JPS6267737A - 光学式情報再生装置 - Google Patents
光学式情報再生装置Info
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- JPS6267737A JPS6267737A JP60206472A JP20647285A JPS6267737A JP S6267737 A JPS6267737 A JP S6267737A JP 60206472 A JP60206472 A JP 60206472A JP 20647285 A JP20647285 A JP 20647285A JP S6267737 A JPS6267737 A JP S6267737A
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- diffraction grating
- type diffraction
- grating
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の利用分野〕
本発明は、５スポット方式によるトラッキング誤差信号
検出をおこなう光学式情報再生装置に係り、特に、光学
式情報記録媒体（以下、光ディスクと言う。）上に集光
される光スポットの強度分布の最適化に好適な光分割手
段に関する。
検出をおこなう光学式情報再生装置に係り、特に、光学
式情報記録媒体（以下、光ディスクと言う。）上に集光
される光スポットの強度分布の最適化に好適な光分割手
段に関する。
従来、光ディスクに記録された信号を光学的に再生する
光学式情報再生装置としては、例えば、特開昭５７−２
０５８３３号公報に記載されているような３スポット方
式によるトラッキング誤差信号検出手段を用いた装置が
最も一般的である。
光学式情報再生装置としては、例えば、特開昭５７−２
０５８３３号公報に記載されているような３スポット方
式によるトラッキング誤差信号検出手段を用いた装置が
最も一般的である。
一方、このような光学式情報再生装置では、一般に光デ
イスク上に回折限界まで絞り込まれる再生用光スポット
が理想的に微少なスポットにならず、光スポットの周囲
に開環（リンギング）が発生し、この開環が隣接トラン
クに照射されろために、隣接トラックに記録された信号
もいっしょに再生してしまうクロストークと呼ばれる現
象がおこり、これが再生信号の色うｌ比を劣化させてし
まうという問題がある。このよ５なりロストークを低減
するためには、光スポットの開環の強度を大幅に抑圧し
、再生トラック上に光スポットの光量が集中するように
゛、光スポツト強度分布を最適化する必要がある。
イスク上に回折限界まで絞り込まれる再生用光スポット
が理想的に微少なスポットにならず、光スポットの周囲
に開環（リンギング）が発生し、この開環が隣接トラン
クに照射されろために、隣接トラックに記録された信号
もいっしょに再生してしまうクロストークと呼ばれる現
象がおこり、これが再生信号の色うｌ比を劣化させてし
まうという問題がある。このよ５なりロストークを低減
するためには、光スポットの開環の強度を大幅に抑圧し
、再生トラック上に光スポットの光量が集中するように
゛、光スポツト強度分布を最適化する必要がある。
本発明の目的は、３スポット方式を用いた光学式情報再
生装置において、情報再生用光スポットの開環部分の強
度を抑え、強度分布を最適化することによって再生信号
のクロストークの大幅な低減をおこなうための装置を提
供することにある。
生装置において、情報再生用光スポットの開環部分の強
度を抑え、強度分布を最適化することによって再生信号
のクロストークの大幅な低減をおこなうための装置を提
供することにある。
上記の目的を達成するために、本発明においては、再生
用光スポットを形成する主ビームとトランキング誤差信
号検出用の副ビームを分割する光分割手段として、光ビ
ームの周辺部が入射する部分にのみ位相型回折格子を設
けた変形位相型回折格子を用いる。このような変形位相
型回折格子を透過または反射した主ビームは、周辺部の
光量が、±１次回折光からなる幅ビームに一部分離され
るためにその分だけ強度が低下し、階段状の強度分布を
有するようになる。このような階段状の強度分布をもつ
光ビームを光スポットに絞シ込むと、開環部分の強度を
大幅に低減できるので、クロストークの発生をおさえる
ことができる。
用光スポットを形成する主ビームとトランキング誤差信
号検出用の副ビームを分割する光分割手段として、光ビ
ームの周辺部が入射する部分にのみ位相型回折格子を設
けた変形位相型回折格子を用いる。このような変形位相
型回折格子を透過または反射した主ビームは、周辺部の
