JP2000241616A - 回折格子およびその製造方法並びに光ピックアップ - Google Patents
回折格子およびその製造方法並びに光ピックアップInfo
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 反射光を低減でき、生産効率を向上でき、し
かも低コストで簡単に製造できる回折格子およびその製
造方法を提供する。また、そのような回折格子を備え
て、記録担体が有する情報を安定に出力できる光ピック
アップを提供する。 【解決手段】 樹脂基板１に対して垂直に入射する波長
λの光を回折する回折格子の製造方法では、第１工程に
おいて、樹脂基板１の表面１ａ,１ｂにフォトポリマ層
２,３を密着して設ける。第２工程において、フォトポ
リマ層２,３の表面１ａ,１ｂに、スタンパ４,５を用い
て、表面１ａ,１ｂに沿って一方向に延びた、断面矩形
の凹凸状のパターンを形成する。第３工程において、フ
ォトポリマ層２,３を硬化させる。このフォトポリマ層
２,３の硬化後の凸部２ａ,３ａの膜厚をｄ、屈折率ｎと
したとき、２ｎｄ＝λ／２になるように、第１工程で設
けるフォトポリマ層２,３の組成と膜厚を設定する。
かも低コストで簡単に製造できる回折格子およびその製
造方法を提供する。また、そのような回折格子を備え
て、記録担体が有する情報を安定に出力できる光ピック
アップを提供する。 【解決手段】 樹脂基板１に対して垂直に入射する波長
λの光を回折する回折格子の製造方法では、第１工程に
おいて、樹脂基板１の表面１ａ,１ｂにフォトポリマ層
２,３を密着して設ける。第２工程において、フォトポ
リマ層２,３の表面１ａ,１ｂに、スタンパ４,５を用い
て、表面１ａ,１ｂに沿って一方向に延びた、断面矩形
の凹凸状のパターンを形成する。第３工程において、フ
ォトポリマ層２,３を硬化させる。このフォトポリマ層
２,３の硬化後の凸部２ａ,３ａの膜厚をｄ、屈折率ｎと
したとき、２ｎｄ＝λ／２になるように、第１工程で設
けるフォトポリマ層２,３の組成と膜厚を設定する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、回折格子およびそ
の製造方法に関する。また、回折格子を構成要素として
有する光ピックアップに関する。このような光ピックア
ップは、ＣＤ(コンパクトディスク)プレイヤあるいはＭ
Ｄ(ミニディスク)プレイヤなどの一部を構成するのに用
いられる。
の製造方法に関する。また、回折格子を構成要素として
有する光ピックアップに関する。このような光ピックア
ップは、ＣＤ(コンパクトディスク)プレイヤあるいはＭ
Ｄ(ミニディスク)プレイヤなどの一部を構成するのに用
いられる。
【０００２】
【従来の技術】従来、回折格子は、図３に示すように形
成されている。すなわち、ガラス基板１において上下方
向に対向する各表面３１ａ,３１ｂに、フォトポリマを
膜厚１０μｍまで夫々塗布してフォトポリマ層３３,３
４を設ける。そして、スタンパを用いる２Ｐ(photo pol
ymerization)法によって、そのガラス基板３１の表面３
１ａ,３１ｂに沿って一方向に延びた、断面矩形の凹凸
を有するパターンをフォトポリマ層３３,３４の各表面
に夫々形成する。しかしながら、このガラス基板３１と
フォトポリマ層３３,３４とで構成された回折格子を例
えば光ピックアップに用いた場合、このガラス基板３１
に入射する光のうちフォトポリマ層３３,３４の各表面
で反射された光が、光ピックアップの出力に悪影響をお
よぼす。このフォトポリマ層３３,３４の表面で反射す
る光を低減させるために、イオンプレーティング法など
によって各フォトポリマ層３３,３４の各表面に、反射
防止機能を持つ無反射コート３５,３６を夫々蒸着させ
る。
成されている。すなわち、ガラス基板１において上下方
向に対向する各表面３１ａ,３１ｂに、フォトポリマを
膜厚１０μｍまで夫々塗布してフォトポリマ層３３,３
４を設ける。そして、スタンパを用いる２Ｐ(photo pol
ymerization)法によって、そのガラス基板３１の表面３
１ａ,３１ｂに沿って一方向に延びた、断面矩形の凹凸
