JP3019426B2 - 撥水撥油性スキージおよびその製造方法 - Google Patents
撥水撥油性スキージおよびその製造方法Info
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- B82Y—SPECIFIC USES OR APPLICATIONS OF NANOSTRUCTURES; MEASUREMENT OR ANALYSIS OF NANOSTRUCTURES; MANUFACTURE OR TREATMENT OF NANOSTRUCTURES
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Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は回路基板，液晶表示装
置，サーマルヘッド等のファインパターンの要求される
電子部品において、誘電体（絶縁体，磁性体）や電導体
（配線，抵抗体），カラーフィルター，レジストパター
ンの形成を凹版印刷によって行う際に使用する撥水撥油
性スキージおよびその製造方法に関するものである。
置，サーマルヘッド等のファインパターンの要求される
電子部品において、誘電体（絶縁体，磁性体）や電導体
（配線，抵抗体），カラーフィルター，レジストパター
ンの形成を凹版印刷によって行う際に使用する撥水撥油
性スキージおよびその製造方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】従来より、回路基板，液晶表示装置，サ
ーマルヘッド等の電子部品の製造においては微細な導電
パターンの形成技術が用いられており、近年、従来のフ
ォトレジストを用いた製造方法に比べ、生産性，コス
ト，大面積化等の面より、各種印刷方法を用いた微細パ
ターンの製造方法が提案されている。この中でも特に凹
版オフセット印刷技術が、従来のスクリーン印刷技術に
代わるものとして注目されている［日経エレクトロニク
ス別冊「フラットパネル・ディスプレイ'９０」（１９
８９）掲載］。
ーマルヘッド等の電子部品の製造においては微細な導電
パターンの形成技術が用いられており、近年、従来のフ
ォトレジストを用いた製造方法に比べ、生産性，コス
ト，大面積化等の面より、各種印刷方法を用いた微細パ
ターンの製造方法が提案されている。この中でも特に凹
版オフセット印刷技術が、従来のスクリーン印刷技術に
代わるものとして注目されている［日経エレクトロニク
ス別冊「フラットパネル・ディスプレイ'９０」（１９
８９）掲載］。
【０００３】上記凹版オフセット印刷の代表的な従来例
について、以下に図４（Ａ），（Ｂ）を用いて説明す
る。図４（Ａ）は、凹版を示す斜視図、図４（Ｂ）は凹
版にインキを充填する作業を示す断面図である。図４に
おいて、１は凹版、２は凹部パターン、３はインキ、４
はスキージ、５はインキ汚れを示すものである。また矢
印はスキージ４の移動する方向を示し、スキージ４の移
動により凹部パターン２にインキ３を充填するものであ
る。
について、以下に図４（Ａ），（Ｂ）を用いて説明す
る。図４（Ａ）は、凹版を示す斜視図、図４（Ｂ）は凹
版にインキを充填する作業を示す断面図である。図４に
おいて、１は凹版、２は凹部パターン、３はインキ、４
はスキージ、５はインキ汚れを示すものである。また矢
印はスキージ４の移動する方向を示し、スキージ４の移
動により凹部パターン２にインキ３を充填するものであ
る。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら上記従来
の構成で実際に凹版オフセット印刷方法を用いて印刷し
てみると、特に印刷パターンのピッチ（線幅と線間幅の
合計）がファインパターン化（数十μｍ以下と狭くな
る）するほど、凹部パターンの単位長さ当りの凹溝本数
が増加することにつながり、結果的にスキージ４が細か
く振動（凹版１の凹凸でカチカチ鳴ってしまう現象で、
凹版１中のインキ３を物理的に飛ばしてしまうこともあ
る）し、スキージ４も汚れ、オープンやショート等の不
良発生の原因になり、印刷基板の歩留りを悪化させると
いう課題を有していた。また、汚れたスキージ４は溶剤
等を用いて拭き取るが、インキ３はなかなか落ちにく
く、汚れにくいスキージ４が望まれており、従来より、
スキージ４の高性能化には、金属あるいはセラミック等
の材質，形状，研磨度，硬度等の最適条件を見出す研究
が行われてきたが、今日現在でこれらを満足する結果は
まだ得られていないのが実情である。
