞状の格子
が上下に傾斜して延びる向きにセットしたもの（Ｎｏ．
１，２，３，１０）では、＋１次回折光の強度と−１次
回折光の強度との比が略１となっている。これは、蒸着
時に縞上の格子が上下方向に延びた状態にあるため、蒸
発源に対して格子の各凸部が陰をつくらないからであ
る。同様に、縞状の格子が水平に延びる向きにセットし
たものであっても、中段のホルダ４２にセットしたした
もの（Ｎｏ．５，８）は、＋１次回折光の強度と−１次
回折光の強度との比が１に近い値となっている。これ
は、図４に示したように、ガラス基板１の表面が蒸着方
向に略垂直になっているため、蒸発源８に対して格子の
各凸部３ｔが陰をつくらないからである。これに対し
て、縞状の格子が水平に延びる向きで、かつ上段または
下段のホルダ４１，４３にセットしたもの（Ｎｏ．４，
６，７，９）は、＋１次回折光の強度と−１次回折光の
強度との比が１から離れた値となっている。これは、上
段側のホルダ４１（Ｎｏ．６，９）にセットしたガラス
基板の格子の各凸部３ｔの上側よりも下側にコーティン
グ膜が厚く形成され、また、下段側のホルダ４３（４，
７）にセットしたガラス基板の格子の各凸部３ｔの下側
よりも上側にコーティング膜が厚く形成されたからであ
る。
【００２２】
【表１】
【００２３】この結果から、実質的にブレーズド格子を
持つホログラフィック回折格子を作製するために、上段
側と下段側の両方のホルダを利用できることが分かる。
このように、１回の蒸着サイクルで同時に多数のホルダ
を用いることにより、基板１枚当たりの作製時間をさら
に短縮することができる。
持つホログラフィック回折格子を作製するために、上段
側と下段側の両方のホルダを利用できることが分かる。
このように、１回の蒸着サイクルで同時に多数のホルダ
を用いることにより、基板１枚当たりの作製時間をさら
に短縮することができる。
【００２４】図６は、上述の手順で作製した実質的にブ
レーズド格子を持つホログラフィック回折格子１３を構
成要素として有する光ピックアップを示している。
レーズド格子を持つホログラフィック回折格子１３を構
成要素として有する光ピックアップを示している。
【００２５】この光ピックアップ装置は、半導体レーザ
１１,グレーティング１２,ホログラフィック回折格子１
３,コリメートレンズ１４および対物レンズ１５を記録
担体１６の記録面１６aに垂直な１つの直線上に並べて
配置している。また、半導体レーザ１１を含み記録面１
６aに平行な面内で半導体レーザ１１のラジアル方向Ｒ
近傍に受光素子１７を配置している。上記ホログラフィ
ック回折格子１３は、図３に示した円形の回折格子３を
一つ持ち、上述の製造方法によって斜めからコーティン
グ材が蒸着されたものである。
１１,グレーティング１２,ホログラフィック回折格子１
３,コリメートレンズ１４および対物レンズ１５を記録
担体１６の記録面１６aに垂直な１つの直線上に並べて
配置している。また、半導体レーザ１１を含み記録面１
６aに平行な面内で半導体レーザ１１のラジアル方向Ｒ
近傍に受光素子１７を配置している。上記ホログラフィ
ック回折格子１３は、図３に示した円形の回折格子３を
一つ持ち、上述の製造方法によって斜めからコーティン
グ材が蒸着されたものである。
【００２６】図６の半導体レーザ１１から出射したレー
ザ光Ｌはまずグレーティング１２に入射する。グレーテ
ィング１２によって、直進する０次回折光Ｌmと、この
０次回折光Ｌmの奥,手前を通る図示しない１対の±１次
回折光±Ｌsに分割される。この３つのビームＬm,±Ｌs
は、ホログラフィック回折格子１３,コリメートレンズ
１４,対物レンズ１５を順に通過して、記録担体１６の
記録面１６aに集光される。各ビームＬm,±Ｌsは、記録
面１６aによって反射され、対物レンズ１５,コリメート
レンズ１４を通過した後、ホログラフィック回折格子１
３で回折される。そして、上記各ビームＬm,±Ｌsの＋
１次回折光がグレーティング１２の側方を通って受光素
子１７に導かれる。
ザ光Ｌはまずグレーティング１２に入射する。グレーテ
ィング１２によって、直進する０次回折光Ｌmと、この
０次回折光Ｌmの奥,手前を通る図示しない１対の±１次
回折光±Ｌsに分割される。この３つのビームＬm,±Ｌs
は、ホログラフィック回折格子１３,コリメートレンズ
１４,対物レンズ１５を順に通過して、記録担体１６の
記録面１６aに集光される。各ビームＬm,±Ｌsは、記録
面１６aによって反射され、対物レンズ１５,コリメート
