JP3015465B2

JP3015465B2 - 顕微鏡結像光路を有する光学装置の露光時間を測定する方法および装置

Info

Publication number: JP3015465B2
Application number: JP6507681A
Authority: JP
Inventors: レマー、ルツィウス; ギルベルト、マンフレット; ヘルマン、フランク
Original assignee: ライカミクロズュステムスヴェツラーゲーエムベーハー
Priority date: 1992-09-21
Filing date: 1993-09-15
Publication date: 2000-03-06
Anticipated expiration: 2015-03-06
Also published as: WO1994007164A1; DE59307605D1; DE4231506A1; US5453829A; JPH07501632A; CN1043926C; CN1084654A; EP0613564A1; ATE159823T1; EP0613564B1

Description

【発明の詳細な説明】［技術分野］本出願は、顕微鏡結像光路と、観察光路と、測定光路
と、入射光路とを有する光学装置の露光時間を測定する
方法および装置に関する。

［背景技術］マイクロ写真装置、マイクロスコープチャンバまたは
測光計の露光時間を測定する場合、殆どの場合、中間像
の光を観察光路と測定光路とに分割する。更に、視野の
所定の一部分のみを測定に利用する。公知の露光測定法
および装置は、３つの系グループに分割される。これら
グループを第１〜３図に示す。

第１図に、結像光路Ａと、予調心した固定の測定絞り
40を備え上記結像光路の延長線上にある測定光路Ｍとを
示す。方向変更プリズム41から、図示箇所にアイピース
中間像面19を有する観察光路Ｂが分岐される。測定絞り
40は、平面19と共役な平面内に位置する。箇所19には、
中間像内の測定絞り像の位置をマークする正確に位置調
整されたマーク板が設けてある。簡単な顕微鏡取付カメ
ラの場合、この公知の原理を利用する。この場合、使用
できるのが固定の測定絞りのみであるという欠点があ
る。更に、暗いプレパラート位置においてマーク板42の
マーク像を見ることができない。この公知の入射（Eins
piegelung）の原理にもとづき、複数の測定絞りを使用
できるが、アイピース視野内に、選択された測定絞りを
明確に現わすことができないという欠点がある。

第２図に、別の公知の実施例を示した。この場合、位
置可変、大きさ可変の測定絞り43は、光源Ｌ、可旋回ミ
ラー44,部分透過性面39を有するプリズム系Ｐおよび三
重ミラーＴによって、逆進してアイピース中間像面19に
入射される。この公知の装置によって、ディテール−測
定絞り（Detail−Messblende）の位置および形状の瞬時
的状態が示される。この原理は、例えば、リターン反射
・ビノチューブ（Ｒckspiegel−Binotuben）に実現さ
れる。取付カメラの位置可変の測定絞りまたは測光器の
大きさ可変の測定絞りを入射できる。この装置の欠点
は、特に、光学的、機械的に高度な設備・経費がかか
り、反射された光の最大25％が活用されるに過ぎないの
で、存在する迷光が、望ましくない明るさおよび反射を
生ずるという点にある。更に、絞り箇所のプレパラート
が反射によって照明され、従って、表示および測定を交
互に行わなければならないという欠点がある。

同じく、測定光路Ｍに測定絞り40と、部分透過性面39
を含むプリズム系Ｐとを有する公知の第３の入射系の場
合、測定絞り40の輪郭は、入射光路Ｅを介してアイピー
ス中間像19に映し出される。測定絞りの輪郭を有するホ
ルダは、19との共役面45に設置されている。第３図に示
した装置は、市販の顕微鏡写真装置においてフオーマッ
ト表示に使用される。原理的には、連続的に調節できる
同期された測定絞りおよび入射絞りを使用することも考
えられるが、入射光路Ｅに設置した入射絞りは、測定絞
りの運動、形状変化およびまたは大きさ変化に正確に追
従しなければならない。従って、現在のコスト観点およ
び製造観点から容認できないような極めて高度の機械的
要求・経費が必要となる。即ち、この公知の第３の入射
原理のさらに別の欠点として、可変の測定絞りおよびそ
の補完の輪郭が実現困難であるという点が挙げられる。

