JP3042783B2 - ラジアルピストン機械 - Google Patents

ラジアルピストン機械

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JP3042783B2
JP3042783B2 JP63190515A JP19051588A JP3042783B2 JP 3042783 B2 JP3042783 B2 JP 3042783B2 JP 63190515 A JP63190515 A JP 63190515A JP 19051588 A JP19051588 A JP 19051588A JP 3042783 B2 JP3042783 B2 JP 3042783B2
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マンネスマン・レックスロート・ゲーエムベーハー
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    • F04POSITIVE - DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS; PUMPS FOR LIQUIDS OR ELASTIC FLUIDS
    • F04CROTARY-PISTON, OR OSCILLATING-PISTON, POSITIVE-DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS; ROTARY-PISTON, OR OSCILLATING-PISTON, POSITIVE-DISPLACEMENT PUMPS
    • F04C14/00Control of, monitoring of, or safety arrangements for, machines, pumps or pumping installations
    • F04C14/18Control of, monitoring of, or safety arrangements for, machines, pumps or pumping installations characterised by varying the volume of the working chamber
    • F04C14/22Control of, monitoring of, or safety arrangements for, machines, pumps or pumping installations characterised by varying the volume of the working chamber by changing the eccentricity between cooperating members
    • F04C14/223Control of, monitoring of, or safety arrangements for, machines, pumps or pumping installations characterised by varying the volume of the working chamber by changing the eccentricity between cooperating members using a movable cam

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Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明は、ラジアルピストン機械、特にベーン型の機
械に関する。更に詳細には、本発明は、ラジアルピスト
ンポンプに係り、特にベーン型ポンプに関する。
[従来技術] ラジアルピストン機械については、種々の形態のもの
が知られている。一般的に言って、ラジアルピストン機
械は、ハウジングと、ピストン手段と、カムリングとを
有しており、これらによって圧力室を形成する。通常、
カムリングは、高さ調整手段即ちレベル調整手段、制御
手段、及び制御手段に対して直径方向に対向して位置決
めされた側方調整手段の影響下にある。例えば、上記機
械がポンプとして操作されるときは、高さ調整手段によ
って圧縮開始位置が調整され、側方調整手段によって供
給される圧力媒体の量が調整される。制御手段は、液圧
駆動されることができ、液圧制御ポンプが提供される。
液圧の代わりにスプリング手段によって制御することも
