JP3030534B2 - 錫系合金めっき浴の再生方法 - Google Patents
錫系合金めっき浴の再生方法Info
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D21/00—Processes for servicing or operating cells for electrolytic coating
- C25D21/16—Regeneration of process solutions
- C25D21/18—Regeneration of process solutions of electrolytes
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Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は一般に錫系合金めっき浴
と称されるめっき浴の再生方法に関する。
と称されるめっき浴の再生方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】錫−鉛合金めっき浴等の錫イオンを必須
成分として含有するめっき浴によるめっきは電気部品端
子やプリント配線基板のはんだ付け性を向上させるのに
有効であるため需要が増大している。
成分として含有するめっき浴によるめっきは電気部品端
子やプリント配線基板のはんだ付け性を向上させるのに
有効であるため需要が増大している。
【０００３】特に最近この用途のためのめっき浴として
アルカンスルホン酸又はアルカノールスルホン酸などを
用いた有機酸浴やほうふっ化水素酸などを用いたほうふ
っ化めっき浴に浴可溶性の錫塩または（および）鉛塩を
加え、さらに界面活性剤等の助剤を適宜添加したものが
多く利用されている。以下、これらの錫イオンを必須成
分として含有するめっき浴を錫系合金めっき浴と称す
る。しかしながらこのめっき浴は数ヶ月連続運転にて操
業されると、次第に浴中の第１錫イオンが、空気中の酸
素と化合したり、電極反応あるいは銅又は鉄イオンの触
媒作用によって第２錫イオンの水和酸化物や水酸化物を
形成する。このような酸化物及び水酸化物は浴中にわず
かしか溶解せず、実際には浴中の不溶性有機物を包含し
た形のスラッジとして徐々に浴中に沈澱する。このよう
なスラッジは操業上、電極反応における錫効率の低下、
コブ状物の析出、めっき浴からのスラッジ処理のための
連続濾過の必要性、更には浴更新頻度の増大等の問題を
発生させる。
アルカンスルホン酸又はアルカノールスルホン酸などを
用いた有機酸浴やほうふっ化水素酸などを用いたほうふ
っ化めっき浴に浴可溶性の錫塩または（および）鉛塩を
加え、さらに界面活性剤等の助剤を適宜添加したものが
多く利用されている。以下、これらの錫イオンを必須成
分として含有するめっき浴を錫系合金めっき浴と称す
る。しかしながらこのめっき浴は数ヶ月連続運転にて操
業されると、次第に浴中の第１錫イオンが、空気中の酸
素と化合したり、電極反応あるいは銅又は鉄イオンの触
媒作用によって第２錫イオンの水和酸化物や水酸化物を
形成する。このような酸化物及び水酸化物は浴中にわず
かしか溶解せず、実際には浴中の不溶性有機物を包含し
た形のスラッジとして徐々に浴中に沈澱する。このよう
なスラッジは操業上、電極反応における錫効率の低下、
コブ状物の析出、めっき浴からのスラッジ処理のための
連続濾過の必要性、更には浴更新頻度の増大等の問題を
発生させる。
【０００４】このためスラッジ発生の抑制を目的として
有機酸などの高濃度化、めっき温浴の低下又は鉄及び銅
イオン濃度の低下あるいは連続濾過による沈澱物の除
去、さらには高分子凝集剤のみによるスラッジ除去等が
実施されてきたがこれらの方法の効果には限界がある。
有機酸などの高濃度化、めっき温浴の低下又は鉄及び銅
イオン濃度の低下あるいは連続濾過による沈澱物の除