［発明の開示］従って、本発明の課題は、公知の方法および装置の欠
点を排除し、測定光路に選択した測定絞り位置を、同時
に、観察光路にも明確に映し出す入射法および入射系を
提示することにある。

この課題は、請求の範囲第１項および請求の範囲第６
項の特徴記載部分にそれぞれ開示の如き、冒頭に述べた
種類の方法および装置によって解決される。別の有利な
実施例を関連の従属請求の範囲に示した。即ち、本発明
の方法は、顕微鏡結像光路と、観察光路と、測定光路
と、入射光路とを有する光学装置の露光時間を測定する
方法において、複数の個別の測定絞りを含み且つ測定光路（Ｍ）に配
置された測定絞りプレートおよび複数の個別のマスクを
含み入射光路（Ｅ）にマーク板の近傍に配置されたマス
クプレートが、同期駆動され、かくして、その都度、測定光路（Ｍ）に配された各測
定絞りが、同時に、入射光路（Ｅ）を経て、対応するマ
スクと測定絞りの輪郭または輪郭部分を有するマーク板
とによって観察光路（Ｂ）内にあるアイピース中間像平
面に映し出されることを特徴とする。

また本発明の装置は、顕微鏡結像光路と、観察光路
と、測定光路と、入射光路とを有する光学装置の露光時
間を測定する装置において、（ａ）測定光路（Ｍ）には、物体（Ｏ）の平面と共役の
中間像平面に、寸法の異なる少なくとも２つの測定絞り
を含む測定絞りプレートが可動に配置されており、（ｂ）入射光路（Ｍ）には、光源（Ｌ）と、アイピース
中間像平面との共役面に配置されたマーク板と、測定絞
りを補完する少なくとも２つのマスクを含み上記マーク
板の近傍に配置された可動のマスクプレートとが設けて
あり、（ｃ）部分透過性面を有し結像路（Ａ）に配置された合
成プリズム系（Ｐ）を介して入射光路（Ｅ）の結合およ
び観察光路（Ａ）の解離が行われることを特徴とする。

以下に本発明の好適な実施形態を示す。

回転軸を介してプレートを駆動する電動機と機能的に
結合された同期装置によって、測定絞りプレートおよび
マスクプレートの同期運動を制御することが好ましい。

位置可変およびまたは寸法可変の測定絞りを測定光路
（Ｍ）に形成し且つ位置可変およびまたは寸法可変の等
価のマスクを入射光路（Ｅ）に形成するため、それぞれ
複数の絞りを含み部分的に重畳する測定絞りデイスク対
およびそれぞれ複数の等価のマスクを含む同様のマスク
デイスク対が、可動に配置され、かくして、第１測定絞
りデイスクに配置された絞りと第２測定絞りデイスク上
に配置された絞りとを測定光路（Ｍ）の範囲において幾
何学的に重畳させることによって、第１マスクデイスク
に配置されたマスクと第２マスクデイスクに配置された
マスクとを入射光路（Ｅ）において幾何学的に重畳させ
ることによって同様に形成されるマスクと対応して生じ
た測定絞りを調節できるよう構成することが好ましい。

マーク板に取付けた測定絞りの輪郭または輪郭部分
が、観察光路（Ｂ）への投影時に、アイピース中間像内
に明るい輪郭として現れるようにすることが好ましい。

マーク板が、測定絞りプレート上にある測定絞りの−
好ましくは線、破線、点または十字の形の−反転の輪郭
または反転の輪郭部分を含み、従って、透明な部分範囲
として不透明のマーク板に取りつけてあることが好まし
い。

一つの電動機が、回転軸を介して測定絞りプレートに
結合され、また他の電動機が、回転軸を介してマスクプ
レートに結合され、双方の電動機が、電路を介して同期
装置によって制御されることが好ましい。

