JPS6145169Y2 - - Google Patents

Description

【考案の詳細な説明】 本考案は主にプリント基板の表面のメツキに使
用されるメツキ処理装置に関する。

従来プリント基板等にメツキを施す場合には、
斜視略図である第１図の如く、例えば４枚のプリ
ント基板Ｐを水平なキヤリヤバー１に吊り下げた
ままメツキ槽２やその他の処理槽３に浸けるよう
になつている。５は槽２、３間の隔壁であり、各
槽２、３において４枚の基板Ｐは隔壁５と平行な
同一平面上に並べてある。平面略図である第２図
の如く、メツキ槽２においてアノード６は基板Ｐ
と隔壁５の間に配置される。槽２の長さＬ（隔壁
５、５間の寸法）は700mm程度になつており、他
の槽３の長さL₁は300mm程度の短い値になつてい
る。ところが上記従来の装置では基板Ｐを同一平
面上に並べるので、例えば幅ｌ＝500mmの基板Ｐ
を４枚ずつ収容できる槽２、３では、槽幅W₁が
2700mm程度の大きい値になり、槽２、３の占有ス
ペースが増大するという不具合がある。

本考案は上記従来の不具合を解決するために、
板状ワーク（プリント基板等）の配列状態に改良
を施して槽の縮小を図ろうとするもので、図面に
より説明すると次の通りである。

斜視略図である第３図及び平面略図である第４
図において、１０はメツキ槽、１１（１１ａを含
む）は前処理や後処理を行うための槽、１２は槽
１０、１１の隔壁、１３は隔壁１２と直角な側壁
である。後述するキヤリヤバー１５（第５図）に
吊り下げられた複数のプリント基板Ｐは第４図の
如く隔壁１２と平行な方向（幅Ｗ方向）に一定間
隔ａを隔てて並置されている。各基板Ｐはメツキ
槽１０内では側壁１３と平行な姿勢にあり、他の
槽１１内では互に平行かつ側壁１３及び隔壁１２
の両方に対して傾斜した姿勢にある。又メツキ槽
１０内においてアノード１５は隣接するプリント
基板Ｐ、Ｐの間及び両端の基板Ｐと側壁１３の間
にそれぞれ基板Ｐと平行に配置してある。

拡大斜視部分図である第５図の如く、キヤリヤ
バー１５は各側壁１３の上縁に着座できる２個１
組のサドル１６と、２組のサドル１６、１６間を
延びるキヤリヤバー本体１７と、各基板Ｐの上縁
に沿つて延びる複数の棒状保持具１９等を備えて
いる。各保持具１９は下方へ突出した１対の弾性
クリツプ２０を両端に備え、１対のクリツプ２０
は基板Ｐ上縁の両端寄りの部分を保持している。
保持具１９は上方へ突出した支軸２１を中間部に
備え、支軸２１は本体１７の垂直孔に回動可能に
支持されると共に、上端が水平レバー２２の一端
に固定されている。レバー２２の他端は垂直ピン
２３を介して共通のレバー２５に回動可能に連結
されている。レバー２５は本体１７と平行に延び
ており、一端にトグル機構２６を備えている。ト
グル機構２６はキヤリヤバー端部のレバー２２ａ
を利用して形成されており、レバー２２ａのピン
２３ａを上方へ延長した部分と本体１７上の垂直
ピン２９との間には引張スプリング２７が設けて
ある。又本体１７にはレバー２２ａ用の１対のス
トツパー３１、３２が固定されている。ピン２３
ａの近傍にはプツシヤー３０又は他の駆動機構が
設けてあり、プツシヤー３０によりピン２３ａを
押して一方のストツパー３１にレバー２２ａを当
接させると、保持具１９や基板Ｐは側壁１３と平
行になる。ピン２３ａを引いて他方のストツパー
３２にレバー２２ａを当接させると、レバー２
５、レバー２２を介して保持具１９は側壁１３や
隔壁１２に対して傾斜した姿勢まで回され、各基
板Ｐも同様の傾斜姿勢になる。プツシヤー３０は
第３図の如くメツキ槽１０の側部上方に設けてあ
る。

第３図の矢印Ｆの如く複数の基板Ｐはキヤリヤ
バー１５（第５図）に取り付けられたまま搬送ロ
ボツト（図示せず）により槽１０、１１へ順々に
浸けられる。その場合にメツキ槽１０の手前の槽
１１ａまでは傾斜姿勢で基板Ｐが浸けられるが、
槽１１ａから引き上げられて槽１０の上方に達し
た時に、プツシヤー３０が作動して基板Ｐを側壁
１３と平行な姿勢に変え、その平行姿勢のまま基
板Ｐはメツキ槽１０に浸けられる。次にメツキ槽
１０から基板Ｐが引き上げられると、再度プツシ
ヤー３０が作動して基板Ｐを傾斜姿勢に変え、そ
の傾斜姿勢のまま基板Ｐは後続の槽１１に浸けら
れる。なお矢印ｆは基板Ｐの水平搬送方向であ
る。

次に槽１０，１１の具体的な寸法例を説明す
る。平面略図である第６図において、幅ｌ＝500
mmの基板Ｐが11枚ずつ槽１０、１１に浸けてあ
る。基板Ｐ、Ｐ間の間隔ａはアノード１５（１枚
のみ図示）を配置するために100mmに設定されて
いる。槽１１において隔壁１２に対する各基板Ｐ
の傾斜角Ｄは30゜になつている。この配置状態に
よると槽１１内の基板群の幅W′は100mm×10＋
500mm×cos30゜≒1289mmとなり、長さｌは500mm
×sin30゜＝250mmとなる。又槽１０内の基板群の
幅は100mm×10＝1000mm、長さは500mmとなる。従
つて上記基板群を余裕をもつて収容するために、
槽１０、１１の幅Ｗは1433〜1600mmに設定され、
槽１０、１１の長さＬ、L₁はそれぞれ700mm、
300mmに設定されている。上記寸法と第２図の従
来寸法とを比較すると、基板枚数は本考案の方が
１1/4倍も多いにもかかわらず幅は約半分又は2/3
以下に減少しており、長さは同一である。