去、さらには高分子凝集剤のみによるスラッジ除去等が
実施されてきたがこれらの方法の効果には限界がある。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、上記の問題
点に鑑み、優れた錫系合金めっきを得るための電気めっ
き浴における、スラッジ除去によるめっき液を再生する
方法を提供することを目的とする。
点に鑑み、優れた錫系合金めっきを得るための電気めっ
き浴における、スラッジ除去によるめっき液を再生する
方法を提供することを目的とする。
【０００６】
【課題を解決するための手段】すなわち、本発明は錫イ
オンを必須成分として含有する老化しためっき浴に水溶
性ポリマーからなる凝結剤及び高分子凝集剤をそれぞれ
添加攪拌してスラッジを沈降させ分離することを特徴と
する錫系合金めっき浴の再生方法である。
オンを必須成分として含有する老化しためっき浴に水溶
性ポリマーからなる凝結剤及び高分子凝集剤をそれぞれ
添加攪拌してスラッジを沈降させ分離することを特徴と
する錫系合金めっき浴の再生方法である。
【０００７】以下、本発明について詳しく説明する。
【０００８】本発明で対象とするめっき浴の典型例は錫
系合金有機酸のめっき浴であり、有機酸としては通常ア
ルカンスルホン酸、アルカノールスルホン酸又はフェノ
ールスルホン酸などが用いられる。浴組成の一例を挙げ
ると次のような組成がある。
系合金有機酸のめっき浴であり、有機酸としては通常ア
ルカンスルホン酸、アルカノールスルホン酸又はフェノ
ールスルホン酸などが用いられる。浴組成の一例を挙げ
ると次のような組成がある。
【０００９】メタンスルホン酸第一錫、Ｓｎ２＋として
３０ｇ／ｌメタンスルホン酸鉛、Ｐｂ として１５ｇ／
ｌメタンスルホン酸、遊離酸として１４０ｇ／ｌ
３０ｇ／ｌメタンスルホン酸鉛、Ｐｂ として１５ｇ／
ｌメタンスルホン酸、遊離酸として１４０ｇ／ｌ
【００１０】有機酸以外のめっき浴の例は錫系合金ほう
ふっ化水素酸めっき浴であり、浴組成の一例を挙げると
次のような組成がある。ほうふっ化第一錫、Ｓｎ２＋と
して ２０ｇ／ｌほうふっ化鉛、 Ｐｂ として １
０ｇ／ｌほうふっ化水素酸、遊離酸として１５０ｇ／ｌ
ふっ化水素酸めっき浴であり、浴組成の一例を挙げると
次のような組成がある。ほうふっ化第一錫、Ｓｎ２＋と
して ２０ｇ／ｌほうふっ化鉛、 Ｐｂ として １
０ｇ／ｌほうふっ化水素酸、遊離酸として１５０ｇ／ｌ
【００１１】これらの浴に光沢剤及び必要に応じて安定
剤等の添加剤が適宜加えられる。これらの浴でのスラッ
ジ発生の機構は一般に次のように考えられる。
剤等の添加剤が適宜加えられる。これらの浴でのスラッ
ジ発生の機構は一般に次のように考えられる。
【００１２】 Ｓｎ２＋ ＋ １／２Ｏ２ ＋ ２Ｈ＋ → Ｓｎ４＋ ＋ Ｈ２Ｏ （１）
【００１３】この（１）が主反応でＳｎ２＋の空気酸化
及び陽極酸化が起こる。しかし、更に次のような反応も
考えられる。
及び陽極酸化が起こる。しかし、更に次のような反応も
考えられる。
【００１４】 ２Ｆｅ２＋ ＋ １／２Ｏ２ ＋ ２Ｈ＋ → ２Ｆｅ３＋ ＋ Ｈ２Ｏ（２） ２Ｃｕ＋ ＋ １／２Ｏ２ ＋ ２Ｈ＋ → ２Ｃｕ２＋ ＋ Ｈ２Ｏ （３） Ｓｎ２＋ ＋ ２Ｆｅ３＋ → Ｓｎ４＋ ＋ ２Ｆｅ２＋ （４） Ｓｎ２＋ ＋ ２Ｃｕ２＋ → Ｓｎ４＋ ＋ ２Ｃｕ＋ （５）
【００１５】すなわち、上記（２）及び（３）式に示す
ようにＦｅ２＋およびＣｕ＋は浴中に溶解している酸素
により酸化されＦｅ３＋およびＣｕ２＋となる。このＦ
ｅ３＋およびＣｕ２＋が（４）及び（５）式に示すよう
に浴中において還元されてＦｅ２＋とＣｕ＋となる。こ
のときＳｎ２＋はＳｎ４＋へ酸化されて錫の水和酸化物
又は水酸化物のスラッジが発生するものと考えられる。
ようにＦｅ２＋およびＣｕ＋は浴中に溶解している酸素
により酸化されＦｅ３＋およびＣｕ２＋となる。このＦ
ｅ３＋およびＣｕ２＋が（４）及び（５）式に示すよう