光量が、±１次回折光からなる幅ビームに一部分離され
るためにその分だけ強度が低下し、階段状の強度分布を
有するようになる。このような階段状の強度分布をもつ
光ビームを光スポットに絞シ込むと、開環部分の強度を
大幅に低減できるので、クロストークの発生をおさえる
ことができる。
以下、本発明の一実施例を第１図により説明する。第１
図は、本発明の一実施例を用いた光学式情報再生装置の
光学系の一例をしめしたものである。１は、半導体レー
ザ光源、２は半導体レーザ光源１よシ発した光ビーム２
０を再生用の光スポットを形成する一本の主ビーム２１
αとすでに公知の３スポット方式によってトラッキング
誤差信号を検出するための光スポットを形成する２本の
副ビーム２１Ａ、２１ｃに分割するための光分割手段で
あり、本実施例では、本発明で提案する変形位相型回折
格子が用いられている。
図は、本発明の一実施例を用いた光学式情報再生装置の
光学系の一例をしめしたものである。１は、半導体レー
ザ光源、２は半導体レーザ光源１よシ発した光ビーム２
０を再生用の光スポットを形成する一本の主ビーム２１
αとすでに公知の３スポット方式によってトラッキング
誤差信号を検出するための光スポットを形成する２本の
副ビーム２１Ａ、２１ｃに分割するための光分割手段で
あり、本実施例では、本発明で提案する変形位相型回折
格子が用いられている。
尚、この変形回折格子の具体的構成については後述する
。次に、３はハーフプリズム、４はコリメートレンズ、
５は対物レンズ、６ａおよび６ｂは検出用組み合わせレ
ンズ、７は光検出器である。以上の光学系の構成は、光
分割手段２を除いて、従来の３スポット方式を用いた一
般的な光学式情報再生装置の光学系と全く同様である。
。次に、３はハーフプリズム、４はコリメートレンズ、
５は対物レンズ、６ａおよび６ｂは検出用組み合わせレ
ンズ、７は光検出器である。以上の光学系の構成は、光
分割手段２を除いて、従来の３スポット方式を用いた一
般的な光学式情報再生装置の光学系と全く同様である。
なお、１０は情報を記録している光ディスク、２２α、
２２ｂ 、 ２２ｃは、それぞれ前述の主ビーム２１
ａ、副ビーム２１Ａ 、 ２１ｅを対物レンズ５によっ
て、光デイスク１０上に集光した時の再生用光スポット
およびトラッキング誤差信号検出用光スポットである。
２２ｂ 、 ２２ｃは、それぞれ前述の主ビーム２１
ａ、副ビーム２１Ａ 、 ２１ｅを対物レンズ５によっ
て、光デイスク１０上に集光した時の再生用光スポット
およびトラッキング誤差信号検出用光スポットである。
次に、本発明の変形位相型回折格子について説明する。
まず、従来の光学式情報再生装置の光学系について簡単
に述べる。
に述べる。
従来７）３スポット方式を用いた光学式情報再生装置の
光学系は、第１図にしめした光分割手段２として、第２
図（α）の斜視図、第２図（Ａ）の断面図にしめされる
ような、光ビーム２０が入射する面の全面に直線状の凹
凸格子が設けられている通常の位相型回折格子２αが用
いられる。この位相型回折格子２αは、第２図（ｈ）に
しめされるように光ビーム２０の光束全体を回折するこ
とによって、０次透過光からなる主ビーム２１αと、±
１次回折光からなる副ビーム２１Ａ 、 ２１ｃの少な
くとも３本の光ビームを発生する。この主ビーム２１α
、副ビーム２１ｂ、 ’：’、１ｃの光量分布は、光ビ
ーム２０と同一もしくは、相似である。
光学系は、第１図にしめした光分割手段２として、第２
図（α）の斜視図、第２図（Ａ）の断面図にしめされる
ような、光ビーム２０が入射する面の全面に直線状の凹
凸格子が設けられている通常の位相型回折格子２αが用
いられる。この位相型回折格子２αは、第２図（ｈ）に
しめされるように光ビーム２０の光束全体を回折するこ
とによって、０次透過光からなる主ビーム２１αと、±
１次回折光からなる副ビーム２１Ａ 、 ２１ｃの少な
くとも３本の光ビームを発生する。この主ビーム２１α
、副ビーム２１ｂ、 ’：’、１ｃの光量分布は、光ビ
ーム２０と同一もしくは、相似である。
一方、一般に半導体レーザ光源１から発する光ビーム２
０は、第３図（ａ）にしめすように、半値全幅２０°〜
４０°程度の放射角をもったガラス分布状の強度分布を
有している。したがって、位相型回折格子により分割さ
れ、コリメートレンズ４に達する主ビーム２１α、副ビ
ーム２１ｈ、２１Ｃの強度分布も、はぼガウス分布とな
っている。
０は、第３図（ａ）にしめすように、半値全幅２０°〜
４０°程度の放射角をもったガラス分布状の強度分布を
有している。したがって、位相型回折格子により分割さ
れ、コリメートレンズ４に達する主ビーム２１α、副ビ
ーム２１ｈ、２１Ｃの強度分布も、はぼガウス分布とな