の構成で実際に凹版オフセット印刷方法を用いて印刷し
てみると、特に印刷パターンのピッチ（線幅と線間幅の
合計）がファインパターン化（数十μｍ以下と狭くな
る）するほど、凹部パターンの単位長さ当りの凹溝本数
が増加することにつながり、結果的にスキージ４が細か
く振動（凹版１の凹凸でカチカチ鳴ってしまう現象で、
凹版１中のインキ３を物理的に飛ばしてしまうこともあ
る）し、スキージ４も汚れ、オープンやショート等の不
良発生の原因になり、印刷基板の歩留りを悪化させると
いう課題を有していた。また、汚れたスキージ４は溶剤
等を用いて拭き取るが、インキ３はなかなか落ちにく
く、汚れにくいスキージ４が望まれており、従来より、
スキージ４の高性能化には、金属あるいはセラミック等
の材質，形状，研磨度，硬度等の最適条件を見出す研究
が行われてきたが、今日現在でこれらを満足する結果は
まだ得られていないのが実情である。
【０００５】本発明は上記従来の課題を解決し、撥水撥
油性に優れたスキージを提供することにより、スキージ
を行った後のスキージ表面のインキ残りを少なくし凹版
オフセット印刷を精度・歩留り面で大きく改善した撥水
撥油性スキージおよびその製造方法を提供することを目
的とするものである。
油性に優れたスキージを提供することにより、スキージ
を行った後のスキージ表面のインキ残りを少なくし凹版
オフセット印刷を精度・歩留り面で大きく改善した撥水
撥油性スキージおよびその製造方法を提供することを目
的とするものである。
【０００６】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に本発明による撥水撥油性スキージおよびその製造方法
はフッ素を含む化学吸着単分子膜をスキージ表面に形成
したものである。一般的にスキージは、ガラス，セラミ
ック、または金属製であり、表面に水酸基を含んでお
り、一端にクロロシラン基（ＳｉＣｌnＸ3-n基、ｎ＝
１,２,３、Ｘは官能基）を有する直鎖状炭素鎖を含む分
子、例えばフッ化炭素基およびクロロシラン基を含むク
ロロシラン系活性剤を混ぜた非水系溶媒に接触させて前
記スキージ表面の水酸基と前記クロロシリル基を複数個
含む物質のクロロシリル基を反応させて前記物質よりな
る単分子膜を前記スキージ表面に析出させる、あるいは
クロロシリル基を複数個含む物質を混ぜた非水系溶媒に
接触させて前記スキージの水酸基と前記クロロシリル基
を複数個含む物質のクロロシリル基を反応させて前記物
質を前記スキージ表面に析出させる工程と、非水系有機
溶媒を用い前記スキージ表面に残った余分なクロロシリ
ル基を複数個含む物質よりなるシロキサン系単分子膜を
形成する工程と、一端にクロロシラン基を有する直鎖状
炭素鎖を含むシラン系界面活性剤をスキージ上に化学吸
着し単分子吸着膜を累積する工程とによりスキージ表面
にフッ素を含む化学吸着単分子膜を形成するようにした
ものである。
に本発明による撥水撥油性スキージおよびその製造方法
はフッ素を含む化学吸着単分子膜をスキージ表面に形成
したものである。一般的にスキージは、ガラス，セラミ
ック、または金属製であり、表面に水酸基を含んでお
り、一端にクロロシラン基（ＳｉＣｌnＸ3-n基、ｎ＝
１,２,３、Ｘは官能基）を有する直鎖状炭素鎖を含む分
子、例えばフッ化炭素基およびクロロシラン基を含むク
ロロシラン系活性剤を混ぜた非水系溶媒に接触させて前
記スキージ表面の水酸基と前記クロロシリル基を複数個
含む物質のクロロシリル基を反応させて前記物質よりな
る単分子膜を前記スキージ表面に析出させる、あるいは
クロロシリル基を複数個含む物質を混ぜた非水系溶媒に
接触させて前記スキージの水酸基と前記クロロシリル基
を複数個含む物質のクロロシリル基を反応させて前記物
質を前記スキージ表面に析出させる工程と、非水系有機
溶媒を用い前記スキージ表面に残った余分なクロロシリ
ル基を複数個含む物質よりなるシロキサン系単分子膜を
形成する工程と、一端にクロロシラン基を有する直鎖状
炭素鎖を含むシラン系界面活性剤をスキージ上に化学吸
着し単分子吸着膜を累積する工程とによりスキージ表面
にフッ素を含む化学吸着単分子膜を形成するようにした
ものである。
【０００７】
【作用】このように構成される撥水撥油性スキージはき
わめて薄いナノメータレベルの膜厚のフッ素を含む化学
吸着単分子膜をスキージ表面に形成するため、スキージ
の精度を損なうことがない。また、このフッ素を含む化
学吸着単分子膜は撥水撥油性に優れるため、粘着性の非
常に高いインキを用いて凹版印刷する際においても、ス
キージを行った後のスキージ表面のインキ残りを少なく
