JP3034829B2 - 両面テープキャリアの製造方法 - Google Patents
両面テープキャリアの製造方法Info
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Description
の絶縁フィルムに、搬送および位置決めためのスプロケ
ット孔と半導体チップが入るデバイス孔を有し、その絶
縁フィルムの表裏両面に有する銅などの金属箔にレジス
ト塗布・露光・現像・エッチング剥離を行って所望形状
の配線パターンを形成する両面テープキャリアに関し、
詳しくはその製造方法に関する。
d Array)を外部端子としたパッケージやチップサイズ
パッケージ(Chip Size Package)では、ファインパタ
ーン化し、しかも径が100μm以下の導通孔を多数
(500〜600個/パターン)設けなければならな
い。
ルを用いてあけると、たとえば折れたりして面倒であ
り、また時間がかかることから、ケミカルエッチング法
を用いてあけていた。
テープキャリアでは、レジスト塗布・露光・現像・エッ
チング剥離を行って所望形状のスルホールやブラインド
ピア用の孔を形成し、銅メッキしてから、再びレジスト
塗布・露光・現像・エッチング剥離を繰り返して配線パ
ターンをつくることとなり、工程が長くなる問題があっ
た。
ブラインドピア等の導通孔を有する両面キャリアテープ
の製造方法において、製作工程を短くして製作を容易と
することにある。
載の発明は、たとえば以下の図示実施の形態で説明する
とおり、絶縁フィルム10の表裏両面に有する銅箔13
等の金属箔にレジスト塗布・露光・現像・エッチング剥
離を行って配線パターン25を形成するとともに、その
配線パターン25に、導通位置孔17a・18aを有す
るランド17・18を形成し、次いで、メッキリード線
26の部分を除いて両面にマスク樹脂19を塗布し、そ
の後、導通位置孔17a・18aに向けてレーザ光を照
射して絶縁フィルム10に貫通孔20のような孔をあ
け、それから、ダイレクトプレイチングして該孔内にカ
ーボン21等の導電性物質を付着し、そうして、マスク
樹脂19に付着した導電性物質を除去し、この後、電気
メッキして孔内にメッキ22を施し、両面の配線パター
ン25を電気的に導通してなる、ことを特徴とする。
の両面テープキャリアの製造方法において、たとえば以
下の図1ないし4に示す実施の形態で説明するとおり、
ダイレクトプレイチングして導電性物質を付着してか
ら、マスク樹脂19を除去して導通位置孔17a・18
aまわりの導電性物質を除去してなる、ことを特徴とす
る。
の両面テープキャリアの製造方法において、たとえば以
下の図5に示す実施の形態で説明するとおり、ダイレク
トプレイチングして導電性物質を付着してから、レーザ
光を照射して導通位置孔17a・18aまわりのマスク
樹脂19上の導電性物質を除去してなる、ことを特徴と
する。
明の実施の形態につき説明する。図1ないし4には、こ
の発明による両面テープキャリアの製造方法の一例を示
す。
ように、表面に接着剤11を設け、裏面に接着剤12で
貼り付けて銅箔13を設けた、ポリイミド等の絶縁フィ
ルム10を用いる。
すように、搬送および位置決めのためのスプロケット孔
14と、半導体チップを入れるデバイス孔15をあける
(図6参照)。
に前述の接着剤11を用いて銅箔16をラミネートす
る。これにより、絶縁フィルム10の表裏面に銅箔13
・16を設ける。
裏面にそれぞれ接着剤11・12で貼り付けて銅箔13
・16を設けるが、キャスティング法等を用いて銅箔等
の金属箔を貼り付けるようにしてもよい。
塗布してから、露光・現像・エッチング剥離を行い、銅
箔13・16で配線パターン(後述の図6の符号25)
を形成するとともに、図2(D)に示すように、その配
線パターンに、表裏対応して導通位置孔17a・18a
を有するランド17・18を形成する。
キリード線(後述の図6の符号26)の部分を除いて絶
縁フィルム10の両面にマスク樹脂19を塗布する。マ
スク樹脂19としては、溶剤剥離やアルカリ剥離で除去
できるものを用いる。
炭酸ガスやYAG(第3高調波)やエキシマレーザの直
径70〜80μmのレーザ光を照射し、図3(F)に示
すように、裏側の導通位置孔18aに通ずる貫通孔20
をあける。貫通孔20には、図示するとおり表側から裏
側に向けて漸次細径となる15度程の角度が付く。
は前述した導通位置孔17a・18aの直径は50μm
以上とし、YAGレーザおよびエキシマレーザによると
きは25μm以上とする。導通位置孔17a・18aを
有するランド17・18はこの例では円形につくり、そ
の外径は150μm程度とする。
ボン処理を行い、貫通孔20内の絶縁フィルム10およ
び接着剤11・12、ならびにマスク樹脂19の表面
に、図3(G)に示すように、カーボン21を付着す
る。カーボン処理に代えてパラジウム処理を行い、パラ
ジウムを付着するようにしてもよい。
19を溶解する溶剤に漬け、図4(H)に示すように、
マスク樹脂19をその上のカーボン21とともに除去す
る。貫通孔20のカーボン21のみ残す。
ッキを行い、図4(I)に示すように、貫通孔20のカ