っている。
一方、図１にしめずような光学系では、コリメートレン
ズの焦点深度を深くして、コリメート調整を効率よくお
こない、かつレーザの非点隔差の影響を避けるためにコ
リメートレンズのＨＡを小さくおさえている。このため
、対物レンズ５によって、各党スポット２２α、 ２２
ｂ 、 ２２ｃに集光される主ビーム２１αおよび副ビ
ーム２１ｂ。
ズの焦点深度を深くして、コリメート調整を効率よくお
こない、かつレーザの非点隔差の影響を避けるためにコ
リメートレンズのＨＡを小さくおさえている。このため
、対物レンズ５によって、各党スポット２２α、 ２２
ｂ 、 ２２ｃに集光される主ビーム２１αおよび副ビ
ーム２１ｂ。
２１ｃの強度分布は、光軸付近のこぐ限られた領域に限
定され、したがって、第５図（ｈ）の断面図にしめすよ
うな、はぼ台形状の分布となってしまう。そして、この
ような台形状の強度分布をもつ光ビームを集光して形成
された光スポット２２α、 ２２ｂ 、 ２２ｃは、第
３図（ｃ）の断面図にしめすように、光スポットの周囲
に光スポツトピーク強度の数−程度の強度をもつ環状の
明るい部分（開環）２３があられれろ。この開環が再生
信号の劣化をまねくクロストークの原因となる。
定され、したがって、第５図（ｈ）の断面図にしめすよ
うな、はぼ台形状の分布となってしまう。そして、この
ような台形状の強度分布をもつ光ビームを集光して形成
された光スポット２２α、 ２２ｂ 、 ２２ｃは、第
３図（ｃ）の断面図にしめすように、光スポットの周囲
に光スポツトピーク強度の数−程度の強度をもつ環状の
明るい部分（開環）２３があられれろ。この開環が再生
信号の劣化をまねくクロストークの原因となる。
そこで、本発明においては、クロストーク低減の対策と
して、特に再生用の光スポット２２αの開環発生を抑え
るために、第１図の光分割手段２として、従来の位相型
回折格子２αのかわりに、第４図（ａ）および′ｂ）に
しめされるような変形位相型回折格子２ｈを配置した。
して、特に再生用の光スポット２２αの開環発生を抑え
るために、第１図の光分割手段２として、従来の位相型
回折格子２αのかわりに、第４図（ａ）および′ｂ）に
しめされるような変形位相型回折格子２ｈを配置した。
この変形位相型回折格子２ｂは、第４図（ａ）の斜視図
および第４図（ｂ）の断面図に［２めすように、光ビー
ム２０の中心部が入射する円型領域３０ｈには、格子４
０を設けず、領域３０αを透過する光ビーム２０の周辺
の環状部分だけが回折され℃、副ビーム２１ｂ、 ２１
ｃを分離発生するような構成になっている。このような
変形位相型回折格子２ｂを透過した主ビーム２１αは、
格子４０が設けられている領域３０αを透過した周辺部
の光だけが、±１次回折光からなる副ビーム２１Ａ 、
２１ｃに光量の一部を分配してしまうために、例えば
、第５図（α）の断面図にしめずような階段状の強度分
布を有するようになる。この周辺部の強度の低下率は、
格子４０の光学的溝深さに依存する。すなわち、格子４
０に入射する強度を１とすると、０次透過光の強度Ｉｏ
は次式であられされる。
および第４図（ｂ）の断面図に［２めすように、光ビー
ム２０の中心部が入射する円型領域３０ｈには、格子４
０を設けず、領域３０αを透過する光ビーム２０の周辺
の環状部分だけが回折され℃、副ビーム２１ｂ、 ２１
ｃを分離発生するような構成になっている。このような
変形位相型回折格子２ｂを透過した主ビーム２１αは、
格子４０が設けられている領域３０αを透過した周辺部
の光だけが、±１次回折光からなる副ビーム２１Ａ 、
２１ｃに光量の一部を分配してしまうために、例えば
、第５図（α）の断面図にしめずような階段状の強度分
布を有するようになる。この周辺部の強度の低下率は、
格子４０の光学的溝深さに依存する。すなわち、格子４
０に入射する強度を１とすると、０次透過光の強度Ｉｏ
は次式であられされる。
ただし
ここで、
ルは、格子４０の屈折率
λは、光の波長
ｔは、格子Ａｌｌの幾何学的溝深さ
例えば、屈折率１−１５の５ｉ０２で格子４０を作成し
た場合、格子４０の幾何学的溝深さをり２に設定すると
、主ビーム２１ａの周辺部光量は中心部の半分となる。
た場合、格子４０の幾何学的溝深さをり２に設定すると
、主ビーム２１ａの周辺部光量は中心部の半分となる。
次に、変形位相型回折格子２ｈの格子４０が設けられて
いない領域３０ｂには領域３０ｂを透過した光に領域３
０αの格子４０の凸部と凹部を透過した光の位相の略平
均の位相が与えられるような位相補正膜を設けておく。
いない領域３０ｂには領域３０ｂを透過した光に領域３
０αの格子４０の凸部と凹部を透過した光の位相の略平
均の位相が与えられるような位相補正膜を設けておく。