（ａ）測定光路（Ｍ）には、面状の開口の形の大きさの
異なる絞りを周縁範囲に有し部分的に互いに重畳し、回
転自在に軸支された不透明な測定絞りデイスクが設けて
あり、上記デイスクの回転軸線が、測定光路（Ｍ）の軸
線に平行に延びるよう、設置されていること、（ｂ）入射光路（Ｅ）には、面状の開口の形の対応する
寸法のマスクを夫々周縁範囲に有し部分的に互いに重畳
する、回転自在に軸支された２つの同様の不透明なマス
クデイスクが設けてあり、上記デイスクの軸線が、入射
光路（Ｅ）の軸線に平行に延びるよう設置されているこ
とが好ましい。

絞りデイスクおよびこの絞りデイスク上に取付けられ
た絞りは、そのジオメトリ、その寸法および位置に関し
て互いに同一であることが好ましい。

同様のマスクデイスクおよびこのマスクデイスク上に
取付けたマスクが、そのジオメトリ、その寸法およびそ
の位置に関して同一であることが好ましい。

絞りまたはマスクは、スリット状の長方形絞りまたは
マスクであることが好ましい。

回転軸の位置が、測定光路（Ｍ）の軸の位置ととも
に、直角三角形を形成し、その直角頂点が、測定光路
（Ｍ）の軸の位置にあることが好ましい。

双方のマスクデイスクの回転軸の位置が、入射光路
（Ｅ）の軸の位置とともに、直角三角形を形成し、その
直角頂点が、入射光路（Ｅ）の軸の位置にあることが好
ましい。

各長方形絞りが、上記絞りの長辺に立てた中心垂直線
がそれぞれ対応するデイスクの中心点に向くよう、測定
絞りデイスク上に配置されていることが好ましい。

各長方形マスクが、上記マスクの長辺に立てた中心垂
直線がそれぞれ対応するマスクデイスクの中心に向くよ
う、マスクデイスク上に配置されていることが好まし
い。

測定絞りデイスク対およびマスクデイスク対を相互に
同期変位する手段は、双方のデイスク対の間に設けてあ
ることが好ましい。

測定絞りまたはマスクには、色フイルタまたはグレイ
フイルタが設けてあることが好ましい。

本発明の方法、装置は複数のまたはすべての形成可能
な測定絞りの形状の測定データを記憶、評価する測光ま
たは露光測定のために使用することができる。なお、尺
度およびスケールの図式表示のために、多機能のマーク
板模様の実際的部分の所定のマスクによってマーク像お
よび指示を投影することが好ましい。図面を参照して、
本発明に係る方法および本発明に係る装置を詳細に説明
する。

［図面の簡単な説明］第１〜３図は、３つの公知の露光測定法およびその対
応する装置の図面、第４図は、本発明に係る装置の第１実施例の図面、第5a,5b図は、視野寸法の異なる２つの測定絞りの図
面、第６図は、（十字線）マーク像（Strichbild）および
輪郭フラグメント像の図面、第７図は、測定絞りプレートの図面、第8a,8b図は、測定光路内の測定絞りプレートの２種
の作動位置を示す図面、第９図は、マスクプレートの図面、第10a,10b図は、入射光路内のマスクプレートの各種
の作動位置を示す図面、第11a図は、３つの長方形絞りを含む測定絞りデイス
クの図面、第11b図は、測定光路内の作動位置にある２つの部分
的に重畳する測定絞りデイスクの図面、第11c図は、得られる９つの測定絞り形状を示す図面
である。

［発明を実施するための最良の形態］第４図に、本発明に係る装置を模式的に示した。各部
分光路の配置は、第３図の実施例と同一である。結像光
路Ａは、物体Ｏから全系の垂直な光軸の方向へ測定装置
（図示してない）に至る。対応する測定光路をＭで示し
た。プリズム系Ｐは、観察光路Ｂを形成する部分透過性
面39を含む。アイピース中間像面を19で示す。入射光路
Ｅは、光源Ｌから出発する。入射光路Ｅには、19および
物体Ｏ表面と共役の平面に、（十字線）マーク板（Stri
chplatte）７が設けてあり、その近傍には、電動機15お
よび関連の回転軸14によって可動に保持されたマスクプ
レート11が設けてある。測定光路Ｍには、−同じく、19
と共役な平面に−電動機６および回転軸５によって可動
に保持された測定絞りプレート４が設けてある。入射光
路Ｅは、プリズム系Ｐの範囲において、部分透過性面39
を通過し、これ以降、観察光路と一致する。同期装置16
は、それぞれ、電路18,17を介して電動機6,15に接続さ
れる。