することが可能となる。またスキージと凹版との摩擦を
少なくすることができ、スキージおよび凹版の寿命を長
くすることができる。従って、印刷歩留りの高いスキー
ジを提供することができる。
わめて薄いナノメータレベルの膜厚のフッ素を含む化学
吸着単分子膜をスキージ表面に形成するため、スキージ
の精度を損なうことがない。また、このフッ素を含む化
学吸着単分子膜は撥水撥油性に優れるため、粘着性の非
常に高いインキを用いて凹版印刷する際においても、ス
キージを行った後のスキージ表面のインキ残りを少なく
することが可能となる。またスキージと凹版との摩擦を
少なくすることができ、スキージおよび凹版の寿命を長
くすることができる。従って、印刷歩留りの高いスキー
ジを提供することができる。
【０００８】
【実施例】（実施例１） 以下、本発明の一実施例による撥水撥油性スキージおよ
びその製造方法について図面を用いて説明する。
びその製造方法について図面を用いて説明する。
【０００９】図１は本発明によるスキージ４の構成を示
す斜視図であり、図１において、スキージ４は、表面に
フッ素を含む化学吸着単分子膜６を形成して構成されて
いる。
す斜視図であり、図１において、スキージ４は、表面に
フッ素を含む化学吸着単分子膜６を形成して構成されて
いる。
【００１０】上記スキージ４は感光性樹脂を用いた凹版
印刷用に市販されているジルコニアセラミック製のもの
を用い、このスキージ４にフッ素を含む化学吸着単分子
膜６を用いて撥水撥油性処理をしたものである。
印刷用に市販されているジルコニアセラミック製のもの
を用い、このスキージ４にフッ素を含む化学吸着単分子
膜６を用いて撥水撥油性処理をしたものである。
【００１１】図２は上記撥水撥油性処理を示すための断
面概念図であり、まず前記ジルコニアセラミック製スキ
ージ４を有機溶媒で洗浄した後、フッ化炭素基およびク
ロロシラン基を含む物質を混ぜた非水系の溶媒、例え
ば、ＣＦ3（ＣＦ2）7（ＣＨ2）2ＳｉＣｌ3を用い、１％
程度の濃度で溶かした溶液［８０％ｎ−ヘキサデカン
（トルエン，キシレン，ジシクロヘキシルでもよい），
１０％四塩化炭素，８％クロロホルム］を調整し、前記
スキージ４を２時間程度浸漬するとスキージ４の膜には
自然酸化膜が形成されているために、この酸化膜表面に
は水酸基が多数含まれておりフッ化炭素基およびクロロ
シラン基を含む物質のＳｉＣｌ基と前記水酸基が反応し
脱塩素反応が生じ、スキージ４全面に亘り、
面概念図であり、まず前記ジルコニアセラミック製スキ
ージ４を有機溶媒で洗浄した後、フッ化炭素基およびク
ロロシラン基を含む物質を混ぜた非水系の溶媒、例え
ば、ＣＦ3（ＣＦ2）7（ＣＨ2）2ＳｉＣｌ3を用い、１％
程度の濃度で溶かした溶液［８０％ｎ−ヘキサデカン
（トルエン，キシレン，ジシクロヘキシルでもよい），
１０％四塩化炭素，８％クロロホルム］を調整し、前記
スキージ４を２時間程度浸漬するとスキージ４の膜には
自然酸化膜が形成されているために、この酸化膜表面に
は水酸基が多数含まれておりフッ化炭素基およびクロロ
シラン基を含む物質のＳｉＣｌ基と前記水酸基が反応し
脱塩素反応が生じ、スキージ４全面に亘り、
【００１２】
【化１】
【００１３】の結合が生成され、フッ素を含む化学吸着
単分子膜６がスキージ４の表面と化学結合した状態でお
よそ１５オングストロームの膜厚で形成することができ
た。なお、フッ素を含む化学吸着単分子膜６はきわめて
強固に化学結合しているので全く剥離することがなかっ
た。また、スキージ４の材質は、セラミック，ガラス以
外の銅，ニッケル，亜鉛等の金属の場合でも、表面は自
然酸化膜でおおわれているので当然水酸基が含まれてお
り、上述と同様のフッ素を含む化学吸着単分子膜６を吸
着時間を調整するのみで同様の方法を用いて形成でき
た。
単分子膜６がスキージ４の表面と化学結合した状態でお
よそ１５オングストロームの膜厚で形成することができ
た。なお、フッ素を含む化学吸着単分子膜６はきわめて
強固に化学結合しているので全く剥離することがなかっ
た。また、スキージ４の材質は、セラミック，ガラス以
外の銅，ニッケル，亜鉛等の金属の場合でも、表面は自
然酸化膜でおおわれているので当然水酸基が含まれてお
り、上述と同様のフッ素を含む化学吸着単分子膜６を吸
着時間を調整するのみで同様の方法を用いて形成でき
た。
【００１４】次に、このスキージ４を用いて凹版オフセ
ット印刷を試みた。
ット印刷を試みた。
【００１５】先ず、従来の何も表面処理をしていないス
キージ（以下、未処理スキージと呼ぶ）と、未処理スキ
