JP3007648B2 - Method for manufacturing adhesive printed wiring board for electroless plating and printed wiring board - Google Patents

Method for manufacturing adhesive printed wiring board for electroless plating and printed wiring board

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JP3007648B2
JP3007648B2 JP2023313A JP2331390A JP3007648B2 JP 3007648 B2 JP3007648 B2 JP 3007648B2 JP 2023313 A JP2023313 A JP 2023313A JP 2331390 A JP2331390 A JP 2331390A JP 3007648 B2 JP3007648 B2 JP 3007648B2
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acid
epoxy resin
resin powder
adhesive
adhesive layer
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亮 榎本
元雄 浅井
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Ibiden Co Ltd
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    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K2203/00Indexing scheme relating to apparatus or processes for manufacturing printed circuits covered by H05K3/00
    • H05K2203/07Treatments involving liquids, e.g. plating, rinsing
    • H05K2203/0756Uses of liquids, e.g. rinsing, coating, dissolving
    • H05K2203/0773Dissolving the filler without dissolving the matrix material; Dissolving the matrix material without dissolving the filler

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  • Chemically Coating (AREA)
  • Manufacturing Of Printed Wiring (AREA)
  • Epoxy Resins (AREA)
  • Adhesives Or Adhesive Processes (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、アンカー効果(無電解めっき膜の密着性)
に優れた接着剤とこの接着剤を用いて精度の高いプリン
ト配線板を製造する方法に関し、特に耐熱性、電気絶縁
性、化学的安定性が良く、とりわけアンカー形状がシャ
ープになるためにめっき膜の密着性が極めて優れたもの
となるプリント配線板製造用接着剤を提案すると同時
に、この接着剤を用いた高精度のプリント配線板を有利
に製造する方法およびプリント配線板に関するものであ
る。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Industrial Application Field] The present invention relates to an anchor effect (adhesion of an electroless plating film).
Excellent adhesive and a method of manufacturing a high-precision printed wiring board using this adhesive, especially the heat resistance, electrical insulation, chemical stability is good, especially the sharpness of the anchor shape plating film The present invention relates to a method for producing a printed wiring board using the adhesive, and a method and a printed wiring board for advantageously producing a high-precision printed wiring board using the adhesive.

〔従来の技術〕[Conventional technology]

近年、エレクトロニクスの進歩はめざましく、これに
伴い電子機器はより一層の小型化あるいは高速化が必要
となっている。このために、プリント配線板、特にICや
LSIなどの部分を装着したプリント配線板については、
ファインパターンによる高密度化および高い信頼性が求
められている。
2. Description of the Related Art In recent years, progress in electronics has been remarkable, and with this, electronic devices need to be further reduced in size or speed. For this reason, printed wiring boards, especially ICs and
For printed wiring boards equipped with parts such as LSI,
High density and high reliability by fine patterns are required.

従来、プリント配線板への導体回路(パターン)の形
成技術としては、基板に銅薄を積層した後、フォトエッ
チングする形成のエッチドフォイル方法と呼ばれる方法
が代表的である。この方法は、基板との密着性に優れた
導体パターンを形成することができるという特徴がある
が、一方では銅箔の厚さが厚いためにエッチングにより
高精度のファインパターンが得難いという大きな欠点が
あり、さらに製造工程も複雑で効率が良くないなどの問
題点もあった。
Conventionally, as a technique for forming a conductor circuit (pattern) on a printed wiring board, a method called an etched foil method of forming a thin copper layer on a substrate and then performing photoetching is typical. This method has the characteristic that a conductor pattern with excellent adhesion to the substrate can be formed, but on the other hand, it has a major disadvantage that it is difficult to obtain a high-precision fine pattern by etching due to the thick copper foil. In addition, there are problems that the manufacturing process is complicated and the efficiency is not good.

そこで最近では、配線板に導体回路を形成するため
に、ジエン系合成ゴムを含む接着剤を基板表面に塗布し
て接着剤層を形成し、この接着剤層の表面を粗化した
後、無電解めっきを施して導体回路パターンを形成する
アディティブ法が脚光を浴びてきた。
Therefore, recently, in order to form a conductive circuit on a wiring board, an adhesive containing a diene-based synthetic rubber is applied to the substrate surface to form an adhesive layer, and after the surface of the adhesive layer is roughened, The additive method of forming a conductive circuit pattern by performing electrolytic plating has been spotlighted.

ところが、この既知方法の下で使用されている接着剤
は、組成中に合成ゴムを含むため、例えば高温時に密着
強度が大きく低下したり、はんだ付けの際に無電解めっ
き膜がふくれるなどの欠点があった。また、耐熱性が低
く、表面抵抗などの電気特性が充分でないために、適用
範囲がかなり制限されるという欠点があった。
However, since the adhesive used under this known method contains a synthetic rubber in the composition, for example, the adhesive strength is greatly reduced at a high temperature, and the electroless plating film is swollen at the time of soldering. was there. In addition, the heat resistance is low, and the electrical characteristics such as surface resistance are not sufficient.

こうした無電解めっきによる導体パターンを形成する
ために用いる「プリント配線板用樹脂組成物」として、
特開昭53−140344号公報に開示されているようなものが
提案されている。しかしながら、この組成物は、該組成
物中の球状粒子を形成する熱硬化性樹脂成分が蝕刻(酸
化剤による処理)されていない,いわゆる酸化剤に対し
て不溶性のものである。この樹脂組成物が蝕刻粗化され
て得られる基板上の接着剤層は、深さ20μm程度の凸凹
となるため、この接着剤層の上に形成される導体は微細
パターンのものが得難く、パターン間の絶縁性も不良と
なり易く、さらに耐熱性や電気特性に劣るから、部品な
どを実装する上においては好ましくないという欠点があ
った。
As a “resin composition for printed wiring boards” used to form a conductor pattern by such electroless plating,
The one disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 53-140344 has been proposed. However, this composition is insoluble in a so-called oxidizing agent in which the thermosetting resin component forming the spherical particles in the composition has not been etched (treated with an oxidizing agent). Since the adhesive layer on the substrate obtained by etching and roughening the resin composition is uneven at a depth of about 20 μm, it is difficult to obtain a conductor formed on the adhesive layer with a fine pattern. The insulation between the patterns tends to be poor, and the heat resistance and the electrical characteristics are poor. Therefore, there is a disadvantage that it is not preferable for mounting components and the like.

〔発明が解決しようとする課題〕[Problems to be solved by the invention]

本発明者らは、このような問題を解決するために、種
々研究した結果、 先に、耐熱性,電気絶縁性,化学的安定性が良く、と
りわけ基板と無電解めっき膜との密着性に優れ、しか
も、めっきに際しての取扱いが簡単な無電解めっき用接
着剤と、このような接着剤を用いたプリント配線板の製
造方法を発明し、特開昭61−276875号、特開平1−2756
82号、特開平1−301774号、特開平2−8281号、特開平
2−8283号として提案した。
The present inventors have conducted various studies in order to solve such a problem. As a result, the inventors have found that the heat resistance, the electrical insulation, and the chemical stability are good, and the adhesion between the substrate and the electroless plating film is particularly high. Invented an adhesive for electroless plating which is excellent and easy to handle at the time of plating, and a method for manufacturing a printed wiring board using such an adhesive, is disclosed in JP-A-61-276875 and JP-A-1-2756.
No. 82, JP-A-1-301774, JP-A-2-8281 and JP-A-2-8283.

しかしながら、本発明に先行して提案して前記発明の
接着剤及びこれらの接着剤を用いたプリント配線板の各
製造方法は、 酸化剤に対して可溶性の,予め硬化処理した耐熱性樹
脂微粉末を、硬化処理することにより酸化剤に対して難
溶性となる性質を有する未硬化のマトリックス形成用耐
熱性樹脂中に散在させてなる接着剤と、 基板上に、この接着剤を塗布して乾燥硬化させること
により接着剤層を形成し、この接着剤層の表面部分に散
在している前記微粉末の少なくとも一部を溶解除去して
接着層の表面を粗化し、次いで無電解めっきを施す製造
方法、を基本とするものである。
However, prior to the present invention, the adhesives of the present invention proposed before the present invention and the methods for manufacturing printed wiring boards using these adhesives are disclosed in US Pat. And an adhesive dispersed in an uncured matrix-forming heat-resistant resin having a property of being hardly soluble in an oxidizing agent by curing, and applying the adhesive on a substrate and drying. Forming an adhesive layer by curing, roughening the surface of the adhesive layer by dissolving and removing at least a part of the fine powder scattered on the surface of the adhesive layer, and then performing electroless plating. Method.

従って、これらの方法では、耐熱性微粉末の一部を溶
解除去して接着剤層の表面を粗化するためには、クロム
酸などの酸化剤を使用する必要があった。
Therefore, in these methods, it is necessary to use an oxidizing agent such as chromic acid to dissolve and remove a part of the heat-resistant fine powder to roughen the surface of the adhesive layer.

ところが、クロム酸などの酸化剤の使用については、
コストが高くなること、クロム酸などの酸化剤は有
害物質であり、廃棄や処理が困難であるばかりでなく、
取扱いも難しく作業環境にも特別な設備と注意が必要と
なるなど製造上の面で種々の問題を残していた。さら
に、この酸化剤は、マトリックスを形成する前記耐熱性
樹脂を、若干溶解する傾向があるため、形成されるアン
カーの形状がシャープさを失うという問題もあり、その
ため従来は種々の擬似粒子や凝集粒子を使用してアンカ
ー形状を複雑にしなければならないなどの不便があっ
た。
However, regarding the use of oxidizing agents such as chromic acid,
High costs and oxidizing agents such as chromic acid are harmful substances.
Various problems have been left in terms of manufacturing, for example, handling is difficult and special equipment and attention are required for the working environment. Furthermore, since this oxidizing agent has a tendency to slightly dissolve the heat-resistant resin forming the matrix, there is also a problem that the shape of the formed anchor loses sharpness. There were inconveniences such as the use of particles to complicate the anchor shape.

本発明の目的は、先行技術が抱えている上述した各種
の課題を解消し、耐熱性、電気特性に優れることはもち
ろん、とくにアンカー形状が良いために密着性が極めて
優れ、かつ実施化が容易な無電解めっき用接着剤、及び
この接着剤を用いた高精度なプリント配線板とそれを簡
便に製造する方法を提案するところにある。
An object of the present invention is to solve the above-described various problems of the prior art and to have excellent heat resistance and electrical characteristics, as well as a particularly excellent anchor shape due to a good anchor shape, and easy implementation. It is an object of the present invention to propose an adhesive for electroless plating, a high-precision printed wiring board using this adhesive, and a method for easily manufacturing the same.

〔課題を解決するための手段〕[Means for solving the problem]

本発明は、先に本発明者らが提案した前記発明の改良
を目指し、より低コストでしかも公害問題、作業環境な
どの問題を生じることがなく、かつアンカー形状がめっ
き密着性を常に良好なものとするのに適当な形状となる
ように工夫された接着剤を開発すべく鋭意研究した結
果、硫酸、塩酸、硝酸、燐酸、酢酸およびギ酸のなかか
ら選ばれるいずれか少なくとも1種の酸に対して可溶性
の耐熱性樹脂粉末を用いると、前記の課題を悉く解消で
きることを知見した。
The present invention aims at improvement of the invention proposed by the present inventors earlier, is lower in cost and does not cause a problem of pollution, work environment, etc., and the anchor shape is always good in plating adhesion. As a result of intensive research to develop an adhesive devised to have an appropriate shape to be obtained, it was found that sulfuric acid, hydrochloric acid, nitric acid, phosphoric acid, acetic acid, and at least one acid selected from among formic acid. On the other hand, it has been found that the use of a soluble heat-resistant resin powder can solve all of the above problems.

