JPH03229780A - Adhesive for electroless plating, excellent in anchoring effect, and manufacture of printed wiring board by using it - Google Patents

Adhesive for electroless plating, excellent in anchoring effect, and manufacture of printed wiring board by using it

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JPH03229780A
JPH03229780A JP2331390A JP2331390A JPH03229780A JP H03229780 A JPH03229780 A JP H03229780A JP 2331390 A JP2331390 A JP 2331390A JP 2331390 A JP2331390 A JP 2331390A JP H03229780 A JPH03229780 A JP H03229780A
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resistant resin
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average particle
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Akira Enomoto
亮 榎本
Motoo Asai
元雄 浅井
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Ibiden Co Ltd
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Ibiden Co Ltd
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    • H05K2203/00Indexing scheme relating to apparatus or processes for manufacturing printed circuits covered by H05K3/00
    • H05K2203/07Treatments involving liquids, e.g. plating, rinsing
    • H05K2203/0756Uses of liquids, e.g. rinsing, coating, dissolving
    • H05K2203/0773Dissolving the filler without dissolving the matrix material; Dissolving the matrix material without dissolving the filler

Abstract

PURPOSE:To form the title adhesive excellent in heat resistance, electrical characteristics, and adhesiveness and useful for obtaining a printed wiring board by dispersing an acid-soluble, precured, heat-resistant resin powder in a specified heat-resistant matrix resin. CONSTITUTION:The title adhesive is formed by dispersing an acid-soluble, precured, heat-resistant resin powder (e.g. epoxy resin particles) preferably having a mean particle diameter of 10mum or smaller in an uncured heat-resistant matrix resin which becomes hardly soluble or insoluble in acid when cured (e.g. a mixture of a phenolic novolak epoxy resin with a bisphenol A resin).

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、アンカー効果(無電解めっき膜の密着性)に
優れた接着剤とこの接着剤を用いて精度の高いプリント
配線板を製造する方法に関し、特に耐熱性、電気絶縁性
、化学的安定性が良く、とりわけアンカー形状がシャー
プになるためにめっき膜の密着性が極めて優れたものと
なるプリント配線板製造用接着剤を提案すると同時に、
この接着剤を用いた高精度のプリント配線板を有利に製
造する方法に関するものである。
[Detailed Description of the Invention] [Industrial Application Field] The present invention is directed to an adhesive having an excellent anchoring effect (adhesion of electroless plated film) and manufacturing a highly accurate printed wiring board using this adhesive. Regarding the method, we proposed an adhesive for manufacturing printed wiring boards that has particularly good heat resistance, electrical insulation, and chemical stability, and in particular, has a sharp anchor shape that provides extremely excellent adhesion to the plating film. ,
The present invention relates to a method for advantageously manufacturing a high-precision printed wiring board using this adhesive.

〔従来の技術〕[Conventional technology]

近年、エレクトロニクスの進歩はめざましく、これに伴
い電子機器はより一層の小型化あるいは高速化が必要と
なっている。このために、プリント配線板、特にICや
LSIなどの部分を装着したプリント配線板については
、ファインパターンによる高密度化および高い信鎖性が
求められている。
BACKGROUND ART In recent years, advances in electronics have been remarkable, and as a result, electronic devices need to be further miniaturized or faster. For this reason, printed wiring boards, especially printed wiring boards on which parts such as ICs and LSIs are mounted, are required to have higher density through fine patterns and higher reliability.

従来、プリント配線板への導体回路(パターン)の形成
技術としては、基板に銅薄を積層した後、フォトエツチ
ングする形式のエツチドフォイル方法と呼ばれる方法が
代表的である。この方法は、基板との密着性に優れた導
体パターンを形成することができるという特徴があるが
、一方では銅箔の厚さが厚いためにエツチングにより高
精度のファインパターンが得難いという大きな欠点があ
り、さらに製造工程も複雑で効率が良くないなどの問題
点もあった。
Conventionally, a typical technique for forming a conductor circuit (pattern) on a printed wiring board is a method called an etched foil method in which a thin copper layer is laminated on a board and then photo-etched. This method has the feature of being able to form a conductor pattern with excellent adhesion to the board, but on the other hand, it has the major drawback that it is difficult to obtain a highly accurate fine pattern by etching because the copper foil is thick. Moreover, there were also problems such as the manufacturing process was complicated and inefficient.