ージに上記本発明によるフッ素を含む化学吸着単分子膜
６を表面に形成することで作成した撥水撥油性スキージ
（以下、処理スキージと呼ぶ）を用意した。また、印刷
機はコンピュータ制御のサーボモータで凹版および被印
刷体を載せたスキージを高精度に動かすようになったも
のを用いた。凹版は、Ａ４版サイズのライン型サーマル
ヘッドのパターン（ピッチ５０ミクロンのパターンが１
枚の凹版に約２００００ヵ所あるもの）を準備し、イン
キとしては、エッチングレジストインキおよび金レジネ
ートインキを用いた。
キージ（以下、未処理スキージと呼ぶ）と、未処理スキ
ージに上記本発明によるフッ素を含む化学吸着単分子膜
６を表面に形成することで作成した撥水撥油性スキージ
（以下、処理スキージと呼ぶ）を用意した。また、印刷
機はコンピュータ制御のサーボモータで凹版および被印
刷体を載せたスキージを高精度に動かすようになったも
のを用いた。凹版は、Ａ４版サイズのライン型サーマル
ヘッドのパターン（ピッチ５０ミクロンのパターンが１
枚の凹版に約２００００ヵ所あるもの）を準備し、イン
キとしては、エッチングレジストインキおよび金レジネ
ートインキを用いた。
【００１６】スキージ４の性能評価方法は、この凹版を
用いてグレーズアルミナ基板上に前記エッチングレジス
トインキおよび金レジネートインキを用いて、各１０
枚，５００枚と連続して印刷した後のスキージ４の汚れ
具合、および汚れの拭き取りやすさを評価した。インキ
汚れの拭き取りには、汚れ拭き取り用ウエスからの繊維
ゴミの発生を避けるために、市販のクリーンウエスの中
でも特に発塵性の低いものを用い、さらにアセトンを併
用して行った。その結果、 エッチングレジストの場合 未処理スキージ １０枚目，５００枚目ともに汚れ
大および拭き取り難 処理スキージ １０枚目，５００枚目ともに汚れ
小および拭き取り軽 以上のように、処理スキージは未処理スキージに比較し
て、インキ３の汚れも付きにくく、付いた汚れも簡単に
除去できることがわかる。このように、スキージ４が汚
れにくい、汚れてもクリーニングしやすいのでスキージ
４各部分に汚れとして付着したインキ３が乾燥してでき
たかけら（インキかす）が発生しにくく、結果的に印刷
物の歩留りを上げることが可能になる。また、処理スキ
ージは未処理スキージに比較してスキージを行う際の動
きもより滑らかであり、印刷パターンもシャープなもの
が得られた。
用いてグレーズアルミナ基板上に前記エッチングレジス
トインキおよび金レジネートインキを用いて、各１０
枚，５００枚と連続して印刷した後のスキージ４の汚れ
具合、および汚れの拭き取りやすさを評価した。インキ
汚れの拭き取りには、汚れ拭き取り用ウエスからの繊維
ゴミの発生を避けるために、市販のクリーンウエスの中
でも特に発塵性の低いものを用い、さらにアセトンを併
用して行った。その結果、 エッチングレジストの場合 未処理スキージ １０枚目，５００枚目ともに汚れ
大および拭き取り難 処理スキージ １０枚目，５００枚目ともに汚れ
小および拭き取り軽 以上のように、処理スキージは未処理スキージに比較し
て、インキ３の汚れも付きにくく、付いた汚れも簡単に
除去できることがわかる。このように、スキージ４が汚
れにくい、汚れてもクリーニングしやすいのでスキージ
４各部分に汚れとして付着したインキ３が乾燥してでき
たかけら（インキかす）が発生しにくく、結果的に印刷
物の歩留りを上げることが可能になる。また、処理スキ
ージは未処理スキージに比較してスキージを行う際の動
きもより滑らかであり、印刷パターンもシャープなもの
が得られた。
【００１７】また、スキージ４全面に形成されたフッ素
を含む化学吸着単分子膜６の内、撥水撥油性を必要とし
ない部分のフッ素を含む化学吸着単分子膜６は除去して
もよく、その除去方法としては、サンドブラスト等の物
理的な方法以外にもフッ素を含む化学吸着単分子膜６を
残したい部分に粘着性物質（ポリイソブチレン等の樹
脂）を付着させた後、酸素プラズマ（フォトレジスト等
の除去に用いる酸素アッシャー）等を用いることで不要
部分を除去することができる。
を含む化学吸着単分子膜６の内、撥水撥油性を必要とし
ない部分のフッ素を含む化学吸着単分子膜６は除去して
もよく、その除去方法としては、サンドブラスト等の物
理的な方法以外にもフッ素を含む化学吸着単分子膜６を
残したい部分に粘着性物質（ポリイソブチレン等の樹
脂）を付着させた後、酸素プラズマ（フォトレジスト等
の除去に用いる酸素アッシャー）等を用いることで不要
部分を除去することができる。