に浴中において還元されてＦｅ２＋とＣｕ＋となる。こ
のときＳｎ２＋はＳｎ４＋へ酸化されて錫の水和酸化物
又は水酸化物のスラッジが発生するものと考えられる。
【００１６】本発明ではこれらの錫系合金めっき浴が老
化しスラッジを発生し有機汚染及び無機汚染が極限に達
し、通常浴の建替をすべき段階において水溶性ポリマー
からなる凝結剤及び高分子凝集剤をそれぞれ添加するこ
とを特徴としている。
化しスラッジを発生し有機汚染及び無機汚染が極限に達
し、通常浴の建替をすべき段階において水溶性ポリマー
からなる凝結剤及び高分子凝集剤をそれぞれ添加するこ
とを特徴としている。
【００１７】凝結剤として用いる水溶性ポリマーとして
はカルボキシメチルセルロース等も用いうるが、低分子
量でアニオン性の水溶性ポリマーが好ましく、具体例と
してはポリ（スチレンスルホン酸アルカリ金属塩）、ス
チレンスルホン酸とアクリル酸、メタクリル酸もしくは
無水マレイン酸との共重合物のアルカリ金属塩、ポリア
クリル酸、その水溶性アルカリ金属塩、ポリメタクリル
酸、その水溶性アルカリ金属塩、アルギン酸アルカリ金
属塩等がある。
はカルボキシメチルセルロース等も用いうるが、低分子
量でアニオン性の水溶性ポリマーが好ましく、具体例と
してはポリ（スチレンスルホン酸アルカリ金属塩）、ス
チレンスルホン酸とアクリル酸、メタクリル酸もしくは
無水マレイン酸との共重合物のアルカリ金属塩、ポリア
クリル酸、その水溶性アルカリ金属塩、ポリメタクリル
酸、その水溶性アルカリ金属塩、アルギン酸アルカリ金
属塩等がある。
【００１８】これら水溶性ポリマーの分子量は通常１，
０００から１，２００，０００の範囲である。より好ま
しい具体例としては、ポリアクリル酸ナトリウム（分子
量１０，０００〜３００，０００）、ポリスチレンスル
ホン酸ナトリウム（分子量１０，０００〜１，２００，
０００）、無水マレイン酸−スチレン共重合体のスルホ
ン化物のナトリウム塩（分子量１，０００〜１０，００
０）、ポリスチレンスルホン化物（分子量１，０００〜
１００，０００）、Ｃ５留分を主成分とするポリカルボ
ン酸のナトリウム塩（分子量５，０００〜１０，００
０）等がある。
０００から１，２００，０００の範囲である。より好ま
しい具体例としては、ポリアクリル酸ナトリウム（分子
量１０，０００〜３００，０００）、ポリスチレンスル
ホン酸ナトリウム（分子量１０，０００〜１，２００，
０００）、無水マレイン酸−スチレン共重合体のスルホ
ン化物のナトリウム塩（分子量１，０００〜１０，００
０）、ポリスチレンスルホン化物（分子量１，０００〜
１００，０００）、Ｃ５留分を主成分とするポリカルボ
ン酸のナトリウム塩（分子量５，０００〜１０，００
０）等がある。
【００１９】これら凝結剤としての水溶性ポリマーはそ
の一部又は全部を高分子凝集剤の添加に先立って添加す
ることが好ましく、通常水溶液の形で添加される。その
添加量は浴中のスラッジ形成性成分の量等に応じ適宜決
定しうるが、通常５０から２，０００ｐｐｍ程度であ
る。
の一部又は全部を高分子凝集剤の添加に先立って添加す
ることが好ましく、通常水溶液の形で添加される。その
添加量は浴中のスラッジ形成性成分の量等に応じ適宜決
定しうるが、通常５０から２，０００ｐｐｍ程度であ
る。
【００２０】これらの水溶性ポリマーの添加、攪拌によ
り、スラッジ成分の表面電位の低下、親水層の破壊等を
通してその凝結を促すことができる。
り、スラッジ成分の表面電位の低下、親水層の破壊等を
通してその凝結を促すことができる。
【００２１】高分子凝集剤としては適宜市販の高分子凝
集剤を用いうるが、特にアニオン性又は非イオン性の高
分子凝集剤が好ましい。具体例としては、アクリルアミ
ドとアクリル酸アルカリ金属塩もしくはメタクリル酸ア
ルカリ金属塩の共重合体またはポリアクリルアミドで分
子量が５００万から１５００万のものがある。より好ま