そこで最近では、配線板に導体回路を形成するために、
ジエン系合成ゴムを含む接着剤を基板表面に塗布して接
着剤層を形成し、この接着剤層の表面を粗化した後、無
電解めっきを施して導体回路パターンを形成するアディ
ティブ法が脚光を浴びてきた。
Therefore, recently, in order to form conductor circuits on wiring boards,
Additive methods are gaining attention, in which an adhesive containing diene-based synthetic rubber is applied to the substrate surface to form an adhesive layer, the surface of this adhesive layer is roughened, and then electroless plating is applied to form a conductor circuit pattern. I have been bathed in

ところが、この既知方法の下で使用されている接着剤は
、組成中に合成ゴムを含むため、例えば高温時に密着強
度が大きく低下したり・はんだ付けの際に無電解めっき
膜がふくれるなどの欠点があった。また、耐熱性が低く
、表面抵抗などの電気特性が充分でないために、適用範
囲ががなり制限されるという欠点があった。
However, since the adhesive used in this known method contains synthetic rubber in its composition, it has drawbacks such as a significant decrease in adhesion strength at high temperatures and blistering of the electroless plating film during soldering. was there. In addition, the heat resistance is low and the electrical properties such as surface resistance are not sufficient, so the range of application is severely limited.

こうした無電解めっきによる導体パターンを形成するた
めに用いる「プリント配線板用樹脂組成物Jとして、特
開昭53−140344号公報に開示されているような
ものが提案されている。しかしながら、この組成物は、
該組成物中の球状粒子を形成する熱硬化性樹脂成分が蝕
刻(M化剤による処理)されていない、いわゆる酸化剤
に対して不溶性のものである。この樹脂組成物が蝕刻粗
化されて得られる基板上の接着剤層は、深さ20μm程
度の凸凹となるため、この接着剤層の上に形成される導
体は微細パターンのものが得難く、パターン間の絶縁性
も不良となり易く、さらに耐熱性や電気特性に劣るから
、部品などを実装する上においては好ましくないという
欠点があった。
A resin composition J for printed wiring boards, which is used to form conductor patterns by electroless plating, has been proposed as disclosed in JP-A-53-140344. However, this composition The thing is
The thermosetting resin component forming the spherical particles in the composition is not etched (treated with an M-forming agent) and is insoluble in so-called oxidizing agents. The adhesive layer on the substrate obtained by etching and roughening this resin composition has irregularities with a depth of about 20 μm, so it is difficult to obtain a fine pattern of the conductor formed on this adhesive layer. The insulation between patterns tends to be poor, and the heat resistance and electrical properties are also poor, making it undesirable for mounting components.

〔発明が解決しようとする課題〕[Problem to be solved by the invention]

本発明者らは、このような問題を解決するために、種々
研究した結果、 先に、耐熱性、電気絶縁性、化学的安定性が良く、とり
わけ基板と無電解めっき膜との密着性に優れ、しかも、
めっきに際しての取扱いが簡単な無電解めっき用接着剤
と、このような接着剤を用いたプリント配線板の製造方
法を発明し、特開昭61−276875号、特開平1−
275682号、特開平1301774号、特開平2−
8281号、特開平2−8283号として提案した。
In order to solve these problems, the inventors of the present invention have conducted various researches and found that they first have good heat resistance, electrical insulation, and chemical stability, and in particular have good adhesion between the substrate and the electroless plated film. Excellent, and
He invented an adhesive for electroless plating that is easy to handle during plating, and a method for manufacturing printed wiring boards using such an adhesive, and published Japanese Patent Application Laid-Open Nos. 61-276875 and 1999-1-
No. 275682, JP-A-1301774, JP-A-2-
No. 8281 and JP-A-2-8283.