以上説明したように本考案は次のように構成さ
れている。

即ち本考案は、処理槽１１の上方にその幅方向
に延びる治具本体（キヤリヤバー１５）を設け、
治具本体１５の長手方向に間隔を隔てた複数個所
に保持具１９を垂直軸を中心にして回動自在に設
け、各保持具１９に板状ワーク（プリント基板
Ｐ）を垂直なかつ互いに平行な姿勢で保持する保
持部（クリツプ２０）を設け、各保持具２０にレ
バー式の位置決め駆動機構（レバー２２等）を連
結し、上記位置決め駆動機構２２により上記垂直
軸を中心にして保持具１９を直角姿勢と傾斜姿勢
との間で回動させるように、上記直角姿勢におい
て、ワークが上記幅方向に対して概ね直角にな
り、上記傾斜姿勢において、ワークが上記幅方向
に対して傾斜するようにしたことを特徴としてい
る。

上記構成によると、垂直な複数の基板Ｐ（ワー
ク）を処理槽幅方向（隔壁１２と平行な方向）に
並置し、かつ互に間隔を隔てて対向させたので、
槽１０、１１の幅Ｗを減少させて槽１０、１１の
小形化を図ることができる。換言すれば同一容量
の槽に従来よりも多数の基板Ｐを浸けることがで
きるので、処理能力を高めることができる。

更に上記構成によると、第６図の如く、垂直姿
勢では隣接するプリント基板Ｐ、Ｐの間の隙間の
幅（プリント基板Ｐと直角な方向の距離）を広く
設定し、プリント基板Ｐ、Ｐの間にアノード１５
等を容易に位置させることができる。又傾斜姿勢
では、各プリント基板Ｐを傾斜させてプリント基
板全体の前後方向長さ（l1：第６図）を小さく
し、所要の処理槽容量を特に小さく設定できる。

なお以上の説明ではメツキ槽１０に浸ける場合
にだけ基板Ｐを側壁１３と平行にして基板Ｐ、Ｐ
間の隙間３５を広げるように記載したが、実際の
処理において一部の工程ではメツキ液ノズル等を
基板Ｐの近傍に配置する必要があり、その場合に
も基板Ｐを側壁１３と平行にして隙間３５にノズ
ルを設置する。

本考案を具体化する場合、メツキ槽１０におい
ても基板Ｐを傾斜させることができる。第５図の
キヤリヤバー１５に代えて別構造のキヤリヤバー
又は治具を採用することもできる。図示のキヤリ
ヤバー１５のように基板傾斜角を調整できる場
合、調整用のプツシヤー３０又は他の駆動装置を
側壁１３の近傍に配置し、側壁１３にキヤリヤバ
ー１５が着座した状態においてレバー２５等を動
かすようにすることもできる。

電解処理に比較的長時間を要求される場合は、
装置全体の処理能力を高めるために、平面略図で
ある第７図の如く、基板搬送方向ｆ（水平方向）
に沿つて複数のメツキ槽１０ａ、１０ｂ、１０
ｃ、１０ｄを並置し、前処理槽１１ａから送られ
てきた１群の基板Ｐがいずれか１個のメツキ槽
（例えば１１ｂ）に浸けられた後、後続の槽１１
へ送られるようにすることもできる。

又メツキ槽１０ａ〜１０ｄ間の隔壁１２′を廃
止して第８図の如く広い（搬送方向ｆに長い）メ
ツキ槽１０′を形成し、前処理槽１１ａから送ら
れてきた基板Ｐ群が最初にメツキ槽上流部１０Ａ
に浸けられた後、メツキ液に浸かつたまま（メツ
キ処理を受けながら）下流へ搬送され、メツキ槽
下流部１０Ｄにおいて上方へ引き上げられるよう
にすることもできる。

【図面の簡単な説明】

第１図、第２図は従来例の斜視略図と平面略
図、第３図、第４図は本考案実施例の斜視略図と
平面略図、第５図はキヤリヤバーの斜視略図、第
６図は平面略図、第７図、第８図はそれぞれ別の
実施例の平面略図である。１０、１１……槽、Ｐ
……プリント基板（ワーク）。

Claims (1)

【実用新案登録請求の範囲】
1. 複数の処理槽に板状ワークを順々に漬けるよう
   にしたメツキ処理装置において、処理槽の上方に
   その幅方向に延びる治具本体を設け、治具本体の
   長手方向に間隔を隔てた複数個所に保持具を垂直
   軸を中心にして回動自在に設け、各保持具に板状
   ワークを垂直なかつ互いに平行な姿勢で保持する
   保持部を設け、各保持具にレバー式の位置決め駆
   動機構を連結し、上記位置決め駆動機構により上
   記垂直軸を中心にして保持具を直角姿勢と傾斜姿
   勢との間で回動させるようにし、上記直角姿勢に
   おいて、ワークが上記幅方向に対して概ね直角に
   なり、上記傾斜姿勢において、ワークが上記幅方
   向に対して傾斜するようにしたことを特徴とする
   メツキ処理装置。