しい具体例としてはアクリルアミドとアクリル酸ナトリ
ウムの共重合体等がある。またアクリル酸ナトリウムと
異なるアニオン官能基を有するもので一般にはポリアク
リルアミドと総称されているものも好ましく用いられ
る。
集剤を用いうるが、特にアニオン性又は非イオン性の高
分子凝集剤が好ましい。具体例としては、アクリルアミ
ドとアクリル酸アルカリ金属塩もしくはメタクリル酸ア
ルカリ金属塩の共重合体またはポリアクリルアミドで分
子量が５００万から１５００万のものがある。より好ま
しい具体例としてはアクリルアミドとアクリル酸ナトリ
ウムの共重合体等がある。またアクリル酸ナトリウムと
異なるアニオン官能基を有するもので一般にはポリアク
リルアミドと総称されているものも好ましく用いられ
る。
【００２２】これらの高分子凝集剤の添加量は常法に従
って適宜しうるが、通常１から１００ｐｐｍ程度である
高分子凝集剤の添加攪拌により凝結粒子間架橋吸着作用
でフロックが形成され急速に沈降する。沈降後は濾過等
の適宜の手段で固形分を分離する。濾過することなく単
に上澄液を再利用に供することも可能である。
って適宜しうるが、通常１から１００ｐｐｍ程度である
高分子凝集剤の添加攪拌により凝結粒子間架橋吸着作用
でフロックが形成され急速に沈降する。沈降後は濾過等
の適宜の手段で固形分を分離する。濾過することなく単
に上澄液を再利用に供することも可能である。
【００２３】本発明方法により老化した錫系合金めっき
浴からのスラッジの除去が効率的に行うことができる。
凝結剤として用いる水溶性ポリマーは無機塩にみられる
ようにめっき浴中のイオン量を増加させたり水酸化ゲル
を生成することはなく、そのためスラッジ量は本質的に
増加させずにその分離と浴の再利用を行うことができ
る。また水溶性ポリマーは分散剤としての機能も有して
おり、再利用時のめっき浴の清澄性をより長期間保持す
るという効果も有している。
浴からのスラッジの除去が効率的に行うことができる。
凝結剤として用いる水溶性ポリマーは無機塩にみられる
ようにめっき浴中のイオン量を増加させたり水酸化ゲル
を生成することはなく、そのためスラッジ量は本質的に
増加させずにその分離と浴の再利用を行うことができ
る。また水溶性ポリマーは分散剤としての機能も有して
おり、再利用時のめっき浴の清澄性をより長期間保持す
るという効果も有している。
【００２４】
実施例１：建浴後約９ヶ月経過した光沢はんだメタンス
ルホン酸浴（Ｓｎ／Ｐｂ＝６０／４０）は褐色懸濁状態
で、めっき浴組成の分析値は以下のとおりである。
ルホン酸浴（Ｓｎ／Ｐｂ＝６０／４０）は褐色懸濁状態
で、めっき浴組成の分析値は以下のとおりである。
【００２５】 Ｓｎ２＋ ２５．０ｇ／ｌ Ｐｂ １３．１ｇ／ｌ 遊離酸 １０２．５ｇ／ｌ
【００２６】この液に凝結剤としてポリスチレンスルホ
ン酸ナトリウム（分子量（５〜１０）×１０ ４ ）を３６
０ｐｐｍ添加攪拌して凝結せしめ、更にポリアクリルア
ミド系の高分子凝集剤（弱アニオン性）を２００ｐｐｍ
添加、攪拌してフロックを形成せしめ懸濁物質を沈澱さ
せた。上澄液の分析値は以下のとおりである。
ン酸ナトリウム（分子量（５〜１０）×１０ ４ ）を３６
０ｐｐｍ添加攪拌して凝結せしめ、更にポリアクリルア
ミド系の高分子凝集剤（弱アニオン性）を２００ｐｐｍ
添加、攪拌してフロックを形成せしめ懸濁物質を沈澱さ
せた。上澄液の分析値は以下のとおりである。
【００２７】 Ｓｎ２＋ １７．９ｇ／ｌ Ｐｂ １２．１ｇ／ｌ 遊離酸 ９３．３ｇ／ｌ
【００２８】このＳｎ２＋、Ｐｂ及び遊離酸を規定量ま
で補正し光沢剤を補充した結果良好なハルセルが得られ
た。このフロックはＳｎ４＋の水和酸化物が主成分であ
るが、光沢剤の分解生成物やドライフィルムなども含ん
でいるため光沢剤の補充により容量を良好なハルセル補
正が行えたものである。ポリスチレンスルホン酸ナトリ
ウムの代わりに遊離のポリスチレンスルホン酸を用いた
場合も同様な結果が得られた。
