JP3043319B2 - 連続メッキ装置 - Google Patents
連続メッキ装置Info
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- JP3043319B2 JP3043319B2 JP10271679A JP27167998A JP3043319B2 JP 3043319 B2 JP3043319 B2 JP 3043319B2 JP 10271679 A JP10271679 A JP 10271679A JP 27167998 A JP27167998 A JP 27167998A JP 3043319 B2 JP3043319 B2 JP 3043319B2
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- plate
- rotating
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D21/00—Processes for servicing or operating cells for electrolytic coating
- C25D21/12—Process control or regulation
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D17/00—Constructional parts, or assemblies thereof, of cells for electrolytic coating
-
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- C25D17/16—Apparatus for electrolytic coating of small objects in bulk
- C25D17/28—Apparatus for electrolytic coating of small objects in bulk with means for moving the objects individually through the apparatus during treatment
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K3/00—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
- H05K3/22—Secondary treatment of printed circuits
- H05K3/24—Reinforcing the conductive pattern
- H05K3/241—Reinforcing the conductive pattern characterised by the electroplating method; means therefor, e.g. baths or apparatus
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、板状の被メッキ物
に連続的にメッキを施す連続メッキ装置に関するもので
あり、トラブル発生に適所で対応できるようにした装置
である。
に連続的にメッキを施す連続メッキ装置に関するもので
あり、トラブル発生に適所で対応できるようにした装置
である。
【０００２】
【従来の技術】本発明者は、さきに板状の被メッキ物を
連続的にメッキ槽中へ供給し、メッキ槽内で連続して効
率よくメッキを行う連続メッキ方式を開発した。図３
は、その連続メッキ装置の一例を示す縦断正面図であっ
て、メッキ槽１内の中央底部近くには紙面垂直方向に延
びるＶ字型断面のレール２が設けられており、このレー
ル２上にプリント基板等の板状の被メッキ物３を鉛直方
向にしてその下端を載せ、陰極に接続されている縦方向
の回転軸４に固着した回転ローラ５で被メッキ物３の両
面を挟持し、回転軸４と共に回転ローラ５を回転するこ
とにより、被メッキ物３をメッキ液６に漬けた状態でレ
ール２上を移動させるようになっている。
連続的にメッキ槽中へ供給し、メッキ槽内で連続して効
率よくメッキを行う連続メッキ方式を開発した。図３
は、その連続メッキ装置の一例を示す縦断正面図であっ
て、メッキ槽１内の中央底部近くには紙面垂直方向に延
びるＶ字型断面のレール２が設けられており、このレー
ル２上にプリント基板等の板状の被メッキ物３を鉛直方