すなわち本発明は、硫酸、塩酸、硝酸、燐酸、酢酸お
よびギ酸のなかから選ばれるいずれか少なくとも1種の
酸に対して可溶性の,予め硬化処理されたエポキシ樹脂
粉末が、硬化処理することにより前記酸に対して難溶性
もしくは不溶性となる特性を有する未硬化のマトリック
ス形成用耐熱性樹脂中に散在させたものからなる接着剤
を提案する。
That is, the present invention provides an epoxy resin powder which is soluble in at least one kind of acid selected from sulfuric acid, hydrochloric acid, nitric acid, phosphoric acid, acetic acid and formic acid and which has been cured beforehand by curing. An adhesive is proposed which is dispersed in an uncured matrix-forming heat-resistant resin having a property of being hardly soluble or insoluble in an acid.

そして、このような接着剤を利用し、まずこの接着剤
を基板に塗布し、これを乾燥,硬化処理を施すことによ
って接着剤層を形成し、次いでこの接着剤層の表面を研
磨し、それによって接着剤層の表面部分に散在している
前記エポキシ樹脂粉末の少なくとも一部を接着剤層表面
に露出させ、このような状態にしてから前記樹脂粉末の
一部を、硫酸、塩酸、硝酸、燐酸、酢酸およびギ酸のな
かから選ばれるいずれか少なくとも1種の酸にて溶解除
去することにより接着剤層の表面を粗化し、そしてこの
粗化した接着剤層の表面に無電解めっきを施すことによ
り所要の導体パターンを形成し、望ましいプリント配線
板とそれを製造する方法を開発したのである。
Then, using such an adhesive, the adhesive is first applied to a substrate, and then dried and cured to form an adhesive layer. Then, the surface of the adhesive layer is polished, By exposing at least a part of the epoxy resin powder scattered on the surface part of the adhesive layer to the surface of the adhesive layer, and in this state, part of the resin powder, sulfuric acid, hydrochloric acid, nitric acid, Roughening the surface of the adhesive layer by dissolving and removing it with at least one acid selected from phosphoric acid, acetic acid and formic acid, and subjecting the surface of the roughened adhesive layer to electroless plating Thus, a desired printed wiring board and a method for manufacturing the same have been developed by forming a required conductor pattern.

〔作 用〕(Operation)

本発明にかかる無電解めっき用接着剤は、硫酸、塩
酸、硝酸、燐酸、酢酸およびギ酸のなかから選ばれるい
ずれか少なくとも1種の酸に対して可溶性を示す,予め
硬化処理されたエポキシ樹脂粉末を、硬化処理すること
により前記酸に対して難溶性もしくは不溶性のものとな
る性質を有する未硬化のマトリックス形成用耐熱性樹脂
中に散在させてなるものである。
The adhesive for electroless plating according to the present invention is a precured epoxy resin powder which is soluble in at least one acid selected from sulfuric acid, hydrochloric acid, nitric acid, phosphoric acid, acetic acid and formic acid. Are dispersed in an uncured matrix-forming heat-resistant resin having a property of being hardly soluble or insoluble in the acid by curing treatment.

ここで、「酸に対して可溶性」とは、樹脂が酸によつ
て分解されて溶解する特性を意味する。
Here, "soluble in acid" means a property that the resin is decomposed and dissolved by the acid.

プリント配線板の無電解めっきに際してこのような接
着剤を用いる理由は、基板上に無電解めっき膜を形成す
る際に、めっき導体の密着強度が高くなり、ひいては導
体パターンの信頼性の高いものが得られるからである。
すなわち、予め硬化処理されたエポキシ樹脂粉末を、マ
トリックス形成用耐熱性樹脂液中に分散させたものを、
基板上に塗布して乾燥,硬化させると、マトリックスを
形成する耐熱性樹脂(マトリックス形成用耐熱性樹脂)
中にエポキシ樹脂粉末が均一に散在した状態の接着剤層
が形成される。そして、一方では前記エポキシ樹脂粉末
とマトリックス形成用耐熱性樹脂とは酸に対する溶解性
に極端な差異が生じるようにしてあるために、前記接着
剤層を酸で処理した場合、接着剤層の表面部分に分散し
ている粉末のうち酸に対して可溶性のあるものだけが溶
解除去される。
The reason for using such an adhesive during electroless plating of a printed wiring board is that when forming an electroless plating film on a substrate, the adhesion strength of a plated conductor is increased, and as a result, a conductor pattern having high reliability is used. Because it is obtained.
In other words, epoxy resin powder that has been previously cured, dispersed in a matrix-forming heat-resistant resin liquid,
Heat-resistant resin that forms a matrix when applied on a substrate, dried and cured (heat-resistant resin for matrix formation)
An adhesive layer in which epoxy resin powder is uniformly scattered is formed. On the other hand, since the epoxy resin powder and the matrix-forming heat-resistant resin are caused to have an extreme difference in solubility in acid, when the adhesive layer is treated with acid, the surface of the adhesive layer Of the powder dispersed in the part, only those that are soluble in acid are dissolved and removed.

その結果、接着剤層の表面にシャープなアンカー(窪
み)が形成され、接着剤層の粗化表面がシャープになる
のである。
As a result, sharp anchors (dents) are formed on the surface of the adhesive layer, and the roughened surface of the adhesive layer becomes sharp.

また、実施例6にあるように、バイアホールを有する
プリント配線板を製造する場合は、バイアホール用の開
口部を形成した後、粗化処理する。そのため、開口部に
は下層の導体回路が露出することになる(第6図参
照)。もし、酸化剤で粗化処理すると、露出した導体回
路もまた酸化剤により処理されるため、導体回路表面に
酸化膜が形成されてしまい、導通不良の原因となる。
In the case of manufacturing a printed wiring board having via holes as in Example 6, after forming an opening for a via hole, a roughening treatment is performed. Therefore, the lower conductive circuit is exposed at the opening (see FIG. 6). If the roughening treatment is performed with an oxidizing agent, the exposed conductor circuit is also treated with the oxidizing agent, so that an oxide film is formed on the surface of the conductor circuit, which causes a conduction failure.

本願発明では、酸処理を行うため、表面に酸化膜が形
成されることもなく、導通信頼性を確保できるのであ
る。
In the present invention, since the acid treatment is performed, the conduction reliability can be secured without forming an oxide film on the surface.

さて、本発明に使用するエポキシ樹脂粉末は、予め硬
化処理されたものである。このエポキシ樹脂粉末につい
て、酸化処理されていないものを用いると、マトリック
ス形成用耐熱性樹脂液あるいはこの樹脂を溶剤を用いて
溶解した液中に添加した場合に、液中に溶解してしま
う。したがって、このような未硬化樹脂粉末を含む接着
剤を基板に塗布し乾燥硬化すると、マトリックス形成用
耐熱性樹脂と分散用エポキシ樹脂粉末が共融した状態の
接着剤層となる。その結果として、上述した酸の処理に
際し、接着剤層がほぼ均一に溶解され、粗面化に必要な
接着剤層表面の選択的な溶解除去ができなくなる。いわ
ゆる、めっき密着性を確保するためのアンカーの形成を
阻むこととなる。
The epoxy resin powder used in the present invention has been subjected to a curing treatment in advance. If this epoxy resin powder is not subjected to oxidation treatment, it will be dissolved in the heat-resistant resin liquid for matrix formation or when the resin is added to a liquid obtained by dissolving the resin using a solvent. Therefore, when an adhesive containing such an uncured resin powder is applied to a substrate and dried and cured, the adhesive layer becomes a state in which the matrix-forming heat-resistant resin and the epoxy resin powder for dispersion are eutectic. As a result, during the above-described acid treatment, the adhesive layer is almost uniformly dissolved, and the surface of the adhesive layer required for roughening cannot be selectively dissolved and removed. In other words, it prevents formation of an anchor for ensuring plating adhesion.

これに対し、本発明で採用する前記エポキシ樹脂粉末
は、それが予め硬化処理されているために、耐熱性樹脂
液あるいはこの樹脂を溶解する溶剤に対して難溶性もし
くは不溶性であるから、樹脂粉末のまま溶解したマトリ
ックス耐熱性樹脂液中に、均一に分散している状態とな
る。それ故に、このような接着剤層を酸で処理すれば、
可溶性である均一分散された前記樹脂粉末のみが溶解さ
れ、前述のように明確でしかも均一でシャープなアンカ
ーを形成することができるのである。
On the other hand, the epoxy resin powder used in the present invention is hardly soluble or insoluble in a heat-resistant resin liquid or a solvent that dissolves this resin because the epoxy resin powder has been cured beforehand. It is in a state of being uniformly dispersed in the matrix heat-resistant resin liquid dissolved as it is. Therefore, if such an adhesive layer is treated with an acid,
Only the soluble and uniformly dispersed resin powder is dissolved, and a clear, uniform and sharp anchor can be formed as described above.

本発明に使用する前記エポキシ樹脂粉末としては、
平均粒径2μm以下の大きさとしたエポキシ樹脂粉末を
凝集させて平均粒径2〜10μmの大きさとした凝集粒
子;平均粒径2〜10μmのエポキシ樹脂粉末と平均粒
径2μm以下のエポキシ樹脂粉末との混合物;平均粒
径2〜10μmのエポキシ樹脂粉末の表面に、粒径2μm
以下のエポキシ樹脂微粉末もしくは平均粒径2μm以下
の無機微粉末のいずれか少なくとも1種を付着させてな
る擬似粒子;のなかから選ばれるいずれか少なくとも1
種のものを用いることができる。このようなエポキシ樹
脂粉末を用いると、酸化剤の代わりに酸を用いることで
シャープになるアンカー形状を、さらにより複雑にする
ことができるので望ましい。特にエポキシ樹脂粉末とし
て前記混合物を用いることはさらに好適である。
As the epoxy resin powder used in the present invention,
Agglomerated particles obtained by aggregating epoxy resin powder having an average particle diameter of 2 μm or less to have an average particle diameter of 2 to 10 μm; epoxy resin powder having an average particle diameter of 2 to 10 μm and epoxy resin powder having an average particle diameter of 2 μm or less; A mixture of 2 μm on the surface of an epoxy resin powder having an average particle size of 2 to 10 μm
Pseudo particles obtained by adhering at least one of the following epoxy resin fine powder or inorganic fine powder having an average particle diameter of 2 μm or less;
Seeds can be used. The use of such an epoxy resin powder is preferable because the sharpened anchor shape can be further complicated by using an acid instead of an oxidizing agent. In particular, it is more preferable to use the above mixture as an epoxy resin powder.

ここで、前記エポキシ樹脂粉末のうち、擬似粒子、凝
集粒子および混合物中のエポキシ樹脂粉末の大きさが平
均粒径で2〜10μmの大きさのものを用いる理由は、平
均粒径で10μmよりも大きいと、酸化処理に伴う溶解除
去によって形成されるアンカーが小さく、かつ不均一分
布になり易いからである。このような場合、めっき膜の
密着強度が悪くなって製品の信頼性が低下し、さらには
接着剤層表面の凸凹が必要以上に激しくなって、導体の
微細パターンが得難くなること、および、部品などを実
装する上で不都合が生じ易くなる。一方、平均粒径が2
μmよりも小さいと、アンカーが不明確になり易いから
であるからである。より好ましくは3〜8μmの大きさ
のものが好適である。
Here, among the epoxy resin powders, the reason why the size of the epoxy resin powder in the pseudo particles, the aggregated particles and the mixture is 2 to 10 μm in average particle size is more than 10 μm in average particle size. This is because if it is large, the anchor formed by dissolution and removal during the oxidation treatment is small and tends to be unevenly distributed. In such a case, the adhesion strength of the plating film is deteriorated, the reliability of the product is reduced, and the unevenness of the surface of the adhesive layer becomes more intense than necessary, and it becomes difficult to obtain a fine pattern of the conductor, and Inconvenience is likely to occur when mounting components and the like. On the other hand, when the average particle size is 2
This is because if it is smaller than μm, the anchor tends to be unclear. More preferably, those having a size of 3 to 8 μm are suitable.

一方、擬似粒子の付着粉末、凝集粒子を構成するエポ
キシ樹脂粉末、および混合物中のエポキシ樹脂粉末の大
きさを、平均粒径で2μm以下の大きさにすることが必
要となる理由は、2μmよりも大きいとアンカー効果が
低下し、めっき膜の密着強度が悪くなるからである。よ
り好ましくは0.8μm以下の大きさのものが好適であ
る。
On the other hand, the reason why it is necessary to set the average particle size of the epoxy resin powder in the mixture to 2 μm or less in the size of the attached powder of the pseudo particles, the epoxy resin powder constituting the aggregated particles, and the epoxy resin powder in the mixture is more than 2 μm. Is too large, the anchor effect decreases, and the adhesion strength of the plating film deteriorates. More preferably, the size is 0.8 μm or less.