レンズ１４を通過した後、ホログラフィック回折格子１
３で回折される。そして、上記各ビームＬm,±Ｌsの＋
１次回折光がグレーティング１２の側方を通って受光素
子１７に導かれる。
【００２７】ここで、上記ホログラフィック回折格子
は、格子３の各凸部の両側でのコーティング膜の厚さの
違いに応じて、＋１次回折光の強度が、−１次回折光の
強度よりも大きくなる。したがって、この＋１次回折光
から取り出すＣＤの記録情報を表すピット信号、記録面
での焦点ずれを表すフォーカス誤差信号、トラッキング
のずれを表すラジアル誤差信号の強度を高めることがで
きる。したがって、記録情報を安定に再生することがで
きる。
は、格子３の各凸部の両側でのコーティング膜の厚さの
違いに応じて、＋１次回折光の強度が、−１次回折光の
強度よりも大きくなる。したがって、この＋１次回折光
から取り出すＣＤの記録情報を表すピット信号、記録面
での焦点ずれを表すフォーカス誤差信号、トラッキング
のずれを表すラジアル誤差信号の強度を高めることがで
きる。したがって、記録情報を安定に再生することがで
きる。
【００２８】
【発明の効果】以上より明らかなように、この発明のホ
ログラフィック回折格子の製造方法は、実質的にブレー
ズド格子を持つホログラフィック回折格子を作製するこ
とができる。つまり、格子の各凸部の両側でのコーティ
ング膜の厚さの違いに応じて、＋１次回折光の強度が、
−１次回折光の強度よりも大きくなる（逆も可能）ホロ
グラフィック回折格子を作製することができる。この製
造方法では、イオンミリングによってブレーズド格子を
形成する従来法と異なり、矩形状の凹凸をなす断面を持
つ格子を形成しているので、例えばリアクティブ・イオ
ン・エッチング法などを採用することによって短時間で
格子を形成することができる。この後、コーティング膜
形成に要する時間は従来と同じである。したがって、全
体として、上記ホログラフィック回折格子を短時間で作
製できる。
ログラフィック回折格子の製造方法は、実質的にブレー
ズド格子を持つホログラフィック回折格子を作製するこ
とができる。つまり、格子の各凸部の両側でのコーティ
ング膜の厚さの違いに応じて、＋１次回折光の強度が、
−１次回折光の強度よりも大きくなる（逆も可能）ホロ
グラフィック回折格子を作製することができる。この製
造方法では、イオンミリングによってブレーズド格子を
形成する従来法と異なり、矩形状の凹凸をなす断面を持
つ格子を形成しているので、例えばリアクティブ・イオ
ン・エッチング法などを採用することによって短時間で
格子を形成することができる。この後、コーティング膜
形成に要する時間は従来と同じである。したがって、全
体として、上記ホログラフィック回折格子を短時間で作
製できる。
【００２９】また、下方に向かって開いた円錐面の形状
を持つホルダ支持部材の内壁に沿って、上記基板を保持
するためのホルダを周方向に複数並べ、かつ上記ホルダ
を上下方向に複数段に配置しているので、１回のサイク
ルで多数の基板にコーティング膜を形成することができ
る。したがって、基板１枚当たりの作製時間をさらに短
縮できる。
を持つホルダ支持部材の内壁に沿って、上記基板を保持
するためのホルダを周方向に複数並べ、かつ上記ホルダ
を上下方向に複数段に配置しているので、１回のサイク
ルで多数の基板にコーティング膜を形成することができ
る。したがって、基板１枚当たりの作製時間をさらに短
縮できる。
【００３０】また、一実施形態のホログラフィック回折
格子の製造方法では、前記一方向に延びる縞状パターン
は、１つの基板内にピッチの異なる領域を有してなるの
で、製造されたホログラフィック回折格子を光ピックア
ップの構成要素として用いることができる。
格子の製造方法では、前記一方向に延びる縞状パターン
は、１つの基板内にピッチの異なる領域を有してなるの
で、製造されたホログラフィック回折格子を光ピックア
ップの構成要素として用いることができる。
【図１】 この発明の一実施例のホログラフィック回折
格子の製造過程を説明する図である。
格子の製造過程を説明する図である。
【図２】 ホログラフィック回折格子を作製するのに用
いる試料ホルダを示す図である。
いる試料ホルダを示す図である。
【図３】 格子を形成したガラス基板を示す図である。
【図４】 格子を形成したガラス基板にコーティング材
を蒸着する状態を示す図である。
を蒸着する状態を示す図である。
【図５】 試料ホルダにガラス基板をセットした状態を
