JP3041423B1 - 集積化されたマイクロウェルを用いたポリメラ―ゼ連鎖反応装置 - Google Patents

集積化されたマイクロウェルを用いたポリメラ―ゼ連鎖反応装置

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JP3041423B1
JP3041423B1 JP11040811A JP4081199A JP3041423B1 JP 3041423 B1 JP3041423 B1 JP 3041423B1 JP 11040811 A JP11040811 A JP 11040811A JP 4081199 A JP4081199 A JP 4081199A JP 3041423 B1 JP3041423 B1 JP 3041423B1
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栄一 民谷
憲二 横山
裕二 村上
利文 阪口
資隆 森田
秀典 永井
公太郎 井手上
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北陸先端科学技術大学院大学長
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Abstract

【要約】 【課題】 微量のサンプルにより、多数のDNA試料を
一度に増幅して解析を行う事を可能とする、ポリメラー
ゼ連鎖反応の装置を開発する。 【解決手段】 半導体基板上において集積化されたマイ
クロウェルを作製して、当該ウェルの中でポリメラーゼ
連鎖反応を行う。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、半導体基板上にお
いてマイクロウェル集積体を作成して、当該ウェル内で
ポリメラーゼ連鎖反応(PCR)を行うことにより、微
量のサンプルで一度に多数のDNA試料の増幅を行って
解析する事を可能とする装置に関する。
【0002】
【従来の技術】PCR法は分子生物学において最も重要
な手法の一つである。また、PCR法は医療微生物学、
遺伝疾患の臨床診断、抗体をコード化する遺伝子のスク
リーニング及び法医学等、広範な分野における分析に利
用されている。臨床の場においては、より多くの検体を
より迅速に分析できる事が、多種にわたる遺伝子疾患の
診断上望まれる。また遺伝疾患の研究において、遺伝子
系統図を作成するためには多数の人の遺伝情報を解析す
る事が必要であるが、ヒトゲノムに含まれる情報は膨大
であり、効率的な分析方法が必要である。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】しかし、従来のPCR
を行う装置では、10〜100μlのサンプル量が必要
であり、より少量のサンプルで精度良くPCRを行える
装置が必要とされる。また、同時に多数のDNAサンプ
ルの増幅を行って解析する事は困難であるため、多数の
サンプルを一度に処理できる、高密度でかつ小型化され
た装置が必要とされている。
【0004】
【課題を解決するための手段】そこで、セミコンダクタ
ーマイクロファブリケーションの技術を用いることによ
り、シリコンチップの高密度マイクロウェル集積体を作
成した。そのように集積化したマイクロウェルは、当該
ウェル中においてPCRを行うために適した性質を有
し、多数の検体を同時に測定する事が可能となった。P
CRの確認は、蛍光指示薬を用いる事により行った。更
に、水蒸気は通過させるが液体は通過させない膜でマイ
クロウェルを覆う事により,PCR後の生成物が互いに
混合する事がなく、反応後のサンプルの利用を可能とし
た。
【0005】
【実施例】(マイクロウェル集積体の作製方法)30m
mx30mmに切り取った、厚さ500μmのシリコン
ウエハーの表面に、1000℃、8時間のウェット熱酸
化によりSiO2 膜を形成した。この片面にネガ型のフ
ォトレジストをスピンコート(4000rpm、20
秒)により塗布し、フォトマスクを通じて露光した(8
秒)。現像後、余分なレジストを除去し、表面に現れた
酸化膜を1:6のHF/NH4 F溶液中に5分間浸潰し
て除去した。残ったレジストについても除去後、TMA
H(tetramethoxyammmoniumhydroxyrate )溶液中にお
いて80℃、1時間の条件下で、異方性エッチングを行
った。再度1000℃、4時間のウェット熱酸化を行っ
た後、ポジ型のフォトレジストを用いて、先程と同様の
フォトリソグラフを行い、1:6のHF/NH 4 F溶液
で処理することにより、チャンバー内壁以外の酸化膜を
除去した。そのように作製したマイクロウェル集積体の
断面図を図1に示す。マイクロウェル集積体(1)上
に、縦50μm、横50μm、高さ27μmの四角錐の
形状のマイクロウェル(3)を50μmの間隔で作製
し、2cm四方内にシリコンチップ一枚の内にマイクロ
ウェルを4万個配列させた。各ウェルの容積は23pl
であり、通常のPCRの1/20万の容量のウェルが作
製された。マイクロウェル集積体(1)の基盤(2)上
に作製したウェル(3)の内壁(4)は酸化膜(6)で
覆われているために親水性であり、かつ基板表面(5)
は疎水性であるために、当該ウェル(3)はその中にお
いてPCRを行うために適した性質を有している。
【0006】(PCRの条件)Green Fluor
escent Protein(GFP)遺伝子を導入
したプラスミドをテンプレートとして使用し、GFP遺
伝子の増幅を行った。表1に示す組成の溶液を調製して
マイクロウェル内へ注入した後、ガラスプレートにより
すべてのウェルを覆って密封して、サーマルサイクラー
を使用してPCRを行った。熱サイクルの条件は、95
℃、2分のプレヒートの後、94℃、65℃をそれぞれ
1分、40サイクル行うこととした。プライマー及びプ
ローブとして、以下の2種類を使用した。 順方向プライマー:GTGCTGCCATAACCAT
GAGTG 逆方向プライマー:ATCCCCCATGTTGTGC
AAAA プローブ:Fam−CGGCCAACTTACTTCT
GACAACGATCG−Tamra
【0007】
【表1】 PCRにおける溶液の組成 試薬 濃度 GFP 1.35ng/ml 各プライマー 0.5μM TaqManプローブ 0.63μM ウシ血清アルブミン 0.2%w/v dNTP 200μM Tris−HCl(pH8.3) 10mM KCl 50mM MgCl2 5.5mM AmpliTaq Gold 0.025U/μl 滅菌水 −
【0008】(PCRの確認)目的とするDNAの増幅
を、蛍光により指示する方法であるTaqManケミス
トリーにより確認した。蛍光強度は、顕微鏡を通じてC
CDカメラにより観察した。その結果、PCRを行う前
のマイクロウェルの蛍光顕微鏡像(図2)と比較して、
PCRを行った後の蛍光顕微鏡像(図3)において蛍光
強度は増加しており、GFP遺伝子の増幅が確認され
た。PCRを行う前後の蛍光強度の3次元グラフを図4
に示す。
【0009】カバーガラスを除去した時に、キャピラリ
ー効果のためにサンプルが混合されてしまう事を防ぐた
めに、HIPORA膜を用いた。HIPORA膜及びカ
バーガラスを含む、マイクロウェル集積体全体の構造を
図5に示す。HIPORA膜(8)は多くの微小孔を有
しているため、液体の水は通過できないが水蒸気は膜を
通過する。PCRの後にカバーガラス(7)のみ除去す
ると、マイクロウェル集積体(1)はHIPORA膜
(8)のみに覆われて、加熱してPCRサンプルの水分
を蒸発させる事が可能となる。乾燥させるため、キャピ
ラリー効果によりサンプルどうしが混じることなく、P
CR後にHIPORA膜(8)を除去して、サンプルを
利用する事が可能となる。
【0010】
【発明の効果】本発明によるシリコンチップ上に集積化
されたマイクロウェルを用いる事により、微量のサンプ
ルで同時に多数のDNA試料のPCR反応を行う事が可
能となった。
【図面の簡単な説明】
【図1】 マイクロウェル集積体の断面図。
【図2】 PCR前のマイクロウェルの蛍光顕微鏡像。
【図3】 PCR後のマイクロウェルの蛍光顕微鏡像。
【図4】 PCR前後の蛍光強度の三次元グラフ。
【図5】 HIPORA膜及びカバーガラスを含む、マ
イクロウェル集積体全体の構造。
【符号の説明】
1 マイクロウェル集積体、2 マイクロウェル基盤、
3 マイクロウェル、4 マイクロウェル内壁、5 基
板表面、6 酸化膜、7.カバーガラス、8HIPOR
A膜
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 阪口 利文 石川県能美郡辰口町旭台1−50 職員宿 舎D−13号室 (72)発明者 森田 資隆 石川県能美郡辰口町宮竹力−67 (72)発明者 永井 秀典 石川県能美郡辰口町旭台1−8 学生宿 舎3−514号室 (72)発明者 井手上 公太郎 石川県能美郡辰口町旭台1−50 学生宿 舎3−405号室 (56)参考文献 特開 平5−317030(JP,A) Journal of Virolo gical Methods 72 (1998)p.125−135 (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) C12M 1/00 C12Q 1/68 WPI(DIALOG)