不透明デイスクとして構成された測定絞りプレート４
には、第７図から明らかな如く、それぞれ大きい測定絞
り３および小さい測定絞り２として機能する２つの正方
形の開口が設けてある。第７図において、測定絞りプレ
ート４の回転軸線の位置を十字点５で示す。円状の二重
矢印で、回転軸線５のまわりに板４を動力で旋回できる
ことを示す。

第8a,8b図に、測定絞りプレート４の双方の基本的位
置を示す。第8a図において、小さい測定絞り２は、作動
位置、即ち、測定光路Ｍの範囲にある。第8b図では、回
転軸線５のまわりに180゜回転されて、大きい測定絞り
３が作動位置を取る。測定絞り2,3の輪郭または輪郭部
分のみが、マーク板７に反転して配設してある。輪郭
は、実線、破線または点々から構成できる。しかしなが
ら、正方形のコーナ点のみを輪郭部分としてマーク板７
に反転して配設することもできる。マーク板７上の輪郭
づけ（線）は透光性であるので、輪郭づけの投影時に、
観察光路Ｂのアイピース中間像19には、上記輪郭の対応
して明るい像が現れる。第６図に、この種の（十字線）
マーク像８を示す。この像は、小さい正方形を示す明る
い４つの十字10と、さらに、−これに中心対称の−大き
い正方形を示す明るい４つの十字９とからなる。従っ
て、選択される測定絞り2,3の連続の輪郭または不連続
の輪郭部分は、観察者に、観察光路Ｂの顕微鏡の物体像
上に明るい標識として認められる。

マーク板７の全標識情報が観察者に同時に与えられる
ことのないよう、マスクプレート11が、マーク板７の近
傍に且つマーク板に平行に回転自在に設けてある。

第９図に示した如く、上記マスクプレート11は、不透
明材料からなり、正方形に構成された第１マスク12と、
小さい正方形のマスク13の第２系とを含む。マスクプレ
ート11の回転軸の貫通点を14で示した。円状の二重矢印
は、マスクプレート11を180゜だけ回転できることを意
味する。

第10a図に、マスク12が作動位置にあるマスクプレー
ト11の位置を示す。即ち、上記マスクは、入射光路Ｅの
範囲にある。光源Ｌから出る入射光路Ｅは、マスクプレ
ート11によって被われており、従って、正方形マスク12
の範囲を通過できるに過ぎない。次いで、上記入射光路
は、マーク板７に当たり、丁度、輪郭部分10を検知し、
一方、マーク板７上にある輪郭部分９（Konturen−Frag
mente）は、マスクプレート11によって“マスク”さ
れ、従って、観察者には見えない。

回転軸14のまわりにマスクプレートを回転すると、４
つのマスク13は、作動位置を取り、入射光路Ｅの光軸に
関して点対称に配置される。４つのマスク13は、マーク
板７上の輪郭部分９およびその近傍範囲の遮蔽を解放す
るので、光源Ｌを点灯した場合、アイピース中間像19内
には、輪郭部分９の像が明るい十字として見える。

即ち、測定絞りプレート４と、マーク板７の近傍にお
けるマスクプレート11との同期運動によって、まさに選
択した測定絞り2,3に加えて、測定光路Ｍおよび観察光
路Ｂに同時に、対応する測定絞り輪郭を明るく示すこと
ができる。この操作は、電動機6,15と機能的に結合する
同期装置16によって実施できる。

第11a〜11c図に、本発明の第２実施例を示した。第11
a図に、不透明材料からなり、回転自在に−回転軸25の
位置参照−保持した測定絞りデイスク20を示す。周縁範
囲には、図示の実施例の場合は長方形絞りとして構成さ
れた絞り22〜24が設けてある。これらのスリット状長方
形絞り22〜24の長辺に中心垂直線を立てれば、上記垂直
線は回転軸25の貫通点と一致するデイスク中心点へ向
く。