しかしながら、本発明に先行して提案した前記発明の接
着剤及びこれらの接着剤を用いたプリント配線板の各製
造方法は、 酸化剤に対して可溶性の、予め硬化処理した耐熱性樹脂
微粉末を、硬化処理することにより酸化剤に対して難溶
性となる性質を有する未硬化のマトリックス形成用耐熱
性樹脂中に散在させてなる接着剤と、 基板上に、この接着剤を塗布して乾燥硬化させることに
より接着剤層を形成し、この接着剤層の表面部分に散在
している前記微粉末の少なくとも一部を溶解除去して接
着層の表面を粗化し、次いで無電解めっきを施す製造方
法、を基本とするものである。
However, the adhesives of the invention and the methods of manufacturing printed wiring boards using these adhesives, which were proposed prior to the present invention, require the use of heat-resistant resin fine powder that is soluble in oxidizing agents and that has been cured in advance. , an adhesive that is dispersed in an uncured heat-resistant matrix-forming resin that becomes poorly soluble in oxidizing agents when cured, and this adhesive is applied onto a substrate and dried and hardened. A manufacturing method comprising: forming an adhesive layer by dissolving and removing at least a portion of the fine powder scattered on the surface of the adhesive layer, roughening the surface of the adhesive layer, and then subjecting the adhesive layer to electroless plating. , is the basis.

従って、これらの方法では、耐熱性微粉末の一部を溶解
除去して接着剤層の表面を粗化するためには、クロム酸
などの酸化剤を使用する必要があった。
Therefore, in these methods, it is necessary to use an oxidizing agent such as chromic acid in order to dissolve and remove a portion of the heat-resistant fine powder and roughen the surface of the adhesive layer.

ところが、クロム酸などの酸化剤の使用については、■
コストが高くなること、■クロム酸などの酸化剤は有害
物質であり、廃棄や処理が困難であるばかりでなく、取
扱いも難しく作業環境にも特別な設備と注意が必要とな
るなど製造上の面で種々の問題を残していた。■さらに
、この酸化剤は、マトリックスを形成する前記耐熱性樹
脂を、若干溶解する傾向があるため、形成されるアンカ
ーの形状がシャープさを失うという問題もあり、そのた
め従来は種々の擬似粒子や凝集粒子を使用してアンカー
形状を複雑にしなければならないなどの不便があった。
However, regarding the use of oxidizing agents such as chromic acid, ■
- Oxidizing agents such as chromic acid are hazardous substances and are not only difficult to dispose of and process, but also difficult to handle and require special equipment and precautions in the working environment. Various problems remained. ■Furthermore, this oxidizing agent tends to slightly dissolve the heat-resistant resin that forms the matrix, so there is a problem that the shape of the anchor that is formed loses its sharpness. There were inconveniences such as the need to use agglomerated particles to complicate the shape of the anchor.

本発明の目的は、先行技術が抱えている上述した各種の
課題を解消し、耐熱性、電気特性に優れることはもちろ
ん、とくにアンカー形状が良いために密着性が極めて優
れ、がっ実施化が容易な無電解めっき用接着剤、及びこ
の接着剤を用いて高精度なプリント配線板の簡便に製造
する方法を提案するところにある。
The purpose of the present invention is to solve the above-mentioned problems faced by the prior art, and to provide not only excellent heat resistance and electrical properties, but also excellent adhesion due to the particularly good anchor shape, and easy implementation. The purpose of the present invention is to propose an easy adhesive for electroless plating and a method for easily manufacturing a high-precision printed wiring board using this adhesive.

〔課題を解決するための手段〕[Means to solve the problem]

本発明は、先に本発明者らが提案した前記発明の改良を
目指し、より低コストでしがち公害問題、作業環境など
の問題を生じることがなく、がつアンカー形状がめつき
密着性を常に良好なものとするのに適当な形状となるよ
うに工夫された接着剤を開発すべく鋭意研究した結果、
酸に対して可溶性の耐熱性樹脂粉末を用いると、前述の
課題を悉く解消できることを知見した。
The present invention aims to improve the above-mentioned invention previously proposed by the present inventors, and is designed to be lower in cost, free from common problems such as pollution and work environment, and the shape of the anchor ensures constant adhesion. As a result of intensive research to develop an adhesive that was devised to have an appropriate shape to make it good,
It has been found that all of the above-mentioned problems can be solved by using a heat-resistant resin powder that is soluble in acids.