【００１８】（実施例２） 以下、本発明の第２の実施例について図３を用いて説明
する。スキージ４の材料として親水性ではあるが水酸基
を含む割合が少ない金属製スキージ７（アルミニウム，
ステンレス，銀等の金属）の場合、トリクロロシリル基
を複数個含む［例えば、ＳｉＣｌ4、またはＳｉＨＣ
ｌ3，ＳｉＨ2Ｃｌ2，Ｃｌ−（ＳｉＣｌ2Ｏ）n−ＳｉＣ
ｌ3（ｎは整数）。特に、ＳｉＣｌ4を用いれば分子が小
さく水酸基に対する活性も大きいので、スキージ表面を
均一に親水化する効果が大きい］を混ぜた非水系溶媒、
例えばクロロホルム溶媒に１重量％溶解した溶液に３０
分程度浸漬すると、図３（Ａ）で示すように金属製スキ
ージ７の表面には親水性のＯＨ基８が多少とも存在する
ので表面で脱塩酸反応が生じトリクロロシリル基を複数
個含む物質のクロロシラン単分子膜が形成される。
する。スキージ４の材料として親水性ではあるが水酸基
を含む割合が少ない金属製スキージ７（アルミニウム，
ステンレス，銀等の金属）の場合、トリクロロシリル基
を複数個含む［例えば、ＳｉＣｌ4、またはＳｉＨＣ
ｌ3，ＳｉＨ2Ｃｌ2，Ｃｌ−（ＳｉＣｌ2Ｏ）n−ＳｉＣ
ｌ3（ｎは整数）。特に、ＳｉＣｌ4を用いれば分子が小
さく水酸基に対する活性も大きいので、スキージ表面を
均一に親水化する効果が大きい］を混ぜた非水系溶媒、
例えばクロロホルム溶媒に１重量％溶解した溶液に３０
分程度浸漬すると、図３（Ａ）で示すように金属製スキ
ージ７の表面には親水性のＯＨ基８が多少とも存在する
ので表面で脱塩酸反応が生じトリクロロシリル基を複数
個含む物質のクロロシラン単分子膜が形成される。
【００１９】例えば、トリクロロシリル基を複数個含む
物質としてＳｉＣｌ4を用いれば、金属製スキージ７の
表面には少量の親水基のＯＨ基８が露出されているの
で、表面で脱塩酸反応が生じ、
物質としてＳｉＣｌ4を用いれば、金属製スキージ７の
表面には少量の親水基のＯＨ基８が露出されているの
で、表面で脱塩酸反応が生じ、
【００２０】
【化２】
【００２１】のように分子が−ＳｉＯ−結合を介して表
面に形成される。
面に形成される。
【００２２】その後非水系の溶媒、例えばクロロホルム
で洗浄してさらに水で洗浄すると、金属製スキージ７と
反応していないＳｉＣｌ4分子は除去され、表面には
で洗浄してさらに水で洗浄すると、金属製スキージ７と
反応していないＳｉＣｌ4分子は除去され、表面には
【００２３】
【化３】
【００２４】等のシロキサン単分子膜９が得られる。
【００２５】なお、このときできたシロキサン単分子膜
９は金属製スキージ７とは−ＳｉＯ−の化学結合を介し
て完全に結合されているので剥がれることが全くない。
また、得られたシロキサン単分子膜９は表面にＳｉＯＨ
結合を数多く持ち、図３（Ｂ）に示すように当初のＯＨ
基８のおよそ３倍程度の数が生成される。
９は金属製スキージ７とは−ＳｉＯ−の化学結合を介し
て完全に結合されているので剥がれることが全くない。
また、得られたシロキサン単分子膜９は表面にＳｉＯＨ
結合を数多く持ち、図３（Ｂ）に示すように当初のＯＨ
基８のおよそ３倍程度の数が生成される。
【００２６】そこでさらに、フッ化炭素基およびクロロ
シラン基を含む物質を混ぜた非水系の溶媒、例えば、フ
ッ化炭素系界面活性剤であるＣＦ3（ＣＦ2）7（ＣＨ2）
2ＳｉＣｌ3を用い、１％程度の濃度で溶かした溶液［８
０％ｎ−ヘキサデカン（トルエン，キシレン，ジシクロ
ヘキシルでもよい），１０％四塩化炭素，８％クロロホ
ルム］を調整し、前記金属スキージ７にＳｉＯＨ結合を
数多く持つシロキサン単分子膜９の形成された上記金属
製スキージ７を１時間程度浸漬すると、表面には
シラン基を含む物質を混ぜた非水系の溶媒、例えば、フ
ッ化炭素系界面活性剤であるＣＦ3（ＣＦ2）7（ＣＨ2）
2ＳｉＣｌ3を用い、１％程度の濃度で溶かした溶液［８
０％ｎ−ヘキサデカン（トルエン，キシレン，ジシクロ
ヘキシルでもよい），１０％四塩化炭素，８％クロロホ
ルム］を調整し、前記金属スキージ７にＳｉＯＨ結合を
数多く持つシロキサン単分子膜９の形成された上記金属
製スキージ７を１時間程度浸漬すると、表面には
【００２７】
【化４】
【００２８】の結合が生成され、図３（Ｃ）に示すよう
にフッ素を含む化学吸着単分子膜６が金属製スキージ７
の表面と化学結合した状態でおよそ１５オングストロー
ムの膜厚で形成することができた。なお、上記フッ素を
含む化学吸着単分子膜６はきわめて強固に化学結合して
いるので全く剥離することがなかった。
にフッ素を含む化学吸着単分子膜６が金属製スキージ７
の表面と化学結合した状態でおよそ１５オングストロー