また、擬似粒子、凝集粒子の粒径は、擬似粒子の母粒
子に付着した粉末、凝集粒子を構成する各エポキシ樹脂
粉末の約2倍以上の粒径であることが望ましい。
Further, the particle diameter of the pseudo particles and the aggregated particles is desirably about twice or more the size of the powder adhered to the base particles of the pseudo particles and each epoxy resin powder constituting the aggregated particles.

前記平均粒径2〜10μmのエポキシ樹脂粉末と平均粒
径2μm以下のエポキシ樹脂粉末との混合物は、形成さ
れるアンカーの形状を極めて複雑なものにする上で、平
均粒径2μm以下のエポキシ樹脂粉末の含有量を50〜85
重量%とすることが望ましい。
The mixture of the epoxy resin powder having an average particle diameter of 2 to 10 μm and the epoxy resin powder having an average particle diameter of 2 μm or less is required to make the shape of the formed anchor extremely complicated. Powder content 50-85
% By weight.

かかるエポキシ樹脂粉末は、耐熱性と電気絶縁性に優
れ、酸以外の薬品に対して安定な性質を示す樹脂であ
る。そして、この樹脂としては、予め硬化処理すること
によりマトリックス形成用耐熱性樹脂液あるいは溶剤に
対しては難溶性となるが、酸に対しては可溶性となる樹
脂を用いることが必要である。例えば、エポキシ樹脂と
しては、ビスフェノールA型エポキシ樹脂やビスフェノ
ールF型エポキシ樹脂などの2官能性のビスフェノール
系エポキシ樹脂がよい。直鎖状に結合しているため、酸
により分解しやすいからであり、なかでも、ポリフェノ
ール系硬化剤、ポリアミン系硬化剤、カルボン酸ヒドラ
ジド類、ジアミノマレオニトリル類、ジシアンジアミ
ド、イミダゾール類ポリアミンのナイロン塩及びリン酸
塩、ルイス酸及びそのアミン錯体などの硬化剤あるいは
架橋剤で硬化もしくは架橋させたエポキシ樹脂は特性的
にも優れており好適である。
Such an epoxy resin powder is a resin having excellent heat resistance and electrical insulation properties and showing stable properties with respect to chemicals other than acids. It is necessary to use a resin which is hardly soluble in a matrix-forming heat-resistant resin solution or a solvent by being cured in advance, but is soluble in an acid. For example, as the epoxy resin, a bifunctional bisphenol-based epoxy resin such as a bisphenol A epoxy resin or a bisphenol F epoxy resin is preferable. Because they are linearly bonded, they are easily decomposed by acids, and among them, polyphenol-based curing agents, polyamine-based curing agents, carboxylic acid hydrazides, diaminomaleonitrile, dicyandiamide, imidazole polyamine nylon salts Epoxy resins cured or cross-linked with a curing agent such as a phosphate, Lewis acid, and an amine complex thereof or a cross-linking agent are also excellent in characteristics and are suitable.

また、前記無機粉末としては、例えば炭酸カルシウム
を使用することができる。
As the inorganic powder, for example, calcium carbonate can be used.

さらに、前記凝集粒子、擬似粒子は、混合時に解離し
て1次粒子に戻ることがない程度の接着力で結合されて
いることが必要である。
Further, the agglomerated particles and the pseudo particles need to be bonded to each other with an adhesive force that does not dissociate and return to the primary particles during mixing.

擬似粒子は、付着させるべき微粉末を母粒子の表面に
結合剤を使って付着結合させただけのものでもよいが、
酸に対して可溶性である硬化処理したエポキシ樹脂粉末
(母粒子)に対し、この母粒子がまだ幾分軟らかい状態
のときに、該粉末各種をまぶして付着せしめることによ
り、母粒子表面内に若干くい込ませた状態で硬化させた
ものでもよく、また凝集粒子にあっては樹脂微粉末自体
を加熱して融着させるか、結合剤を介して接着し、単一
粒子の如き接着力で結合したものでもよく、これらはい
ずれも等しくアンカー形成効果に優れる。
The pseudo particle may be one in which the fine powder to be attached is simply attached to the surface of the mother particle using a binder,
When the base particles are still in a somewhat soft state with respect to the cured epoxy resin powder (base particles) which are soluble in an acid, various kinds of the powders are sprinkled and adhered, so that the surface of the base particles slightly increases. It may be cured in the state of being entrapped, and in the case of agglomerated particles, the resin fine powder itself is heated and fused or adhered via a binder, and bonded with an adhesive force like a single particle All of them may be equally excellent in the anchor forming effect.

このようなエポキシ樹脂微粉末としては、例えば、エ
ポキシ樹脂を熱硬化させてからジェットミルや凍結粉砕
機などを用いて微粉砕したものを用いる。その他、硬化
処理する前にエポキシ樹脂溶液を噴霧したのち乾燥した
もの、未硬化エポキシ樹脂エマルジョンに水溶性硬化剤
を加えて攪拌したりして得られる1次微粒子を、熱風乾
燥器などで乾燥加熱したものか、あるいは各種バインダ
ーを添加混合して乾燥したものなどを、ボールミル、超
音波分散機などを用いて解砕し、さらに風力分級機など
で分級することによっても作製することができる。
As such an epoxy resin fine powder, for example, a material obtained by hardening an epoxy resin and then finely pulverizing the epoxy resin with a jet mill, a freeze pulverizer, or the like is used. In addition, primary particles obtained by spraying an epoxy resin solution before curing treatment and then drying, or adding a water-soluble curing agent to an uncured epoxy resin emulsion and stirring are dried and heated by a hot air dryer or the like. It can also be prepared by pulverizing a dried product, or a product obtained by adding and mixing various binders, drying the product using a ball mill, an ultrasonic disperser, or the like, and further classifying the product using an air classifier or the like.

このようにして得られるエポキシ樹脂粉末の形状は、
球形だけでなく各種の複雑な形状を有しており、これに
より形成されるアンカーの形状もより複雑になるため、
高いピール強度、プル強度などの密着強度をもたらす。
The shape of the epoxy resin powder obtained in this way is
Since it has various complicated shapes as well as spherical shapes, the shape of the anchor formed by this becomes more complicated,
High adhesion strength, such as high peel strength and pull strength.

また、本発明にかかるエポキシ樹脂粉末(擬似粒子)
は、中心粒径となるものを基準として±2μmの範囲内
に60wt%以上が存在するようなバラツキを有するものが
好ましい。このようなバラツキのものに限定する理由
は、バラツキが上記範囲よりも大きいと製品の信頼性が
低下するためである。
Further, the epoxy resin powder (pseudo particle) according to the present invention
It is preferable that the particles have a variation such that 60% by weight or more exists within a range of ± 2 μm based on the center particle size. The reason for limiting to such a variation is that if the variation is larger than the above range, the reliability of the product is reduced.

なお、上記エポキシ樹脂粉末(母粒子および付着粉
末)の表面には、マトリックス形成耐熱性樹脂との接合
をよくするために、マトリックスに溶解しない程度に、
予め半硬化層または未反応官能基を付与してもよい。
The surface of the epoxy resin powder (base particles and adhered powder) is coated on the surface of the epoxy resin powder so as not to dissolve in the matrix in order to improve the bonding with the matrix-forming heat-resistant resin.
A semi-cured layer or an unreacted functional group may be provided in advance.

つぎに、上記エポキシ樹脂粉末および同種の粉末を分
散保持する側のマトリックス形成用耐熱性樹脂について
述べる。この樹脂は、耐熱性,電気絶縁性,化学的安定
性および接着性に優れるものを用い、かつ硬化処理する
ことにより酸に対して難溶性もしくは不溶性となる特性
を有するものでなければならない。例えば、エポキシ樹
脂,エポキシ変成ポリミイド樹脂,ポリミイド樹脂,フ
ェノール樹脂のなかから選ばれるいずれか少なくとも1
種のものを用いる。なお、これらの樹脂に感光性を付与
したものは、ビルドアップ配線板の層間絶縁材用接着剤
として好適である。
Next, the heat-resistant resin for matrix formation on the side where the epoxy resin powder and the same kind of powder are dispersed and held will be described. This resin must be excellent in heat resistance, electrical insulation, chemical stability and adhesiveness, and must have a property of being hardly soluble or insoluble in an acid when cured. For example, at least one selected from an epoxy resin, an epoxy-modified polyimide resin, a polyimide resin, and a phenol resin
Use seeds. A resin obtained by imparting photosensitivity to these resins is suitable as an adhesive for an interlayer insulating material of a build-up wiring board.

前述のように、前記エポキシ樹脂粉末と硬化処理され
た後のマトリックス形成用耐熱性樹脂とでは、酸に対す
る溶解特性に大きな差異がある。したがって、前記接着
剤層を酸で処理すると、この層の表面部分に分散してい
るエポキシ樹脂粉末の方は溶解除去され、一方、前記酸
に対して難溶性もしくは不溶性のマトリックス形成用耐
熱性樹脂の方は、ほとんど溶解されることなく基材とし
て残り、溶解除去された樹脂粉末の部分が窪みとなって
アンカーを形成する。なお、同じ種類の耐熱性樹脂であ
っても、例えばエポキシ樹脂粉末として酸に溶け易いエ
ポキシ樹脂を用い、他方前記マトリックス耐熱性樹脂と
して酸に対して比較的溶け難いエポキシ樹脂を組合わせ
て使用しても同じようなアンカー形成効果を得ることが
できる。
As described above, the epoxy resin powder and the matrix-forming heat-resistant resin after the curing treatment have a large difference in the dissolution characteristics in acid. Therefore, when the adhesive layer is treated with an acid, the epoxy resin powder dispersed on the surface portion of the layer is dissolved and removed, while the heat-resistant resin for forming a matrix that is hardly soluble or insoluble in the acid is used. In the case of the resin powder, the resin powder hardly dissolves and remains as a base material, and the portion of the resin powder dissolved and removed becomes a depression to form an anchor. Incidentally, even with the same kind of heat-resistant resin, for example, an epoxy resin that is easily soluble in acid is used as the epoxy resin powder, and an epoxy resin that is relatively insoluble in acid is used in combination as the matrix heat-resistant resin. Thus, the same anchor forming effect can be obtained.

なお、前記微粉末を分散させるための耐熱性樹脂液と
しては、溶剤を含まない耐熱性樹脂液をそのまま使用す
ることができるが、とくに耐熱性樹脂を溶剤に溶解した
耐熱性樹脂液は低粘度であるから、粉末を均一に分散さ
せやすく、また基板に塗布し易いので有利に使用するこ
とができる。
As the heat-resistant resin liquid for dispersing the fine powder, a heat-resistant resin liquid containing no solvent can be used as it is, but a heat-resistant resin liquid obtained by dissolving a heat-resistant resin in a solvent has a low viscosity. Therefore, the powder can be advantageously used because it is easy to uniformly disperse the powder and easily applied to the substrate.

上記耐熱性樹脂を溶解するのに使用する溶剤として
は、通常の溶剤、例えば、メチルエチルケトン,メチル
セルソルブ,エチルセルソルブ,ブチルカルビトール,
ブチルセルロース,テトラリンジメチルホルムアミド,
ノルマルメチルピロリドンなどを用いることができる。
Examples of the solvent used for dissolving the heat-resistant resin include ordinary solvents such as methyl ethyl ketone, methyl cellosolve, ethyl cellosolve, butyl carbitol,
Butylcellulose, tetralin dimethylformamide,
Normal methylpyrrolidone and the like can be used.

なお、マトリックスとなる耐熱性樹脂液中には、例え
ば、シリカ,アルミナ,酸化チタン,ジルコニアなどの
無機質微粉末からなる充填剤を適宜配合してもよい。
The heat-resistant resin liquid serving as a matrix may appropriately contain a filler composed of an inorganic fine powder such as silica, alumina, titanium oxide, and zirconia.