例えば、第４図（ＡＩにしめすように、格子４０を形成
しているのと同一の媒質でその幾何学的膜厚ｔ′が格子
４０の幾何学的溝深さｔの略半分になるような位相補正
膜４１を形成する。
しているのと同一の媒質でその幾何学的膜厚ｔ′が格子
４０の幾何学的溝深さｔの略半分になるような位相補正
膜４１を形成する。
また、第４図（１）にしめすように位相補正膜４１の幾
何学的膜厚ｔ′を格子４０の幾何学的溝深さｔに一致さ
せ、かわりに、格子４０の屈折率ルの略半分の屈折率ｎ
′を有する媒質で位相補正膜４１を形成してもよい。こ
のような位相補正膜は光ビームの一部分のみが位相型回
折格子を透過した場合に生じる波面の不連続性による波
面収差の増加をおさえる働きがある。
何学的膜厚ｔ′を格子４０の幾何学的溝深さｔに一致さ
せ、かわりに、格子４０の屈折率ルの略半分の屈折率ｎ
′を有する媒質で位相補正膜４１を形成してもよい。こ
のような位相補正膜は光ビームの一部分のみが位相型回
折格子を透過した場合に生じる波面の不連続性による波
面収差の増加をおさえる働きがある。
以上のような構成をもつ変形位相型回折格子２ｂは第１
図にしめした光学系の光分割手段２として用いると、主
ビーム２１αは、前述したような階段状の強度分布をも
ち、これを対物レンズ５によって光デイスク１０上に集
光して形成した貴生用光スポット２２αは第５図（ｂ）
の断面図に１７めすように、開環２３の強度が大幅に低
減された強度分布になっている。例えば、対物レンズ５
によって集光される主ビーム２１ｃＬの光束断面に関し
て、その半径の半分より外側の領域にのみ屈折率１．５
．幾何学的溝深さ２／２の格子４０を設けた変形位相型
回折格子２ｈを光分割手段２として用いると、再生用光
スポット２２αの開環の強度は、従来の光スポットの約
半分以下に低減され、クロストークの抑圧に大きな効果
がある。
図にしめした光学系の光分割手段２として用いると、主
ビーム２１αは、前述したような階段状の強度分布をも
ち、これを対物レンズ５によって光デイスク１０上に集
光して形成した貴生用光スポット２２αは第５図（ｂ）
の断面図に１７めすように、開環２３の強度が大幅に低
減された強度分布になっている。例えば、対物レンズ５
によって集光される主ビーム２１ｃＬの光束断面に関し
て、その半径の半分より外側の領域にのみ屈折率１．５
．幾何学的溝深さ２／２の格子４０を設けた変形位相型
回折格子２ｈを光分割手段２として用いると、再生用光
スポット２２αの開環の強度は、従来の光スポットの約
半分以下に低減され、クロストークの抑圧に大きな効果
がある。
なお、以上述べたような変形回折格子２ｂを光分割手段
２として用いると、±１次回折光からなるトラッキング
誤差信号検出用の副ビーム２１ｂ 、 ２１ｃはそれぞ
れ、第６図（α）の断面図にしめすように、主ビーム２
１αとは逆に、中心部分の光量がない輪帯状の強度分布
をもつ。このような光ビーム２１ｂ、 ２１ｃを光デイ
スク１０上に集光すると、その光スポット２２ｂ 、
２２ｃは、第６図（ｈ）の断面図にしめすように、通常
の光スポットに比べて周囲の四環２３の強度が増大して
しまう。しかし、光スボッ） ２２Ａ 、 ２２ｃは信
号再生用ではなく、トラッキング誤差信号検出用の光ス
ポットであフ、四環２３が信号検出感度に及ぼす影響は
極めて少ないので、特に問題はない。
２として用いると、±１次回折光からなるトラッキング
誤差信号検出用の副ビーム２１ｂ 、 ２１ｃはそれぞ
れ、第６図（α）の断面図にしめすように、主ビーム２
１αとは逆に、中心部分の光量がない輪帯状の強度分布
をもつ。このような光ビーム２１ｂ、 ２１ｃを光デイ
スク１０上に集光すると、その光スポット２２ｂ 、
２２ｃは、第６図（ｈ）の断面図にしめすように、通常
の光スポットに比べて周囲の四環２３の強度が増大して
しまう。しかし、光スボッ） ２２Ａ 、 ２２ｃは信
号再生用ではなく、トラッキング誤差信号検出用の光ス
ポットであフ、四環２３が信号検出感度に及ぼす影響は
極めて少ないので、特に問題はない。
また、第４図’ａ）および（ｈ）にしめした実施例では
変形位相型回折格子２ｈの格子を設けていない領域３０
．６は略円型であるが、もちろん第７図（α）の平面図
にしめずような矩型、第７図＋Ａｌの平面図にしめずよ
うな帯状など光ビーム２０の周辺部の光量だけが回折に
よって減少するような形状であれば、どのような形状で
もよく、さらに、格子４０の溝深さｔや格子４０が設け
られている領域３Ｑαが元ビーム２０の光束断面に１．
める割合なども、所望のクロストーク低減量に合わせて
、再生用光スポット２２αの四環の強度減少率が適当な
イ直になるように自由に選択すればよい。
変形位相型回折格子２ｈの格子を設けていない領域３０