で補正し光沢剤を補充した結果良好なハルセルが得られ
た。このフロックはＳｎ４＋の水和酸化物が主成分であ
るが、光沢剤の分解生成物やドライフィルムなども含ん
でいるため光沢剤の補充により容量を良好なハルセル補
正が行えたものである。ポリスチレンスルホン酸ナトリ
ウムの代わりに遊離のポリスチレンスルホン酸を用いた
場合も同様な結果が得られた。
【００２９】尚、ハルセルテストは実施例１から６まで
すべて下記条件で行った。 電 流 ２Ａ 時 間 ３分 温 度 ２３℃ 攪 拌 ２ｍ／分
すべて下記条件で行った。 電 流 ２Ａ 時 間 ３分 温 度 ２３℃ 攪 拌 ２ｍ／分
【００３０】実施例２：建浴後約６ヶ月経過した光沢は
んだメタンスルホン酸浴（Ｓｎ／Ｐｂ＝６０／４０）は
褐色懸濁状態で、めっき浴組成の分析値は以下のとおり
である。
んだメタンスルホン酸浴（Ｓｎ／Ｐｂ＝６０／４０）は
褐色懸濁状態で、めっき浴組成の分析値は以下のとおり
である。
【００３１】 Ｓｎ２＋ １５．６ｇ／ｌ Ｐｂ １１．５ｇ／ｌ 遊離酸 １２９．６ｇ／ｌ
【００３２】この液に凝結剤とし実施例１で用いたと同
じポリスチレンスルホン酸ナトリウム（分子量１〜３×
１０４）を３５０ｐｐｍ添加、攪拌して凝結せしめ、更
に実施例１で用いたと同じポリアクリルアミド系の高分
子凝集剤を１０ｐｐｍ添加、攪拌してフロックを形成せ
しめ懸濁物質を沈澱させた。上澄液の分析値は以下のと
おりである。
じポリスチレンスルホン酸ナトリウム（分子量１〜３×
１０４）を３５０ｐｐｍ添加、攪拌して凝結せしめ、更
に実施例１で用いたと同じポリアクリルアミド系の高分
子凝集剤を１０ｐｐｍ添加、攪拌してフロックを形成せ
しめ懸濁物質を沈澱させた。上澄液の分析値は以下のと
おりである。
【００３３】 Ｓｎ２＋ １５．０ｇ／ｌ Ｐｂ １１．５ｇ／ｌ 遊離酸 １２７．２ｇ／ｌ
【００３４】このＳｎ２＋、Ｐｂ及び遊離酸を規定量ま
で補正した液はハルセルテストで光沢剤を適宜補充する
ことにより容易に問題ないハルセル外観を得ることがで
きた。
で補正した液はハルセルテストで光沢剤を適宜補充する
ことにより容易に問題ないハルセル外観を得ることがで
きた。
【００３５】実施例３：建浴後約１年継続使用された光
沢はんだメタンスルホン酸浴（Ｓｎ／Ｐｂ＝６０／４
０）は褐色懸濁状態で、めっき浴組成の分析値は以下の
とおりである。
沢はんだメタンスルホン酸浴（Ｓｎ／Ｐｂ＝６０／４
０）は褐色懸濁状態で、めっき浴組成の分析値は以下の
とおりである。
【００３６】 Ｓｎ２＋ ２４．８ｇ／ｌ Ｐｂ １３．５ｇ／ｌ 遊離酸 １４５．９ｇ／ｌ
【００３７】この液に凝結剤として実施例１で用いたと
同じポリスチレンスルホン酸ナトリウムを１０００ｐｐ
ｍ添加、攪拌し、更に実施例１で用いたと同じポリアク
リルアミド系の高分子凝集剤を８０ｐｐｍ添加、攪拌し
てフロックを形成せしめ懸濁物質を沈澱させた。この場
合凝結剤１０００ｐｐｍを２回に分割し、最初６００ｐ
ｐｍ、高分子凝集剤添加後残りの４００ｐｐｍを加えて
も十分効果を発揮することが認められた。上澄液の分析
値は以下のとおりである。
同じポリスチレンスルホン酸ナトリウムを１０００ｐｐ
ｍ添加、攪拌し、更に実施例１で用いたと同じポリアク
リルアミド系の高分子凝集剤を８０ｐｐｍ添加、攪拌し
てフロックを形成せしめ懸濁物質を沈澱させた。この場
合凝結剤１０００ｐｐｍを２回に分割し、最初６００ｐ
ｐｍ、高分子凝集剤添加後残りの４００ｐｐｍを加えて
も十分効果を発揮することが認められた。上澄液の分析
値は以下のとおりである。
【００３８】 Ｓｎ２＋ ２１．１ｇ／ｌ Ｐｂ １３．０ｇ／ｌ 遊離酸 １３８．０ｇ／ｌ
【００３９】このＳｎ２＋、Ｐｂ及び遊離酸を規定量ま
で補正した液はハルセルテストで光沢剤を適宜補充する
ことにより容易に問題ないハルセル外観を得ることがで
きた。
で補正した液はハルセルテストで光沢剤を適宜補充する