ムの膜厚で形成することができた。なお、上記フッ素を
含む化学吸着単分子膜６はきわめて強固に化学結合して
いるので全く剥離することがなかった。
【００２９】さらにまた、上記実施例では、フッ化炭素
系界面活性剤として ＣＦ3（ＣＦ2）7（ＣＨ2）2ＳｉＣｌ3 を用いたが、アルキル鎖部分にＣ＝ＣやＣ≡Ｃ基を付加
したり組み込んでおけばフッ素を含む化学吸着単分子膜
６形成後５メガラド程度の電子線放射で架橋できるので
さらにフッ素を含む化学吸着単分子膜６の硬度を向上さ
せることも可能である。
系界面活性剤として ＣＦ3（ＣＦ2）7（ＣＨ2）2ＳｉＣｌ3 を用いたが、アルキル鎖部分にＣ＝ＣやＣ≡Ｃ基を付加
したり組み込んでおけばフッ素を含む化学吸着単分子膜
６形成後５メガラド程度の電子線放射で架橋できるので
さらにフッ素を含む化学吸着単分子膜６の硬度を向上さ
せることも可能である。
【００３０】なお、フッ化炭素系界面活性剤として上記
のもの以外にも ＣＦ3ＣＨ2Ｏ（ＣＨ2）15ＳｉＣｌ3 ＣＦ3（ＣＨ）2Ｓｉ（ＣＨ3）2（ＣＨ2）15ＳｉＣｌ3 Ｆ（ＣＦ2）8（ＣＨ2）2Ｓｉ（ＣＨ3）2（Ｈ2）9ＳｉＣ
ｌ3 ＣＦ3ＣＯＯ（ＣＨ2）15ＳｉＣｌ3 ＣＦ3（ＣＦ2）5（ＣＨ2）2ＳｉＣｌ3 等が利用できることを確認した。
のもの以外にも ＣＦ3ＣＨ2Ｏ（ＣＨ2）15ＳｉＣｌ3 ＣＦ3（ＣＨ）2Ｓｉ（ＣＨ3）2（ＣＨ2）15ＳｉＣｌ3 Ｆ（ＣＦ2）8（ＣＨ2）2Ｓｉ（ＣＨ3）2（Ｈ2）9ＳｉＣ
ｌ3 ＣＦ3ＣＯＯ（ＣＨ2）15ＳｉＣｌ3 ＣＦ3（ＣＦ2）5（ＣＨ2）2ＳｉＣｌ3 等が利用できることを確認した。
【００３１】次に、この金属製スキージ７を用いて凹版
オフセット印刷を試みた。
オフセット印刷を試みた。
【００３２】先ず、従来のスキージとして何も表面処理
をしていない金属製スキージ（以下、未処理金属製スキ
ージと呼ぶ）と、未処理の金属製スキージに上記本発明
によるフッ素を含む化学吸着単分子膜６を表面に形成す
ることで作成した撥水撥油性金属製スキージ７（以下、
処理金属製スキージと呼ぶ）を用意した。また、印刷機
はコンピュータ制御のサーボモータで凹版および被印刷
体を載せたスキージを高精度に動かすようになったもの
を用いた。凹版は、Ａ４版サイズのライン型サーマルヘ
ッドのパターン（ピッチ５０ミクロンのパターンが１枚
の凹版に２００００ヵ所あるもの）を準備し、インキ３
としては、エッチングレジストインキおよび金レジネー
トインキを用いた。
をしていない金属製スキージ（以下、未処理金属製スキ
ージと呼ぶ）と、未処理の金属製スキージに上記本発明
によるフッ素を含む化学吸着単分子膜６を表面に形成す
ることで作成した撥水撥油性金属製スキージ７（以下、
処理金属製スキージと呼ぶ）を用意した。また、印刷機
はコンピュータ制御のサーボモータで凹版および被印刷
体を載せたスキージを高精度に動かすようになったもの
を用いた。凹版は、Ａ４版サイズのライン型サーマルヘ
ッドのパターン（ピッチ５０ミクロンのパターンが１枚
の凹版に２００００ヵ所あるもの）を準備し、インキ３
としては、エッチングレジストインキおよび金レジネー
トインキを用いた。
【００３３】金属製スキージ７の性能評価方法は、この
凹版を用いてグレーズアルミナ基板上に前記エッチング
レジストインキおよび金レジネートインキを用いて、各
１０枚，５００枚と連続して印刷した後の金属製スキー
ジ７の汚れ具合、および汚れの拭き取りやすさを評価し
た。インキ汚れの拭き取りには、汚れ拭き取り用ウエス
からの繊維ゴミの発生を避けるために、市販のクリーン
ウエスの中でも特に発塵性の低いものを用い、さらにア
セトンを併用して行った。
凹版を用いてグレーズアルミナ基板上に前記エッチング
レジストインキおよび金レジネートインキを用いて、各
１０枚，５００枚と連続して印刷した後の金属製スキー
ジ７の汚れ具合、および汚れの拭き取りやすさを評価し
た。インキ汚れの拭き取りには、汚れ拭き取り用ウエス
からの繊維ゴミの発生を避けるために、市販のクリーン
ウエスの中でも特に発塵性の低いものを用い、さらにア
セトンを併用して行った。
【００３４】エッチングレジストの場合 未処理スキージ １０枚目，５００枚目ともに汚れ
大および拭き取り難 処理スキージ １０枚目，５００枚目ともに汚れ
小および拭き取り軽 以上のように、金属製スキージ７は未処理スキージに比
較して、インキの汚れも付きにくく、付いた汚れも簡単
に除去できることがわかる。このように、金属製スキー
ジ７が汚れにくい、汚れてもクリーニングしやすいので
金属製スキージ７各部分に汚れとして付着したインキ３