前記マトリックス形成用耐熱性樹脂に対するエポキシ
樹脂粉末の配合量は、マトリックス形成用耐熱性樹脂固
形分100重量部に対して2〜350重量部の範囲内であるこ
とが望ましい。この理由は、エポキシ樹脂微粉末の配合
量が2重量部より少ないと溶解除去して形成されるアン
カーの密度が低くなり、基板と無電解めっき膜との充分
な密着強度が得られず、一方350重量部よりも多くなる
と接着剤層の表面がほとんど溶解することになるので、
アンカーの形成が実質上阻害されるからである。
The amount of the epoxy resin powder to be mixed with the matrix-forming heat-resistant resin is preferably in the range of 2 to 350 parts by weight based on 100 parts by weight of the matrix-forming heat-resistant resin solids. The reason is that if the amount of the epoxy resin fine powder is less than 2 parts by weight, the density of the anchor formed by dissolution and removal becomes low, and sufficient adhesion strength between the substrate and the electroless plating film cannot be obtained. If it exceeds 350 parts by weight, the surface of the adhesive layer will be almost dissolved,
This is because the formation of the anchor is substantially inhibited.

特に、前記マトリックス形成用耐熱性樹脂に対するエ
ポキシ樹脂粉末の配合量は、マトリックス耐熱性樹脂固
形分100重量部に対して5〜200重量部の範囲が好適であ
る。この範囲の配合量だと、基板と無電気解めっき膜と
の密着強度を高くできるからである。
In particular, the amount of the epoxy resin powder to be mixed with the heat-resistant resin for forming a matrix is preferably in the range of 5 to 200 parts by weight based on 100 parts by weight of the solid content of the matrix heat-resistant resin. This is because if the amount is within this range, the adhesion strength between the substrate and the electroless plating film can be increased.

次に上記接着剤を用いたプリント配線板の製造方法に
ついて説明する。
Next, a method for manufacturing a printed wiring board using the above adhesive will be described.

(a) まず、基板上に、前記エポキシ樹脂粉末を、マ
トリックスとする耐熱性樹脂液中に分散させた接着剤を
塗布し、引続き乾燥硬化させることにより接着剤層を形
成する。この塗布の方法としては、例えば、ローラコー
ト法,デップコート法,スプレーコート法,スピナーコ
ート法,カーテンコート法,スクリーン印刷法などの各
種の手段による。
(A) First, an adhesive in which the epoxy resin powder is dispersed in a heat-resistant resin liquid serving as a matrix is applied to a substrate, followed by drying and curing to form an adhesive layer. As a method of this application, for example, various means such as a roller coating method, a dip coating method, a spray coating method, a spinner coating method, a curtain coating method, and a screen printing method are used.

この工程の処理において、接着剤の塗布,乾燥硬化に
よって基板上に得られる接着剤層の厚さは、通常、2〜
40μm程度である。しかし、この接着剤層を金属基板や
多層配線板の層間絶縁膜を兼ねて使用する場合には、そ
れ以上に厚く塗布することも有効である。
In the treatment in this step, the thickness of the adhesive layer obtained on the substrate by applying and drying and curing the adhesive is usually 2 to 2.
It is about 40 μm. However, when this adhesive layer is used also as an interlayer insulating film of a metal substrate or a multilayer wiring board, it is effective to apply a thicker adhesive layer.

本発明において使用する基板としては、例えば、プラ
スチック基板,セラミック基板,金属基板,フィルム基
板などを使用することができる。具体的に挙げるなら、
ガラスエポキシ基板,ガラスポリミイド基板,アルミナ
基板,低温焼成セラミック基板,窒化アルミニウム基
板,アルミニウム基板,鉄基板,ポリイミドフィルム基
板などである。
As the substrate used in the present invention, for example, a plastic substrate, a ceramic substrate, a metal substrate, a film substrate, or the like can be used. To be specific,
Glass epoxy substrates, glass polyimide substrates, alumina substrates, low-temperature fired ceramic substrates, aluminum nitride substrates, aluminum substrates, iron substrates, polyimide film substrates, and the like.

これらの基板は、その表面が予め粗化されていること
が望ましい。これにより、基板と接着剤層との密着強度
が大きくなる。また、これらの基板は、接着剤を塗布す
る前に十分乾燥することが望ましい。この理由は、乾燥
水分が不十分だと、残留水分が樹脂の硬化を阻害するか
らである。
It is desirable that the surface of these substrates is roughened in advance. Thereby, the adhesion strength between the substrate and the adhesive layer is increased. Further, it is desirable that these substrates be sufficiently dried before applying the adhesive. The reason for this is that if the dry moisture is insufficient, the residual moisture inhibits the curing of the resin.

本発明において、これらの基板を用い、片面配線板,
両面スルーホール配線板,例えばCu/ポリイミド多層プ
リント配線板のような多層プリント配線板などを製作す
ることができる。また、前記接着剤そのものを板状ある
いはフィルム状に成形するか、もしくは、接着剤溶液を
ガラス織布に含浸させてプリプレグにすることにより、
無電解めっきを施すことのできる接着性を有する基体と
することもできる。
In the present invention, using these substrates, a single-sided wiring board,
A double-sided through-hole wiring board, for example, a multilayer printed wiring board such as a Cu / polyimide multilayer printed wiring board can be manufactured. Alternatively, the adhesive itself may be formed into a plate shape or a film shape, or by impregnating an adhesive solution into a glass woven fabric to form a prepreg,
A substrate having an adhesive property that can be subjected to electroless plating can also be used.

なお、前記接着剤に、あらかじめ無電解めっきのため
の触媒(核)を混合しておいてもよい。このような接着
剤を用いると、触媒(核)を付与する工程を省略でき
る。
Note that a catalyst (core) for electroless plating may be mixed in advance with the adhesive. When such an adhesive is used, the step of providing a catalyst (core) can be omitted.

(b) 次に、上述のように形成した接着剤層の表面を
研磨することにより、表面部分に分散しているエポキシ
樹脂粉末を接着剤層の表面に露出させる。
(B) Next, by polishing the surface of the adhesive layer formed as described above, the epoxy resin powder dispersed on the surface portion is exposed on the surface of the adhesive layer.

この工程は、前記マトリックス形成用耐熱性樹脂が酸
に対して難溶性もしくは不溶性であるため、この樹脂で
前記エポキシ樹脂粉末が覆われていると、このエポキシ
樹脂粉末を酸にて溶解除去することが難しいからであ
る。すなわち、この工程でエポキシ樹脂粉末を予め露出
させることにより、容易にかつ効率よく溶解除去でき、
しかも酸を使って溶解するので、マトリックス形成用耐
熱性樹脂の方までは溶解しないので、アンカーの形状が
シャープものとなる。
In this step, since the heat-resistant resin for forming a matrix is hardly soluble or insoluble in an acid, if the epoxy resin powder is covered with the resin, the epoxy resin powder is dissolved and removed with an acid. Is difficult. That is, by exposing the epoxy resin powder in this step in advance, it can be easily and efficiently dissolved and removed,
Moreover, since the dissolution is carried out using an acid, the heat-resistant resin for forming the matrix does not dissolve, so that the shape of the anchor becomes sharp.

接着剤層を研磨する方法としては、種々の微粉研磨材
によるポリシングや液体ホーニングなど公知の方法を用
いる。
As a method for polishing the adhesive layer, a known method such as polishing with various fine abrasives or liquid honing is used.

(c) 次に、表面に露出しているエポキシ樹脂粉末の
少なくとも一部を、酸を用いて溶解除去する。
(C) Next, at least a part of the epoxy resin powder exposed on the surface is dissolved and removed using an acid.

なお、酸による処理に当たっては、例えば塩酸,硫
酸,りん酸,硝酸などの無機酸および酢酸,ギ酸などの
有機酸のなかから選ばれるいずれか少なくとも1種を用
いるが、とりわけ無機酸は有効である。
In the treatment with an acid, for example, at least one selected from inorganic acids such as hydrochloric acid, sulfuric acid, phosphoric acid, and nitric acid and organic acids such as acetic acid and formic acid is used, and the inorganic acid is particularly effective. .

酸の濃度としては、1%より薄いと処理に時間がかか
るので1%以上にすることが望ましい。また、酸の温度
としては、70℃を越えるとマトリックス樹脂も一部溶解
し始めるので常温から70℃以下が望ましい。
If the concentration of the acid is less than 1%, it takes a long time to perform the treatment. When the temperature of the acid exceeds 70 ° C., a part of the matrix resin starts to be dissolved.

この酸による樹脂粒子の溶解除去の方法としては、前
記酸溶液を用い、接着剤層を有する基板をその溶液中に
浸漬するか、または基板に溶液をスプレーするなどの手
段によって行う。この処理には、クロム酸などの有害物
質を用いる必要がなく、そのために処理廃液の廃棄時間
がない上、処理の難しいクロム酸を用いることなく基板
の表面の、いわゆる接着剤層の表面を粗化することがで
きるので、従来技術に比べて有効であると言える。
As a method for dissolving and removing the resin particles by the acid, the acid solution is used, and the substrate having the adhesive layer is immersed in the solution, or the solution is sprayed on the substrate. This treatment does not require the use of harmful substances such as chromic acid, so there is no disposal time for the treatment waste liquid, and the surface of the substrate, that is, the surface of the adhesive layer, is roughened without using chromic acid, which is difficult to treat. It can be said that it is more effective than the conventional technology.

(d) 次に、接着剤層の表面を粗化した基板に対し無
電解めっきを施す。この無電解めっきとしては、例え
ば、無電解銅めっき、無電解ニッケルめっき,無電解ス
ズめっき,無電解金めっき,無電解銀めっきなどがあ
る。特に無電解銅めっき,無電解ニッケルめっき,無電
解金めっきのいずれか少なくとも1種が好適である。な
お、前記無電解めっきを施した上に、さらに異なる種類
の無電解めっきあるいは電気めっきを行ったり、ハンダ
をコートしたりしてもよい。
(D) Next, electroless plating is performed on the substrate having the surface of the adhesive layer roughened. Examples of the electroless plating include electroless copper plating, electroless nickel plating, electroless tin plating, electroless gold plating, and electroless silver plating. In particular, at least one of electroless copper plating, electroless nickel plating, and electroless gold plating is preferable. Note that, after the electroless plating is performed, different types of electroless plating or electroplating may be performed, or solder may be coated.

なお、本発明方法の実施により得られるプリント配線
板は、その他の既知の方法で導体回路を形成することも
でき、例えば基板に無電解めっきを施してから回路をエ
ッチングする方法や無電解めっきを施す際に直接回路を
形成する方法などを適用することができる。
The printed wiring board obtained by carrying out the method of the present invention can form a conductor circuit by other known methods, for example, a method of etching a circuit after applying electroless plating to a substrate, or a method of electroless plating. At the time of application, a method of directly forming a circuit or the like can be applied.

本発明の無電解めっき用接着剤を用いてフルアディテ
ィブ法により導体回路を形成する場合、めっきレジスト
を形成するが、このめっきレジストの厚さを、無電解め
っき導体層の厚さより厚くすることが望ましい。
When a conductor circuit is formed by a full additive method using the adhesive for electroless plating of the present invention, a plating resist is formed, but the thickness of the plating resist may be larger than the thickness of the electroless plating conductor layer. desirable.

この理由は次のように説明される。プリント配線板の
表面には種々の電子部品が搭載されるが、プリント配線
板の搭載部位にはハンダがコートされており、搭載時に
熱圧着によりハンダを溶融させ、端子の接続を行う。こ
の際、従来のプリント配線板では、隣合う導体層表面の
ハンダが溶融して流れ、ブリッジを形成して配線間を短
絡させてしまう現象がしばしば見られ、収率を低下させ
る原因となっている。しかし、めっきレジストの厚さを
無電解めっき導体層の厚さより厚くしておくことによ
り、このようなハンダブリッジを防止し収率を向上させ
ることができる。
The reason is explained as follows. Various electronic components are mounted on the surface of the printed wiring board. Solder is coated on a mounting portion of the printed wiring board, and at the time of mounting, the solder is melted by thermocompression to connect the terminals. At this time, in the conventional printed wiring board, a phenomenon that the solder on the surface of the adjacent conductor layer melts and flows, and a bridge is often formed to short-circuit between the wirings, which is a cause of lowering the yield. I have. However, by making the thickness of the plating resist larger than the thickness of the electroless plating conductor layer, such a solder bridge can be prevented and the yield can be improved.