できる。このようなポンプはスプリング補償ポンプと称
される。以下の記載は、主にベーン型ポンプの形態のラ
ジアルピストン機械に向けられるが、同様のことは、モ
ータとして働く機械の作動に適用できる。
[発明が解決しようとする課題] 通常、高さ調整手段、制御手段及び側方調整手段は、
接触手段によってカムリングと係合され、このため従来
のラジアルピストン機械の駆動は、大きな摩擦と摩耗を
示していた。
ドイツ特許第3429935号(米国特許第4,780,069号明細
書)は、揺動ピストン手段及びスプリングを有し、カム
リングが、ピストン手段の影響を受ける高さ調整手段の
領域内で固定されるラジアルピストン機械を開示する。
例えば、上記ドイツ特許の第5図には、揺動ピストンが
調整手段内に用いられている。この揺動ピストンは、カ
ムリングに形成された孔に係合しており、この結果ピス
トンとカムリングの間には、いわゆる「孔掘り」摩擦が
生じ、これがポンプのヒステリシス(ポンプの状態の従
前の状態への依存性)に悪い影響を与えていた。ポンプ
のヒステリシスの典型的なものは、流量を零から最大へ
増加する制御における信号に対する流量増加曲線が、流
量を最大から零へ減少させる制御における信号に対する
流量減少曲線と幾分ずれる現象である。更に、カムリン
グが高さ調整ねじの領域内に固定されていたため、第1
にカムリング内に凹部を形成しなければならず、この結
果強度が不足し、また製造コストが高くなっていた。第
2に調整手段の調整ねじとカムリングの間に、摩擦によ
る転動運動が生じ、ポンプのヒステリシスに悪い影響を
与えていた。
本発明は、上記従来技術の問題点を解決することを目
的とする。また本発明は、流体機械、特に、従来技術の
問題点を解決し、ヒステリシスを減らし、従って摩耗を
少なくしたベーン型ポンプを提供することを目的とす
る。
[課題を解決するための手段] 上記目的を達成するために本発明は、ハウジングと、
ハウジング内に位置決めされ、水平方向及び垂直方向に
調整可能なカムリングと、ハウジング内に回転可能に設
けられ、カムリング内に位置されたロータと、ロータと
カムリングとの間に形成された圧力室と、圧力媒体の供
給と排出を行う供給排出手段と、ハウジング内に配置さ
れ、カムリングと係合する第1の接触手段と、圧縮開始
点を変化させるようにカムリングの高さを変化させる高
さ調整手段と、第2の接触手段によってカムリングと係
合する制御手段と、制御手段に対し直径方向に対向して
位置決めされ、第3の接触手段によってカムリングと係
合する側方調整手段とを有するラジアルピストン機械を
提供する。本発明のラジアルピストン機械において、制
御手段と側方調整手段とを結ぶ線は、高さ調整手段がカ
ムリングに力を伝達する操作線に対しほぼ垂直に伸長
し、第1の接触手段は、予め調整された高さに固定され
ると共にカムリングとの接触領域に平らな接触面を備
え、同接触面上でカムリングが自由に回転できるように
され、第2の接触手段は、カムリングとの接触領域に平
らな接触面を備え、同接触面上でカムリングが自由に回
転できるようにされる。第2の接触手段は、ハウジンク
内に揺動可能に設けられ、カムリングの偏心量を変化さ
せるため、カムリングが第1の接触手段上で回転し、且
つその回転中に第2の接触手段を揺動させる。第3の接
触手段は、カムリングとの接触領域に平らな接触面を備
え、カムリングの偏心量を変化させるため、カムリング
が第3の接触手段上で回転し、且つその回転中に側方調
整手段を揺動させる。
[作用] 本発明のラジアルピストン機械において、制御手段と
側方調整手段とを結ぶ線は、高さ調整手段がカムリング
に力を伝達する操作線に対しほぼ垂直に伸長する。制御
手段に具備される第2接触手段の平らな接触面と側方調
整手段に具備される第3接触手段の平らな接触面とがそ
れぞれカムリングの外周面の水平方向の両側においてカ
ムリングに接触し、カムリングの水平方向の位置を決定
する。次に高さ調整手段が移動され調整手段に具備され
た第1の接触手段の平らな接触面がカムリングの外周面
に接触され、カムリングの高さ方向の位置を決定する。
高さ調整手段が移動されるとき、制御手段の第2接触手
段と側方調整手段の第3接触手段がそれぞれハウジング
に揺動可能に取り付けられている故に、高さ調整手段に
よるカムリングの高さ方向の移動に伴って、第2接触手
段の平らな接触面と第3接触手段の平らな接触面がカム
リングと共に高さ方向に移動される。
即ち、本発明において、制御手段と側方調整手段と
は、ほぼ剛体であるカムリングに対し、ほぼ水平方向に