．６は略円型であるが、もちろん第７図（α）の平面図
にしめずような矩型、第７図＋Ａｌの平面図にしめずよ
うな帯状など光ビーム２０の周辺部の光量だけが回折に
よって減少するような形状であれば、どのような形状で
もよく、さらに、格子４０の溝深さｔや格子４０が設け
られている領域３Ｑαが元ビーム２０の光束断面に１．
める割合なども、所望のクロストーク低減量に合わせて
、再生用光スポット２２αの四環の強度減少率が適当な
イ直になるように自由に選択すればよい。
なお、５スポット方式を用いた光学式情報再生装置では
、１個の再生用光スポット２２αと２個のトラッキング
誤差信号検出用スポット２２ｂ。
、１個の再生用光スポット２２αと２個のトラッキング
誤差信号検出用スポット２２ｂ。
２２ｃが光デイスク１０上に集光されればよいので光分
割手段２として用いられる本発明の変形位相型回折格子
２ｂは、偶数次の回折光が発生しないように、格子４０
の凸部と凹部の幅を等しく設定するのが一般的であるが
、凸部と凹部の幅を異ならせた格子を用いることも可能
である。このような場合も、前述したように格子４０が
設けられている領域３０αを透過する主ビーム２１αに
与えられる平均位相量と、格子４０が設けられていない
領域５０ｈを透過する主ビーム２１αに与えられる位相
量が略一致するように膜厚を定めた位相補正膜４１を領
域３０Ａに設ければよい。また格子４０を設けていない
領域ｓｏｂに設けられる位相補正膜４１は、これまで述
べてきた実施例のように格子４０と同じ側に設ける以外
に、第８図の断面図にしめずように、格子４０が設けら
れている基板の反対側に設けてもよい。また、前述の山
（２）式より、位相製回折格子を透過する光ビームの強
度減少率を格子４０の光学的溝深さによって自由にかえ
ることができる点を利用して、例えば第９図（α）の断
面図にしめすように、位相型格子の溝深さを異ならせた
複数種類の位相型格子４０を部分的に設けることも可能
である。このような構成の場合、各格子が設けられてい
る基板の反対側にそれぞれ光学的厚さを異ならせた階段
状の位相補正膜４４を設け、各格子を透過する０次光の
光ビームに与えられる平均位相をそろえる必要がある。
割手段２として用いられる本発明の変形位相型回折格子
２ｂは、偶数次の回折光が発生しないように、格子４０
の凸部と凹部の幅を等しく設定するのが一般的であるが
、凸部と凹部の幅を異ならせた格子を用いることも可能
である。このような場合も、前述したように格子４０が
設けられている領域３０αを透過する主ビーム２１αに
与えられる平均位相量と、格子４０が設けられていない
領域５０ｈを透過する主ビーム２１αに与えられる位相
量が略一致するように膜厚を定めた位相補正膜４１を領
域３０Ａに設ければよい。また格子４０を設けていない
領域ｓｏｂに設けられる位相補正膜４１は、これまで述
べてきた実施例のように格子４０と同じ側に設ける以外
に、第８図の断面図にしめずように、格子４０が設けら
れている基板の反対側に設けてもよい。また、前述の山
（２）式より、位相製回折格子を透過する光ビームの強
度減少率を格子４０の光学的溝深さによって自由にかえ
ることができる点を利用して、例えば第９図（α）の断
面図にしめすように、位相型格子の溝深さを異ならせた
複数種類の位相型格子４０を部分的に設けることも可能
である。このような構成の場合、各格子が設けられてい
る基板の反対側にそれぞれ光学的厚さを異ならせた階段
状の位相補正膜４４を設け、各格子を透過する０次光の
光ビームに与えられる平均位相をそろえる必要がある。
このような複数種類の位相型口折格子４０を組み合わせ
た変形位相型回折格子２ｈを光分割手段２として用いる
と、主ビームの強度分布は例えば第９図（ｂ）にしめす
ように、多段階の階段状の分布となり、これによって、
集光された再生用スポットは、周囲の四環の強度が、よ
り抑圧され、クロストークの減少効果をより高めること
ができる。
た変形位相型回折格子２ｈを光分割手段２として用いる
と、主ビームの強度分布は例えば第９図（ｂ）にしめす
ように、多段階の階段状の分布となり、これによって、
集光された再生用スポットは、周囲の四環の強度が、よ
り抑圧され、クロストークの減少効果をより高めること
ができる。
なお、以上述べた実施例は、いずれも変形位相型回折格
子２ｈを透過型に限定していたが、もちろん反射凰の回
折格子を用いても全く同様の原理で同様の効果をもつ変
形位相型回折格子を作成することができる。
子２ｈを透過型に限定していたが、もちろん反射凰の回
折格子を用いても全く同様の原理で同様の効果をもつ変
形位相型回折格子を作成することができる。
次に、本発明の変形位相型回折格子の作成法について述