ことにより容易に問題ないハルセル外観を得ることがで
きた。
【００４０】尚、めっき液の回収率は上澄み液をとる方
法で約７０容量％であった。高分子凝集剤はスラッジ側
に吸収されるが、凝結剤は１，０００ｐｐｍも添加する
と回収めっき液に無視できない量残留すると推定され
る。この水溶性ポリマーはめっきに対して有害な作用を
及ぼさないばかりか、無機塩の分散剤として本来使用さ
れているもので、めっき液に残留した場合発生する錫の
水和酸化物の粒成長を抑制しめっき液の濁りを抑制する
効果をも発揮する。
法で約７０容量％であった。高分子凝集剤はスラッジ側
に吸収されるが、凝結剤は１，０００ｐｐｍも添加する
と回収めっき液に無視できない量残留すると推定され
る。この水溶性ポリマーはめっきに対して有害な作用を
及ぼさないばかりか、無機塩の分散剤として本来使用さ
れているもので、めっき液に残留した場合発生する錫の
水和酸化物の粒成長を抑制しめっき液の濁りを抑制する
効果をも発揮する。
【００４１】実施例４：建浴後約１０ヶ月継続使用され
た半光沢はんだメタンスルホン酸浴（Ｓｎ／Ｐｂ＝９５
／５）は褐色懸濁状態で、めっき浴組成の分析値は以下
のとおりである。
た半光沢はんだメタンスルホン酸浴（Ｓｎ／Ｐｂ＝９５
／５）は褐色懸濁状態で、めっき浴組成の分析値は以下
のとおりである。
【００４２】 Ｓｎ２＋ １７．６ｇ／ｌ Ｐｂ ０．９ｇ／ｌ 遊離酸 １３９．０ｇ／ｌ
【００４３】この液に凝結剤として実施例１で用いたと
同じポリスチレンスルホン酸ナトリウムを５００ｐｐｍ
添加攪拌し、更に実施例１で用いたと同じポリアクリル
アミド系の高分子凝集剤を４０ｐｐｍ添加、攪拌してフ
ロックを形成せしめ懸濁物質を沈澱せしめた。この場
合、凝結剤５００ｐｐｍを２回に分割し、最初４００ｐ
ｐｍ、高分子凝集剤添加後残りの１００ｐｐｍを加えて
も十分効果を発揮することが認められた。上澄液の分析
値は以下のとおりである。
同じポリスチレンスルホン酸ナトリウムを５００ｐｐｍ
添加攪拌し、更に実施例１で用いたと同じポリアクリル
アミド系の高分子凝集剤を４０ｐｐｍ添加、攪拌してフ
ロックを形成せしめ懸濁物質を沈澱せしめた。この場
合、凝結剤５００ｐｐｍを２回に分割し、最初４００ｐ
ｐｍ、高分子凝集剤添加後残りの１００ｐｐｍを加えて
も十分効果を発揮することが認められた。上澄液の分析
値は以下のとおりである。
【００４４】 Ｓｎ２＋ １６．２ｇ／ｌ Ｐｂ ０．９ｇ／ｌ 遊離酸 １３８．１ｇ／ｌ
【００４５】このＳｎ２＋、Ｐｂ及び遊離酸を規定量ま
で補正した液はハルセルテストで光沢剤を適宜補充する
ことにより容易に問題ないハルセル外観を得ることがで
きた。
で補正した液はハルセルテストで光沢剤を適宜補充する
ことにより容易に問題ないハルセル外観を得ることがで
きた。
【００４６】実施例５：建浴後約９ヶ月継続使用された
光沢はんだメタンスルホン酸浴（Ｓｎ／Ｐｂ＝６０／４
０）は褐色懸濁状態で、めっき浴の組成の分析値は以下
のとおりである。
光沢はんだメタンスルホン酸浴（Ｓｎ／Ｐｂ＝６０／４
０）は褐色懸濁状態で、めっき浴の組成の分析値は以下
のとおりである。
【００４７】 Ｓｎ２＋ ２５．２ｇ／ｌ Ｐｂ １１．５ｇ／ｌ 遊離酸 １４２．１ｇ／ｌ
【００４８】この液に凝結剤としてポリアクリル酸ナト
リウム（分子量５，０００〜１００，０００）を１０ｐ
ｐｍ添加、攪拌して凝結せしめ、更にポリアクリルアミ
ド系の高分子凝集剤（弱アニオン性）を８０ｐｐｍ添加
攪拌してフロックを形成せしめ懸濁物質を沈澱させた。
一晩放置後の上澄み液は透明でその分析値は以下のとお
りである。
リウム（分子量５，０００〜１００，０００）を１０ｐ
ｐｍ添加、攪拌して凝結せしめ、更にポリアクリルアミ
ド系の高分子凝集剤（弱アニオン性）を８０ｐｐｍ添加
攪拌してフロックを形成せしめ懸濁物質を沈澱させた。
一晩放置後の上澄み液は透明でその分析値は以下のとお
りである。