を有するパターンをフォトポリマ層３３,３４の各表面
に夫々形成する。しかしながら、このガラス基板３１と
フォトポリマ層３３,３４とで構成された回折格子を例
えば光ピックアップに用いた場合、このガラス基板３１
に入射する光のうちフォトポリマ層３３,３４の各表面
で反射された光が、光ピックアップの出力に悪影響をお
よぼす。このフォトポリマ層３３,３４の表面で反射す
る光を低減させるために、イオンプレーティング法など
によって各フォトポリマ層３３,３４の各表面に、反射
防止機能を持つ無反射コート３５,３６を夫々蒸着させ
る。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】ところが、従来の回折
格子の製造法では、無反射コート３５,３６を各フォト
ポリマ層３３,３４の各表面に夫々蒸着させるため、生
産効率が悪くなるという問題がある。その上、コストが
高くなるという問題もある。また、フォトポリマ層３
３,３４が高温によって変形または変質するのを防ぐた
め、イオンプレーティング法などの高度な技術が必要不
可欠となる。したがって、簡単に製造できないという欠
点がある。
格子の製造法では、無反射コート３５,３６を各フォト
ポリマ層３３,３４の各表面に夫々蒸着させるため、生
産効率が悪くなるという問題がある。その上、コストが
高くなるという問題もある。また、フォトポリマ層３
３,３４が高温によって変形または変質するのを防ぐた
め、イオンプレーティング法などの高度な技術が必要不
可欠となる。したがって、簡単に製造できないという欠
点がある。
【０００４】そこで、本発明の目的は、反射光を低減で
き、生産効率を向上でき、しかも低コストで簡単に製造
できる回折格子およびその製造方法を提供することにあ
る。また、そのような回折格子を備えて、記録担体が有
する情報を安定に出力できる光ピックアップを提供する
ことにある。
き、生産効率を向上でき、しかも低コストで簡単に製造
できる回折格子およびその製造方法を提供することにあ
る。また、そのような回折格子を備えて、記録担体が有
する情報を安定に出力できる光ピックアップを提供する
ことにある。
【０００５】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、請求項１の回折格子は、平坦な基板と、上記基板の
少なくとも一方の面に密着した樹脂層とを備え、上記樹
脂層の表面に、上記基板面に沿って一方向に延びる断面
凹凸状のパターンを有し、所定の波長の光を回折させる
回折格子において、上記基板に対して垂直に入射する光
のうち、上記樹脂層の上記凸部の表面で反射された第１
光と、上記基板と上記樹脂層との界面で反射された第２
光との間の光路差が上記光の波長の２分の１に等しくな
るように、上記樹脂層の上記凸部の厚みが設定されてい
ることを特徴としている。
め、請求項１の回折格子は、平坦な基板と、上記基板の
少なくとも一方の面に密着した樹脂層とを備え、上記樹
脂層の表面に、上記基板面に沿って一方向に延びる断面
凹凸状のパターンを有し、所定の波長の光を回折させる
回折格子において、上記基板に対して垂直に入射する光
のうち、上記樹脂層の上記凸部の表面で反射された第１
光と、上記基板と上記樹脂層との界面で反射された第２
光との間の光路差が上記光の波長の２分の１に等しくな
るように、上記樹脂層の上記凸部の厚みが設定されてい
ることを特徴としている。
【０００６】上記請求項１の回折格子によれば、上記回
折格子は、所定の波長の光を回折する。このとき、上記
基板に対して垂直に入射する光のうち、上記樹脂層の上
記凸部の表面で反射された第１光と、基板と樹脂層との
界面で反射された第２光との間の光路差が、上記光の波
長の１／２に等しくなる。したがって、第１光と第２光
とが互いに打ち消すように干渉して、樹脂層の凸部の表
面で反射される光が大幅に低減される。この回折格子で
は、従来の回折格子のように反射防止機能を有する無反
射コートが不要である。その結果、生産効率を向上で
き、低コストで簡単に製造できる。
折格子は、所定の波長の光を回折する。このとき、上記
基板に対して垂直に入射する光のうち、上記樹脂層の上