また、本発明の無電解めっき用接着剤を用いることに
より得られるプリント配線板は、基板に対し、酸に対し
て可溶性の予め硬化処理された耐熱性樹脂粉末が、酸に
対して難溶性もしくは不溶性となる特性を有する硬化処
理された耐熱性樹脂中に分散されてなる接着剤層が形成
され、そのせざ層の表面部分に露出した耐熱性樹脂粉末
の少なくとも一部が酸にて溶解除去されて、接着剤層の
表面が粗化されてなり、その粗化された表面に無電解め
っきが施されて導体層が形成されたことを特徴とする。
Further, the printed wiring board obtained by using the adhesive for electroless plating of the present invention, the heat-resistant resin powder which has been cured in advance and is soluble in acid for the substrate is hardly soluble in acid or An adhesive layer dispersed in a cured heat-resistant resin having the property of being insoluble is formed, and at least a portion of the heat-resistant resin powder exposed on the surface portion of the sap layer is dissolved and removed with an acid. Then, the surface of the adhesive layer is roughened, and the roughened surface is subjected to electroless plating to form a conductor layer.

表面にシャープなアンカーが形成され、粗化表面がシ
ャープであるため、実施例1〜8に示すように、高いピ
ール強度が得られる。さらに、本願発明のプリント配線
板は、多層化されていてもよく、なかでもビルドアップ
多層プリント配線板が好適である。
Since a sharp anchor is formed on the surface and the roughened surface is sharp, a high peel strength is obtained as shown in Examples 1 to 8. Further, the printed wiring board of the present invention may be multilayered, and among them, a build-up multilayer printed wiring board is preferable.

ビルドアップ多層プリント配線板は、以下の工程、即
ち、 導体層上に無電解めっき用接着剤の層を形成し、これ
を酸で粗化する前、もしくは後にバイアホール用の穴を
接着剤層に形成して、触媒(核)を付与し、無電解めっ
きを行い、導体層を形成する工程、 を繰り返し行うことにより製造できる。
The build-up multilayer printed wiring board has the following steps, namely, forming an adhesive layer for electroless plating on a conductor layer and forming a via hole before or after roughening the layer with an acid. , Applying a catalyst (nucleus), performing electroless plating, and forming a conductor layer.

また、本願発明では、粗化処理として酸処理を行うた
め、バイアホール形成用の孔を形成した後、粗化処理し
ても、露出した導体が酸化処理されることがないため、
酸化剤で粗化した場合よりもバイアホールの導通信頼性
に優れるのである。
In the present invention, since the acid treatment is performed as the roughening treatment, the exposed conductor is not oxidized even if the roughening treatment is performed after forming the holes for forming the via holes.
This is because the conduction reliability of the via hole is superior to the case where the surface is roughened with an oxidizing agent.

ビルドアップ多層プリント配線板を製造する際に用い
る無電解めっき用接着剤のマトリックス形成用耐熱性樹
脂は感光性を有することが望ましい。これは、感光性樹
脂をマトリックスに用いた場合、露光、現像処理を行う
ことによりバイアホール用の穴を精度よく形成できるか
らである。また、前記ビルドアップ多層プリント配線板
には、表層に導体回路ではなく、電子部品を搭載するた
めの実装用パッドのみが形成され、前記パッドが内層の
回路とバイアホールで接続された形態も含まれる。この
ような多層配線板は、表層に実装用パッドのみが形成さ
れているので、従来のプリント配線板のような実装パッ
ドと導体回路が共存しているような場合より、実装パッ
ドの密度が増え、電子部品の高密度実装が可能となる。
It is desirable that the matrix-forming heat-resistant resin of the adhesive for electroless plating used when manufacturing the build-up multilayer printed wiring board has photosensitivity. This is because when a photosensitive resin is used for the matrix, holes for via holes can be formed with high precision by performing exposure and development processing. In addition, the build-up multilayer printed wiring board includes a form in which only a mounting pad for mounting an electronic component is formed on the surface layer, not a conductive circuit, and the pad is connected to an inner layer circuit by a via hole. It is. In such a multilayer wiring board, since only mounting pads are formed on the surface layer, the density of mounting pads increases compared to a case where mounting pads and conductive circuits coexist as in a conventional printed wiring board. Thus, high-density mounting of electronic components becomes possible.

以下に実施例を示す。 Examples will be described below.

実施例1 (1)酸に可溶なエポキシ樹脂粒子(平均粒径3.9μ
m)のもの200gを、5のアセトン中に分散させてエポ
キシ樹脂粒子懸濁液を作成し、 この懸濁液中に、次のようなエポキシ樹脂粒子懸濁
液:即ち“アセトン1に対してエポキシ樹脂を30gの
割合で溶解させたアセトン溶液中に、酸に可溶なエポキ
シ樹脂微粉末(平均粒径0.5μm)300gを分散させた懸
濁液”を、ヘンシェルミキサーを使って撹拌しながら滴
下することにより、上記エポキシ樹脂粒子表面にエポキ
シ樹脂微粉末を付着せしめた後、上記アセトンを除去
し、その後、150℃に加熱して、擬似粒子を作成した。
この擬似粒子は、平均粒径が4.3μmであり、約75重量
%が平均粒径を中心として±2μmの範囲に存在してい
た。
Example 1 (1) Epoxy resin particles soluble in acid (average particle size of 3.9 μm)
200 g of m) are dispersed in 5 of acetone to form a suspension of epoxy resin particles, in which a suspension of epoxy resin particles as follows: A suspension prepared by dispersing 300 g of acid-soluble epoxy resin fine powder (average particle size: 0.5 μm) in an acetone solution in which 30 g of an epoxy resin is dissolved, is stirred using a Henschel mixer. After the epoxy resin fine powder was adhered to the surface of the epoxy resin particles by dropping, the acetone was removed, and then heated to 150 ° C. to produce pseudo particles.
The pseudo particles had an average particle size of 4.3 μm, and about 75% by weight was in a range of ± 2 μm around the average particle size.

(2)前記(1)で調製した擬似粒子50重量部、フェノ
ールノボラック型エポキシ樹脂60重量部、ビスフェノー
ルA型エポキシ樹脂40重量部、イミダゾール硬化剤4重
量部からなるものにブチルカルビトールを加え、粘度が
120cpとなるようにホモディスパー分散機で調整し、接
着剤溶液を作成した。
(2) Butyl carbitol was added to a mixture of 50 parts by weight of the pseudo particles prepared in (1) above, 60 parts by weight of a phenol novolak type epoxy resin, 40 parts by weight of a bisphenol A type epoxy resin, and 4 parts by weight of an imidazole curing agent. Viscosity
The mixture was adjusted with a homodisper disperser to 120 cp to prepare an adhesive solution.

(3)前記(1)で調製した擬似粒子50重量部、フェノ
ールノボラック型エポキシ樹脂60重量部、ビスフェノー
ルA型エポキシ樹脂40重量部、イミダゾール硬化剤4重
量部からなるものにブチルカルビトールを加え、粘度が
120cpとなるようにホモディスパー分散機で調整し、接
着剤溶液を得た。
(3) Butyl carbitol was added to 50 parts by weight of the pseudo particles prepared in (1) above, 60 parts by weight of phenol novolak type epoxy resin, 40 parts by weight of bisphenol A type epoxy resin, and 4 parts by weight of imidazole curing agent, Viscosity
The mixture was adjusted to 120 cp with a homodisper disperser to obtain an adhesive solution.

(4)ガラスポリイミド基板1に前記(3)で得られた
接着剤溶液を塗布した後、100℃で1時間、さらに150℃
で5時間乾燥硬化させて厚さ20μmの接着剤層2を形成
した。
(4) After the adhesive solution obtained in the above (3) is applied to the glass polyimide substrate 1, the adhesive is applied at 100 ° C. for 1 hour, and then at 150 ° C.
For 5 hours to form an adhesive layer 2 having a thickness of 20 μm.

(5)前記接着剤層2の表面を#1000のアルミナ微粉末
を用いて回転ブラシ研磨機で研磨した。
(5) The surface of the adhesive layer 2 was polished with a rotating brush polisher using # 1000 alumina fine powder.

(6)前記(5)で得られた基板を50%硫酸水溶液に常
温で20分間浸漬して接着剤層の表面を粗面化してから水
洗した。
(6) The substrate obtained in (5) was immersed in a 50% aqueous sulfuric acid solution at room temperature for 20 minutes to roughen the surface of the adhesive layer, and then washed with water.

(7)上記(6)で得られた接着剤層2の粗化面4aを形
成した基板1に、パラジウム触媒を付与して粗化した粗
化接着剤層3の表面を活性化させた。
(7) The surface of the roughened adhesive layer 3 which was roughened by applying a palladium catalyst to the substrate 1 on which the roughened surface 4a of the adhesive layer 2 obtained in the above (6) was formed was activated.

(8)基板1上に感光製ドライフィルムをラミネート
し、所望の導体回路パターンが描画されたマスクフィル
ムを通して紫外線露光させ、画像を焼き付けた。つい
で、クロロセンで現像し、無電解めっき用レジスト5を
形成した。
(8) A photosensitive dry film was laminated on the substrate 1 and exposed to ultraviolet light through a mask film on which a desired conductive circuit pattern was drawn, to print an image. Subsequently, the resist was developed with chlorocene to form a resist 5 for electroless plating.

(9)第(8)の処理を終えた基板1を、第1表に示す
組成のアディティブ法用無電解銅めっき液に浸漬して、
めっき膜の厚さ20μmの無電解めっきを施し、導体層
(パターン)6を形成し、第1図(e)に示すようなプ
リント配線板を製造した。
(9) The substrate 1 after the treatment (8) is immersed in an electroless copper plating solution for an additive method having a composition shown in Table 1,
An electroless plating having a plating film thickness of 20 μm was applied to form a conductor layer (pattern) 6, and a printed wiring board as shown in FIG. 1 (e) was manufactured.

実施例2 (1)酸に可溶なエポキシ樹脂粒子(平均粒径0.5μ
m)を熱風乾燥機内に装入し、180℃で3時間加熱処理
して凝集結合させた。この凝集結合させたエポキシ樹脂
粒子を、アセトン中に分散させ、ボールミルにて5時間
解砕した後、風力分級機を用いて分級し凝集粒子を作成
した。この凝集粒子は、平均粒径が約3.5μmであり、
約68重量%が平均粒径を中心として±2μmの範囲に存
在していた。
Example 2 (1) Epoxy resin particles soluble in acid (average particle size 0.5 μm)
m) was placed in a hot-air dryer, and heat-treated at 180 ° C. for 3 hours to cause cohesion and bonding. The cohesively bonded epoxy resin particles were dispersed in acetone, crushed by a ball mill for 5 hours, and then classified using an air classifier to prepare coagulated particles. The aggregated particles have an average particle size of about 3.5 μm,
About 68% by weight was in the range of ± 2 μm around the average particle size.

(2)前記(1)で調製した擬似粒子50重量部、フェノ
ールノボラック型エポキシ樹脂60重量部、ビスフェノー
ルA型樹脂40重量部、イミダゾール硬化剤4重量部から
なるものにブチルカルビトールを加え、接着剤溶液とし
た。
(2) Add butyl carbitol to 50 parts by weight of the pseudo particles prepared in (1) above, 60 parts by weight of phenol novolak type epoxy resin, 40 parts by weight of bisphenol A type resin, and 4 parts by weight of imidazole curing agent, and adhere. Solution.