べる。これまでの実施例で述べた変形位相型回折格子は
、いずれもエツチング、蒸着、スパッタリングなど従来
の位相量回折格子の作成技術を用いて作成することがで
きろ。
べる。これまでの実施例で述べた変形位相型回折格子は
、いずれもエツチング、蒸着、スパッタリングなど従来
の位相量回折格子の作成技術を用いて作成することがで
きろ。
第１０図は、変形位相型回折格子の作成プロセスの一実
施例をしめしたものである。まず第１０図（、）のよう
に、ガラス基板４２に位相補正膜４１作成用のマスク５
０をほぼ密着させる。次に第１０図（６）のように、ス
パッタリングなどでＳ ｃ ０２ などを基板４２上に
付着させて位相補正膜４；を作成する。さらに、第１０
図（ｃｌのように格子４０作成用の第２のマスク５１を
マスク５０と同様基板４２に密着させる。この時、すで
に作成されている位相補正膜４１に対して、格子４ｏが
位置ずれしないようにマスク５１の位置合わせを正確に
おこなう必要がある。最後に位相補正膜４１と同様の要
領でスパッタリングをおこない、格子４０を作成する。
施例をしめしたものである。まず第１０図（、）のよう
に、ガラス基板４２に位相補正膜４１作成用のマスク５
０をほぼ密着させる。次に第１０図（６）のように、ス
パッタリングなどでＳ ｃ ０２ などを基板４２上に
付着させて位相補正膜４；を作成する。さらに、第１０
図（ｃｌのように格子４０作成用の第２のマスク５１を
マスク５０と同様基板４２に密着させる。この時、すで
に作成されている位相補正膜４１に対して、格子４ｏが
位置ずれしないようにマスク５１の位置合わせを正確に
おこなう必要がある。最後に位相補正膜４１と同様の要
領でスパッタリングをおこない、格子４０を作成する。
また、逆に格子４０を先に作成し、次に屈折率層４１を
作成してもよい。なお、このような変形位相型回折格子
を作成する際は、前述したように変形位相型回折格子を
透過または反射する主ビームの周辺部光量が所望の減少
率になるように格子４０の溝深さを制御し、かつ、位相
補正膜４１の膜厚が格子４０の溝深さの略半分になるよ
うに膜厚側脚をおこなう必要があるが、このような技術
も各スパッタリング時間の制御など従来の位相型回折格
子の作成の場合と全く同様の技術で可能である。
作成してもよい。なお、このような変形位相型回折格子
を作成する際は、前述したように変形位相型回折格子を
透過または反射する主ビームの周辺部光量が所望の減少
率になるように格子４０の溝深さを制御し、かつ、位相
補正膜４１の膜厚が格子４０の溝深さの略半分になるよ
うに膜厚側脚をおこなう必要があるが、このような技術
も各スパッタリング時間の制御など従来の位相型回折格
子の作成の場合と全く同様の技術で可能である。
以上述べたように、本発明によれば、３スポット方式を
用いた光学式情報再生装置において部品点数を塔やすこ
となく、再生用光スポットの周囲に発生する四環の強度
をおさえ、光ディスクの記録トラック上に再生用光スポ
ットの光量が集中するように光スポットの強度分布を最
適化できるので、光スポットの四環の影響による再生信
号のクロストーク発生をおさえ、信号の劣化なふせぐ実
用的対策として大きな効果がある。
用いた光学式情報再生装置において部品点数を塔やすこ
となく、再生用光スポットの周囲に発生する四環の強度
をおさえ、光ディスクの記録トラック上に再生用光スポ
ットの光量が集中するように光スポットの強度分布を最
適化できるので、光スポットの四環の影響による再生信
号のクロストーク発生をおさえ、信号の劣化なふせぐ実
用的対策として大きな効果がある。
第１図は、本発明の一実施例を説明するための光学系の
模式図、第２図は、従来の位相型回折格子の斜視図およ
び断面図、第６図は従来の光学系における再生用光スポ
ットの強度分布特性を説明するだめの模式図、第４図は
本発明の変形位相型回折格子の一実施例をしめず斜視図
および断面図、第５図、第６図は本発明の変形位相型回
折格子を用いた場合の再生用光スポットおよびトラッキ
ング誤差信号検出用光スポットの各強度分布特性を説明
するための模式図、第７図、第８図、第９図は、それぞ
れ本発明の他の一実施例を説明するための平面図、断面
図および模式図、第１０図は、本発明の変形位相型回折
格子の作成プロセスの一実施例をしめす模式図である。 １・・・・・−・・・・・・・・・・・・・・半導体レ
ーザ光源２・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・
・光分割手段２α・・・・・・・・・・・・・・・・・
・位相型回折格子２ｈ・・・・・・・・・・・・・・・
・・・変形位相型回折格子１０・・・・・・・・・・・
・・・・・・・光ディスク２０・・・・・曲・・・・聞