が乾燥してできたかけら（インキかす）が発生しにく
く、結果的に印刷物の歩留りを上げることが可能にな
る。また、金属製スキージ７は未処理スキージに比較し
て動きもより滑らかであり、このため印刷枚数を５００
枚と増やしてもシャープな印刷パターンが得られた。
大および拭き取り難 処理スキージ １０枚目，５００枚目ともに汚れ
小および拭き取り軽 以上のように、金属製スキージ７は未処理スキージに比
較して、インキの汚れも付きにくく、付いた汚れも簡単
に除去できることがわかる。このように、金属製スキー
ジ７が汚れにくい、汚れてもクリーニングしやすいので
金属製スキージ７各部分に汚れとして付着したインキ３
が乾燥してできたかけら（インキかす）が発生しにく
く、結果的に印刷物の歩留りを上げることが可能にな
る。また、金属製スキージ７は未処理スキージに比較し
て動きもより滑らかであり、このため印刷枚数を５００
枚と増やしてもシャープな印刷パターンが得られた。
【００３５】また、金属製スキージ７は、実施例１で説
明したセラミック製スキージ４に比較して、加工のしや
すさ、価格等でメリットがあり、この金属製スキージ７
に撥水撥油性処理を施すことで、スキージの寿命を長く
することができる。
明したセラミック製スキージ４に比較して、加工のしや
すさ、価格等でメリットがあり、この金属製スキージ７
に撥水撥油性処理を施すことで、スキージの寿命を長く
することができる。
【００３６】また、金属製スキージ７全面に形成された
フッ素を含む化学吸着単分子膜６の内、撥水撥油性を必
要としない部分の化学吸着単分子膜６は除去してもよ
く、その除去方法としては、サンドブラスト等の物理的
な方法以外にも、フッ素を含む化学吸着単分子膜６を残
したい部分に粘着性物質（ポリイソブチレン等の樹脂）
を付着させた後、酸素プラズマ（フォトレジスト等の除
去に用いる酸素アッシャー）等を用いることで不要部分
を除去することができる。
フッ素を含む化学吸着単分子膜６の内、撥水撥油性を必
要としない部分の化学吸着単分子膜６は除去してもよ
く、その除去方法としては、サンドブラスト等の物理的
な方法以外にも、フッ素を含む化学吸着単分子膜６を残
したい部分に粘着性物質（ポリイソブチレン等の樹脂）
を付着させた後、酸素プラズマ（フォトレジスト等の除
去に用いる酸素アッシャー）等を用いることで不要部分
を除去することができる。
【００３７】
【発明の効果】以上のように本発明による撥水撥油性ス
キージは構成され、きわめて薄いナノメータレベルの膜
厚のフッ素を含む化学吸着単分子膜をスキージ表面に形
成するため、スキージの精度を損なうことがない。ま
た、このフッ素を含む化学吸着単分子膜は撥水撥油性に
優れるためスキージ表面のインキ汚れが発生しにくいも
のであり、従って印刷の歩留りを高める効果が大きく、
工業的価値の大なるものである。
キージは構成され、きわめて薄いナノメータレベルの膜
厚のフッ素を含む化学吸着単分子膜をスキージ表面に形
成するため、スキージの精度を損なうことがない。ま
た、このフッ素を含む化学吸着単分子膜は撥水撥油性に
優れるためスキージ表面のインキ汚れが発生しにくいも
のであり、従って印刷の歩留りを高める効果が大きく、
工業的価値の大なるものである。
【図１】本発明の一実施例によるスキージの構成を示す
斜視図
斜視図
【図２】本発明のスキージの表面を分子レベルまで拡大
した断面概念図
した断面概念図
【図３】（Ａ）〜（Ｃ）本発明の第２の実施例を示すス
キージの表面を分子レベルまで拡大した工程順の断面概
念図
キージの表面を分子レベルまで拡大した工程順の断面概
念図
【図４】（Ａ）従来例によるスキージを示す斜視図 （Ｂ）従来例の凹版にインキを充填する作業を示す断面
図
図
１ 凹版 ２ 凹部パターン ３ インキ ４ スキージ ５ インキ汚れ ６ フッ素を含む化学吸着単分子膜 ７ 金属製スキージ ８ ＯＨ基 ９ シロキサン単分子膜
フロントページの続き (72)発明者 美濃 規央 大阪府門真市大字門真1006番地 松下電 器産業株式会社内 (72)発明者 小川 一文 大阪府門真市大字門真1006番地 松下電 器産業株式会社内 (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) B41N 10/00 B41F 9/10 B41F 15/44
Claims (7)
- 【請求項１】スキージの表面にフッ素を含む化学吸着単
分子膜を設けてなることを特徴とする撥水撥油性スキー
ジ。 - 【請求項２】スキージの表面に部分的にフッ素を含む化