【００４９】 Ｓｎ２＋ ２３．３ｇ／ｌ Ｐｂ １１．３ｇ／ｌ 遊離酸 １３９．２ｇ／ｌ
【００５０】このＳｎ２＋、Ｐｂ及び遊離酸を規定量ま
で補正し光沢剤を補充した結果良好なハルセルが得られ
た。尚、めっき液の回収率は上澄み液をとる方法で約７
０容量％であった。
で補正し光沢剤を補充した結果良好なハルセルが得られ
た。尚、めっき液の回収率は上澄み液をとる方法で約７
０容量％であった。
【００５１】実施例６：建浴後約１２ヶ月継続使用され
た光沢はんだメタンスルホン酸浴（Ｓｎ／Ｐｂ＝６０／
４０）は褐色懸濁状態でめっき浴の組成の分析値は以下
のとおりである。
た光沢はんだメタンスルホン酸浴（Ｓｎ／Ｐｂ＝６０／
４０）は褐色懸濁状態でめっき浴の組成の分析値は以下
のとおりである。
【００５２】 Ｓｎ２＋ １７．３ｇ／ｌ Ｐｂ ７．３ｇ／ｌ 遊離酸 １１８．１ｇ／ｌ
【００５３】この液に凝結剤として無水マレイン酸スチ
レン共重合体のスルホン酸ナトリウム（分子量７，００
０〜８，０００）を８００ｐｐｍ添加・攪拌して凝結せ
しめ、更にポリアクリルアミド系の高分子凝集剤（弱ア
ニオン性）を６０ｐｐｍ添加攪拌してフロックを形成せ
しめ懸濁物質を沈澱させた。一晩放置後の上澄み液は透
明でその分析値は以下のとおりである。
レン共重合体のスルホン酸ナトリウム（分子量７，００
０〜８，０００）を８００ｐｐｍ添加・攪拌して凝結せ
しめ、更にポリアクリルアミド系の高分子凝集剤（弱ア
ニオン性）を６０ｐｐｍ添加攪拌してフロックを形成せ
しめ懸濁物質を沈澱させた。一晩放置後の上澄み液は透
明でその分析値は以下のとおりである。
【００５４】 Ｓｎ２＋ １６．０ｇ／ｌ Ｐｂ ７．１ｇ／ｌ 遊離酸 １０９．４ｇ／ｌ
【００５５】このＳｎ２＋、Ｐｂ及び遊離酸を規定量ま
で補正した液はハルセルテストで光沢剤を適宜補充する
ことにより容易に問題ないハルセル外観を得ることがで
きた。尚、めっき液の回収率は上澄み液をとる方法で７
０容量％であった。
で補正した液はハルセルテストで光沢剤を適宜補充する
ことにより容易に問題ないハルセル外観を得ることがで
きた。尚、めっき液の回収率は上澄み液をとる方法で７
０容量％であった。
Claims (8)
- 【請求項１】 錫イオンを必須成分として含有する老化
しためっき浴に水溶性ポリマーからなる凝結剤及び高分
子凝集剤をそれぞれ添加、攪拌してスラッジを沈降させ
分離することを特徴とするめっき浴の再生方法。 - 【請求項２】 めっき浴が有機酸めっき浴である請求項
１記載の方法。 - 【請求項３】 有機酸めっき浴の有機酸がアルカンスル
ホン酸、アルカノールスルホン酸又はフェノールスルホ
ン酸である請求項２記載の方法。 - 【請求項４】 めっき浴がほうふっ化めっき浴である請
求項１記載の方法。 - 【請求項５】 凝結剤がアニオン性で分子量が１，００
０から１，２００，０００の水溶性ポリマーである請求
項１〜４のいずれか１項記載の方法。 - 【請求項６】 凝結剤がポリ（スチレンスルホン酸アル
カリ金属塩）、スチレンスルホン酸とアクリル酸、メタ
クリル酸もしくは無水マレイン酸との共重合物のアルカ
リ金属塩、ポリアクリル酸、その水溶性アルカリ金属
塩、ポリメタクリル酸、その水溶性アルカリ金属塩及び
アルギン酸アルカリ金属塩よりなる群から選択した少な
くとも１種からなる水溶性ポリマーである請求項１〜５
のいずれか１項記載の方法。 - 【請求項７】 高分子凝集剤がアニオン性又は非イオン
性の高分子凝集剤である請求項１〜６のいずれか１項記
載の方法。 - 【請求項８】 高分子凝集剤がアクリルアミドとアクリ
ル酸ナトリウムもしくはメタクリル酸ナトリウムの共重
合体またはポリアクリルアミドで分子量が５００万から
１５００万である請求項１〜７のいずれか１項記載の方
法。
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|---|---|---|---|