記凸部の表面で反射された第１光と、基板と樹脂層との
界面で反射された第２光との間の光路差が、上記光の波
長の１／２に等しくなる。したがって、第１光と第２光
とが互いに打ち消すように干渉して、樹脂層の凸部の表
面で反射される光が大幅に低減される。この回折格子で
は、従来の回折格子のように反射防止機能を有する無反
射コートが不要である。その結果、生産効率を向上で
き、低コストで簡単に製造できる。
【０００７】また、請求項２の回折格子の製造方法は、
請求項１に記載の回折格子の製造方法であって、平坦な
基板の少なくとも一方の面に樹脂層を密着して設ける第
１工程と、上記樹脂層の表面に、スタンパを用いて、上
記基板面に沿って一方向に延びる断面凹凸状のパターン
を形成する第２工程と、上記樹脂層を硬化させる第３工
程とを有する回折格子の製造方法において、上記第３工
程による上記樹脂層の硬化後の膜厚をｄ、屈折率をｎ、
上記基板に対して垂直に入射する光の波長をλとしたと
き、２ｎｄ＝λ／２になるように、上記第１工程で設け
る上記樹脂層の組成と膜厚を設定することを特徴として
いる。
請求項１に記載の回折格子の製造方法であって、平坦な
基板の少なくとも一方の面に樹脂層を密着して設ける第
１工程と、上記樹脂層の表面に、スタンパを用いて、上
記基板面に沿って一方向に延びる断面凹凸状のパターン
を形成する第２工程と、上記樹脂層を硬化させる第３工
程とを有する回折格子の製造方法において、上記第３工
程による上記樹脂層の硬化後の膜厚をｄ、屈折率をｎ、
上記基板に対して垂直に入射する光の波長をλとしたと
き、２ｎｄ＝λ／２になるように、上記第１工程で設け
る上記樹脂層の組成と膜厚を設定することを特徴として
いる。
【０００８】上記請求項２の回折格子の製造方法によれ
ば、まず平坦な基板の少なくとも一方の面に、所定の膜
厚に設定された屈折率ｎの樹脂層を密着させる。それか
ら、その樹脂層の表面に、スタンパを用いて、上記基板
面に沿って一方向に延びる断面凹凸状のパターンを形成
する。最後に、この樹脂層を硬化させる。このように作
製した回折格子は、基板に対して垂直に入射する波長λ
の光を回折する。このとき、硬化した樹脂層の膜厚を
ｄ、屈折率ｎとしたとき、２ｎｄ＝λ／２になる。すな
わち、樹脂層の膜厚ｄを光学距離に変換した値は、λ／
４に等しい。したがって、基板に対して垂直に入射する
波長λの光が樹脂層の対向する面の間を往復すると、位
相がπだけずれる。この結果、この樹脂層の表面によっ
て反射される光が大幅に低減される。この製造方法で
は、従来の製造方法のように反射防止機能を有する無反
射コートの蒸着が不要である。それゆえ、生産効率が向
上し、コストも減少する。また、無反射コートを蒸着さ
せるためのイオンプレーティング法などの高度な技術を
必要としないので、簡単に回折格子を製造できる。
ば、まず平坦な基板の少なくとも一方の面に、所定の膜
厚に設定された屈折率ｎの樹脂層を密着させる。それか
ら、その樹脂層の表面に、スタンパを用いて、上記基板
面に沿って一方向に延びる断面凹凸状のパターンを形成
する。最後に、この樹脂層を硬化させる。このように作
製した回折格子は、基板に対して垂直に入射する波長λ
の光を回折する。このとき、硬化した樹脂層の膜厚を
ｄ、屈折率ｎとしたとき、２ｎｄ＝λ／２になる。すな
わち、樹脂層の膜厚ｄを光学距離に変換した値は、λ／
４に等しい。したがって、基板に対して垂直に入射する
波長λの光が樹脂層の対向する面の間を往復すると、位
相がπだけずれる。この結果、この樹脂層の表面によっ
て反射される光が大幅に低減される。この製造方法で
は、従来の製造方法のように反射防止機能を有する無反
射コートの蒸着が不要である。それゆえ、生産効率が向
上し、コストも減少する。また、無反射コートを蒸着さ
せるためのイオンプレーティング法などの高度な技術を
必要としないので、簡単に回折格子を製造できる。
【０００９】また、請求項３の光ピックアップは、記録
担体の記録面へ向けて所定の波長のコヒーレント光を発
する光源と、上記光源と上記記録担体との間に設けら
れ、上記光源が発した光を上記記録担体へ向けて透過さ