ーボン21上にメッキ22を施し、絶縁フィルム10の
表裏両面の配線パターンを電気的に導通するスルホール
23を形成する。銅箔13・16上にもメッキが付い
て、配線パターンは太くなる。
9を除去したが、マスク樹脂19を除去することなく、
図5(H´)に示すようにエキシマレーザのマスク24
を用いてレーザ光を照射し、導通位置孔17a・18a
まわりのマスク樹脂19をその上のカーボン21ととも
に除去するようにしてもよい。
マスク樹脂19を除去するときは、貫通孔20に表側か
ら裏側に向けて漸次細径となる15度程の角度が付いて
いることから、レーザ光で導通位置孔18aまわりを照
射しても貫通孔20内のカーボン21を除去するおそれ
はない。
ッキを行い、図5(I´)に示すように、貫通孔20の
カーボン21上にメッキ22を施し、表裏の配線パター
ンを導通するスルホール23を形成する。メッキリード
線近辺のカーボン21に追加マスクしてカーボン21上
に電気メッキされないように工夫するか、レーザ照射し
て電気メッキされないように工夫する。
を貫通するスルホール23を形成したが、貫通するもの
に限らず、同様のやり方で貫通しないいわゆるブライン
ドピアを形成してもよい。
つくった両面テープキャリアの表面を示す。図7には、
その一配線パターンを拡大して示す。図中符号25は配
線パターンであり、26はメッキリード線である。図8
には、その両面テープキャリアの裏面を示す。
発明によれば、レーザ光を照射して孔をあけ、その孔内
にメッキを施して絶縁フィルムの表裏を電気的に導通
し、スルホールやブラインドピアなどの導通孔を形成す
るから、レジスト塗布・露光・現像・エッチング剥離を
繰り返して行う必要がなく、工程を短くして製作コスト
の低減を図ることができる。
えて、配線パターンを厚くすることなく、スルホールや
ブラインドピアなどの導通孔のみにメッキを付けること
ができる。
の一例を示すもので、絶縁フィルムの表裏両面に金属箔
を設けるまでの工程図である。
である。
するまでの工程図である。
的に導通するまでの工程図である。
る。
ープキャリアの表面図である。
Claims (3)
- 【請求項1】 絶縁フィルムの表裏両面に有する金属箔
にレジスト塗布・露光・現像・エッチング剥離を行って
配線パターンを形成するとともに、その配線パターン
に、導通位置孔を有するランドを形成し、 次いで、メッキリード線の部分を除いて両面にマスク樹
脂を塗布し、 その後、前記導通位置孔に向けてレーザ光を照射して前
記絶縁フィルムに孔をあけ、 それから、ダイレクトプレイチングして該孔内に導電性
物質を付着し、 そうして、前記マスク樹脂に付着した導電性物質を除去
し、 この後、電気メッキして前記孔内にメッキを施し、両面
の配線パターンを電気的に導通してなる、 両面テープキャリアの製造方法。 - 【請求項2】 前記ダイレクトプレイチングして前記導
電性物質を付着してから、前記マスク樹脂を除去して前
記導通位置孔まわりの前記導電性物質を除去してなる、
請求項1に記載の両面テープキャリアの製造方法。 - 【請求項3】 前記ダイレクトプレイチングして前記導
電性物質を付着してから、レーザ光を照射して前記導通
位置孔まわりの前記マスク樹脂上の前記導電性物質を除
去してなる、請求項1に記載の両面テープキャリアの製
造方法。
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JP9276429A JP3034829B2 (ja) | 1997-09-24 | 1997-09-24 | 両面テープキャリアの製造方法 |
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JP9276429A JP3034829B2 (ja) | 1997-09-24 | 1997-09-24 | 両面テープキャリアの製造方法 |
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JPH1197491A JPH1197491A (ja) | 1999-04-09 |
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Family
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Family Applications (1)
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JP9276429A Expired - Fee Related JP3034829B2 (ja) | 1997-09-24 | 1997-09-24 | 両面テープキャリアの製造方法 |
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1997
- 1997-09-24 JP JP9276429A patent/JP3034829B2/ja not_active Expired - Fee Related
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