互いに反対側から力を加えカムリングを移動させるの
で、それらの移動量は、ほぼ同一である。制御手段と側
方調整手段とは、好ましくは流体圧又はばねにより、カ
ムリングを押圧する力を加えられる。また、制御手段と
側方調整手段とは、それらのカムリングに対する接触面
が平面により構成され、それら接触面は、カムリングの
水平方向両側から押圧力を作用するので、カムリングの
中心は、制御手段と側方調整手段とを結ぶ操作線上にあ
るように付勢される。これに対し高さ調整手段は、制御
手段と側方調整手段による付勢力に抗して、ほぼ独立的
にカムリングの高さを調整可能である。高さ調整手段に
よりカムリングが高さ方向に移動されるとき、制御手段
と側方調整手段とは、揺動することにより、カムリング
の高さ方向の移動を可能にする。
本発明において、カムリングを直径方向の対向位置に
おいて押圧する制限手段及び側方調整手段、並びに制御
手段と側方調整手段とを結ぶ操作線に直角方向にカムリ
ングを押圧する高さ調整手段は、前記米国特許第4,780,
069号明細書の図3のピストン3、ばね手段2、ロッキ
ング手段6とほぼ同様に作動されて、カムリングの位置
を調整することができる。
[実施例] 以下、図面を参照して本発明の実施例について説明す
る。第1図には本発明の第1実施例に係るベーン型ポン
プが示されている。このベーン型ポンプはハウジング2
を有しており、このハウジング2内には周知のカムリン
グ3が位置決めされている。カムリング3内にはロータ
4がロータシャフト5の上に位置決めされており、ロー
タシャフト5はベーン型ポンプの長手方向軸線6の回り
に回転する。第1図には回転方向が矢印7によって示さ
れている。ロータ4は、複数のベーン8を支持してお
り、ベーン8はカムリング3の内周面9と係舎し、これ
によって圧力室が形成されている。カムリング3の外周
面10は高さ調整手段12、制御手段13及び側方調整手段14
によって位置決めされている。
上述した長手方向軸線6に加えて横軸17及び垂直ポン
プ軸18が存在する。カムリング3の垂直軸線は符号19に
よって示されている。第1図においてはカムリング3は
最も偏心した状態にあり、この結果ポンプの垂直ポンプ
軸18はカムリング3の垂直軸19に対して僅かな距離15だ
け変位している。
次の説明に移る前に、図1の実施例においては、本発
明がベーン型ポンプとして記載されているが、本発明は
一般にラジアルピストン機械に関するものであることに
留意して欲しい。
高さ調整手段12は、高さ調整ねじ20を有しており、こ
の高さ調整ねじ20はハウジング2内にねじ込まれてカム
リング3と係台している。高さ調整ねじ20は、固定ナッ
ト21によって任意の高さ位置に固定される。更に高さ調
整ねじ20は、接触手段22を有しており、この接触手段22
は、接触面23を有している。本発明においては接触面23
は、平面形をなしている。接触面23は、ポンプの機軸17
に対して平行に延びている。カムリング3は、高さ調整
ねじ20によって固定されない。
制御手段13は、ハウジング2の孔28及びハウジング2
に固定された部材29の孔31内に回転可能に位置決めされ
たピストン(揺動ピストン)25を有している。揺動ピス
トン25は、接触手段26を有し、接触手段26は、カムリン
グ3と接触する接触面27を有している。接触面27は、平
面形をなし、この結果カムリング3は、基本的に接触面
27上で回転することができる。ねじ30は部材29をハウジ
ング2に取り付けるために用いられる。
孔31は、圧力媒体室32を形成し、圧力媒体室32には制
御装置(供給部材)35によって圧力媒体が供給される。
圧力媒体の供給は、詳細には部材29の供給部材35内に位
置決めされた圧力調整手段33によって行われる。揺動ピ
ストン25は、接触面27の反対側にピストンヘッド34を備
え、第1図に示す位置から第2図に示す位置へ揺動され
得る。
調整手段14は、同機に揺動可能なピストン(揺動ピス
トン)36を有しており、揺動ピストン36は、カムリング
3に対向する端部に接触面38を有している。接触面38は
平面形をなし、この結果作動最中にカムリング3は接触
面38上で転勤することができる。接触面38は、揺動ピス
トン36に設けられた接触手段37上に形成されている。揺
動ピストン36は、接触面38とは反対側の端部にピストン
ヘッド39を有しており、さらにこのピストンヘッド39
は、3つの環状の凸条と、同環状の凸条の間に形成され
た2つの溝を有している。2つの溝は、ピストンリング
(シール)43、44を収容する。