せるとともに上記記録担体によって反射されたコヒーレ
ント光を回折させる請求項１の回折格子と、上記回折格
子が回折させた光を受けて、上記光に応じて上記記録面
の記録情報を表す電気信号を出力する受光素子とを有す
ることを特徴としている。
担体の記録面へ向けて所定の波長のコヒーレント光を発
する光源と、上記光源と上記記録担体との間に設けら
れ、上記光源が発した光を上記記録担体へ向けて透過さ
せるとともに上記記録担体によって反射されたコヒーレ
ント光を回折させる請求項１の回折格子と、上記回折格
子が回折させた光を受けて、上記光に応じて上記記録面
の記録情報を表す電気信号を出力する受光素子とを有す
ることを特徴としている。
【００１０】上記請求項３の光ピックアップによれば、
表面で反射する光を大幅に低減し得る回折格子を備えて
いるので、記録担体が有する情報を、記録担体によって
反射されたコヒーレント光を通して受光素子が正確に検
出できる。したがって、記録担体が有する情報を安定に
出力することができる。
表面で反射する光を大幅に低減し得る回折格子を備えて
いるので、記録担体が有する情報を、記録担体によって
反射されたコヒーレント光を通して受光素子が正確に検
出できる。したがって、記録担体が有する情報を安定に
出力することができる。
【００１１】
【発明の実施の形態】以下、本発明の回折格子およびそ
の製造方法並びに光ピックアップを図示の実施の形態に
より詳細に説明する。
の製造方法並びに光ピックアップを図示の実施の形態に
より詳細に説明する。
【００１２】図１は、２Ｐ法によって回折格子が製作さ
れる過程を示している。
れる過程を示している。
【００１３】(第１工程)まず、図１(ａ)に示すように、
例えば屈折率１.４９を有する樹脂基板１に対してプラ
ズマ処理を行って、樹脂基板１の表面を清浄にする。そ
れから、図１(ｂ)に示すように、樹脂基板１の上下方向
に対向する各表面１ａ,１ｂに、フォトポリマを所定の
膜厚まで夫々塗布することによって、樹脂層としてのフ
ォトポリマ層２,３を設ける。
例えば屈折率１.４９を有する樹脂基板１に対してプラ
ズマ処理を行って、樹脂基板１の表面を清浄にする。そ
れから、図１(ｂ)に示すように、樹脂基板１の上下方向
に対向する各表面１ａ,１ｂに、フォトポリマを所定の
膜厚まで夫々塗布することによって、樹脂層としてのフ
ォトポリマ層２,３を設ける。
【００１４】(第２工程)次に、図１(ｃ)に示すように、
樹脂基板１の表面１ａ,１ｂに沿って一方向に沿って延
びた、断面矩形の凹凸状のパターンを有するスタンパ
４,５によって、フォトポリマ層２,３を有する樹脂基板
１を上下方向に挟む。
樹脂基板１の表面１ａ,１ｂに沿って一方向に沿って延
びた、断面矩形の凹凸状のパターンを有するスタンパ
４,５によって、フォトポリマ層２,３を有する樹脂基板
１を上下方向に挟む。
【００１５】(第３工程)そして、上方または下方から紫
外線を樹脂基板１に向けて照射する。そうすると、フォ
トポリマ層２,３が紫外線に反応して硬化する。最後
に、図１(ｄ)に示すように、フォトポリマ層２,３から
スタンパ４,５(図１(ｃ)参照)を離間させる。このフォ
トポリマ層２,３の各表面に、樹脂基板１の表面１ａ,１
ｂに沿って一方向に延びた、断面矩形の凹凸状のパター
ンが夫々形成される。このフォトポリマ層２,３の凹部
２ｂ,３ｂは、スタンパ４,５の凸部によって形成され
る。一方、フォトポリマ層２,３の凸部２ａ,３ａは、ス
タンパ４,５の凹部によって形成される。このフォトポ
リマ層２,３を硬化後において、凸部２ａ,３ａの厚みは
ｄになる。また、フォトポリマ層２,３の屈折率はｎに
なる(ｎ＞１.４９)。
外線を樹脂基板１に向けて照射する。そうすると、フォ
トポリマ層２,３が紫外線に反応して硬化する。最後
に、図１(ｄ)に示すように、フォトポリマ層２,３から
スタンパ４,５(図１(ｃ)参照)を離間させる。このフォ
トポリマ層２,３の各表面に、樹脂基板１の表面１ａ,１
ｂに沿って一方向に延びた、断面矩形の凹凸状のパター
ンが夫々形成される。このフォトポリマ層２,３の凹部
２ｂ,３ｂは、スタンパ４,５の凸部によって形成され
る。一方、フォトポリマ層２,３の凸部２ａ,３ａは、ス
タンパ４,５の凹部によって形成される。このフォトポ
リマ層２,３を硬化後において、凸部２ａ,３ａの厚みは
ｄになる。また、フォトポリマ層２,３の屈折率はｎに
なる(ｎ＞１.４９)。
【００１６】このようにして作製した回折格子は、樹脂
基板１に対して垂直に入射する波長λの光を回折する。
このとき、フォトポリマ層２,３の凸部２ａ,３ａの厚み
ｄ、フォトポリマ層２,３の屈折率ｎにおいて、２ｎｄ
＝λ／２の関係が成立する。例えば、フォトポリマ層
２,３の屈折率ｎが１.５であり、樹脂基板１に対して垂
直に入射する光の波長λが０.７８μｍである場合、凸
部２ａ,３ａの厚みｄは０.１３μｍになる。また、その
厚みｄを光学距離に変換した値は、λ／４に等しい。そ
うすると、上記樹脂基板１に対して垂直に入射する波長
λの光のうち、凸部２ａ,３ａの表面で反射された第１
光と、樹脂基板１とフォトポリマ層２,３との界面で反
射された第２光との間の光路差が、λ／２に等しくな
る。したがって、第１光と第２光とが互いに打ち消すよ
うに干渉して、フォトポリマ層２,３の表面で反射され
る光が大幅に低減される。つまり、このフォトポリマ層
２,３は、従来の無反射コートと略同等の機能を有す
る。この回折格子の製造方法において、従来の製造方法
のように反射防止機能を有する無反射コートの蒸着は不
要である。したがって、生産効率が向上し、コストも減
少する。また、例えば波長λ 2の光を回折するための回
折格子を作製する場合でも、第３工程におけるフォトポ
リマ層２,３の硬化後の凸部２ａ,３ａの厚みｄがλ2／
(４ｎ)になるように、第１工程で設けるフォトポリマ層
２,３の膜厚を設定すればよい。したがって、より効率
的に製造することができる。また、無反射コートを蒸着
させるためのイオンプレーティング法などの高度な技術
も要さないので、容易に回折格子を製造できる。
基板１に対して垂直に入射する波長λの光を回折する。
このとき、フォトポリマ層２,３の凸部２ａ,３ａの厚み
ｄ、フォトポリマ層２,３の屈折率ｎにおいて、２ｎｄ
＝λ／２の関係が成立する。例えば、フォトポリマ層
２,３の屈折率ｎが１.５であり、樹脂基板１に対して垂
直に入射する光の波長λが０.７８μｍである場合、凸
部２ａ,３ａの厚みｄは０.１３μｍになる。また、その
厚みｄを光学距離に変換した値は、λ／４に等しい。そ
うすると、上記樹脂基板１に対して垂直に入射する波長
λの光のうち、凸部２ａ,３ａの表面で反射された第１
光と、樹脂基板１とフォトポリマ層２,３との界面で反
射された第２光との間の光路差が、λ／２に等しくな
る。したがって、第１光と第２光とが互いに打ち消すよ
うに干渉して、フォトポリマ層２,３の表面で反射され
る光が大幅に低減される。つまり、このフォトポリマ層
２,３は、従来の無反射コートと略同等の機能を有す
る。この回折格子の製造方法において、従来の製造方法
のように反射防止機能を有する無反射コートの蒸着は不
要である。したがって、生産効率が向上し、コストも減
少する。また、例えば波長λ 2の光を回折するための回
折格子を作製する場合でも、第３工程におけるフォトポ
リマ層２,３の硬化後の凸部２ａ,３ａの厚みｄがλ2／
(４ｎ)になるように、第１工程で設けるフォトポリマ層
２,３の膜厚を設定すればよい。したがって、より効率
的に製造することができる。また、無反射コートを蒸着
させるためのイオンプレーティング法などの高度な技術
も要さないので、容易に回折格子を製造できる。
【００１７】図２は、上述の手順で作製した回折格子を
構成要素として有する光ピックアップを示している。
構成要素として有する光ピックアップを示している。
【００１８】この光ピックアップ装置は、図２によう
に、半導体レーザ２１,グレーティング２２,回折格子２
３,コリメートレンズ２４および対物レンズ２５を記録
担体２６の記録面２６ａに垂直な１つの直線上に並べて
配置している。また、半導体レーザ２１を含み記録面２
６ａに平行な面内で半導体レーザ２１のラジアル方向Ｒ
近傍に受光素子２７を配置している。
に、半導体レーザ２１,グレーティング２２,回折格子２