示す図である。
示す図である。
【図６】 上記製造過程によって製造されたホログラフ
ィック回折格子を構成要素として有する光ピックアップ
の構成を示す図である。
ィック回折格子を構成要素として有する光ピックアップ
の構成を示す図である。
【図７】 ホログラフィック回折格子が光を回折する様
子を示す図である。
子を示す図である。
【図８】 従来のホログラフィック回折格子の製造方法
を説明する図である。
を説明する図である。
１ ガラス基板 ２ コーティ
ング材 ３ 格子 ３ｔ 凸部 ４ ホルダ ３０ 試料ホ
ルダ
ング材 ３ 格子 ３ｔ 凸部 ４ ホルダ ３０ 試料ホ
ルダ
Claims (2)
- 【請求項１】 基板と、該基板の表面に形成され一方向
に延びる縞状パターンをなして矩形状の凹凸をなす断面
を持つ格子と、格子を有する基板表面に蒸着されたコー
ティング材と、を備えたホログラフィック回折格子の製
造方法において、 下方に向かって開いた円錐面の形状を持つホルダ支持部
材の内壁に沿って、上記基板を保持するためのホルダを
周方向に複数並べ、かつ上記ホルダを上下方向に複数段
に配置し、 上記蒸発源を上記ホルダ支持部材の円錐の中心軸上に配
置し、 上記ホルダ支持部材の上段側および下段側のホルダに、
それぞれ上記基板を上記格子が延びる方向が水平になる
向きに保持して、 上記コーティング膜を、上記上段側のホルダに保持した
基板の格子の各凸部の上側よりも下側に厚く形成する一
方、上記下段側のホルダに保持した基板の格子の各凸部
の下側よりも上側に厚く形成するようにしたことを特徴
とするホログラフィック回折格子の製造方法。 - 【請求項２】 前記一方向に延びる縞状パターンは、１
つの基板内にピッチの異なる領域を有してなることを特
徴とする請求項１に記載のホログラフィック回折格子の
製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6014314A JP3048819B2 (ja) | 1994-02-08 | 1994-02-08 | ホログラフィック回折格子の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6014314A JP3048819B2 (ja) | 1994-02-08 | 1994-02-08 | ホログラフィック回折格子の製造方法 |
Related Child Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP36929499A Division JP3323884B2 (ja) | 1994-02-08 | 1999-12-27 | ホログラフィック回折格子の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07218711A JPH07218711A (ja) | 1995-08-18 |
| JP3048819B2 true JP3048819B2 (ja) | 2000-06-05 |
Family
ID=11857641
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6014314A Expired - Fee Related JP3048819B2 (ja) | 1994-02-08 | 1994-02-08 | ホログラフィック回折格子の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3048819B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN103376485A (zh) * | 2012-04-12 | 2013-10-30 | 福州高意光学有限公司 | 一种采用镀膜技术制作光栅的方法 |
| CN107797337A (zh) * | 2017-09-27 | 2018-03-13 | 联想(北京)有限公司 | 一种背光模组以及电子设备 |
-
1994
- 1994-02-08 JP JP6014314A patent/JP3048819B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH07218711A (ja) | 1995-08-18 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |