JP2000241616A - 回折格子およびその製造方法並びに光ピックアップ - Google Patents
回折格子およびその製造方法並びに光ピックアップInfo
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- JP2000241616A JP2000241616A JP11043062A JP4306299A JP2000241616A JP 2000241616 A JP2000241616 A JP 2000241616A JP 11043062 A JP11043062 A JP 11043062A JP 4306299 A JP4306299 A JP 4306299A JP 2000241616 A JP2000241616 A JP 2000241616A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 反射光を低減でき、生産効率を向上でき、し
かも低コストで簡単に製造できる回折格子およびその製
造方法を提供する。また、そのような回折格子を備え
て、記録担体が有する情報を安定に出力できる光ピック
アップを提供する。 【解決手段】 樹脂基板1に対して垂直に入射する波長
λの光を回折する回折格子の製造方法では、第1工程に
おいて、樹脂基板1の表面1a,1bにフォトポリマ層
2,3を密着して設ける。第2工程において、フォトポ
リマ層2,3の表面1a,1bに、スタンパ4,5を用い
て、表面1a,1bに沿って一方向に延びた、断面矩形
の凹凸状のパターンを形成する。第3工程において、フ
ォトポリマ層2,3を硬化させる。このフォトポリマ層
2,3の硬化後の凸部2a,3aの膜厚をd、屈折率nと
したとき、2nd=λ/2になるように、第1工程で設
けるフォトポリマ層2,3の組成と膜厚を設定する。
かも低コストで簡単に製造できる回折格子およびその製
造方法を提供する。また、そのような回折格子を備え
て、記録担体が有する情報を安定に出力できる光ピック
アップを提供する。 【解決手段】 樹脂基板1に対して垂直に入射する波長
λの光を回折する回折格子の製造方法では、第1工程に
おいて、樹脂基板1の表面1a,1bにフォトポリマ層
2,3を密着して設ける。第2工程において、フォトポ
リマ層2,3の表面1a,1bに、スタンパ4,5を用い
て、表面1a,1bに沿って一方向に延びた、断面矩形
の凹凸状のパターンを形成する。第3工程において、フ
ォトポリマ層2,3を硬化させる。このフォトポリマ層
2,3の硬化後の凸部2a,3aの膜厚をd、屈折率nと
したとき、2nd=λ/2になるように、第1工程で設
けるフォトポリマ層2,3の組成と膜厚を設定する。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、回折格子およびそ
の製造方法に関する。また、回折格子を構成要素として
有する光ピックアップに関する。このような光ピックア
ップは、CD(コンパクトディスク)プレイヤあるいはM
D(ミニディスク)プレイヤなどの一部を構成するのに用
いられる。
の製造方法に関する。また、回折格子を構成要素として
有する光ピックアップに関する。このような光ピックア
ップは、CD(コンパクトディスク)プレイヤあるいはM
D(ミニディスク)プレイヤなどの一部を構成するのに用
いられる。
【0002】
【従来の技術】従来、回折格子は、図3に示すように形
成されている。すなわち、ガラス基板1において上下方
向に対向する各表面31a,31bに、フォトポリマを
膜厚10μmまで夫々塗布してフォトポリマ層33,3
4を設ける。そして、スタンパを用いる2P(photo pol
ymerization)法によって、そのガラス基板31の表面3
1a,31bに沿って一方向に延びた、断面矩形の凹凸
を有するパターンをフォトポリマ層33,34の各表面
に夫々形成する。しかしながら、このガラス基板31と
フォトポリマ層33,34とで構成された回折格子を例
えば光ピックアップに用いた場合、このガラス基板31
に入射する光のうちフォトポリマ層33,34の各表面
で反射された光が、光ピックアップの出力に悪影響をお
よぼす。このフォトポリマ層33,34の表面で反射す
る光を低減させるために、イオンプレーティング法など
によって各フォトポリマ層33,34の各表面に、反射
防止機能を持つ無反射コート35,36を夫々蒸着させ
る。
成されている。すなわち、ガラス基板1において上下方
向に対向する各表面31a,31bに、フォトポリマを
膜厚10μmまで夫々塗布してフォトポリマ層33,3
4を設ける。そして、スタンパを用いる2P(photo pol
ymerization)法によって、そのガラス基板31の表面3
1a,31bに沿って一方向に延びた、断面矩形の凹凸
を有するパターンをフォトポリマ層33,34の各表面
に夫々形成する。しかしながら、このガラス基板31と
フォトポリマ層33,34とで構成された回折格子を例
えば光ピックアップに用いた場合、このガラス基板31
に入射する光のうちフォトポリマ層33,34の各表面
で反射された光が、光ピックアップの出力に悪影響をお
よぼす。このフォトポリマ層33,34の表面で反射す
る光を低減させるために、イオンプレーティング法など
によって各フォトポリマ層33,34の各表面に、反射
防止機能を持つ無反射コート35,36を夫々蒸着させ
る。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】ところが、従来の回折
格子の製造法では、無反射コート35,36を各フォト
ポリマ層33,34の各表面に夫々蒸着させるため、生
産効率が悪くなるという問題がある。その上、コストが
高くなるという問題もある。また、フォトポリマ層3
3,34が高温によって変形または変質するのを防ぐた
め、イオンプレーティング法などの高度な技術が必要不
可欠となる。したがって、簡単に製造できないという欠
点がある。
格子の製造法では、無反射コート35,36を各フォト
ポリマ層33,34の各表面に夫々蒸着させるため、生
産効率が悪くなるという問題がある。その上、コストが
高くなるという問題もある。また、フォトポリマ層3
3,34が高温によって変形または変質するのを防ぐた
め、イオンプレーティング法などの高度な技術が必要不
可欠となる。したがって、簡単に製造できないという欠
点がある。
【0004】そこで、本発明の目的は、反射光を低減で
き、生産効率を向上でき、しかも低コストで簡単に製造
できる回折格子およびその製造方法を提供することにあ
る。また、そのような回折格子を備えて、記録担体が有
する情報を安定に出力できる光ピックアップを提供する
ことにある。
き、生産効率を向上でき、しかも低コストで簡単に製造
できる回折格子およびその製造方法を提供することにあ
る。また、そのような回折格子を備えて、記録担体が有
する情報を安定に出力できる光ピックアップを提供する
ことにある。
【0005】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、請求項1の回折格子は、平坦な基板と、上記基板の
少なくとも一方の面に密着した樹脂層とを備え、上記樹
脂層の表面に、上記基板面に沿って一方向に延びる断面
凹凸状のパターンを有し、所定の波長の光を回折させる
回折格子において、上記基板に対して垂直に入射する光
のうち、上記樹脂層の上記凸部の表面で反射された第1
光と、上記基板と上記樹脂層との界面で反射された第2
光との間の光路差が上記光の波長の2分の1に等しくな
るように、上記樹脂層の上記凸部の厚みが設定されてい
ることを特徴としている。
め、請求項1の回折格子は、平坦な基板と、上記基板の
少なくとも一方の面に密着した樹脂層とを備え、上記樹
脂層の表面に、上記基板面に沿って一方向に延びる断面
凹凸状のパターンを有し、所定の波長の光を回折させる
回折格子において、上記基板に対して垂直に入射する光
のうち、上記樹脂層の上記凸部の表面で反射された第1
光と、上記基板と上記樹脂層との界面で反射された第2
光との間の光路差が上記光の波長の2分の1に等しくな
るように、上記樹脂層の上記凸部の厚みが設定されてい
ることを特徴としている。
【0006】上記請求項1の回折格子によれば、上記回
折格子は、所定の波長の光を回折する。このとき、上記
基板に対して垂直に入射する光のうち、上記樹脂層の上
記凸部の表面で反射された第1光と、基板と樹脂層との
界面で反射された第2光との間の光路差が、上記光の波
長の1/2に等しくなる。したがって、第1光と第2光
とが互いに打ち消すように干渉して、樹脂層の凸部の表
面で反射される光が大幅に低減される。この回折格子で
は、従来の回折格子のように反射防止機能を有する無反
射コートが不要である。その結果、生産効率を向上で
き、低コストで簡単に製造できる。
折格子は、所定の波長の光を回折する。このとき、上記
基板に対して垂直に入射する光のうち、上記樹脂層の上
記凸部の表面で反射された第1光と、基板と樹脂層との
界面で反射された第2光との間の光路差が、上記光の波
長の1/2に等しくなる。したがって、第1光と第2光
とが互いに打ち消すように干渉して、樹脂層の凸部の表
面で反射される光が大幅に低減される。この回折格子で
は、従来の回折格子のように反射防止機能を有する無反
射コートが不要である。その結果、生産効率を向上で
き、低コストで簡単に製造できる。
【0007】また、請求項2の回折格子の製造方法は、
請求項1に記載の回折格子の製造方法であって、平坦な
基板の少なくとも一方の面に樹脂層を密着して設ける第
1工程と、上記樹脂層の表面に、スタンパを用いて、上
記基板面に沿って一方向に延びる断面凹凸状のパターン
を形成する第2工程と、上記樹脂層を硬化させる第3工
程とを有する回折格子の製造方法において、上記第3工
程による上記樹脂層の硬化後の膜厚をd、屈折率をn、
上記基板に対して垂直に入射する光の波長をλとしたと
き、2nd=λ/2になるように、上記第1工程で設け
る上記樹脂層の組成と膜厚を設定することを特徴として
いる。
請求項1に記載の回折格子の製造方法であって、平坦な
基板の少なくとも一方の面に樹脂層を密着して設ける第
1工程と、上記樹脂層の表面に、スタンパを用いて、上
記基板面に沿って一方向に延びる断面凹凸状のパターン
を形成する第2工程と、上記樹脂層を硬化させる第3工
程とを有する回折格子の製造方法において、上記第3工
程による上記樹脂層の硬化後の膜厚をd、屈折率をn、
上記基板に対して垂直に入射する光の波長をλとしたと
き、2nd=λ/2になるように、上記第1工程で設け
る上記樹脂層の組成と膜厚を設定することを特徴として
いる。
【0008】上記請求項2の回折格子の製造方法によれ
ば、まず平坦な基板の少なくとも一方の面に、所定の膜
厚に設定された屈折率nの樹脂層を密着させる。それか
ら、その樹脂層の表面に、スタンパを用いて、上記基板
面に沿って一方向に延びる断面凹凸状のパターンを形成
する。最後に、この樹脂層を硬化させる。このように作
製した回折格子は、基板に対して垂直に入射する波長λ
の光を回折する。このとき、硬化した樹脂層の膜厚を
d、屈折率nとしたとき、2nd=λ/2になる。すな
わち、樹脂層の膜厚dを光学距離に変換した値は、λ/
4に等しい。したがって、基板に対して垂直に入射する
波長λの光が樹脂層の対向する面の間を往復すると、位
相がπだけずれる。この結果、この樹脂層の表面によっ
て反射される光が大幅に低減される。この製造方法で
は、従来の製造方法のように反射防止機能を有する無反
射コートの蒸着が不要である。それゆえ、生産効率が向
上し、コストも減少する。また、無反射コートを蒸着さ
せるためのイオンプレーティング法などの高度な技術を
必要としないので、簡単に回折格子を製造できる。
ば、まず平坦な基板の少なくとも一方の面に、所定の膜
厚に設定された屈折率nの樹脂層を密着させる。それか
ら、その樹脂層の表面に、スタンパを用いて、上記基板
面に沿って一方向に延びる断面凹凸状のパターンを形成
する。最後に、この樹脂層を硬化させる。このように作
製した回折格子は、基板に対して垂直に入射する波長λ
の光を回折する。このとき、硬化した樹脂層の膜厚を
d、屈折率nとしたとき、2nd=λ/2になる。すな
わち、樹脂層の膜厚dを光学距離に変換した値は、λ/
4に等しい。したがって、基板に対して垂直に入射する
波長λの光が樹脂層の対向する面の間を往復すると、位
相がπだけずれる。この結果、この樹脂層の表面によっ
て反射される光が大幅に低減される。この製造方法で
は、従来の製造方法のように反射防止機能を有する無反
射コートの蒸着が不要である。それゆえ、生産効率が向
上し、コストも減少する。また、無反射コートを蒸着さ
せるためのイオンプレーティング法などの高度な技術を
必要としないので、簡単に回折格子を製造できる。
【0009】また、請求項3の光ピックアップは、記録
担体の記録面へ向けて所定の波長のコヒーレント光を発
する光源と、上記光源と上記記録担体との間に設けら
れ、上記光源が発した光を上記記録担体へ向けて透過さ
せるとともに上記記録担体によって反射されたコヒーレ
ント光を回折させる請求項1の回折格子と、上記回折格
子が回折させた光を受けて、上記光に応じて上記記録面
の記録情報を表す電気信号を出力する受光素子とを有す
ることを特徴としている。
担体の記録面へ向けて所定の波長のコヒーレント光を発
する光源と、上記光源と上記記録担体との間に設けら
れ、上記光源が発した光を上記記録担体へ向けて透過さ
せるとともに上記記録担体によって反射されたコヒーレ
ント光を回折させる請求項1の回折格子と、上記回折格
子が回折させた光を受けて、上記光に応じて上記記録面
の記録情報を表す電気信号を出力する受光素子とを有す
ることを特徴としている。
【0010】上記請求項3の光ピックアップによれば、
表面で反射する光を大幅に低減し得る回折格子を備えて
いるので、記録担体が有する情報を、記録担体によって
反射されたコヒーレント光を通して受光素子が正確に検
出できる。したがって、記録担体が有する情報を安定に
出力することができる。
表面で反射する光を大幅に低減し得る回折格子を備えて
いるので、記録担体が有する情報を、記録担体によって
反射されたコヒーレント光を通して受光素子が正確に検
出できる。したがって、記録担体が有する情報を安定に
出力することができる。
【0011】
【発明の実施の形態】以下、本発明の回折格子およびそ
の製造方法並びに光ピックアップを図示の実施の形態に
より詳細に説明する。
の製造方法並びに光ピックアップを図示の実施の形態に
より詳細に説明する。
【0012】図1は、2P法によって回折格子が製作さ
れる過程を示している。
れる過程を示している。
【0013】(第1工程)まず、図1(a)に示すように、
例えば屈折率1.49を有する樹脂基板1に対してプラ
ズマ処理を行って、樹脂基板1の表面を清浄にする。そ
れから、図1(b)に示すように、樹脂基板1の上下方向
に対向する各表面1a,1bに、フォトポリマを所定の
膜厚まで夫々塗布することによって、樹脂層としてのフ
ォトポリマ層2,3を設ける。
例えば屈折率1.49を有する樹脂基板1に対してプラ
ズマ処理を行って、樹脂基板1の表面を清浄にする。そ
れから、図1(b)に示すように、樹脂基板1の上下方向
に対向する各表面1a,1bに、フォトポリマを所定の
膜厚まで夫々塗布することによって、樹脂層としてのフ
ォトポリマ層2,3を設ける。
【0014】(第2工程)次に、図1(c)に示すように、
樹脂基板1の表面1a,1bに沿って一方向に沿って延
びた、断面矩形の凹凸状のパターンを有するスタンパ
4,5によって、フォトポリマ層2,3を有する樹脂基板
1を上下方向に挟む。
樹脂基板1の表面1a,1bに沿って一方向に沿って延
びた、断面矩形の凹凸状のパターンを有するスタンパ
4,5によって、フォトポリマ層2,3を有する樹脂基板
1を上下方向に挟む。
【0015】(第3工程)そして、上方または下方から紫
外線を樹脂基板1に向けて照射する。そうすると、フォ
トポリマ層2,3が紫外線に反応して硬化する。最後
に、図1(d)に示すように、フォトポリマ層2,3から
スタンパ4,5(図1(c)参照)を離間させる。このフォ
トポリマ層2,3の各表面に、樹脂基板1の表面1a,1
bに沿って一方向に延びた、断面矩形の凹凸状のパター
ンが夫々形成される。このフォトポリマ層2,3の凹部
2b,3bは、スタンパ4,5の凸部によって形成され
る。一方、フォトポリマ層2,3の凸部2a,3aは、ス
タンパ4,5の凹部によって形成される。このフォトポ
リマ層2,3を硬化後において、凸部2a,3aの厚みは
dになる。また、フォトポリマ層2,3の屈折率はnに
なる(n>1.49)。
外線を樹脂基板1に向けて照射する。そうすると、フォ
トポリマ層2,3が紫外線に反応して硬化する。最後
に、図1(d)に示すように、フォトポリマ層2,3から
スタンパ4,5(図1(c)参照)を離間させる。このフォ
トポリマ層2,3の各表面に、樹脂基板1の表面1a,1
bに沿って一方向に延びた、断面矩形の凹凸状のパター
ンが夫々形成される。このフォトポリマ層2,3の凹部
2b,3bは、スタンパ4,5の凸部によって形成され
る。一方、フォトポリマ層2,3の凸部2a,3aは、ス
タンパ4,5の凹部によって形成される。このフォトポ
リマ層2,3を硬化後において、凸部2a,3aの厚みは
dになる。また、フォトポリマ層2,3の屈折率はnに
なる(n>1.49)。
【0016】このようにして作製した回折格子は、樹脂
基板1に対して垂直に入射する波長λの光を回折する。
このとき、フォトポリマ層2,3の凸部2a,3aの厚み
d、フォトポリマ層2,3の屈折率nにおいて、2nd
=λ/2の関係が成立する。例えば、フォトポリマ層
2,3の屈折率nが1.5であり、樹脂基板1に対して垂
直に入射する光の波長λが0.78μmである場合、凸
部2a,3aの厚みdは0.13μmになる。また、その
厚みdを光学距離に変換した値は、λ/4に等しい。そ
うすると、上記樹脂基板1に対して垂直に入射する波長
λの光のうち、凸部2a,3aの表面で反射された第1
光と、樹脂基板1とフォトポリマ層2,3との界面で反
射された第2光との間の光路差が、λ/2に等しくな
る。したがって、第1光と第2光とが互いに打ち消すよ
うに干渉して、フォトポリマ層2,3の表面で反射され
る光が大幅に低減される。つまり、このフォトポリマ層
2,3は、従来の無反射コートと略同等の機能を有す
る。この回折格子の製造方法において、従来の製造方法
のように反射防止機能を有する無反射コートの蒸着は不
要である。したがって、生産効率が向上し、コストも減
少する。また、例えば波長λ 2の光を回折するための回
折格子を作製する場合でも、第3工程におけるフォトポ
リマ層2,3の硬化後の凸部2a,3aの厚みdがλ2/
(4n)になるように、第1工程で設けるフォトポリマ層
2,3の膜厚を設定すればよい。したがって、より効率
的に製造することができる。また、無反射コートを蒸着
させるためのイオンプレーティング法などの高度な技術
も要さないので、容易に回折格子を製造できる。
基板1に対して垂直に入射する波長λの光を回折する。
このとき、フォトポリマ層2,3の凸部2a,3aの厚み
d、フォトポリマ層2,3の屈折率nにおいて、2nd
=λ/2の関係が成立する。例えば、フォトポリマ層
2,3の屈折率nが1.5であり、樹脂基板1に対して垂
直に入射する光の波長λが0.78μmである場合、凸
部2a,3aの厚みdは0.13μmになる。また、その
厚みdを光学距離に変換した値は、λ/4に等しい。そ
うすると、上記樹脂基板1に対して垂直に入射する波長
λの光のうち、凸部2a,3aの表面で反射された第1
光と、樹脂基板1とフォトポリマ層2,3との界面で反
射された第2光との間の光路差が、λ/2に等しくな
る。したがって、第1光と第2光とが互いに打ち消すよ
うに干渉して、フォトポリマ層2,3の表面で反射され
る光が大幅に低減される。つまり、このフォトポリマ層
2,3は、従来の無反射コートと略同等の機能を有す
る。この回折格子の製造方法において、従来の製造方法
のように反射防止機能を有する無反射コートの蒸着は不
要である。したがって、生産効率が向上し、コストも減
少する。また、例えば波長λ 2の光を回折するための回
折格子を作製する場合でも、第3工程におけるフォトポ
リマ層2,3の硬化後の凸部2a,3aの厚みdがλ2/
(4n)になるように、第1工程で設けるフォトポリマ層
2,3の膜厚を設定すればよい。したがって、より効率
的に製造することができる。また、無反射コートを蒸着
させるためのイオンプレーティング法などの高度な技術
も要さないので、容易に回折格子を製造できる。
【0017】図2は、上述の手順で作製した回折格子を
構成要素として有する光ピックアップを示している。
構成要素として有する光ピックアップを示している。
【0018】この光ピックアップ装置は、図2によう
に、半導体レーザ21,グレーティング22,回折格子2
3,コリメートレンズ24および対物レンズ25を記録
担体26の記録面26aに垂直な1つの直線上に並べて
配置している。また、半導体レーザ21を含み記録面2
6aに平行な面内で半導体レーザ21のラジアル方向R
近傍に受光素子27を配置している。
に、半導体レーザ21,グレーティング22,回折格子2
3,コリメートレンズ24および対物レンズ25を記録
担体26の記録面26aに垂直な1つの直線上に並べて
配置している。また、半導体レーザ21を含み記録面2
6aに平行な面内で半導体レーザ21のラジアル方向R
近傍に受光素子27を配置している。
【0019】上記半導体レーザ21から出射したレーザ
光Lは、グレーティング22,回折格子23,コリメート
レンズ24および対物レンズ25を順次通過して、記録
担体26の記録面26aに集光される。このレーザ光L
は、記録面26aによって反射され、対物レンズ25,
コリメートレンズ24を通過した後、回折格子23で回
折される。そして、この回折格子23によって回折され
た光Lgがグレーティング22の側方を通って受光素子
27に導かれる。この受光素子27は、光Lgに応じて
記録面26aの記録情報を表す電気信号を図示しない増
幅器などに出力する。
光Lは、グレーティング22,回折格子23,コリメート
レンズ24および対物レンズ25を順次通過して、記録
担体26の記録面26aに集光される。このレーザ光L
は、記録面26aによって反射され、対物レンズ25,
コリメートレンズ24を通過した後、回折格子23で回
折される。そして、この回折格子23によって回折され
た光Lgがグレーティング22の側方を通って受光素子
27に導かれる。この受光素子27は、光Lgに応じて
記録面26aの記録情報を表す電気信号を図示しない増
幅器などに出力する。
【0020】ここで、回折格子23の上面または下面で
反射される光は、大幅に低減される。したがって、回折
格子23の上面または下面で反射された光は、受光素子
27に照射されない。つまり、記録担体26が有する情
報を、記録担体26によって反射されたコヒーレント光
を通して受光素子27が正確に検出できる。この結果、
記録担体が有する情報が安定に再生される。
反射される光は、大幅に低減される。したがって、回折
格子23の上面または下面で反射された光は、受光素子
27に照射されない。つまり、記録担体26が有する情
報を、記録担体26によって反射されたコヒーレント光
を通して受光素子27が正確に検出できる。この結果、
記録担体が有する情報が安定に再生される。
【0021】上記実施の形態では樹脂基板1を用いた
が、ガラス基板を用いてもよい。また、フォトポリマ層
2,3の代わりに熱硬化性樹脂を用いてもよい。
が、ガラス基板を用いてもよい。また、フォトポリマ層
2,3の代わりに熱硬化性樹脂を用いてもよい。
【0022】
【発明の効果】以上より明らかなように、請求項1の発
明の回折格子では、基板に対して垂直に入射する光のう
ち、樹脂層の凸部の表面で反射された第1光と、基板と
樹脂層との界面で反射された第2光との間の光路差が、
上記光の波長の1/2に等しくなるように、樹脂層の凸
部の厚みが設定されているので、第1光と第2光とが互
いに打ち消すように干渉して、樹脂層の凸部の表面で反
射される光が大幅に低減される。この回折格子では、従
来の回折格子のように反射防止機能を有する無反射コー
ト不要なので、生産効率を向上でき、低コストで簡単に
製造できる。
明の回折格子では、基板に対して垂直に入射する光のう
ち、樹脂層の凸部の表面で反射された第1光と、基板と
樹脂層との界面で反射された第2光との間の光路差が、
上記光の波長の1/2に等しくなるように、樹脂層の凸
部の厚みが設定されているので、第1光と第2光とが互
いに打ち消すように干渉して、樹脂層の凸部の表面で反
射される光が大幅に低減される。この回折格子では、従
来の回折格子のように反射防止機能を有する無反射コー
ト不要なので、生産効率を向上でき、低コストで簡単に
製造できる。
【0023】また、請求項2の発明の回折格子の製造方
では、樹脂層を硬化させる第3工程による上記樹脂層の
硬化後の膜厚をd、屈折率nとしたとき、2nd=λ/
2になるように、第1工程で設ける樹脂層の組成と膜厚
を設定することによって、基板に対して垂直に入射する
波長λの光が樹脂層の対向する面の間を往復すると、位
相がπだけずれる。したがって、この樹脂層の表面によ
って反射される光が大幅に低減される。この製造方法で
は、従来の製造方法のように反射防止機能を有する無反
射コートの蒸着が不要であるので、生産効率が向上し、
コストも減少する。また、無反射コートを蒸着させるた
めのイオンプレーティング法などの高度な技術も要さな
いので、容易に回折格子を製造できる。
では、樹脂層を硬化させる第3工程による上記樹脂層の
硬化後の膜厚をd、屈折率nとしたとき、2nd=λ/
2になるように、第1工程で設ける樹脂層の組成と膜厚
を設定することによって、基板に対して垂直に入射する
波長λの光が樹脂層の対向する面の間を往復すると、位
相がπだけずれる。したがって、この樹脂層の表面によ
って反射される光が大幅に低減される。この製造方法で
は、従来の製造方法のように反射防止機能を有する無反
射コートの蒸着が不要であるので、生産効率が向上し、
コストも減少する。また、無反射コートを蒸着させるた
めのイオンプレーティング法などの高度な技術も要さな
いので、容易に回折格子を製造できる。
【0024】また、請求項3の発明の光ピックアップ
は、表面で反射する光を低減し得る回折格子を備えてい
るので、記録担体が有する情報を、記録担体によって反
射されたコヒーレント光を通して受光素子が正確に検出
することによって、記録担体が有する情報を安定に出力
できる。
は、表面で反射する光を低減し得る回折格子を備えてい
るので、記録担体が有する情報を、記録担体によって反
射されたコヒーレント光を通して受光素子が正確に検出
することによって、記録担体が有する情報を安定に出力
できる。
【図1】 本発明の実施の一形態の回折格子の製造方法
を模式的に説明する図である。
を模式的に説明する図である。
【図2】 上記回折格子を有する光ピックアップの全体
図である。
図である。
【図3】 従来の回折格子を示す図である。
1 樹脂基板、 2,3 フォトポリ
マ層、2a,3a 凸部、 2b,3b
凹部、4,5 スタンパ、 21 半導体
レーザ、22 グレーティング、 23 回折
格子、24 コリメートレンズ、 25 対物レ
ンズ、26 記録担体、 27 受光素
子。
マ層、2a,3a 凸部、 2b,3b
凹部、4,5 スタンパ、 21 半導体
レーザ、22 グレーティング、 23 回折
格子、24 コリメートレンズ、 25 対物レ
ンズ、26 記録担体、 27 受光素
子。
Claims (3)
- 【請求項1】 平坦な基板と、上記基板の少なくとも一
方の面に密着した樹脂層とを備え、上記樹脂層の表面
に、上記基板面に沿って一方向に延びる断面凹凸状のパ
ターンを有し、所定の波長の光を回折させる回折格子に
おいて、 上記基板に対して垂直に入射する光のうち、上記樹脂層
の上記凸部の表面で反射された第1光と、上記基板と上
記樹脂層との界面で反射された第2光との間の光路差が
上記光の波長の2分の1に等しくなるように、上記樹脂
層の上記凸部の厚みが設定されていることを特徴とする
回折格子。 - 【請求項2】 請求項1に記載の回折格子の製造方法で
あって、 平坦な基板の少なくとも一方の面に樹脂層を密着して設
ける第1工程と、上記樹脂層の表面に、スタンパを用い
て、上記基板面に沿って一方向に延びる断面凹凸状のパ
ターンを形成する第2工程と、上記樹脂層を硬化させる
第3工程とを有する回折格子の製造方法において、 上記第3工程による上記樹脂層の硬化後の膜厚をd、屈
折率をn、上記基板に対して垂直に入射する光の波長を
λとしたとき、 2nd=λ/2 になるように、上記第1工程で設ける上記樹脂層の組成
と膜厚を設定することを特徴とする回折格子の製造方
法。 - 【請求項3】 記録担体の記録面へ向けて所定の波長の
コヒーレント光を発する光源と、 上記光源と上記記録担体との間に設けられ、上記光源が
発した光を上記記録担体へ向けて透過させるとともに上
記記録担体によって反射されたコヒーレント光を回折さ
せる請求項1に記載の回折格子と、 上記回折格子が回折させた光を受けて、上記光に応じて
上記記録面の記録情報を表す電気信号を出力する受光素
子とを有することを特徴とする光ピックアップ。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP11043062A JP2000241616A (ja) | 1999-02-22 | 1999-02-22 | 回折格子およびその製造方法並びに光ピックアップ |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP11043062A JP2000241616A (ja) | 1999-02-22 | 1999-02-22 | 回折格子およびその製造方法並びに光ピックアップ |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2000241616A true JP2000241616A (ja) | 2000-09-08 |
Family
ID=12653388
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP11043062A Pending JP2000241616A (ja) | 1999-02-22 | 1999-02-22 | 回折格子およびその製造方法並びに光ピックアップ |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2000241616A (ja) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2001188115A (ja) * | 1999-12-28 | 2001-07-10 | Fujitsu Ltd | 回折格子マスク |
KR100566054B1 (ko) * | 2003-08-14 | 2006-03-31 | 주식회사 엘지에스 | 광픽업 회절격자 및 그 제조방법 |
KR20210131452A (ko) * | 2015-03-05 | 2021-11-02 | 매직 립, 인코포레이티드 | 가상 및 증강 현실 시스템들 및 컴포넌트들을 위한 개선된 제조 |
US11726241B2 (en) | 2015-01-26 | 2023-08-15 | Magic Leap, Inc. | Manufacturing for virtual and augmented reality systems and components |
-
1999
- 1999-02-22 JP JP11043062A patent/JP2000241616A/ja active Pending
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2001188115A (ja) * | 1999-12-28 | 2001-07-10 | Fujitsu Ltd | 回折格子マスク |
JP4535542B2 (ja) * | 1999-12-28 | 2010-09-01 | 富士通株式会社 | 回折格子マスク |
KR100566054B1 (ko) * | 2003-08-14 | 2006-03-31 | 주식회사 엘지에스 | 광픽업 회절격자 및 그 제조방법 |
US11726241B2 (en) | 2015-01-26 | 2023-08-15 | Magic Leap, Inc. | Manufacturing for virtual and augmented reality systems and components |
KR20210131452A (ko) * | 2015-03-05 | 2021-11-02 | 매직 립, 인코포레이티드 | 가상 및 증강 현실 시스템들 및 컴포넌트들을 위한 개선된 제조 |
KR102500734B1 (ko) * | 2015-03-05 | 2023-02-16 | 매직 립, 인코포레이티드 | 가상 및 증강 현실 시스템들 및 컴포넌트들을 위한 개선된 제조 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20040413 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20040810 |