(3)ガラスエポキシ基板1の表面を湿式で研磨して粗
面化した後、80℃で3時間加熱乾燥させ硬化を阻害する
水分を除去した後、前記(2)で調製した接着剤溶液を
ロールコーターで塗布し、100℃で1時間、さらに150℃
で5時間乾燥硬化させて厚さ20μmの接着剤層2を形成
した。
(3) After the surface of the glass epoxy substrate 1 is roughened by wet polishing, it is dried by heating at 80 ° C. for 3 hours to remove moisture that inhibits curing, and then the adhesive solution prepared in the above (2) is removed. Apply with roll coater, 100 ℃ for 1 hour, 150 ℃
For 5 hours to form an adhesive layer 2 having a thickness of 20 μm.

(4)前記接着剤層2の表面を#1000のアルミナ微粉末
を用いて回転ブラシ研磨機で研磨した。
(4) The surface of the adhesive layer 2 was polished with a rotary brush polisher using # 1000 alumina fine powder.

(5)前記(4)で得られた基板1を6Nの塩酸水溶液に
常温で20分間浸漬して接着剤層2の表面を粗面化し、粗
化面3を形成してから水洗した。
(5) The substrate 1 obtained in the above (4) was immersed in a 6N hydrochloric acid aqueous solution at room temperature for 20 minutes to roughen the surface of the adhesive layer 2 to form a roughened surface 3 and then washed with water.

(6)上記(5)で得られた接着剤層2の粗化面4bを有
する基板1に、パラジウム触媒を付与して接着剤層の表
面を活性化させた。
(6) The substrate 1 having the roughened surface 4b of the adhesive layer 2 obtained in the above (5) was activated by applying a palladium catalyst to the surface of the adhesive layer.

(7)基板1上に感光製ドライフィルムをラミネート
し、所望の導体回路パターンが描画されたマスクフィル
ムを通して紫外線露光させ、画像を焼き付けた。つい
で、クロロセンで現像し、厚さ40μmの無電解めっき用
レジスト5を形成した。
(7) A photosensitive dry film was laminated on the substrate 1 and exposed to ultraviolet light through a mask film on which a desired conductive circuit pattern was drawn, to print an image. Subsequently, development was performed with chlorocene to form a resist 5 for electroless plating having a thickness of 40 μm.

(8)上記(7)の処理を終えた基板1を、第1表に示
す組成のアディティブ法用無電解銅めっき液に浸漬し、
ついで第2表に示す電解めっき液を用いて、めっき膜の
厚さ30μmの電解めっきを施し、導体層(パターン)6
を形成した。
(8) The substrate 1 after the treatment of the above (7) is immersed in an electroless copper plating solution for an additive method having a composition shown in Table 1,
Then, using the electrolytic plating solution shown in Table 2, electrolytic plating was performed with a plating film having a thickness of 30 μm to form a conductor layer (pattern) 6.
Was formed.

(9)次に、導体層6の上にさらに厚さ5μmの半田め
っきを行い、第2図(e)に示すようなプリント配線板
を得た。
(9) Next, a 5 μm-thick solder plating was further performed on the conductor layer 6 to obtain a printed wiring board as shown in FIG. 2 (e).

実施例3 (1)ガラスエポキシ基板1の両面に内層の導体層6を
常法に従って形成したものを準備した。
Example 3 (1) A glass epoxy substrate 1 in which inner conductor layers 6 were formed on both sides according to a conventional method was prepared.

(2)フェノールノボラック型エポキシ樹脂60重量部、
ビスフェノールA型エポキシ樹脂40重量部、イミダゾー
ル硬化剤4重量部、アンカー形成用の粗粒子及び微粉末
として、酸に可溶なエポキシ樹脂粉末で、平均粒径3.9
μmのもの10重量部および平均粒径0.5μmのもの25重
量部からなるものにブチルカルビトールを加え、接着剤
溶液を調製した。
(2) 60 parts by weight of a phenol novolak type epoxy resin,
40 parts by weight of bisphenol A type epoxy resin, 4 parts by weight of imidazole curing agent, acid-soluble epoxy resin powder as coarse particles and fine powder for forming an anchor, having an average particle size of 3.9
Butyl carbitol was added to 10 parts by weight of μm and 25 parts by weight of 0.5 μm in average particle size to prepare an adhesive solution.

(3)実施例1の(4)、(5)と同様の方法により、
接着剤層2を形成した後、りん酸水溶液で、接着剤層を
粗化して粗化面4cを形成した。
(3) By the same method as (4) and (5) in Example 1,
After forming the adhesive layer 2, the adhesive layer was roughened with a phosphoric acid aqueous solution to form a roughened surface 4c.

(4)スルーホール16形成用の貫通孔16aをドリルで形
成した。
(4) A through hole 16a for forming the through hole 16 was formed by a drill.

(5)基板上1にパラジウム触媒を付与して接着剤層の
粗化面3を活性化させた。
(5) A palladium catalyst was applied to the substrate 1 to activate the roughened surface 3 of the adhesive layer.

(6)実施例1の(8)、(9)の方法にて、厚さ30μ
mのめっきレジストを形成し、厚さ25μmの無電解めっ
きを施して第2めっき導体層9を形成することにより、
第3図(e)に示すような多層プリント配線板を製造し
た。
(6) The thickness of 30 μm was obtained by the method of (8) or (9) of Example 1.
m, a 25 μm-thick electroless plating is performed to form the second plating conductor layer 9,
A multilayer printed wiring board as shown in FIG. 3 (e) was manufactured.

実施例4 (1)前記実施例1と同様にして得られた接着剤溶液
に、チクソトロピック剤1重量%、レベリング剤0.5重
量%を含有するようそれぞれ添加し、含浸液を調整し
た。
Example 4 (1) The adhesive solution obtained in the same manner as in Example 1 was added so as to contain 1% by weight of a thixotropic agent and 0.5% by weight of a leveling agent, respectively, to prepare an impregnating solution.

(2)前記含浸液中に、カップリング剤(PhSi(OEt)
)が塗布されたガラス織布8を浸漬した。ついで、こ
れを150℃で70分間乾燥させ、プリプレグを作成した。
(2) A coupling agent (PhSi (OEt)
The glass woven fabric 8 coated with 3 ) was dipped. Next, this was dried at 150 ° C. for 70 minutes to prepare a prepreg.

(3)前記プリプレグを、すでに内層導体層6が形成さ
れている基板1の両面配線板に両面に2枚ずつ重ね、15
0℃、40kg/cm2で200分間加圧して接着剤層2を形成し
た。
(3) The prepreg is superposed on the double-sided wiring board of the substrate 1 on which the inner conductor layer 6 has already been formed, two by two on each side,
The adhesive layer 2 was formed by pressing at 0 ° C. and 40 kg / cm 2 for 200 minutes.

(4)りん酸水溶液で、接着剤層2を粗化して粗化面4a
を得た。
(4) The adhesive layer 2 is roughened with an aqueous phosphoric acid solution to roughen the surface 4a.
I got

(5)スルーホール16形成用の貫通孔をドリルで形成し
た。
(5) A through hole for forming the through hole 16 was formed by a drill.

(6)基板1上にパラジウム触媒を付与して接着剤層の
粗化面3を活性化させた。
(6) The roughened surface 3 of the adhesive layer was activated by applying a palladium catalyst to the substrate 1.

(7)実施例1の(8),(9)の方法にて、厚さ30μ
mのめっきレジスト5を形成した後、厚さ25μmの無電
解めっきを施すことにより第2めっき導体層9を形成
し、第4図に示すような多層プリント配線板を製造し
た。
(7) According to the method of (8), (9) of Example 1, the thickness is 30 μm.
After the formation of the plating resist 5 of m, the second plating conductor layer 9 was formed by performing electroless plating with a thickness of 25 μm, thereby producing a multilayer printed wiring board as shown in FIG.

実施例5 (1)実施例3と同様にして接着剤溶液を調整した。Example 5 (1) An adhesive solution was prepared in the same manner as in Example 3.

(2)前記接着剤をポリエチレンフィルム14の片面に塗
布した後、100℃で1時間乾燥させ、半硬化状態とし
て、接着剤フィルム14を作成した。
(2) The adhesive was applied to one side of the polyethylene film 14 and then dried at 100 ° C. for 1 hour to make the adhesive film 14 in a semi-cured state.

(3)ガラスエポキシ基板1の表面を湿式で研磨して粗
面化した後、80℃で3時間加熱乾燥させ硬化を阻害する
水分を除去した後、前記(2)で得た接着剤フィルム14
を積層し、150℃、40kg/cm2で200分間加圧して接着剤層
2を形成した。
(3) After the surface of the glass epoxy substrate 1 is roughened by wet polishing, it is heated and dried at 80 ° C. for 3 hours to remove moisture that inhibits curing, and then the adhesive film 14 obtained in the above (2) is removed.
Were laminated and pressurized at 150 ° C. and 40 kg / cm 2 for 200 minutes to form an adhesive layer 2.

(4)ポリエステルフィルム14を剥離した後、前記接着
剤層4の表面を#1000のアルミナ微粉末を用いて回転ブ
ラシ研磨機で研磨した。
(4) After peeling off the polyester film 14, the surface of the adhesive layer 4 was polished with a rotary brush polisher using # 1000 alumina fine powder.

(5)前記(4)で得られた基板を6Nの塩酸水溶液に常
温で20分間浸漬して接着剤の表面を粗面化3してから水
洗した。
(5) The substrate obtained in the above (4) was immersed in a 6N hydrochloric acid aqueous solution at room temperature for 20 minutes to roughen the surface of the adhesive 3, and then washed with water.

(6)上記(5)で得られた接着剤層2の粗化面4cを有
する基板1に、パラジウム触媒を付与することにより、
接着剤層の粗化表面3を活性化させた。
(6) By applying a palladium catalyst to the substrate 1 having the roughened surface 4c of the adhesive layer 2 obtained in the above (5),
The roughened surface 3 of the adhesive layer was activated.

(7)基板1上に感光製ドライフィルムをラミネート
し、所望の導体回路パターンが描画されたマスクフィル
ムを通して紫外線露光させ、画像を焼き付けた。つい
で、クロロセンで現像し、厚さ40μmの無電解めっき用
レジスト5を形成した。
(7) A photosensitive dry film was laminated on the substrate 1 and exposed to ultraviolet light through a mask film on which a desired conductive circuit pattern was drawn, to print an image. Subsequently, development was performed with chlorocene to form a resist 5 for electroless plating having a thickness of 40 μm.

(8)第1表に示す組成のアディティブ法用無電解銅め
っき液に浸漬して、めっき膜の厚さ30μmの無電解めっ
きを施し、導体パターンを形成した。
(8) It was immersed in an electroless copper plating solution for an additive method having a composition shown in Table 1 and subjected to electroless plating with a plating film thickness of 30 μm to form a conductor pattern.

(9)厚さ5μmの半田めっきを行い、第5図(h)に
示すような導体層6上にさらに半田めっき層7を形成し
てなるプリント配線板を得た。
(9) A 5 μm-thick solder plating was performed to obtain a printed wiring board in which a solder plating layer 7 was further formed on the conductor layer 6 as shown in FIG. 5 (h).

実施例6 (1)ガラスエポキシ銅張積層板1をエッチング処理し
て、配線板を形成した。
Example 6 (1) The glass epoxy copper clad laminate 1 was etched to form a wiring board.

(2)実施例1と同様にして、擬似粒子を形成した。こ
の擬似粒子は平均粒径が約4.3μmであり、約75重量%
が、平均粒径を中心として±2μmの範囲に存在してい
た。
(2) In the same manner as in Example 1, pseudo particles were formed. These pseudo particles have an average particle size of about 4.3 μm and about 75% by weight.
Was present in a range of ± 2 μm around the average particle size.

