JP3021109B2 - アミノ化合物の製法 - Google Patents

アミノ化合物の製法

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JP3021109B2
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amino
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裕介 行本
勉 江幡
明 保坂
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第一製薬株式会社
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  • Pyrrole Compounds (AREA)
  • Indole Compounds (AREA)
  • Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、抗菌性化合物の製造中
間体の製法に関する。
【0002】
【従来技術】(S)−7−アミノ−5−アザスピロ
[2.4]ヘプタンを置換基として有するフルオロキノ
リン化合物は優れた抗菌性物質として有用である(例え
ば特開平2−231475号公報参照)。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】本出願人は、先に5−
(置換または非置換)−7−ヒドロキシイミノ−5−ア
ザスピロ[2.4]ヘプタンまたはその4−オキソ体の
ヒドロキシイミノ基をアミノ基に変換後光学分割し、必
要ならばさらにその4−オキソ基を還元して、(S)−
7−アミノ−5−置換または非置換)−5−アザスピロ
[2.4]ヘプタンまたはその4−オキソ体を製造する
方法を開発し先の特許出願にも開示した(特願平2−2
74195号参照)。
【0004】光学分割で得られる一方のR体、即ち、
(R)−7−アミノ−5−(置換または非置換−5−ア
ザスピロ[2.4]ヘプタンまたはその4−オキソ体が
不要となるのでは工業的な製法としてはコストの点から
問題があった。
【0005】
【課題を解決するための手段】本発明者は、種々検討の
結果、新規物質の(R)−7−アミノ−5−(置換また
は非置換)−5−アザスピロ[2.4]ヘプタンをラセ
ミ化する方法を見出し、同様に(R)−8−アミノ−6
−アザスピロ[3.4]オクタン等も処理できることを
見出して本発明を完成した。
【0006】
【発明の構成】本発明は、一般式I (式中、Qは−CH−または−CO−を意味し、R
およびRはそれぞれ炭素数1乃至5のアルキル基を意
味するか、両者で炭素数2乃至5のアルキレン鎖を形成
する。Rはフェニル基上にニトロ、アルコキシもしく
はハロゲンが置換することもあるフェニルアルキル基、
トリチル基、ベンズヒドリル基をまたは低級アルキル基
を意味する。)で表わされる化合物を、水素の存在下触
媒と処理して異性化させて一般式II (式中、Q、R、RおよびRは前記に同じ。)で
表わされる化合物を製造する方法に関する。一般式II
で表わされる化合物は置換基Rに不斉炭素原子が無
く、かつRとRが同じもしくは両者でアルキレンを
形成している場合にはラセミ体であり、置換基Rに不
斉炭素原子があればジアステレオマーとなる。
【0007】一般式Iの化合物および一般式IIの化合
物のN原子上の置換基Rとしては、ベンジル基が最も
適当であるが、その他にも、低級アルキル基、トリチル
基およびベンズヒドリル基を例示することができる。ニ
トロ、メトキシやエトキシのようなアルコキシもしくは
ハロゲンが置換したベンジル基も適当であり、さらに、
不斉炭素原子を有することもあるフェニルアルキル基、
例えば、(R)−α−フェニルエチル基、(S)−α−
フェニルエチル基またはラセミ体のα−フェニルエチル
基を挙げることもできる。この反応は、水素加圧下で触
媒、特にラネーコバルト、ラネーニッケル等のラネー触
媒、の存在下行うのが適当である。
【0008】反応には溶媒を用いるのが好ましく、例え
ば、次に示すものおよびそれらの混合溶媒を使用するこ
とができる。 エーテル系:ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン
(THF)、1,4−ジオキサン、 アルコール系:メタノール、エタノール、プロパノー
ル、イソプロパノール(IPA)、t−ブタノール等 ハロゲン化炭化水素系:クロロホルム、メチレンクロリ
ド、エチレンクロリド等 アミド系:ジメチルホルムアミド(DMF)、ジメチル
アセトアミド(DMAC) その他:液体アンモニア、アンモニア水溶液、水、アセ
トン、アセトニトリル、酢酸、酢酸エステル類等 反応は、常温から200℃、好ましくは100乃至20
0℃程度で行うのが、また、1気圧から300気圧の水
素圧で行なうのが一般的である。
【0009】
【実施例1】7−アミノ−5−ベンジル−5−アザスピ
ロ[2.4]ヘプタン(ラセミ) (R)−7−アミノ−5−ベンジル−5−アザスピロ
[2.4]ヘプタン(98.2%ee)2.02g、ラ
ネーコバルト4mlおよびTHF22mlを100ml
のオートクレーブにいれ、加温および水素加圧下24時
間攪拌した(170℃、100気圧)。放冷し、触媒を
瀘去後、濾液のTHFを留去し、クロロホルム20ml
を加えた。硫酸ナトリウムで乾燥後濃縮して標題化合物
の黄色油状物を1.73g得た。この物はHPLCによ
ってラセミ体であることが確認された。
【0010】NMR(CDC13)δ:0.26〜0.