３,コリメートレンズ２４および対物レンズ２５を記録
担体２６の記録面２６ａに垂直な１つの直線上に並べて
配置している。また、半導体レーザ２１を含み記録面２
６ａに平行な面内で半導体レーザ２１のラジアル方向Ｒ
近傍に受光素子２７を配置している。
【００１９】上記半導体レーザ２１から出射したレーザ
光Ｌは、グレーティング２２,回折格子２３,コリメート
レンズ２４および対物レンズ２５を順次通過して、記録
担体２６の記録面２６ａに集光される。このレーザ光Ｌ
は、記録面２６ａによって反射され、対物レンズ２５,
コリメートレンズ２４を通過した後、回折格子２３で回
折される。そして、この回折格子２３によって回折され
た光Ｌｇがグレーティング２２の側方を通って受光素子
２７に導かれる。この受光素子２７は、光Ｌｇに応じて
記録面２６ａの記録情報を表す電気信号を図示しない増
幅器などに出力する。
光Ｌは、グレーティング２２,回折格子２３,コリメート
レンズ２４および対物レンズ２５を順次通過して、記録
担体２６の記録面２６ａに集光される。このレーザ光Ｌ
は、記録面２６ａによって反射され、対物レンズ２５,
コリメートレンズ２４を通過した後、回折格子２３で回
折される。そして、この回折格子２３によって回折され
た光Ｌｇがグレーティング２２の側方を通って受光素子
２７に導かれる。この受光素子２７は、光Ｌｇに応じて
記録面２６ａの記録情報を表す電気信号を図示しない増
幅器などに出力する。
【００２０】ここで、回折格子２３の上面または下面で
反射される光は、大幅に低減される。したがって、回折
格子２３の上面または下面で反射された光は、受光素子
２７に照射されない。つまり、記録担体２６が有する情
報を、記録担体２６によって反射されたコヒーレント光
を通して受光素子２７が正確に検出できる。この結果、
記録担体が有する情報が安定に再生される。
反射される光は、大幅に低減される。したがって、回折
格子２３の上面または下面で反射された光は、受光素子
２７に照射されない。つまり、記録担体２６が有する情
報を、記録担体２６によって反射されたコヒーレント光
を通して受光素子２７が正確に検出できる。この結果、
記録担体が有する情報が安定に再生される。
【００２１】上記実施の形態では樹脂基板１を用いた
が、ガラス基板を用いてもよい。また、フォトポリマ層
２,３の代わりに熱硬化性樹脂を用いてもよい。
が、ガラス基板を用いてもよい。また、フォトポリマ層
２,３の代わりに熱硬化性樹脂を用いてもよい。
【００２２】
【発明の効果】以上より明らかなように、請求項１の発
明の回折格子では、基板に対して垂直に入射する光のう
ち、樹脂層の凸部の表面で反射された第１光と、基板と
樹脂層との界面で反射された第２光との間の光路差が、
上記光の波長の１／２に等しくなるように、樹脂層の凸
部の厚みが設定されているので、第１光と第２光とが互
いに打ち消すように干渉して、樹脂層の凸部の表面で反
射される光が大幅に低減される。この回折格子では、従
来の回折格子のように反射防止機能を有する無反射コー
ト不要なので、生産効率を向上でき、低コストで簡単に
製造できる。
明の回折格子では、基板に対して垂直に入射する光のう
ち、樹脂層の凸部の表面で反射された第１光と、基板と
樹脂層との界面で反射された第２光との間の光路差が、
上記光の波長の１／２に等しくなるように、樹脂層の凸
部の厚みが設定されているので、第１光と第２光とが互
いに打ち消すように干渉して、樹脂層の凸部の表面で反
射される光が大幅に低減される。この回折格子では、従
来の回折格子のように反射防止機能を有する無反射コー
ト不要なので、生産効率を向上でき、低コストで簡単に
製造できる。
【００２３】また、請求項２の発明の回折格子の製造方
では、樹脂層を硬化させる第３工程による上記樹脂層の
硬化後の膜厚をｄ、屈折率ｎとしたとき、２ｎｄ＝λ／
２になるように、第１工程で設ける樹脂層の組成と膜厚
を設定することによって、基板に対して垂直に入射する
波長λの光が樹脂層の対向する面の間を往復すると、位
相がπだけずれる。したがって、この樹脂層の表面によ
って反射される光が大幅に低減される。この製造方法で
は、従来の製造方法のように反射防止機能を有する無反
射コートの蒸着が不要であるので、生産効率が向上し、
コストも減少する。また、無反射コートを蒸着させるた
めのイオンプレーティング法などの高度な技術も要さな
いので、容易に回折格子を製造できる。
では、樹脂層を硬化させる第３工程による上記樹脂層の
硬化後の膜厚をｄ、屈折率ｎとしたとき、２ｎｄ＝λ／
２になるように、第１工程で設ける樹脂層の組成と膜厚
を設定することによって、基板に対して垂直に入射する
波長λの光が樹脂層の対向する面の間を往復すると、位
相がπだけずれる。したがって、この樹脂層の表面によ
って反射される光が大幅に低減される。この製造方法で
は、従来の製造方法のように反射防止機能を有する無反
射コートの蒸着が不要であるので、生産効率が向上し、
コストも減少する。また、無反射コートを蒸着させるた
めのイオンプレーティング法などの高度な技術も要さな
いので、容易に回折格子を製造できる。
【００２４】また、請求項３の発明の光ピックアップ
は、表面で反射する光を低減し得る回折格子を備えてい
るので、記録担体が有する情報を、記録担体によって反
射されたコヒーレント光を通して受光素子が正確に検出
することによって、記録担体が有する情報を安定に出力
できる。
は、表面で反射する光を低減し得る回折格子を備えてい
るので、記録担体が有する情報を、記録担体によって反
射されたコヒーレント光を通して受光素子が正確に検出
することによって、記録担体が有する情報を安定に出力
できる。
【図１】 本発明の実施の一形態の回折格子の製造方法
を模式的に説明する図である。
を模式的に説明する図である。
【図２】 上記回折格子を有する光ピックアップの全体
図である。
図である。
【図３】 従来の回折格子を示す図である。
１ 樹脂基板、 ２,３ フォトポリ
マ層、２ａ,３ａ 凸部、 ２ｂ,３ｂ
凹部、４,５ スタンパ、 ２１ 半導体
レーザ、２２ グレーティング、 ２３ 回折
格子、２４ コリメートレンズ、 ２５ 対物レ
ンズ、２６ 記録担体、 ２７ 受光素
子。
マ層、２ａ,３ａ 凸部、 ２ｂ,３ｂ
凹部、４,５ スタンパ、 ２１ 半導体
レーザ、２２ グレーティング、 ２３ 回折
格子、２４ コリメートレンズ、 ２５ 対物レ
ンズ、２６ 記録担体、 ２７ 受光素
子。
Claims (3)
- 【請求項１】 平坦な基板と、上記基板の少なくとも一
方の面に密着した樹脂層とを備え、上記樹脂層の表面
に、上記基板面に沿って一方向に延びる断面凹凸状のパ
ターンを有し、所定の波長の光を回折させる回折格子に
おいて、 上記基板に対して垂直に入射する光のうち、上記樹脂層
の上記凸部の表面で反射された第１光と、上記基板と上
記樹脂層との界面で反射された第２光との間の光路差が
上記光の波長の２分の１に等しくなるように、上記樹脂
層の上記凸部の厚みが設定されていることを特徴とする
回折格子。 - 【請求項２】 請求項１に記載の回折格子の製造方法で
あって、 平坦な基板の少なくとも一方の面に樹脂層を密着して設
ける第１工程と、上記樹脂層の表面に、スタンパを用い
て、上記基板面に沿って一方向に延びる断面凹凸状のパ
ターンを形成する第２工程と、上記樹脂層を硬化させる
第３工程とを有する回折格子の製造方法において、 上記第３工程による上記樹脂層の硬化後の膜厚をｄ、屈
折率をｎ、上記基板に対して垂直に入射する光の波長を
λとしたとき、 ２ｎｄ＝λ／２ になるように、上記第１工程で設ける上記樹脂層の組成
と膜厚を設定することを特徴とする回折格子の製造方
法。 - 【請求項３】 記録担体の記録面へ向けて所定の波長の
コヒーレント光を発する光源と、 上記光源と上記記録担体との間に設けられ、上記光源が
発した光を上記記録担体へ向けて透過させるとともに上
記記録担体によって反射されたコヒーレント光を回折さ
せる請求項１に記載の回折格子と、 上記回折格子が回折させた光を受けて、上記光に応じて
上記記録面の記録情報を表す電気信号を出力する受光素