向にしてその下端を載せ、陰極に接続されている縦方向
の回転軸４に固着した回転ローラ５で被メッキ物３の両
面を挟持し、回転軸４と共に回転ローラ５を回転するこ
とにより、被メッキ物３をメッキ液６に漬けた状態でレ
ール２上を移動させるようになっている。
【０００３】メッキ液６中には、陽極７と電流の乱れを
カバーする遮蔽板８とが設けられており、陰極に接続さ
れている回転軸４から回転ローラ５を介してマイナス電
位が印加されている被メッキ物３に電流を流して、被メ
ッキ物３にメッキを施すようになっている。図４は、図
３のＩＶ−ＩＶから見た側面図であって、レール２上に
被メッキ物３を逐次供給することにより、多数の被メッ
キ物３は一定間隔をあけてレール２に沿って送られなが
ら、連続して効率よくメッキが施されることになる。
カバーする遮蔽板８とが設けられており、陰極に接続さ
れている回転軸４から回転ローラ５を介してマイナス電
位が印加されている被メッキ物３に電流を流して、被メ
ッキ物３にメッキを施すようになっている。図４は、図
３のＩＶ−ＩＶから見た側面図であって、レール２上に
被メッキ物３を逐次供給することにより、多数の被メッ
キ物３は一定間隔をあけてレール２に沿って送られなが
ら、連続して効率よくメッキが施されることになる。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】回転ローラ５の回転に
より、レール２に沿って送られる被メッキ物３の送りに
支障が生じて、被メッキ物３間の間隔が極端に狭くなっ
たり、或いは図４に示すように被メッキ物３同士に重な
り９が生じたりすると、メッキに不具合が発生する。特
に被メッキ物３同士に重なり９が生じた場合には、板状
の被メッキ物３が折れたり、反ってしまったりして、破
損品になってしまう。
より、レール２に沿って送られる被メッキ物３の送りに
支障が生じて、被メッキ物３間の間隔が極端に狭くなっ
たり、或いは図４に示すように被メッキ物３同士に重な
り９が生じたりすると、メッキに不具合が発生する。特
に被メッキ物３同士に重なり９が生じた場合には、板状
の被メッキ物３が折れたり、反ってしまったりして、破
損品になってしまう。
【０００５】このような被メッキ物３の送りに起因する
不具合が生じた場合には回転軸４の回転を止め、不具合
が生じた箇所の回転軸４を１本１本外して回転ローラ５
と共に回転軸４を取り除き、不具合の生じた被メッキ物
３の位置を修正したり、損傷した被メッキ物３をレール
２上から除去した後、再び回転ローラ５と共に回転軸４
をレール２の側方に装着していた。
不具合が生じた場合には回転軸４の回転を止め、不具合
が生じた箇所の回転軸４を１本１本外して回転ローラ５
と共に回転軸４を取り除き、不具合の生じた被メッキ物
３の位置を修正したり、損傷した被メッキ物３をレール
２上から除去した後、再び回転ローラ５と共に回転軸４
をレール２の側方に装着していた。
【０００６】この作業は厄介な作業で相当の時間がかか
り、この間にメッキ槽１（図３参照）内にある他の多数
の被メッキ物３は全て不良品になり、経済的損失が大き
く、製品の納期が遅れる等の問題が生ずる恐れがあっ
た。本発明は、このような問題を解決し、レールに沿っ
て送られる被メッキ物の送りに支障が生じた時には、不
具合の生じた被メッキ物を速やかにレール上から除去で
きるようにした連続メッキ装置を提供することを目的と
するものである。
り、この間にメッキ槽１（図３参照）内にある他の多数
の被メッキ物３は全て不良品になり、経済的損失が大き
く、製品の納期が遅れる等の問題が生ずる恐れがあっ
た。本発明は、このような問題を解決し、レールに沿っ
て送られる被メッキ物の送りに支障が生じた時には、不
具合の生じた被メッキ物を速やかにレール上から除去で
きるようにした連続メッキ装置を提供することを目的と
するものである。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明は、メッキ槽内で
水平に設けたレール上に板状の被メッキ物を鉛直方向に
載置し、縦方向の回転軸に固着した回転ローラで前記被
メッキ物を両面から挾持して前記レール上を移動させ、
被メッキ物にメッキを施す連続メッキ装置において、前
記回転軸の複数個を一単位とし、その各単位毎に上側を
被メッキ物から離れる方向に傾斜させ得るようにしたこ
とを特徴とする連続メッキ装置に係るもので、被メッキ
物の送りに支障が生じた箇所の回転軸の上側を被メッキ
物から離れる方向に傾斜させ、回転軸を傾斜させるだけ
で、回転軸を外さずに不具合の生じた被メッキ物を上方