第11b図に、第11a図に示した種類の２つの同一のデイ
スク20,21を示した。この場合、上記デイスクは、部分
的に重畳し、互いに僅かに離れた平行な平面内に対向し
て位置する。紙面上の回転軸25,26の貫通点および測定
光路Ｍの貫通点は、−図示の如く−直角三角形の頂点を
なし、直角は、測定光路Ｍの貫通点にある。この幾何学
的空間配置において、作動位置にある長方形絞り24,29
は相互に直角をなす。この場合、もちろん、双方の絞り
24,29の中心の小さい長方形重畳範囲は、測定光路Ｍの
光軸の貫通点の範囲において、第11c図に参照数字30で
示した“組合せ”絞り開口を形成する。正方形絞り34
（第11c図）は、対応する態様で、測定絞りデイスク20
の絞り23および測定絞りデイスク21の絞り28を測定光路
Ｍの範囲において重畳させることによって、形成され
る。第11c図に示した他のすべての絞りのジオメトリ
は、第11b図のすべての可能な調節方式の対応するサイ
クリックな交換によって形成できる。

第11b図に示した上記測定絞りデイスク対20,21は、第
４図に示した測定絞りプレート４の代わりに設置され
る。同様に、入射光路Ｅには、マスクプレート11の代わ
りに、長方形の各マスクの装備および双方のマスクデイ
スク上のその配置に関して第11b図に示した配置に完全
に対応するマスクデイスク対を設置する。マスクデイス
ク対の配置には、上記原理にもとづき、各ディスクに、
一つのディスク内において位置、形状および寸法の異な
る複数の絞りないしマスクを形成し、二つのディスクを
互いに同期して作動位置に置くことができるという利点
がある。提案した方式にもとづけば、測定絞りないしマ
スクのジオメトリは、デイスクの操作角度に不感であ
る。クリテイカルでなく簡単な構造が得られる。

本発明の別の実施例にもとづき、入射光または被測定
光の色調または強度を変更するため、色フイルタまたは
グレイフイルタを測定絞りまたはマスクに設けることが
できる。この場合、例えば、マーク板７の特定部分を着
色して目だたせることもできる。

複数のまたはすべての表示・形成可能な測定絞り形状
の測定データを利用する測光および露光測定のために本
発明に係る装置または本発明に係る方法を使用できる。

更に、例えば、広範な多機能のマーク像の実際の部分
のマスク（Ausblenden）によって、マーク像および指示
のとりこみ投影を行い、例えば、対物レンズ切換時に尺
度スケールのマーク（ｍ−マーク）の表示のため、上記
投影を自動的にトリガできる。

本発明の枠内において絞りまたはマスクの幾何学的形
状の他のバリエーションが可能である。

符号の説明Ａ結像光路Ｂ観察光路Ｅ入射光路（Einspiegelungstrahlengang）Ｍ測定光路Ｒリターン反射光路（Ｒckspiegelungsstrahlengan
g）Ｏ物体Ｐプリズム系Ｌ光源Ｔ三重ミラー１視野境界２小さい測定絞り３大きい測定絞り４測定絞りプレート５回転軸６電動機７（十字線）マーク板（Strichplatte）８マーク像（Strichbild）９輪郭部分 10 輪郭部分 11 マスクプレート 12 マスク 13 マスク 14 回転軸 15 電動機 16 同期装置 17 電路 18 電路 19 アイピース中間像面 20,21 測定絞りデイスク 22−24 絞り 25 回転軸 26 回転軸 27−29 絞り 30−38 測定絞り 39 部分透過性面 40 （固定の）測定絞り 41 方向変更プリズム 42 マーク板 43 大きさ可変の測定絞り 44 旋回ミラー 45 共役面

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者ヘルマン、フランクドイツ連邦共和国、デー―56077 コブレンツ、ダーリエンヴェーク３ (56)参考文献特開昭61−223519（ＪＰ，Ａ) 特開昭63−116114（ＪＰ，Ａ) 特開昭61−133918（ＪＰ，Ａ) 特開昭58−168027（ＪＰ，Ａ) 特開平３−141315（ＪＰ，Ａ) 実開平３−26110（ＪＰ，Ｕ) 実開平４−11510（ＪＰ，Ｕ) (58)調査した分野(Int.Cl.⁷，ＤＢ名) G02B 19/00 - 21/00 G02B 21/06 - 21/36