(3)クレゾールノボラック型エポキシ樹脂の50%アク
リル化物を60重量部、ビスフェノールA型エポキシ樹脂
の50%アクリル化物を60重量部、ビスフェノールA型エ
ポキシ樹脂を40重量部、シアリルテレフタレートを15重
量部、2−メチル−1−〔4−(メチルチオ)フェニ
ル〕−2−モリフォリノプロパノン−1を4重量部、イ
ミダゾール4重量部、前記(2)で作成した擬似粒子50
重量部を混合した後、ブチルセルソルブを添加しなが
ら、ホモディスパー攪拌機で粘度を250cpに調整し、次
いで3本ローラーで混練して感光性樹脂組成物の溶液を
作成した。
(3) 60 parts by weight of a 50% acrylate of a cresol novolac type epoxy resin, 60 parts by weight of a 50% acrylate of a bisphenol A type epoxy resin, 40 parts by weight of a bisphenol A type epoxy resin, 15 parts by weight of sialyl terephthalate, 4 parts by weight of 2-methyl-1- [4- (methylthio) phenyl] -2-morpholinopropanone-1, 4 parts by weight of imidazole, 50 parts of pseudo particles prepared in the above (2)
After mixing the parts by weight, the viscosity was adjusted to 250 cp with a homodisper stirrer while adding butyl cellosolve, and then kneaded with three rollers to prepare a solution of the photosensitive resin composition.

(4)60gの亜塩素酸ナトリウム、18gの水酸化ナトリウ
ム、5gのりん酸ナトリウム、5gの炭酸ナトリウムを水に
溶解させ1として、アルカリ性亜塩素酸ナトリウム溶
液を調製した。
(4) An alkaline sodium chlorite solution was prepared by dissolving 60 g of sodium chlorite, 18 g of sodium hydroxide, 5 g of sodium phosphate, and 5 g of sodium carbonate in water to obtain a solution of 1.

(5)30重量%ホルマリン水溶液30ml、38gのKOHを水1
に溶解させて、アルカリ性還元剤水溶液を調製した。
(5) 30 ml of a 30% by weight aqueous solution of formalin, 38 g of KOH in water 1
To prepare an aqueous solution of an alkaline reducing agent.

(6)前記(1)で作成した配線板を、前記(4)で得
られたアルカリ性亜塩素酸ナトリウム溶液に2〜3分間
浸漬した。ついで、前記(5)で調製したアルカリ性還
元剤水溶液中に70℃で15分間浸漬し、粗化を行った。
(6) The wiring board prepared in (1) was immersed in the alkaline sodium chlorite solution obtained in (4) for 2 to 3 minutes. Then, it was immersed in the aqueous solution of the alkaline reducing agent prepared in the above (5) at 70 ° C. for 15 minutes for roughening.

(7)前記(6)で作成した配線板上に、前記(3)で
調製した感光性樹脂組成物の溶液を、ナイフコーターを
用いて塗布し、水平状態で20分放置した後、70℃で乾燥
させて、厚さ約50μmの感光性樹脂絶縁層を形成した。
(7) The solution of the photosensitive resin composition prepared in the above (3) is applied on the wiring board prepared in the above (6) using a knife coater, and left in a horizontal state for 20 minutes. To form a photosensitive resin insulating layer having a thickness of about 50 μm.

(8)前記(7)の処理を施した配線板に100μmφの
黒円が印刷されたフォトマスクフィルムを密着させ、超
高圧水銀灯により500mJ/cm2で露光した。これをクロロ
セン溶液で超音波現像処理することにより、配線板上10
0μmφのバイアホール17となる開口17aを形成した。
(8) A photomask film on which a black circle having a diameter of 100 μm was printed was brought into close contact with the printed circuit board subjected to the treatment of (7), and exposed to light at 500 mJ / cm 2 using an ultra-high pressure mercury lamp. This is subjected to ultrasonic development with a chlorocene solution, so that
An opening 17a to be a via hole 17 of 0 μmφ was formed.

この配線板を、超高圧水銀灯により約3000mJ/cm2で露
光し、さらに100℃で1時間、その後150℃で10時間加熱
処理することによりフォトマスクフィルムに相当する寸
法精度に優れた開口17aを有する第6図(b)に示すよ
うな樹脂絶縁層(接着剤層)21を形成した。
This wiring board is exposed at about 3000 mJ / cm 2 by an ultra-high pressure mercury lamp, and further heated at 100 ° C. for 1 hour and then at 150 ° C. for 10 hours to form an opening 17a having excellent dimensional accuracy equivalent to a photomask film. A resin insulating layer (adhesive layer) 21 as shown in FIG. 6 (b) was formed.

(9)前記樹脂絶縁層21を#1000のアルミナ粉末で研磨
した後、前記樹脂絶縁層を硝酸溶液に70℃で15分間浸漬
して、層間樹脂絶縁層の表面を粗化3してから、中和溶
液に浸漬して水洗した。
(9) After the resin insulation layer 21 is polished with # 1000 alumina powder, the resin insulation layer is immersed in a nitric acid solution at 70 ° C. for 15 minutes to roughen the surface of the interlayer resin insulation layer 3. It was immersed in a neutralization solution and washed with water.

樹脂絶縁層2′が粗化4aされた基板1に、パラジウム
触媒を付与して絶縁層2′の表面を活性化させ、常法に
従いめっきレジストを形成した後、第一表に示す組成の
無電解銅めっき液に11時間浸漬して、めっき膜の厚さ25
μmの無電解銅めっきを施し、第2めっき導体層9を形
成した。
The surface of the insulating layer 2 'is activated by applying a palladium catalyst to the substrate 1 on which the resin insulating layer 2' is roughened 4a, and a plating resist is formed according to a conventional method. Immerse in an electrolytic copper plating solution for 11 hours to achieve a plating film thickness of 25
A second plating conductor layer 9 was formed by performing electroless copper plating of μm.

(4)〜(9)の工程を2回繰り返すことにより、第
3めっき導体層10、第4めっき導体層11と順次に形成
し、第6図(d)に示すようなビルドアップ多層配線板
を製造した。
By repeating the steps (4) to (9) twice, a third plating conductor layer 10 and a fourth plating conductor layer 11 are sequentially formed, and a build-up multilayer wiring board as shown in FIG. Was manufactured.

実施例7 この実施例は、基本的に実施例6と同様であるが、第
2層に形成されるめっき導体層9の代わりに、パッド
(バイアホールで下層の導体回路と電気的に接続されて
いる)12を形成し、これにソルダーコート13を施して、
半導体部品を搭載するためのパッドのみが形成された、
第9図に示すようなプリント配線板を製造した。
Embodiment 7 This embodiment is basically the same as Embodiment 6, except that a pad (via a via hole and electrically connected to a lower conductor circuit) is used instead of the plated conductor layer 9 formed on the second layer. 12), apply a solder coat 13 to this,
Only pads for mounting semiconductor parts were formed,
A printed wiring board as shown in FIG. 9 was manufactured.

実施例8 本実施例は、基本的には実施例1と同様であるが、本
実施例では、無電解めっき用接着剤にパラジウム触媒を
加えておき、パラジウム触媒の付与工程を省いた。
Example 8 This example is basically the same as Example 1, but in this example, a palladium catalyst was added to the electroless plating adhesive, and the step of applying the palladium catalyst was omitted.

比較例1 この比較例は、基本的には実施例1と同様であるが、
平均粒径3.9μmおよび平均粒径0.5μmの酸に可溶なエ
ポキシ樹脂粒子の代わりに、平均粒径3.9μmおよび平
均粒径0.5μmの酸化剤に可溶なエポキシ樹脂粒子を使
用して擬似粒子を作製し、50%硫酸の代わりにクロム酸
(酸化剤)を用いて粗化処理を行い、第8図に示すよう
なプリント配線板を製造した。
Comparative Example 1 This comparative example is basically the same as Example 1,
Instead of using epoxy resin particles having an average particle diameter of 3.9 μm and an average particle diameter of 0.5 μm, the epoxy resin particles having an average particle diameter of 3.9 μm and an average particle diameter of 0.5 μm are used. Particles were prepared and subjected to a roughening treatment using chromic acid (oxidizing agent) instead of 50% sulfuric acid to produce a printed wiring board as shown in FIG.

比較例2 この比較例は、基本的には実施例2と同様であるが、
平均粒径0.5μmの酸に可溶なエポキシ樹脂粒子の代わ
りに、平均粒径0.5μmの酸化剤に可溶なエポキシ樹脂
粒子を使用して平均粒径が約3.5μmの凝集粒子を作製
し、6N塩酸の代わりに、クロム酸(酸化剤)を用いて粗
化処理を行い、第9図に示すようなプリント配線板を製
造した。
Comparative Example 2 This comparative example is basically the same as Example 2, but
Agglomerated particles having an average particle size of about 3.5 μm were prepared by using epoxy resin particles soluble in an oxidizing agent having an average particle size of 0.5 μm instead of acid-soluble epoxy resin particles having an average particle size of 0.5 μm. Roughening treatment was performed using chromic acid (oxidizing agent) instead of 6N hydrochloric acid to produce a printed wiring board as shown in FIG.

比較例3 この比較例は、基本的には実施例3と同様であるが、
平均粒径3.9μmおよび平均粒径0.5μmの酸に可溶なエ
ポキシ樹脂粒子の代わりに、平均粒径3.9μmおよび平
均粒径0.5μmの酸化剤に可溶なエポキシ樹脂を使用
し、りん酸の代わりにクロム酸(酸化剤)を用いて粗化
処理を行い、第10図に示すようなプリント配線板を製造
した。
Comparative Example 3 This comparative example is basically the same as Example 3, but
Instead of acid-soluble epoxy resin particles having an average particle size of 3.9 μm and an average particle size of 0.5 μm, an epoxy resin soluble in an oxidizing agent having an average particle size of 3.9 μm and an average particle size of 0.5 μm is used. Instead, a roughening treatment was performed using chromic acid (oxidizing agent) to produce a printed wiring board as shown in FIG.

以上説明した(c)実施例1〜8、比較例1〜3で得
られたプリント配線板について、基板と銅めっき膜との
密着強度をJIS−C−6481の方法で測定した。
(C) The adhesion strength between the substrate and the copper plating film of the printed wiring boards obtained in Examples 1 to 8 and Comparative Examples 1 to 3 was measured by the method of JIS-C-6481.

また、100℃の煮沸水にプリント配線板を浸漬するこ
とにより、接着剤層の表面抵抗の変化を測定した。
In addition, a change in the surface resistance of the adhesive layer was measured by immersing the printed wiring board in boiling water at 100 ° C.

これらの結果を第3表に示す。 Table 3 shows the results.

〔発明の効果〕 以上説明したように本発明によれば、耐熱性、電気特
性および基板と無電解めっき膜との密着性がともに極め
て優れ、特に表面の粗化に際し、マトリックスをも余分
に溶解することがないから、アンカー形状がシャープに
なり、それだけめっき密着性に極めて優れた無電解めっ
き用接着剤を提供できる。
[Effects of the Invention] As described above, according to the present invention, the heat resistance, the electrical characteristics, and the adhesion between the substrate and the electroless plating film are both extremely excellent, and particularly, when the surface is roughened, the matrix is additionally dissolved. Therefore, the anchor shape becomes sharp, and an adhesive for electroless plating with extremely excellent plating adhesion can be provided.

しかも、このような接着剤の採用により、プリント配
線板の製造に際しても、表面を十分に粗化するための複
雑な条件が不要であり、また、クロム酸などの有害物質
を用いる訳ではないから、その廃棄および処理の手間が
省け、さらには作業環境についても特別な設備や注意が
不必要である。
Moreover, the use of such an adhesive eliminates the need for complicated conditions for sufficiently roughening the surface when manufacturing a printed wiring board, and does not use harmful substances such as chromic acid. In addition, the time and effort for disposal and disposal can be eliminated, and no special equipment or care is required for the working environment.

また、粗化処理の際に、露出した導体が酸化されない
ので導通信頼性にも優れる。
In addition, since the exposed conductor is not oxidized during the roughening treatment, the conduction reliability is excellent.

この意味において本発明は、利用分野も高密度で高精
度のプリント配線板、ハイブリットIC配線板、LSIを実
装する多層配線板など広く適用され、産業上極めて有用
である。
In this sense, the present invention is widely applied to high-precision printed wiring boards, hybrid IC wiring boards, multilayer wiring boards on which LSIs are mounted, and is extremely useful in industry.