すなわち本発明は、酸に対して可溶性の、予め硬化処理
された耐熱性樹脂粉末が、硬化処理することにより酸に
対して難溶性もしくは不溶性となる特性を有する未硬化
のマトリックス形成用耐熱性樹脂中に散在させたものか
らなる接着剤を提案する。
In other words, the present invention provides an uncured matrix-forming heat-resistant resin that has the property that the heat-resistant resin powder, which is soluble in acids and has been cured in advance, becomes poorly soluble or insoluble in acids when cured. We propose an adhesive consisting of interspersed materials.

そして、このような接着剤を利用し、まずこの接着剤を
基板に塗布し、これを乾燥、硬化処理を施すことによっ
て接着剤層を形成し、次いでこの接着剤層の表面を研磨
し、それによって接着剤層の表面部分に散在している前
記耐熱性樹脂粉末の少なくとも一部を接着剤層表面に露
出させ、このような状態にしてから前記樹脂粉末の一部
を酸にて溶解除去することにより接着剤層の表面を粗化
し、そしてこの粗化した接着剤層の表面に無電解めっき
を施すことにより所要の導体パターンを形成し、望まし
いプリント配線板を製造する方法を開発したのである。
Using such an adhesive, first apply this adhesive to a substrate, dry and harden it to form an adhesive layer, then polish the surface of this adhesive layer, and then apply it to a substrate. At least a portion of the heat-resistant resin powder scattered on the surface of the adhesive layer is exposed on the surface of the adhesive layer, and after this state is obtained, a portion of the resin powder is dissolved and removed with acid. By doing this, they roughened the surface of the adhesive layer, and then applied electroless plating to the roughened surface of the adhesive layer to form the required conductor pattern, thereby developing a method for manufacturing desirable printed wiring boards. .

〔作 用〕[For production]

本発明にかかる無電解めっき用接着剤は、酸に対して可
溶性を示す、予め硬化処理された耐熱性樹脂粉末を、硬
化処理することにより酸に対して難溶性もしくは不溶性
のものとなる性質を有する未硬化のマトリックス形成用
耐熱性樹脂中に散在させてなるものである。
The adhesive for electroless plating according to the present invention has the property of becoming poorly soluble or insoluble in acids by curing a heat-resistant resin powder that has been cured in advance and is soluble in acids. It is dispersed in an uncured heat-resistant resin for forming a matrix.

プリント配線板の無電解めっきに際してこのような接着
剤を用いる理由は、基板上に無電解めっき膜を形成する
際に、めっき導体の密着強度が高くなり、ひいては導体
パターンの信顛性の高いものが得られるからである。す
なわち、予め硬化処理された耐熱性樹脂粉末を、マトリ
ックス形成用耐熱性樹脂液中に分散させたものを、基板
上に塗布して乾燥、硬化させると、マトリックスを形成
する耐熱性樹脂(マトリックス形成用耐熱性樹脂)中に
耐熱性樹脂粉末が均一に散在した状態の接着剤層が形成
される。そして、一方では前記耐熱性樹脂粉末とマトリ
・ノクス形成用耐熱性樹脂とは酸に対する溶解性に極端
な差異が生しるようにしであるために、前記接着剤層を
酸で処理した場合、接着剤層の表面部分に分散している
粉末のうち酸に対して可溶性のあるものだけが溶解除去
される。
The reason why such adhesives are used for electroless plating of printed wiring boards is that when forming an electroless plating film on the board, it increases the adhesion strength of the plated conductor and, in turn, increases the reliability of the conductor pattern. This is because it can be obtained. That is, heat-resistant resin powder that has been cured in advance is dispersed in a heat-resistant resin liquid for forming a matrix, which is then applied onto a substrate, dried, and cured. An adhesive layer is formed in which heat-resistant resin powder is uniformly dispersed in a heat-resistant resin (for heat-resistant resin). On the other hand, since the heat-resistant resin powder and the heat-resistant resin for forming matrix-nox have extremely different solubility in acid, when the adhesive layer is treated with acid, Of the powders dispersed on the surface of the adhesive layer, only those that are soluble in acid are dissolved and removed.