揺動ピストン25も、そのピストンヘッド34側の端部に
3つの環状の凸条と、同環状の凸条の間に形成された2
つの溝を有しており、同溝がピストンリング45、46(シ
ール)を収容する。
揺動ピストン36は、ハウジングに形成された孔41内に
配置されており、その頭部は、ハウジング2に固定され
た案内部材47の孔42内に位置している。既に述べたよう
に第1図に示されたカムリング3は最も偏心した状態に
配置されている。揺動ピストン25及び揺動ピストン36の
軸は、例えば横軸17上に位置している。
第2図においてカムリング3は全く偏心していない状
態にある。即ち、揺動ピストン25の軸が横軸17に対して
小さな角度50だけ上方に回転している。一方、揺動ピス
トン36の軸49は、横軸17に対して下方に回転している。
本発明によれば、接触面23、27及び38上でカムリング3
が転動することによって第1図に示す状態から第2図に
示す状態に、また第2図に示す状態から第1図に示す状
態に変位する。この結果ヒステリシスが極端に低くな
る。
第1図に示す実施例においては揺動ピストン25及び揺
動ピストン36は、スプリング手段によって全く付勢され
ていない。しかしながら、揺動ピストン25は図示せぬス
プリング手段によって付勢され、カムリング3に接する
のが望ましい。揺動ピストン25及び揺動ピストン36の双
方は、流体圧力媒体の影響下にあり、同流体圧力媒体
は、周知の方法によって圧力媒体室32及び40に供給され
る。
第3図は、第1図及び第2図の実施例の詳細を示す。
即ち、第3図は、供給部材35を通してどの様にして圧力
媒体室32に圧力媒体が供給されるかを示す。周知の方法
によって円盤51、52が、ロータ4及びカムリング3に接
して設けられており、カバー部材53が、ハウジング2を
閉じ、またカバー部材53は、蓋54によって閉じられてい
る。
第4図は、本発明の第2実施例を示しており、この第
2実施例は、第1図に示す実施例と類似している。第4
図によれば第1図に示す部材29、及び案内部材47がハウ
ジングの一部となっている。即ち、これらは全くの実際
上の目的からハウジング拡張部57、58として形成されて
いる。ハウジング拡張部57、58は、各々蓋59、60によっ
て閉じられている。この第4図において第1図乃至第3
図に示す部分と同一の部分については同一の符号が示さ
れている。
第5図は、揺動ピストン25を示す部分側面図である。
この図から明らかなようにピストンヘッド34は、3つの
環状の凸条61、62、63を有しており、それらの間には溝
64、65が形成されている。溝64、65内にはシールが挿入
されるようになっている。
第6図は、ピストンヘッド34の詳細を示している。揺
動ピストン25の軸48が示されており、また半径66が線
分、詳細には円筒面69を形成している。環状の凸条61が
接触面70を形成しており、この接触面70は、円筒面69に
対して約30゜の小さな角度で傾斜している。これは環状
の凸条63の接触面72も同様である。しかしながらこの接
触面72は、接触面70とは反対側に傾斜している。環状の
凸条62の接触面71は、半径が67の円筒周面をなしてい
る。半径67は、半径66よりも若干大きい。
第7図は、シール、即ち、ピストンリング46を示して
おり、この形式のピストンリング46は、2つの溝44及び
45内に挿入されるようになっている。第8図は、第7図
の側面図であり、第7図はピストンリング46の断面図で
ある。ピストンリング46の中心線が符号76で示されてい
る。ピストンリング46の接触面75は、半径77の円筒面を
なしている。半径77の円弧の中心79は、第7図の中心74
から若干変位している。この結果ハッチングで示した断
面部分は僅かに非対称になっている。
本発明に係るベーン型ポンプ84の第3の実施例が、第
9図に示される。このベーン型ポンプ84は、第1図に示
すベーン型ポンプとは異なる制御手段85及び接触手段86
を有しているが、制御手段85の揺動ピストン87及び側方
調整手段86の揺動ピストン88は、第1図の示す実施例の
揺動ピストンと類似している。揺動ピストン87は、ピス
トンヘッド89を有しており、このピストンヘッド89は、
製造上の理由から単一の環状の凸条91を形成しており、
他のシール手段を有していない。同様に揺動ピストン88
のピストンヘッド90も単一の環状の凸条90を形成してい
る。従ってこの第9図に示す実施例においては第1図に
示す実施例よりも構造が単純になっている。第9図には
示されていないが、スプリング手段を用いて揺動ピスト