に抜き取ることができ、速やかに回転軸を元の位置に復
元してメッキ作業を再開することが可能になる。回転軸
の複数個を一単位とするには、移送される被メッキ物の
中一番大きなものの寸法よりやや長い間隔を一単位と
し、その間にある回転軸をまとめて傾斜できるようにす
る。又、傾斜の角度は１〜１０°の範囲がよい。
水平に設けたレール上に板状の被メッキ物を鉛直方向に
載置し、縦方向の回転軸に固着した回転ローラで前記被
メッキ物を両面から挾持して前記レール上を移動させ、
被メッキ物にメッキを施す連続メッキ装置において、前
記回転軸の複数個を一単位とし、その各単位毎に上側を
被メッキ物から離れる方向に傾斜させ得るようにしたこ
とを特徴とする連続メッキ装置に係るもので、被メッキ
物の送りに支障が生じた箇所の回転軸の上側を被メッキ
物から離れる方向に傾斜させ、回転軸を傾斜させるだけ
で、回転軸を外さずに不具合の生じた被メッキ物を上方
に抜き取ることができ、速やかに回転軸を元の位置に復
元してメッキ作業を再開することが可能になる。回転軸
の複数個を一単位とするには、移送される被メッキ物の
中一番大きなものの寸法よりやや長い間隔を一単位と
し、その間にある回転軸をまとめて傾斜できるようにす
る。又、傾斜の角度は１〜１０°の範囲がよい。
【０００８】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を、図
に基づいて説明する。図１は、本発明の実施の形態の一
例を示す図２のＩ−Ｉから見た縦断正面図、図２は、図
１のＩＩ−ＩＩから見た平面図であって、図示を省略し
たメッキ槽内の底部近くには、図１の紙面垂直方向に延
びるＶ字型断面のレール２が水平に設けられており、鉛
直方向にしたプリント基板等の板状の被メッキ物３の下
端がレール２上に載せられ、陰極に接続されている縦方
向の回転軸４に固着した回転ローラ５が、図１、図２に
おける被メッキ物３の左側の面に接するようになってい
る。
に基づいて説明する。図１は、本発明の実施の形態の一
例を示す図２のＩ−Ｉから見た縦断正面図、図２は、図
１のＩＩ−ＩＩから見た平面図であって、図示を省略し
たメッキ槽内の底部近くには、図１の紙面垂直方向に延
びるＶ字型断面のレール２が水平に設けられており、鉛
直方向にしたプリント基板等の板状の被メッキ物３の下
端がレール２上に載せられ、陰極に接続されている縦方
向の回転軸４に固着した回転ローラ５が、図１、図２に
おける被メッキ物３の左側の面に接するようになってい
る。
【０００９】図１、図２における被メッキ物３の右側に
は、被メッキ物３を間にして上述の回転軸４と対称的な
位置に縦方向の回転軸１０が配置されていて、回転軸１
０の下端は、図１に示すように凹球面を有する支持台１
１の上に回転自在に支持されており、回転軸１０の上端
側は、支持板１２に回転自在に支持されている。支持板
１２は、図２に示すように複数の回転軸１０の上端を回
転自在に支持していて、支持板１２の両端部には、被メ
ッキ物３の面に対して直交する方向に長い長孔１３が穿
設されている。
は、被メッキ物３を間にして上述の回転軸４と対称的な
位置に縦方向の回転軸１０が配置されていて、回転軸１
０の下端は、図１に示すように凹球面を有する支持台１
１の上に回転自在に支持されており、回転軸１０の上端
側は、支持板１２に回転自在に支持されている。支持板
１２は、図２に示すように複数の回転軸１０の上端を回
転自在に支持していて、支持板１２の両端部には、被メ
ッキ物３の面に対して直交する方向に長い長孔１３が穿
設されている。
【００１０】図１に示すようにメッキ液６の上方にある
支持梁１４の下面には、下側に水平部を有するＬ字型の
保持板１５が固着されていて、上述した支持板１２の両
端部は保持板１５の水平部の上面に載せられている。そ
して支持板１２の長孔１３を通して止ねじ１６が保持板
１５の水平部にねじ込まれている。
支持梁１４の下面には、下側に水平部を有するＬ字型の
保持板１５が固着されていて、上述した支持板１２の両
端部は保持板１５の水平部の上面に載せられている。そ
して支持板１２の長孔１３を通して止ねじ１６が保持板
１５の水平部にねじ込まれている。
【００１１】止ねじ１６を弛めると、支持板１２を長孔
１３に沿って移動することが可能になり、支持板１２を
回転軸４の方に接近する方向に移動して回転軸１０を図
１に実線で示すように鉛直の姿勢にしたり、支持板１２
を回転軸４から離れる方向に移動して回転軸１０を二点
鎖線で示すように上端側が被メッキ物３から離れる方向