Claims

(57)【特許請求の範囲】

【請求項１】顕微鏡結像光路と、観察光路と、測定光路
と、入射光路とを有する光学装置の露光時間を測定する
方法において、複数の個別の測定絞り（2,3）を含み且つ測定光路
（Ｍ）に配置された測定絞りプレート（４）および複数
の個別のマスク（12,13）を含み入射光路（Ｅ）にマー
ク板（７）の近傍に配置されたマスクプレート（11）
が、同期駆動され、かくして、その都度、測定光路（Ｍ）に配された各測定
絞り（２または３）が、同時に、入射光路（Ｅ）を経
て、対応するマスク（12または13）と測定絞りの輪郭ま
たは輪郭部分を有するマーク板（７）とによって観察光
路（Ｂ）内にあるアイピース中間像平面（19）に映し出
されることを特徴とする方法。
【請求項２】回転軸（５または14）を介してプレート
（４または11）を駆動する電動機（６または15）と機能
的に結合された同期装置（16）によって、測定絞りプレ
ート（４）およびマスクプレート（11）の同期運動を制
御することを特徴とする請求の範囲第１項記載の方法。
【請求項３】位置可変およびまたは寸法可変の測定絞り
（30〜38）を測定光路（Ｍ）に形成し且つ位置可変およ
びまたは寸法可変の等価のマスクを入射光路（Ｅ）に形
成するため、それぞれ複数の絞り（22〜24;27〜29）を
含み部分的に重畳する測定絞りデイスク対（20;21）お
よびそれぞれ複数の等価のマスクを含む同様のマスクデ
イスク対が、可動に配置され、かくして、第１測定絞り
デイスク（21）に配置された絞り（22または23または2
4）と第２測定絞りデイスク（21）上に配置された絞り
（27または28または29）とを測定光路（Ｍ）の範囲にお
いて幾何学的に重畳させることによって、第１マスクデ
イスクに配置されたマスクと第２マスクデイスクに配置
されたマスクとを入射光路（Ｅ）において幾何学的に重
畳させることによって同様に形成されるマスクと対応し
て生じた測定絞り（30〜38）を調節できることを特徴と
する請求の範囲第１又は２項に記載の方法。
【請求項４】マーク板に取付けた測定絞り（2,3）の輪
郭または輪郭部分が、観察光路（Ｂ）への投影時に、ア
イピース中間像（19）内に明るい輪郭として現れること
を特徴とする請求の範囲第１〜３項の１つに記載の方
法。
【請求項５】複数のまたはすべての形成可能な測定絞り
の形状の測定データを記憶、評価する測光または露光測
定のための請求の範囲第１項〜第４項のいずれか１つに
記載の方法。
【請求項６】顕微鏡結像光路と、観察光路と、測定光路
と、入射光路とを有する光学装置の露光時間を測定する
装置において、（ａ）測定光路（Ｍ）には、物体（Ｏ）の平面と共役の
中間像平面に、寸法の異なる少なくとも２つの測定絞り
（2,3）を含む測定絞りプレート（４）が可動に配置さ
れており、（ｂ）入射光路（Ｍ）には、光源（Ｌ）と、アイピース
中間像平面（19）との共役面に配置されたマーク板
（７）と、測定絞り（2,3）を補完する少なくとも２つ
のマスク（12,13）を含み上記マーク板の近傍に配置さ
れた可動のマスクプレート（11）とが設けてあり、（ｃ）部分透過性面（39）を有し結像路（Ａ）に配置さ
れた合成プリズム系（Ｐ）を介して入射光路（Ｅ）の結
合および観察光路（Ａ）の解離が行われることを特徴と
する装置。
【請求項７】マーク板（７）が、測定絞りプレート
（４）上にある測定絞り（2,3）の反転の輪郭または反
転の輪郭部分を含み、従って、透明な部分範囲として不
透明のマーク板（７）に取りつけてあることを特徴とす
る請求の範囲第６項記載の装置。