| JP6248239A JP3030534B2 (ja) | 1994-09-07 | 1994-09-07 | 錫系合金めっき浴の再生方法 |
| US08/522,972 US5510014A (en) | 1994-09-07 | 1995-09-01 | Method for regenerating tin or tin alloy electroplating |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6248239A JP3030534B2 (ja) | 1994-09-07 | 1994-09-07 | 錫系合金めっき浴の再生方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0874097A JPH0874097A (ja) | 1996-03-19 |
| JP3030534B2 true JP3030534B2 (ja) | 2000-04-10 |
Family
ID=17175234
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6248239A Expired - Fee Related JP3030534B2 (ja) | 1994-09-07 | 1994-09-07 | 錫系合金めっき浴の再生方法 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
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| JP (1) | JP3030534B2 (ja) |
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| US7557049B2 (en) * | 2006-10-30 | 2009-07-07 | Nitto Denko Corporation | Producing method of wired circuit board |
| EP2578727B1 (en) * | 2010-05-28 | 2019-06-26 | Toyo Seikan Group Holdings, Ltd. | Method of manufacturing surface-treated steel plate using a surface treatment bath, and surface-treated steel plate formed with said manufacturing method |
| JP5830242B2 (ja) * | 2010-12-28 | 2015-12-09 | ローム・アンド・ハース電子材料株式会社 | めっき液中から不純物を除去する方法 |
| JP5715411B2 (ja) * | 2010-12-28 | 2015-05-07 | ローム・アンド・ハース電子材料株式会社 | めっき液中から不純物を除去する方法 |
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-
1994
- 1994-09-07 JP JP6248239A patent/JP3030534B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
1995
- 1995-09-01 US US08/522,972 patent/US5510014A/en not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US5510014A (en) | 1996-04-23 |
| JPH0874097A (ja) | 1996-03-19 |
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