Claims (5)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 ポリメラーゼ連鎖反応法を実施するため
    の装置であって、 半導体基板上に、集積化された複数のマイクロウェルか
    らなるマイクロウェル集積体が形成されており、 当該集積体を構成する各マイクロウェル中においてそれ
    ぞれポリメラーゼ連鎖反応を行うように構成されてお
    り、 当該マイクロウェルの内部は酸化膜が設けられて親水性
    になっていて、 前記半導体基板の表面の酸化膜が除去されて疎水性にな
    っている、 事を特徴とする、ポリメラーゼ連鎖反応装置。
  2. 【請求項2】 前記半導体基板のマイクロウェル集積体
    側を覆う膜であって、水蒸気は透過させるが液体は不透
    過性の膜を備えており、この膜によって各マイクロウェ
    ル中の各ポリメラーゼ連鎖反応の生成物の混合を防いで
    いる事を特徴とする、請求項1記載のポリメラーゼ連鎖
    反応装置。
  3. 【請求項3】 請求項1又は請求項2記載の装置を用い
    た、ポリメラーゼ連鎖反応方法。
  4. 【請求項4】 水蒸気は透過させるが液体は不透過性の
    膜によって、前記半導体基板の前記マイクロウェル集積
    体側を覆い、各マイクロウェル中の各ポリメラーゼ連鎖
    反応の生成物を乾燥させて、前記膜を取り除く事を特徴
    とする、請求項3記載のポリメラーゼ連鎖反応方法。
  5. 【請求項5】 前記各マイクロウェル中の前記生成物を
    乾燥させて、次いで蛍光指示薬を滴下し、各マイクロウ
    ェルからの蛍光を検出する事を特徴とする、請求項4記
    載のポリメラーゼ連鎖反応方法。
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