【請求項８】一つの電動機（６）が、回転軸（５）を介
して測定絞りプレート（４）に結合され、また一つの電
動機（15）が、回転軸（14）を介してマスクプレート
（11）に結合され、双方の電動機（6,15）が、電路（1
8,17）を介して同期装置（16）によって制御されること
を特徴とする請求の範囲第6,7項の１つに記載の装置。
【請求項９】（ａ）測定光路（Ｍ）には、面状の閉口の
形の大きさの異なる絞り（22〜24;27〜29）を周縁範囲
に有し部分的に互いに重畳し、回転自在に軸支された不
透明な測定絞りデイスク（20,21）が設けてあり、上記
デイスクの回転軸線（25,26）が、測定光路（Ｍ）の軸
線に平行に延びるよう、設置されていること、（ｂ）入射光路（Ｅ）には、面状の開口の形の対応する
寸法のマスクを夫々周縁範囲に有し部分的に互いに重畳
する、回転自在に軸支された２つの同様の不透明なマス
クデイスクが設けてあり、上記デイスクの軸線が、入射
光路（Ｅ）の軸線に平行に延びるよう設置されているこ
とを特徴とする請求の範囲第６〜８の１つに記載の装
置。
【請求項１０】前記測定絞りデイスク（20または21）の
夫々が、前記各絞りデイスク上に取付けられた１以上の
絞り（22〜24または27〜29）を有し、前記測定絞りディ
スク（20,21）が、前記絞りの形状、寸法および位置関
係に関して互いに同一であることを特徴とする請求の範
囲第９又は10項記載の装置。
【請求項１１】前記２つのマスクデイスクが夫々各マス
クデイスク上に取付けた１以上のマスクを有し、前記マ
スクデイスクが該マスクの形状、寸法および位置関係に
関して、互いに同一であることを特徴とする請求の範囲
第９項記載の装置。
【請求項１２】前記絞り（22〜24;27〜29）または該マ
スクが、スリット状の長方形絞りまたはマスクであるこ
とを特徴とする請求の範囲第９〜11項の１つに記載の装
置。
【請求項１３】回転軸（25および26）の位置が、測定光
路（Ｍ）の軸の位置とともに、直角三角形を形成し、そ
の直角頂点が、測定光路（Ｍ）の軸の位置にあることを
特徴とする請求の範囲第９〜12項の１つに記載の装置。
【請求項１４】双方のマスクデイスクの回転軸の位置
が、入射光路（Ｅ）の軸の位置とともに、直角三角形を
形成し、その直角頂点が、入射光路（Ｅ）の軸の位置に
あることを特徴とする請求の範囲第９〜12項の１つに記
載の装置。
【請求項１５】各長方形絞り（22〜24;27〜29）が、上
記絞りの長辺に立てた中心垂直線がそれぞれ対応するデ
イスク（20または21）の中心点（25,26）に向くよう、
測定絞りデイスク（20,21）上に配置されていることを
特徴とする請求の範囲第12項記載の装置。
【請求項１６】各長方形マスクが、上記マスクの長辺に
立てた中心垂直線がそれぞれ対応するマスクデイスクの
中心に向くよう、マスクデイスク上に配置されているこ
とを特徴とする請求の範囲第12項記載の装置。
【請求項１７】測定絞りデイスク対およびマスクデイス
ク対を相互に同期変位する手段が、双方のデイスク対の
間に設けてあることを特徴とする請求の範囲第９〜16項
の１つに記載の装置。
【請求項１８】測定絞り（2,3;22〜24;27〜29）または
マスク（12,13）には、色フイルタまたはクレイフイル
タが設けてあることを特徴とする請求の範囲第６〜17項
の１つに記載の装置。
【請求項１９】尺度およびスケールの図式表示のため
に、多機能のマーク板模様の実際的部分の所定のマスク
によってマーク像および指示を投影することを特徴とす
る請求の範囲第５〜18項の１つに記載の装置。