ン87又は揺動ピストン88をカムリング3に向かって付勢
することが可能である。
第10図は、本発明の第4実施例に係るベーン型ポンプ
94を示す。このベーン型ポンプ94は、第9図に示すポン
プと類似している。第10図に示す実施例において制御手
段95は、第9図に示す揺動ピストン87と同様の揺動ピス
トン103を有している。更に側方調整手段96には揺動ピ
ストン88と同様の揺動ピストン104が設けられている。
加えて制御手段95は、スプリング装置99を有してお
り、同スプリング装置99がカムリング3に対して揺動ピ
ストン103を付勢している。更にスプリング装置99はス
プリング97を有しており、このスプリング97の一端は部
材29の一方の側面に接し、他端は揺動可能なシール要素
98に接している。また揺動可能なシール要素98は、揺動
ピストン103のピストンヘッドに接している。同様に側
方調整手段96にはスプリング装置100が設けられてお
り、同スプリング装置100は、スプリング101及び揺動可
能なシール要素102を有している。
第11図は、揺動ピストン103を示す側面図であり、こ
の揺動ピストン103は、単一の環状の凸条を有してお
り、この凸条の外周面は、符号106で示されている。第1
2図には、揺動可能なシール要素98の外周面が符号105で
示されている。
以下、第13図及び第14図を用いて第1図乃至第3図に
示す実施例の操作について説明する。以下の説明は、他
の実施例についても適用される。第13図及び第14図に
は、第2図に示す操作状態にあるポンプが示されてい
る。第2図に示す操作状態においてカムリング3は、ロ
ータに対して偏心していない。この状態においてはポン
プによって供給される媒体の圧力は、ゼロである。これ
とは逆に、第1図に示す操作状態においてはカムリング
が最も偏心した状態に配置されており、これによって最
も高い圧力が供給される。カムリングは、第1図と第2
図に示す操作位置を往復する。各操作位置において調整
手段によって調整され、負荷に応じて前述のドイツ特許
第3429935号等に記載された適宜の制御が行われる。
第14図には、各部に働く力の関係を明らかにするため
第13図の内容が誇張して示されている。第13図及び第14
図においてピストンの中心若しくはポールの中心、すな
わち揺動ピストン25の揺動中心が符号110によって示さ
れている。揺動ピストン25は全て実務的な理由からポン
プの長手方向軸6(第3図参照)に直交する平面内にお
いて回転する。
第13図に示す状態においては、ポンプは平衡状態にあ
る。このような状態において各力は次のように考えられ
る。すなわちF1は、総ての内力の合力であり、内力は、
ポンプ内の圧力によって生じる。力F1は、二つの力の要
素FHST及びFIRに分解することができ、力FHSTは、高さ
調整ねじ22による反作用と釣り合う。力FIRは内部応力
と称され、揺動ピストン25からの力−FIRの反作用とし
て生じる。力FIRは二つの力の要素FK及びFTANに分解す
ることができ、FTANは接線方向に生じる力である。
揺動ピストンが任意の位置で平衡状態にある場合には
次の式が成り立つ、 FTAN=FIR×μ ここでμは摩擦係数である。
接線方向力FTANは、横軸17とピストンの長手方向軸48
との間の角度がゼロ以上であるときにリセット状態、即
ち第1図の状態に復元しようとする。角度α=0のとき
は、力FTAN=0であり、揺動ピストン25は、第1図に示
す中心位置にある。
μ×FIRがFTANよりも大きい場合は、転がり摩擦が作
用する。μ×FIRがFTANよりも小さい場合は、滑り摩擦
が生じる。与えられたカムリングの直径に対して、及び
与えられた偏心量に対して、滑り摩擦の比率は、ピスト
ンの長さを適宜調整することによって小さく保つことが
できる。
ピストンの中心110には、負のピストン力−FKが作用
しており、この力−FKは、力の要素FN及び−FPRに分解
することができる。FNは、実際的には、ベアリング111
により代表される滑り案内手段における塵耗に起因す
る。力FPRは、圧力媒体室32内の流体圧力によって生じ
る力である。
第15図は、本発明の第5実施例に係るラジアルピスト
ン機械、即ちベーン型ポンプ120を示す。ベーン型ポン
プ120は、第1図に示すポンプに実質的に同一である
が、このポンプ120においては、流体制御手段13が、ス
プリング補償体121に置き換わっている。スプリング補
償体121は、揺動スプリング体122及び接触手段126を有
している。接触手段126は平板状の接触面127を有してお