・光ビーム２１α・・・・・・・・・・・・・・・主ビ
ーム２１ｂ、２１ｃ・・・・・・トラッキング誤差信号
検出用副ビーム ２２α・・・・・・・・・・・・・・・再生用光スポッ
ト２２ｈ、２２ｃ・・・・・・トラッキング誤差信号検
出用光スポット ４０・・・・・・・・・・・・・・・・・・格子４１・
・・・・・・・・・・・・・・・・・屈折層５０．５１
・・・・・・・・・・・・スパッタリングによる変形位
相型回折格子作成用マスク
模式図、第２図は、従来の位相型回折格子の斜視図およ
び断面図、第６図は従来の光学系における再生用光スポ
ットの強度分布特性を説明するだめの模式図、第４図は
本発明の変形位相型回折格子の一実施例をしめず斜視図
および断面図、第５図、第６図は本発明の変形位相型回
折格子を用いた場合の再生用光スポットおよびトラッキ
ング誤差信号検出用光スポットの各強度分布特性を説明
するための模式図、第７図、第８図、第９図は、それぞ
れ本発明の他の一実施例を説明するための平面図、断面
図および模式図、第１０図は、本発明の変形位相型回折
格子の作成プロセスの一実施例をしめす模式図である。 １・・・・・−・・・・・・・・・・・・・・半導体レ
ーザ光源２・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・
・光分割手段２α・・・・・・・・・・・・・・・・・
・位相型回折格子２ｈ・・・・・・・・・・・・・・・
・・・変形位相型回折格子１０・・・・・・・・・・・
・・・・・・・光ディスク２０・・・・・曲・・・・聞
・光ビーム２１α・・・・・・・・・・・・・・・主ビ
ーム２１ｂ、２１ｃ・・・・・・トラッキング誤差信号
検出用副ビーム ２２α・・・・・・・・・・・・・・・再生用光スポッ
ト２２ｈ、２２ｃ・・・・・・トラッキング誤差信号検
出用光スポット ４０・・・・・・・・・・・・・・・・・・格子４１・
・・・・・・・・・・・・・・・・・屈折層５０．５１
・・・・・・・・・・・・スパッタリングによる変形位
相型回折格子作成用マスク
Claims (1)
- １）レーザ光源と前記レーザ光源を発した光ビームを１
本の主ビームと少なくとも２本の副ビームに分割する光
分割手段と、前記主ビームおよび副ビームを各々独立に
光学式情報記録媒体の記録トラック上に集光し光スポッ
トを形成する集光手段を備えた光学式情報再生装置にお
いて、前記光分割手段として、該光分割手段を透過また
は反射する前記光ビームの外周部分が入射する領域にの
み位相型回折格子が設けられ、前記光ビームの周辺部分
の光だけが、前記位相型回折格子により回折されて、前
記主ビームと前記副ビームに分割されることを特徴とす
る光学式情報再生装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60206472A JPH0687311B2 (ja) | 1985-09-20 | 1985-09-20 | 光学式情報再生装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60206472A JPH0687311B2 (ja) | 1985-09-20 | 1985-09-20 | 光学式情報再生装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6267737A true JPS6267737A (ja) | 1987-03-27 |
| JPH0687311B2 JPH0687311B2 (ja) | 1994-11-02 |
Family
ID=16523940
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60206472A Expired - Lifetime JPH0687311B2 (ja) | 1985-09-20 | 1985-09-20 | 光学式情報再生装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0687311B2 (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS62173637A (ja) * | 1986-01-27 | 1987-07-30 | Sony Corp | 光デイスク装置 |
| US5754512A (en) * | 1995-05-30 | 1998-05-19 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Correction elements to lower light intensity around an optical axis of an optical head with a plurality of focal points |