学吸着単分子膜を設けてなることを特徴とする撥水撥油
性スキージ。 - 【請求項３】スキージの表面に少なくともシロキサン系
単分子膜を介してフッ素を含む化学吸着単分子膜を設け
てなることを特徴とした撥水撥油性スキージ。 - 【請求項４】一端にクロロシラン基（ＳｉＣｌ n Ｘ
3-n 基 、 ｎ＝１,２,３、Ｘは官能基）を有し他の一端にフ
ッ化炭素基を有するクロロシラン系界面活性剤を溶かし
た有機溶媒中にスキージを浸漬し、前記スキージの表面
に前記クロロシラン系界面活性剤よりなるフッ素を含む
化学吸着単分子膜を形成する撥水撥油性スキージの製造
方法。 - 【請求項５】クロロシリル基を含む物質を混ぜた非水系
溶媒とスキージとを接触させて前記スキージの水酸基と
前記クロロシリル基を含む物質のクロロシリル基とを反
応させて前記クロロシリル基を含む物質を前記スキージ
の表面に析出させる工程と、非水系溶媒を用い前記スキ
ージの表面に残った余分なクロロシリル基を含む物質を
洗浄除去した後、水と反応させて前記スキージの表面に
シロール基を含む物質よりなる単分子膜を形成する工程
と、一端にクロロシラン基（ＳｉＣｌnＸ3-n基、ｎ＝
１,２,３、Ｘは官能基）を有し他の一端に直鎖状フッ化
炭素基を含むクロロシラン系界面活性剤を前記スキージ
の表面に化学吸着しフッ素を含む化学吸着単分子膜を累
積する撥水撥油性スキージの製造方法。 - 【請求項６】クロロシリル基を含む物質としてＳｉＣｌ
4、またはＳｉＨＣｌ3，ＳｉＨ2Ｃｌ2，Ｃｌ−（ＳｉＣ
ｌ2Ｏ）n−ＳｉＣｌ3（ｎは整数）を用いることを特徴
とした請求項５記載の撥水撥油性スキージの製造方法。 - 【請求項７】一端にクロロシラン基を有し他の一端に直
鎖状フッ化炭素基を含むクロロシラン系界面活性剤とし
てＣＦ3−（ＣＦ2）n−Ｒ−ＳｉＸpＣｌ3-p（ｎは０ま
たは整数、Ｒはアルキル基やＣ＝Ｃ，Ｃ≡Ｃまたはシリ
コンや酸素原子を含む官能基を表わすがなくともよい、
ＸはＨまたはアルキル基等の置換基、ｐは０または１ま
たは２）を用いることを特徴とした請求項５記載の撥水
撥油性スキージの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1518791A JP3019426B2 (ja) | 1991-02-06 | 1991-02-06 | 撥水撥油性スキージおよびその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1518791A JP3019426B2 (ja) | 1991-02-06 | 1991-02-06 | 撥水撥油性スキージおよびその製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04249157A JPH04249157A (ja) | 1992-09-04 |
| JP3019426B2 true JP3019426B2 (ja) | 2000-03-13 |
Family
ID=11881838
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1518791A Expired - Fee Related JP3019426B2 (ja) | 1991-02-06 | 1991-02-06 | 撥水撥油性スキージおよびその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3019426B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE29718387U1 (de) | 1996-10-25 | 1998-01-22 | Koenig & Bauer-Albert Aktiengesellschaft, 97080 Würzburg | Rakel für eine Rotationsdruckmaschine |
| JP4918310B2 (ja) * | 2006-08-28 | 2012-04-18 | Ｊｘ日鉱日石金属株式会社 | プリント配線板製造用の金属製支持体 |
-
1991
- 1991-02-06 JP JP1518791A patent/JP3019426B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH04249157A (ja) | 1992-09-04 |
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