り、この接触面127上においてカムリング3が転動す
る。
揺動スプリング体122は、詳細にはスプリング収容要
素123及び124を有しており、これら要素123及び124の間
には揺動スプリング手段が延在している。揺動スプリン
グ手段は、例えば、同軸上に配層された二つのコイルス
プリング138及び139から構成されている。スプリング収
容要素123は、揺動接触板131と、接触シリンダ32と、案
内ピン133を有している。これら要累133、131及び132は
一体化されている。これは接触板128を有するスプリン
グ収容要素124、接触シリンダー29及び案内130について
も同様に一体化されている。案内130は、前記ピン136を
収容するようになっている。
揺動接触板131は、雄ねじピン136における揺動ベアリ
ング手段によって支持される。雄ねじ136は、ねじスリ
ーブ135の雌ねじに螺舎される。ねじスリーブ135は、カ
バー134内に取り付けられており、同カバー134は、ハウ
ジング2に固定されている。固定ナット137が、雄ねじ1
36を固定する。
本発明の設計により、スプリング補償手段121が、揺
動ベアリング140の回りで揺動し、これによって揺動ピ
ストンに対してカムリング3が第15図に示す最も偏心し
た位置から第1図に示す全く偏心していない位置へ移動
する時にカムリング3が接触面127上で転動する。
第16図は、本発明の第6実施例に係るベーン型ポンプ
220を示す。このベーン型ポンプ220は、第15図に示すポ
ンプ120と類似している。ポンプ220は、第15図に示すス
プリング補償手段121とは異なるスプリング補償手段221
を有している。スプリング補償手段221は、同スプリン
グ補償手段221と共に制御手段213を構成する揺動ピスト
ン225上で機能する。スプリング補償手段221は、コイル
スプリング250を有しており、このコイルスプリング250
は、外方向に突出するベアリングピン251、252を有する
二つのスプリング板の間で機能する。ベアリングピン25
1は、第15図に示すベアリングピン136に類似する雄ねじ
236のベアリング面と係合している。揺動ピストン225
は、第10図に示すピストン103と類似し、かつベアリン
グビン225を収容するベアリング孔を形成している。ベ
アリング面255を除き、揺動ピストン225は、第11図に示
すピストン103と同一である。ベアリングピン252を支持
するベアリング板は、揺動ピストン225の揺動点260内で
支持されている。
要約して述べれば、ピストン(例えばピストン25及び
ピストン36)のベアリング面が平面形(フラット)に形
成されており、これによってピストンの製造が簡略化さ
れる。更に高さ調整ねじのベアリング面が平面形に形成
され、これによって更に製造が簡略化される。案内要素
29及び47は、何等の問題なく製造できかつ組み立てるこ
とができる。揺動ピストンを使用することにより、案内
要素29と47との間及び横軸17と長手方向軸6との間の角
度エラーを補償することができる。一般的に言って、本
発明は修理を容易に行うことができる設計になってい
る。
本発明に係る機械の操作中には、カムリングと制御ピ
ストンの間、カムリングと調整ピストンとの間、及びカ
ムリングと高さ調整手段との間に実質的に転動運動だけ
が生じる。滑り摩擦の代わりに転がり摩擦が生じること
によりポンプのヒステリシスが少なくなる。摩擦はほと
んどカムリング3と円盤51、52(第3図参照)との間で
生じる。
前述した実施例において揺動ピストンは、カムリング
が最も偏心した位置から全く偏心していない位置へ移動
する間、揺動する。すなわち揺動ピストンは、カムリン
グの転動運動によって揺動する。また本発明においては
カムリングが最も偏心した位置にあるときに揺動ピスト
ンが揺動位置にあるように、全く逆に構成することもで
きる。そしてカムリングが全く偏心していない位置に移
動するときには揺動ピストンは非揺動位置にある。本発
明に係る揺動ピストンは、圧力の増加に基づいて、及び
圧力の減少に基づいて制御することもできる。
【図面の簡単な説明】
第1図は、本発明に係るベーン型ポンプにおいてカムリ
ングが最も偏心した状態にある第3図の線1−1に沿う
断面図。 第2図は、カムリングが全く偏心していない状態にある
第1図と同様の断面図。 第3図は、第1図の線3−3に沿う断面図。 第4図は、本発明の第2実施例を示す第3図と同様の断
面図。 第5図は、第1図に示された実施例に用いられる揺動ピ
ストンの部分図。 第6図は、第5図の詳細図。 第7図は、第1図に示された機械に用いられるシールリ