【図面の簡単な説明】 第1図(a)〜(e)は、実施例1の製造工程を示した
図、 第2図(a)〜(e)は、実施例2の製造工程を示した
図、 第3図(a)〜(e)は、実施例3の製造工程を示した
図、 第4図は、実施例4で得られるプリント配線板の断面
図、 第5図(a)〜(h)は、実施例5の製造工程を示した
図、 第6図(a)〜(d)は、実施例6の製造工程を示した
図、 第7図は、実施例7で得られるプリント配線板の断面
図、 第8図は、比較例1に基づくプリント配線板の断面図、 第9図は、比較例2に基づくプリント配線板の断面図、 第10図は、比較例3に基づくプリント配線板の断面図で
ある。 1……基板、2……接着剤層、2′……絶縁層、3……
粗化面、 4a……擬似粒子入り接着剤層、4b……凝集粒子入り接着
剤層、 4c……粒径の異なった2種類の粒子入り接着剤層、 5……めっきレジスト、6……導体層、7……半田めっ
き層、 8……ガラス織布、9……第2めっき導体層、10……第
3めっき導体層、 11……第4めっき導体層、12……パッド、13……ソルダ
ーコート、 14……ポリエチレンフィルム、 15a……酸化剤で粗化した擬似粒子入り接着剤層、 15b……酸化剤で粗化した擬似粒子入り接着剤層、 15c……酸化剤で粗化した粒径の異なる2種の粒子入り
接着剤層、 16……スルーホール、17a……開口
BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS FIGS. 1 (a) to 1 (e) are views showing the manufacturing steps of Example 1, and FIGS. 2 (a) to 2 (e) are the manufacturing steps of Example 2. FIGS. FIGS. 3 (a) to 3 (e) are views showing the manufacturing process of Example 3, FIG. 4 is a cross-sectional view of the printed wiring board obtained in Example 4, FIG. 5 (a) 6 (a) to 6 (h) are diagrams showing the manufacturing process of the fifth embodiment, FIGS. 6 (a) to 6 (d) are diagrams showing the manufacturing process of the sixth embodiment, and FIG. 8 is a cross-sectional view of a printed wiring board based on Comparative Example 1, FIG. 9 is a cross-sectional view of a printed wiring board based on Comparative Example 2, and FIG. FIG. 2 is a cross-sectional view of a printed wiring board based on FIG. 1 ... substrate, 2 ... adhesive layer, 2 '... insulating layer, 3 ...
Roughened surface, 4a: Adhesive layer containing pseudo particles, 4b: Adhesive layer containing aggregated particles, 4c ... Adhesive layer containing two types of particles having different particle diameters, 5: Plating resist, 6 ... Conductor layer, 7: Solder plating layer, 8: Glass woven fabric, 9: Second plating conductor layer, 10: Third plating conductor layer, 11: Fourth plating conductor layer, 12: Pad, 13 …… Solder coat, 14 …… Polyethylene film, 15a …… Pseudo-particle-containing adhesive layer roughened by oxidizing agent, 15b …… Pseudo-particle-containing adhesive layer roughened by oxidizing agent, 15c …… Roughing by oxidizing agent Adhesive layer containing two types of particles with different particle diameters, 16: through-hole, 17a: opening

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 昭63−235384(JP,A) 特開 平1−275682(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) C09J 9/00,163/00,5/00 C23C 18/00 H05K 3/18 ────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (56) References JP-A-63-235384 (JP, A) JP-A-1-275682 (JP, A) (58) Fields investigated (Int. Cl. 7 , DB name) C09J 9 / 00,163 / 00,5 / 00 C23C 18/00 H05K 3/18

Claims (10)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】硫酸、塩酸、硝酸、燐酸、酢酸およびギ酸
のなかから選ばれるいずれか少なくとも1種の酸に対し
て可溶性の予め硬化処理されたエポキシ樹脂粉末を、硬
化処理することにより前記酸に対して難溶性もしくは不
溶性となる特性を有する未硬化のマトリックス形成用耐
熱性樹脂中に散在させたものからなる無電解めっき用接
着剤。
1. An epoxy resin powder which has been cured beforehand and which is soluble in at least one acid selected from the group consisting of sulfuric acid, hydrochloric acid, nitric acid, phosphoric acid, acetic acid and formic acid. An adhesive for electroless plating, which is dispersed in an uncured matrix-forming heat-resistant resin having a property of being hardly soluble or insoluble in water.
【請求項2】前記エポキシ樹脂粉末は、平均粒径が10μ
m以下である請求項1に記載の接着剤。
2. The epoxy resin powder has an average particle size of 10 μm.
The adhesive according to claim 1, which is not more than m.
【請求項3】前記エポキシ樹脂粉末は、 平均粒径2μm以下のエポキシ樹脂粉末を凝集させて平
均粒径2〜10μmの大きさとした凝集粒子、 平均粒径2〜10μmのエポキシ樹脂粉末と平均粒径2μ
m未満のエポキシ樹脂粉末との混合物、 平均粒径2〜10μmのエポキシ樹脂粉末の表面に平均粒
径2μm以下のエポキシ樹脂粉末もしくは平均粒径2μ
m以下の無機粉末のいずれか少なくとも1種を付着させ
てなる擬似粒子、 のなかから選ばれるいずれか少なくとも1種である請求
項1または2に記載の接着剤。
3. An epoxy resin powder having an average particle size of 2 to 10 μm by aggregating an epoxy resin powder having an average particle size of 2 μm or less; an epoxy resin powder having an average particle size of 2 to 10 μm; Diameter 2μ
A mixture with an epoxy resin powder having an average particle diameter of 2 μm or less or an epoxy resin powder having an average particle diameter of 2 μm or less
3. The adhesive according to claim 1, wherein the adhesive is at least one selected from the group consisting of pseudo particles obtained by adhering at least one of inorganic powders having a particle size of m or less. 4.
【請求項4】前記エポキシ樹脂粉末を散在させるマトリ
ックス形成用耐熱性樹脂は、エポキシ樹脂、エポキシ変
成ポリイミド樹脂、ポリイミド樹脂、フェノール樹脂の
なかから選ばれるいずれか少なくとも1種の樹脂である
請求項1〜3のいずれか1つに記載の接着剤。
4. The heat-resistant resin for forming a matrix in which the epoxy resin powder is scattered is at least one resin selected from an epoxy resin, an epoxy-modified polyimide resin, a polyimide resin, and a phenol resin. The adhesive according to any one of Items 1 to 3.
【請求項5】無電解めっき用接着剤を介して導体層が設
けられるプリント配線板を製造するに当たり、少なくと
も以下(a)〜(d)の工程; (a) 基板に対し、硫酸、塩酸、硝酸、燐酸、酢酸お
よびギ酸のなかから選ばれるいずれか少なくとも1種の
酸に対して可溶性の予め硬化処理されたエポキシ樹脂粉
末を、硬化処理することにより前記酸に対して難溶性も
しくは不溶性となる特性を有する未硬化の耐熱性樹脂液
中に分散させてなる接着剤を塗布し、これを乾燥,硬化
処理を施すことにより、接着剤層を形成する工程。 (b) 硬化させた前記接着剤層の表面を研磨すること
により、該接着剤層の表面部分に散在している前記エポ
キシ樹脂粉末の一部を接着剤層表面に露出させる工程。 (c) 接着剤層表面に露出した前記エポキシ樹脂粉末
の少なくとも一部を、硫酸、塩酸、硝酸、燐酸、酢酸お
よびギ酸のなかから選ばれるいずれか少なくとも1種の
酸にて溶解除去することにより、接着剤層の表面を粗化
する工程。 (d) 粗化した表面に、無電解めっきを施す工程。 を経ることを特徴とする接着剤を用いたプリント配線板
の製造方法。
5. A method for producing a printed wiring board on which a conductive layer is provided via an adhesive for electroless plating, wherein at least the following steps (a) to (d) are performed: (a) sulfuric acid, hydrochloric acid, Precuring epoxy resin powder soluble in at least one acid selected from nitric acid, phosphoric acid, acetic acid and formic acid becomes hardly soluble or insoluble in the acid by curing. A step of forming an adhesive layer by applying an adhesive dispersed in an uncured heat-resistant resin liquid having characteristics, followed by drying and curing. (B) polishing the surface of the cured adhesive layer to expose a part of the epoxy resin powder scattered on the surface of the adhesive layer to the surface of the adhesive layer; (C) dissolving and removing at least a part of the epoxy resin powder exposed on the surface of the adhesive layer with at least one acid selected from sulfuric acid, hydrochloric acid, nitric acid, phosphoric acid, acetic acid and formic acid; And a step of roughening the surface of the adhesive layer. (D) A step of applying electroless plating to the roughened surface. A method for manufacturing a printed wiring board using an adhesive characterized by passing through.
【請求項6】前記エポキシ樹脂粉末は、平均粒径が10μ
m以下である請求項5に記載の製造方法。
6. The epoxy resin powder has an average particle size of 10 μm.
The production method according to claim 5, wherein m is equal to or less than m.
【請求項7】前記エポキシ樹脂粉末は、 平均粒径2μm以下のエポキシ樹脂粉末を凝集させて平
均粒径2〜10μmの大きさとした凝集粒子、 平均粒径2〜10μmのエポキシ樹脂粉末と平均粒径2μ
m未満のエポキシ樹脂粉末との混合物、 平均粒径2〜10μmのエポキシ樹脂粉末の表面に平均粒
径2μm以下のエポキシ樹脂粉末もしくは平均粒径2μ
m以下の無機粉末のいずれか少なくとも1種を付着させ
てなる擬似粒子、 のなかから選ばれるいずれか少なくとも1種である請求
項5または6に記載の製造方法。
7. An epoxy resin powder comprising an agglomerated particle obtained by aggregating an epoxy resin powder having an average particle size of 2 μm or less to have a size of 2 to 10 μm; Diameter 2μ
A mixture with an epoxy resin powder having an average particle diameter of 2 μm or less or an epoxy resin powder having an average particle diameter of 2 μm or less
7. The method according to claim 5, wherein the particles are at least one kind selected from the group consisting of pseudo particles obtained by adhering at least one kind of inorganic powder having a particle size of m or less.
【請求項8】前記エポキシ樹脂粉末を分散させるマトリ
ックス形成用耐熱性樹脂液は、エポキシ樹脂、エポキシ
変成ポリミイド樹脂、ポリミイド樹脂、フェノール樹脂
のなかから選ばれるいずれか少なくとも1種の樹脂液で
ある請求項5〜7のいずれか1つに記載の製造方法。
8. The heat-resistant resin liquid for forming a matrix in which the epoxy resin powder is dispersed is at least one resin liquid selected from an epoxy resin, an epoxy-modified polyimide resin, a polyimide resin and a phenol resin. Item 8. The method according to any one of Items 5 to 7.
【請求項9】前記無電解めっきは、無電解銅めっき、無
電解ニッケルめっき、無電解金めっきの何れか少なくと
も1種である請求項5〜8のいずれか1つに記載の製造
方法。
9. The method according to claim 5, wherein the electroless plating is at least one of electroless copper plating, electroless nickel plating, and electroless gold plating.
【請求項10】基板に対し、硫酸、塩酸、硝酸、燐酸、
酢酸およびギ酸のなかから選ばれるいずれか少なくとも
1種の酸に対して可溶性の予め硬化処理されたエポキシ
樹脂粉末が、前記酸に対して難溶性もしくは不溶性とな
る特性を有する硬化処理された耐熱性樹脂中に分散され
てなる接着剤層が形成され、 その接着剤層の表面部分に露出したエポキシ樹脂粉末の
少なくとも一部が前記酸にて溶解除去されて、接着剤層
の表面が粗化されてなり、その粗化された表面に無電解
めっきが施されて導体層が形成されたことを特徴とする
プリント配線板。
10. A method according to claim 1, wherein said substrate is sulfuric acid, hydrochloric acid, nitric acid, phosphoric acid,
A pre-cured epoxy resin powder soluble in at least one acid selected from acetic acid and formic acid has a property of being hardly soluble or insoluble in the acid. An adhesive layer dispersed in a resin is formed, and at least a portion of the epoxy resin powder exposed on the surface portion of the adhesive layer is dissolved and removed with the acid to roughen the surface of the adhesive layer. And a conductor layer formed by electroless plating the roughened surface.
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