に傾斜させたりすることができるようになっている。こ
の際回転軸１０は、凹球面を有する支持台１１を中心と
して傾斜することになるが、通常は、回転軸１０が鉛直
の姿勢を保った状態で止ねじ１６を締め付け、支持板１
２を保持板１５の水平部に固定している。
１３に沿って移動することが可能になり、支持板１２を
回転軸４の方に接近する方向に移動して回転軸１０を図
１に実線で示すように鉛直の姿勢にしたり、支持板１２
を回転軸４から離れる方向に移動して回転軸１０を二点
鎖線で示すように上端側が被メッキ物３から離れる方向
に傾斜させたりすることができるようになっている。こ
の際回転軸１０は、凹球面を有する支持台１１を中心と
して傾斜することになるが、通常は、回転軸１０が鉛直
の姿勢を保った状態で止ねじ１６を締め付け、支持板１
２を保持板１５の水平部に固定している。
【００１２】上述した回転軸１０には、回転軸４に固着
した回転ローラ５に対応する位置に回転ローラ１７が固
着してあって、回転軸１０が鉛直の姿勢を保っている状
態の時には、レール２（図１参照）上に下端を載せた板
状の被メッキ物３の両面を回転ローラ５，１７で挟持
し、被メッキ物３を鉛直に保持するようになっている。
支持板１２の上面には、図１に二点鎖線で示すように適
宜回転駆動装置１８を取付け、回転軸１０が回転軸４と
は反対方向に同一回転数で回転するようにし、回転ロー
ラ５，１７で挟持している被メッキ物３が鉛直の姿勢を
保持してレール２上を移動するようにする。
した回転ローラ５に対応する位置に回転ローラ１７が固
着してあって、回転軸１０が鉛直の姿勢を保っている状
態の時には、レール２（図１参照）上に下端を載せた板
状の被メッキ物３の両面を回転ローラ５，１７で挟持
し、被メッキ物３を鉛直に保持するようになっている。
支持板１２の上面には、図１に二点鎖線で示すように適
宜回転駆動装置１８を取付け、回転軸１０が回転軸４と
は反対方向に同一回転数で回転するようにし、回転ロー
ラ５，１７で挟持している被メッキ物３が鉛直の姿勢を
保持してレール２上を移動するようにする。
【００１３】図２において、被メッキ物３の長さ方向の
寸法は最大５１０ｍｍなので、支持板１２の被メッキ物
３に平行する方向の長さの寸法をそれより長い６００ｍ
ｍ程度とし、この長さの間に１００ｍｍ程度の間隔で５
本の回転軸１０の回転自在に支持し、回転軸４相互の間
隔も同じ間隔にした実施の形態としている。次に、図
１、図２に示す連続メッキ装置の作用を説明する。
寸法は最大５１０ｍｍなので、支持板１２の被メッキ物
３に平行する方向の長さの寸法をそれより長い６００ｍ
ｍ程度とし、この長さの間に１００ｍｍ程度の間隔で５
本の回転軸１０の回転自在に支持し、回転軸４相互の間
隔も同じ間隔にした実施の形態としている。次に、図
１、図２に示す連続メッキ装置の作用を説明する。
【００１４】被メッキ物３の送りに支障が生じ、被メッ
キ物３間の間隔が極端に狭くなったり、或いは被メッキ
物３同士に重なりが生じた場合には、回転軸４，１０の
回転を止め、送りに支障が生じた箇所の上方に位置する
支持板１２の両端部に固定している止ねじ１６を弛め、
支持板１２を長孔１３に沿って被メッキ物３から離れる
方向に移動すると、この支持板１２に上端側を回転自在
に支持されている複数の（図２に示した実施の形態では
５本）の回転軸１０の上端側が、支持板１２と共に被メ
ッキ物３から離れる方向に移動し、図１に二点鎖線で示
すように傾斜する。傾斜角度は約３゜である。
キ物３間の間隔が極端に狭くなったり、或いは被メッキ
物３同士に重なりが生じた場合には、回転軸４，１０の
回転を止め、送りに支障が生じた箇所の上方に位置する
支持板１２の両端部に固定している止ねじ１６を弛め、
支持板１２を長孔１３に沿って被メッキ物３から離れる
方向に移動すると、この支持板１２に上端側を回転自在
に支持されている複数の（図２に示した実施の形態では
５本）の回転軸１０の上端側が、支持板１２と共に被メ
ッキ物３から離れる方向に移動し、図１に二点鎖線で示
すように傾斜する。傾斜角度は約３゜である。
【００１５】これにより、被メッキ物３の両面を挟持し
ていた回転ローラ５，１７の間には、上方が広くなる間
隔が生ずることになる。そこで送りに支障が生じた被メ
ッキ物３の位置を修正するか、或いは重なって損傷した
被メッキ物３を上方に抜き取った後、速やかに支持板１
２を回転軸４の方に接近する方向に移動して回転軸１０
を図１に実線で示すように鉛直の姿勢に戻し、回転軸１
０が鉛直の姿勢を保つ状態で止ねじ１６を締め付け、回