子とを有することを特徴とする光ピックアップ。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11043062A JP2000241616A (ja) | 1999-02-22 | 1999-02-22 | 回折格子およびその製造方法並びに光ピックアップ |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11043062A JP2000241616A (ja) | 1999-02-22 | 1999-02-22 | 回折格子およびその製造方法並びに光ピックアップ |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000241616A true JP2000241616A (ja) | 2000-09-08 |
Family
ID=12653388
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11043062A Pending JP2000241616A (ja) | 1999-02-22 | 1999-02-22 | 回折格子およびその製造方法並びに光ピックアップ |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2000241616A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2001188115A (ja) * | 1999-12-28 | 2001-07-10 | Fujitsu Ltd | 回折格子マスク |
| KR100566054B1 (ko) * | 2003-08-14 | 2006-03-31 | 주식회사 엘지에스 | 광픽업 회절격자 및 그 제조방법 |
| KR20210131452A (ko) * | 2015-03-05 | 2021-11-02 | 매직 립, 인코포레이티드 | 가상 및 증강 현실 시스템들 및 컴포넌트들을 위한 개선된 제조 |
| US11726241B2 (en) | 2015-01-26 | 2023-08-15 | Magic Leap, Inc. | Manufacturing for virtual and augmented reality systems and components |
-
1999
- 1999-02-22 JP JP11043062A patent/JP2000241616A/ja active Pending
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2001188115A (ja) * | 1999-12-28 | 2001-07-10 | Fujitsu Ltd | 回折格子マスク |
| JP4535542B2 (ja) * | 1999-12-28 | 2010-09-01 | 富士通株式会社 | 回折格子マスク |
| KR100566054B1 (ko) * | 2003-08-14 | 2006-03-31 | 주식회사 엘지에스 | 광픽업 회절격자 및 그 제조방법 |
| US11726241B2 (en) | 2015-01-26 | 2023-08-15 | Magic Leap, Inc. | Manufacturing for virtual and augmented reality systems and components |
| KR20210131452A (ko) * | 2015-03-05 | 2021-11-02 | 매직 립, 인코포레이티드 | 가상 및 증강 현실 시스템들 및 컴포넌트들을 위한 개선된 제조 |
| KR102500734B1 (ko) * | 2015-03-05 | 2023-02-16 | 매직 립, 인코포레이티드 | 가상 및 증강 현실 시스템들 및 컴포넌트들을 위한 개선된 제조 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20040413 |
|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20040810 |