ングの断面図。 第8図は、第7図に示すシールリングの側面図。 第9図は、本発明の第3実施例を示す第1図と同様の断
面図。 第10図は、第9図に示す実施例と類似の本発明の第4実
施例を示す断面図。 第11図は、第10図に示す実施例に用いられる揺動ピスト
ンを示す側面図。 第12図は、第10図に示す実施例に用いられる揺動可能な
シール要素を示す側面図。 第13図は、操作説明のため第1図に示すポンプを図解的
に示した部分図。 第14図は、第13図に示すポンプに働く力状態を線図的に
示した図。 第15図は、本発明の第5実施例を第1図と同様に示した
断面図。 第16図は、本発明の第6実施例を第1図と同様に示した
断面図である。 1:ベーン型ポンプ、2:ハウジング、3:カムリング、4:ロ
ータ、5:ロータシャフト、6:長手方向軸、7:矢印、8:ベ
ーン、9:内周面、10:外周面、12:高さ調整手段、13:制
御手段、14:側方調整手段、15:距離、17:横軸、18:垂直
ポンプ軸、19:垂直軸、20:高さ調整ねじ、21:固定ナッ
ト、22:第1の接触手段、23:接触面、25:揺動ピスト
ン、26:第2の接触手段、27:接触面、28:孔、29:ハウジ
ング2に固定された部材、30:ねじ、31:孔、32:圧力媒
体室、33:圧力調整手段、34:ピストンヘッド、35:制御
装置(供給部材)、36:揺動ピストン、37:第3の接触手
段、38:接触面、39:ピストンヘッド、41、42:孔、43、4
4:ピストンリング(シール)、45、46:ピストンリン
グ、47:案内部材、49:軸、50:角度、51、52:円盤、53:
カバー部材、54、59、60:蓋、61、52、63:凸条、64、6
5:溝、70、72:接触面、74、79:中心、84、94:ベーン型
ポンプ、85、95:制御手段、86:接触手段、87、88:揺動
ピストン、89、90:ピストンヘッド、91:凸条、96:側方
調整手段、97、101:スプリング、98:シール要素、99、1
00:スプリング装置、103:揺動ピストン、122:揺動スプ
リング手段、123、124:スプリング収容要素、127:接触
面、138、139:コイルスプリング、213:制御手段、225:
揺動ピストン、250:スプリング、260:揺動中心。
フロントページの続き (72)発明者 ギュンター・フィッシャー ドイツ連邦共和国 8780 ゲミュンゲ ン,レーダーヴェーク 45 (72)発明者 ライナー・クネール ドイツ連邦共和国 8784 ブルグシン, キルシュシュトラーセ 20

Claims (15)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】ハウジング(2)と、 前記ハウジング内に位置決めされ、水平方向及び垂直方
    向に調整可能なカムリング(3)と、 前記ハウジング内に回転可能に設けられ、前記カムリン
    グ内に位置されたロータ(4)と、 前記ロータと前記カムリングとの間に形成された圧力室
    と、 圧力室への流体の供給と圧力室からの流体の排出を行う
    供給排出手段と、 前記ハウジング内に配置され、前記カムリングと係合す
    る第1の接触手段(22)を備え、圧縮開始点を変化させ
    るように前記カムリングの高さを変化させる高さ調整手
    段(12)と、 第2の接触手段(26)によって前記カムリングと係合す
    る制御手段(13、85、95、121、213)と、 前記制御手段に対し直径方向に対向して位置決めされ、
    第3の接触手段(37)によって前記カムリングと係合す
    る側方調整手段(14、86、96)と、を有し、 前記制御手段と前記側方調整手段とを結ぶ線は、前記高
    さ調整手段が前記カムリングに力を伝達する操作線に対
    しほぼ垂直に伸長し、 前記第1の接触手段(22)は、予め調整された高さに固
    定されると共に前記カムリングとの接触領域に平らな接
    触面(23)を備え、同接触面上で前記カムリングが自由
    に回転できるようにされ、 前記第2の接触手段(26)は、前記カムリングとの接触
    領域に平らな接触面(27)を備え、同接触面上で前記カ
    ムリングが自由に回転できるようにされ、前記第2の接
    触手段(26)は、ハウジング内に揺動可能に取付けら
    れ、前記カムリングの偏心量を変化させるため、前記カ
    ムリングが前記第1の接触手段(22)上で回転し、且つ
    その回転中に前記第2の接触手段(26)を揺動させ、第