| US7200076B2 (en) | 2001-11-20 | 2007-04-03 | Nec Corporation | Radial tilt detection optical head apparatus and optical information apparatus |
| US7755991B2 (en) | 2002-05-23 | 2010-07-13 | Nec Corporation | Method for detecting radial tilt of optical recording medium in optical head device, optical head device, and optical information recording/reproducing device |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5922243A (ja) * | 1982-07-29 | 1984-02-04 | Mitsubishi Electric Corp | 光ピツクアツプ |
| JPS59137908A (ja) * | 1983-01-28 | 1984-08-08 | Toshiba Corp | 複合グレ−テイングレンズ |
-
1985
- 1985-09-20 JP JP60206472A patent/JPH0687311B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5922243A (ja) * | 1982-07-29 | 1984-02-04 | Mitsubishi Electric Corp | 光ピツクアツプ |
| JPS59137908A (ja) * | 1983-01-28 | 1984-08-08 | Toshiba Corp | 複合グレ−テイングレンズ |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS62173637A (ja) * | 1986-01-27 | 1987-07-30 | Sony Corp | 光デイスク装置 |
| US5754512A (en) * | 1995-05-30 | 1998-05-19 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Correction elements to lower light intensity around an optical axis of an optical head with a plurality of focal points |
| US5920537A (en) * | 1995-05-30 | 1999-07-06 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Correction element of lower light intensity around an optical axis of an optical head with a plurality of focal points |
| CN1066839C (zh) * | 1995-05-30 | 2001-06-06 | 松下电器产业株式会社 | 光头设备 |
| US7200076B2 (en) | 2001-11-20 | 2007-04-03 | Nec Corporation | Radial tilt detection optical head apparatus and optical information apparatus |
| US7755991B2 (en) | 2002-05-23 | 2010-07-13 | Nec Corporation | Method for detecting radial tilt of optical recording medium in optical head device, optical head device, and optical information recording/reproducing device |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0687311B2 (ja) | 1994-11-02 |
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