転軸４，１０の回転を開始すると、メッキ作業を再開す
ることができるようになる。
ていた回転ローラ５，１７の間には、上方が広くなる間
隔が生ずることになる。そこで送りに支障が生じた被メ
ッキ物３の位置を修正するか、或いは重なって損傷した
被メッキ物３を上方に抜き取った後、速やかに支持板１
２を回転軸４の方に接近する方向に移動して回転軸１０
を図１に実線で示すように鉛直の姿勢に戻し、回転軸１
０が鉛直の姿勢を保つ状態で止ねじ１６を締め付け、回
転軸４，１０の回転を開始すると、メッキ作業を再開す
ることができるようになる。
【００１６】図示した本発明の実施の形態は一例を示す
もので、これに限定されるものではなく、特許請求の範
囲に記載した事項を逸脱しない範囲で、種々の実施の形
態を採り得ることは勿論である。
もので、これに限定されるものではなく、特許請求の範
囲に記載した事項を逸脱しない範囲で、種々の実施の形
態を採り得ることは勿論である。
【００１７】
【発明の効果】本発明は、連続メッキ装置において被メ
ッキ物の送りに支障が生じた場合に、不具合が生じた箇
所の回転軸を１本１本外す必要がなく、回転軸の上端側
を被メッキ物から離れる方向に移動するだけで不具合の
生じた被メッキ物の位置を修正したり、損傷した被メッ
キ物を上方に抜き取ることが可能になり、その後、速や
かに回転軸を元の位置に復元することができるので、被
メッキ物の送り支障を短時間で簡単に修復することが可
能になり、メッキのトラブルを最小限にすることができ
る効果がある。
ッキ物の送りに支障が生じた場合に、不具合が生じた箇
所の回転軸を１本１本外す必要がなく、回転軸の上端側
を被メッキ物から離れる方向に移動するだけで不具合の
生じた被メッキ物の位置を修正したり、損傷した被メッ
キ物を上方に抜き取ることが可能になり、その後、速や
かに回転軸を元の位置に復元することができるので、被
メッキ物の送り支障を短時間で簡単に修復することが可
能になり、メッキのトラブルを最小限にすることができ
る効果がある。
【図１】本発明の実施の形態の一例を示す図２のＩ−Ｉ
から見た縦断正面図である。
から見た縦断正面図である。
【図２】図１のＩＩ−ＩＩから見た平面図である。
【図３】従来の連続メッキ装置の一例を示す縦断正面図
である。
である。
【図４】図３のＩＶ−ＩＶから見た側面図である。
１ メッキ槽 ２ レール ３ 被メッキ物 ４ 回転軸 ５ 回転ローラ １０ 回転軸 １７ 回転ローラ
Claims (1)
- 【請求項１】 メッキ槽内で水平に設けたレール上に板
状の被メッキ物を鉛直方向に載置し、縦方向の回転軸に
固着した回転ローラで前記被メッキ物を両面から挾持し
て前記レール上を移動させ、被メッキ物にメッキを施す
連続メッキ装置において、前記回転軸の複数個を一単位
とし、その各単位毎に上側を被メッキ物から離れる方向
に傾斜させ得るようにしたことを特徴とする連続メッキ
装置。
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10271679A JP3043319B2 (ja) | 1998-09-25 | 1998-09-25 | 連続メッキ装置 |
| TW087119851A TW466280B (en) | 1998-09-25 | 1998-12-01 | Continuous plating apparatus |
| KR1019980052590A KR100297327B1 (ko) | 1998-09-25 | 1998-12-02 | 연속도금장치 |
| US09/209,573 US6165330A (en) | 1998-09-25 | 1998-12-11 | Continuous plating apparatus |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10271679A JP3043319B2 (ja) | 1998-09-25 | 1998-09-25 | 連続メッキ装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000096296A JP2000096296A (ja) | 2000-04-04 |
| JP3043319B2 true JP3043319B2 (ja) | 2000-05-22 |
Family
ID=17503372