    3の接触手段(37)は、前記カムリングとの接触領域に
    平らな接触面(38)を備え、前記カムリングの偏心量を
    変化させるため、前記カムリングが前記第3の接触手段
    (37)上で回転し、且つその回転中に前記側方調整手段
    (14)を揺動させることを特徴とするラジアルピストン
    機械。
  2. 【請求項2】前記制御手段(13)は、揺動ピストン(2
    5)を有する請求項1に記載のラジアルピストン機械。
  3. 【請求項3】前記側方調整手段(14)は、揺動ピストン
    (36)を有する請求項1に記載のラジアルピストン機
    械。
  4. 【請求項4】前記第2の接触手段(26)の接触面(27)
    は、前記揺動ピストン(25)の端部に直接形成されてい
    る請求項2に記載のラジアルピストン機械。
  5. 【請求項5】前記第3の接触手段(37)の接触面(38)
    は、前記揺動ピストン(36)の端部に直接形成されてい
    る請求項3に記載のラジアルピストン機械。
  6. 【請求項6】前記揺動ピストン(25)は、前記接触面
    (27)とは反対側の端部(34)において圧力媒体の圧力
    又はスプリングの付勢力を受ける請求項2に記載のラジ
    アルピストン機械。
  7. 【請求項7】前記制御手段は、揺動スプリング手段(12
    2)によって形成されている請求項1に記載のラジアル
    ピストン機械。
  8. 【請求項8】請求項7に記載のラジアルピストン機械で
    あって、前記揺動スプリング手段(122)は、対向して
    配置されスプリングを収容する一対のスプリング収容要
    素(123、124)を有し、これら一対のスプリング収容要
    素の間に1つ又は複数のスプリング(138、139)が配置
    され、且つ前記スプリング収容要素の一方(124)は、
    前記カムリングと係合する平らな接触面(127)を有
    し、前記スプリング収容要素の他方(123)は、前記ハ
    ウジング又は同ハウジングに接続された要素(136)に
    揺動可能に取り付けられているラジアルピストン機械。
  9. 【請求項9】前記一対のスプリング収容要素の間にはコ
    イルスプリング(138、139)が配置されている請求項8
    に記載のラジアルピストン機械。
  10. 【請求項10】前記スプリング収容要素(123、124)の
    間には互いに同軸上に配置された1つ又はそれ以上のコ
    イルスプリング(138、139)が配置されている請求項8
    に記載のラジアルピストン機械。
  11. 【請求項11】前記ハウジングによって支持されている
    一方のスプリング収容要素(124)は、前記スプリング
    要素が付勢されるように調整手段(136)によって支持
    されている請求項8に記載のラジアルピストン機械。
  12. 【請求項12】前記揺動ピストン(25)は、環状の溝
    (64、65)を有し、それらの溝の間に環状の凸条(61、
    62、63)が形成され、同溝内にピストンリングが配置さ
    れている請求項2に記載のラジアルピストン機械。
  13. 【請求項13】請求項12に記載のラジアルピストン機械
    であって、3つの環状の凸条(61、62、63)と2つの環
    状の溝(64、65)が設けられ、且つ両外側の環状の凸条
    (61、63)が前記揺動ピストンの中心軸線に平行な線に
    関して互いに反対方向に或る角度だけ傾斜し、中央の環
    状の凸部(62)は、中高に形成されているラジアルピス
    トン機械。
  14. 【請求項14】請求項1に記載のラジアルピストン機械
    であって、前記制御手段(213)は、揺動ピストン(22
    5)を付勢するスプリング(250)を含み、そのスプリン
    グ(250)は、2枚のスプリング支持板の間に延在し、
    スプリング支持板の一方が前記ハウジングに接触し、他
    方が揺動ピストンに接触し、前記揺動ピストンと接触す
    る前記スプリング支持板は、ほぼ前記揺動ピストンの揺
    動中心(260)の領域内で支持されるラジアルピストン
    機械。
  15. 【請求項15】前記ロータ(4)は、ベーン型ポンプを
    構成するようにベーン(8)を備える請求項1に記載の
    ラジアルピストン機械。
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