96(4H,m)、2.20〜3.16(5H,m)
3.61(2H,s)、7.33(5H,bs)
【0011】
【実施例2】7−アミノ−5−ベンジル−4−オキソ−
5−アザスピロ[2.4]ヘプタン(ラセミ) (R)−7−アミノ−5−ベンジル−4−オキソ−5−
アザスピロ[2.4]ヘプタン(98.6%ee)1.
39g、ラネーコバルト3mlおよびTHF22mlを
100mlのオートクレーブに入れ、加温および水素加
圧下24時間攪拌した(162℃、100気圧)。放冷
し、触媒を濾去後、濾液のTHFを留去し、クロロホル
ム20mlを加えた。硫酸ナトリウムで乾燥後濃縮して
標題化合物の無色油状物を1.31g得た。この物はH
PLCによってラセミ体であることが確認された。
【0012】NMR(CDC13)δ:0.60〜1.
36(4H,m)、1.15(2H,bs)、2.96
(1H,dd,J=3.5 and 9Hz)、3.3
6(1H,dd,J=3.5 and 7Hz)、3.
60(1H,dd,J=7 and 3.5Hz)、
4.51(2H,s)、7.18〜7.52(5H,
m)
【0013】
【実施例3】実施例1の(R)−7−アミノ−5−ベン
ジル−5−アザスピロ[2.4]ヘプタンに代えて
(R)−8−アミノ−6−ベンジル−6−アザスピロ
[3.4]オクタンを用いて8−アミノ−6−ベンジル
−6−アザスピロ[3.4]オクタン(ラセミ)を得る
【0014】
【実施例4】実施例1の(R)−7−アミノ−5−ベン
ジル−5−アザスピロ[2.4]ヘプタンに代えて
(R)−3−アミノ−1−ベンジル−4,4−ジメチル
ピロリジンを用いて3−アミノ−1−ベンジル−4,4
−ジメチルピロリジン(ラセミ)を得る。
【0015】
【参考例1】:(R)−7−アミノ−5−ベンジル−4
−オキソ−5−アザスピロ[2.4]ヘプタンD−酒石
酸塩 7−アミノ−5−ベンジル−4−オキソ−5−アザスピ
ロ[2.4]ヘプタン(ラセミ体)2.05gをエタノ
ール11mlに溶解し、室温で撹拌中にD−酒石酸1.
07gをエタノール35mlに溶解して加え、同温で2
時間撹拌後、析出晶を濾取、乾燥して無色結晶性粉末
2.09gを得た。この内1.98gをメタノール29
mlに加え、1時間加熱還流した。この時結晶は殆ど溶
けるが完溶しない。次いで室温で2時間放冷撹拌した。
析出晶を濾取し、少量のメタノールとエーテルで洗い乾
燥して標題化合物0.57gを得た。 得た化合物は元
素分析の結果(R)−7−アミノ−5−ベンジル−4−
オキソ−5−アザスピロ[2.4]ヘプタン二分子とD
−酒石酸一分子の割合で塩を形成していることが推定さ
れた。無色結晶性粉末 分解点 209〜217℃ [α]+89.6°(c=1.116,水)
【0016】
【参考例2】(R)−7−アミノ−5−ベンジル−4−
オキソ−5−アザスピロ[2.4]ヘプタン 参考例1で得た(R)−7−アミノ−5−ベンジル−4
−オキソ−5−アザスピロ[2.4]ヘプタンD−酒石
酸塩379mgを10%水酸化ナトリウム水溶液10m
lに加え、クロロホルムで3回抽出した。クロロホルム
層を15%食塩水で洗い、硫酸ナトリウムで乾燥後留去
して標題化合物297mg(定量的)を得た。油状化合
物 光学純度98.6%e.e.
【0017】
【参考例3】(R)−7−アミノ−5−ベンジル−5−
アザスピロ[2.4]ヘプタン 参考例2で得た(R)−7−アミノ−5−ベンジル−4
−オキソ−5−アザスピロ[2.4]ヘプタン297m
gを無水THF 6mlに溶解した溶液を、水素化リチ
ウムアルミニウム173mgを無水THF 5mlに懸
濁した液に氷冷撹拌下に滴下した。次いで室温で2時
間、加熱還流下5時間撹拌した。反応後再度氷冷し、水
0.17ml、15%水酸化ナトリウム0.17mlお
よび水0.51mlの順に加え、同温で30分間撹拌し
た後析出物を濾去した。濾液よりTHFを留去して得た
残渣にクロロホルムを加え、硫酸ナトリウムで乾燥後留
去して標題化合物324mgを得た。このものの光学純
度は原料の光学純度と同等であった。
フロントページの続き (56)参考文献 特開 昭63−185943(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) C07D 207/00 - 207/50 C07D 209/00 - 209/96 B01J 25/00 C07B 61/00 300 CA(STN) CAOLD(STN) REGISTRY(STN)

Claims (3)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 一般式I (式中、Qは−CH−または−CO−を意味し、R
    およびRはそれぞれ炭素数1乃至5のアルキル基を意
    味するか、両者で炭素数2乃至5のアルキレン鎖を形成
    する。Rはフェニル基上にニトロ、アルコキシもしく
    はハロゲンが置換することもあるフェニルアルキル基、
    トリチル基、ベンズヒドリル基または低級アルキル基を
    意味する。)で表される化合物を、水素の存在下触媒と
    処理することを特徴とする一般式II (式中、Q、R、RおよびRは前記に同じ。)で
    表される化合物の製法。
  2. 【請求項2】 RおよびRでエチレン鎖を形成する
    化合物Iを水素の存在下ラネーコバルトで処理して対応
    する化合物IIを製造する請求項1の製法
  3. 【請求項3】 Rがベンジル基である請求項1または
    請求項2の製法
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