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10271679A Expired - Fee Related JP3043319B2 (ja) | 1998-09-25 | 1998-09-25 | 連続メッキ装置 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US6165330A (ja) |
| JP (1) | JP3043319B2 (ja) |
| KR (1) | KR100297327B1 (ja) |
| TW (1) | TW466280B (ja) |
Families Citing this family (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7204918B2 (en) * | 2003-03-10 | 2007-04-17 | Modular Components National, Inc. | High efficiency plating apparatus and method |
| US20070215457A1 (en) * | 2004-06-01 | 2007-09-20 | Glassman Steven P | Apparatus for electroplating an article |
| US8631235B2 (en) * | 2007-08-08 | 2014-01-14 | Oracle America, Inc. | System and method for storing data using a virtual worm file system |
| TWI460305B (zh) * | 2010-11-30 | 2014-11-11 | Ind Tech Res Inst | 化學水浴法鍍膜設備 |
| CN115094501B (zh) * | 2022-07-28 | 2023-11-10 | 深圳市宏讯制造技术有限公司 | 导向结构及电镀装置 |
Family Cites Families (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4401522A (en) * | 1980-09-29 | 1983-08-30 | Micro-Plate, Inc. | Plating method and apparatus |
| US4402800A (en) * | 1981-10-02 | 1983-09-06 | Ash James J | Apparatus and method of treating tabs of printed circuit boards and the like |
| JPH01180999A (ja) * | 1988-01-13 | 1989-07-18 | Sonitsukusu:Kk | 短冊状ワークの電解処理装置 |
| IT1256443B (it) * | 1992-11-23 | 1995-12-05 | Impianto galvanico a celle elettrolitiche contrapposte con alimentazione in continuo delle superfici da trattare | |
| JP3037179B2 (ja) * | 1997-01-29 | 2000-04-24 | 栄電子工業株式会社 | 自動メッキ装置 |
-
1998
- 1998-09-25 JP JP10271679A patent/JP3043319B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 1998-12-01 TW TW087119851A patent/TW466280B/zh not_active IP Right Cessation
- 1998-12-02 KR KR1019980052590A patent/KR100297327B1/ko not_active IP Right Cessation
- 1998-12-11 US US09/209,573 patent/US6165330A/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| KR100297327B1 (ko) | 2001-10-26 |
| US6165330A (en) | 2000-12-26 |
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