その結果、接着剤層の表面にシャープなアンカー(窪み
)が形成され、接着剤層の粗化表面がシャープになるの
である。
As a result, sharp anchors (indentations) are formed on the surface of the adhesive layer, and the roughened surface of the adhesive layer becomes sharp.

さて、本発明に使用する耐熱性樹脂粉末は、予め硬化処
理されたものである。この耐熱性樹脂粉末について、硬
化処理されていないものを用いると、マトリックス形成
用耐熱性樹脂液あるいはこの樹脂を溶剤を用いて溶解し
た液中に添加した場合に、液中に溶解してしまう。した
がって、このような未硬化樹脂粉末を含む接着剤を基板
に塗布し乾燥硬化すると、マトリ・ノクス形成用耐熱性
樹脂と分散用耐熱性樹脂粉末が共融した状態の接着剤層
となる。その結果として、上述した酸の処理に際し、接
着剤層がほぼ均一に溶解され、粗面化に必要な接着剤層
表面の選択的な溶解除去ができなくなる。いわゆる、め
っき密着性を確保するためのアンカーの形成を阻むこと
となる。
Now, the heat-resistant resin powder used in the present invention has been previously hardened. If a heat-resistant resin powder that has not been hardened is used, when it is added to a heat-resistant resin solution for matrix formation or a solution in which this resin is dissolved using a solvent, it will dissolve in the solution. Therefore, when an adhesive containing such an uncured resin powder is applied to a substrate and dried and cured, an adhesive layer is obtained in which the heat-resistant resin for matrix-nox formation and the heat-resistant resin powder for dispersion are eutectic. As a result, during the acid treatment described above, the adhesive layer is almost uniformly dissolved, making it impossible to selectively dissolve and remove the surface of the adhesive layer, which is necessary for surface roughening. This prevents the formation of so-called anchors for ensuring plating adhesion.

これに対し、本発明で採用する前記耐熱性樹脂粉末は、
それが予め硬化処理されているために、耐熱性樹脂液あ
るいはこの樹脂を溶解する溶剤に対して難溶性もしくは
不溶性であるから、樹脂粉末のまま溶解したマトリック
ス耐熱性樹脂液中に、均一に分散している状態となる。
On the other hand, the heat-resistant resin powder employed in the present invention is
Because it has been hardened in advance, it is poorly soluble or insoluble in the heat-resistant resin liquid or the solvent that dissolves this resin, so it is uniformly dispersed in the matrix heat-resistant resin liquid dissolved as a resin powder. The situation is as follows.

それ故に、このような接着剤層を酸で処理すれば、可溶
性である均一分散されグこ前記樹脂粉末のみか溶解され
、前述のように明確でしかも均一でシャープなアンカー
を形成することができるのである。
Therefore, if such an adhesive layer is treated with acid, only the soluble resin powder will be dissolved, and a clear, uniform, and sharp anchor can be formed as described above. It is.

本発明に使用する前記耐熱性樹脂粉末としては、■平均
粒径2μm以下の大きさとした耐熱性樹脂粉末を凝集さ
せて平均粒径2〜10μmの大きさとした凝集粒子;■
平均粒径2〜10μmの耐熱性樹脂粉末と平均粒径2μ
m以下の耐熱性樹脂粉末との混合物;■平均粒径2〜1
0μmの耐熱性樹脂粉末の表面に、粒径2μm以下の耐
熱性樹脂微粉末もしくは平均粒径2μm以下の無機微粉
末のいずれか少な(とも1種を付着させてなる擬似粒子
;のなかから選ばれるいずれか少な(とも1種のものを
用いることができる。このような耐熱性樹脂粉末を用い
ると、酸化剤の代わりに酸を用いることでシャープにな
るアンカー形状を、さらにより複雑にすることができる
ので望ましい。特に耐熱性樹脂粉末として前記混合物を
用いることはさらに好適である。
The heat-resistant resin powder used in the present invention includes (1) Agglomerated particles having an average particle size of 2 to 10 μm by agglomerating heat-resistant resin powder with an average particle size of 2 μm or less;
Heat-resistant resin powder with an average particle size of 2 to 10 μm and an average particle size of 2 μm
Mixture with heat-resistant resin powder of m or less; ■ Average particle size 2-1
Pseudo-particles formed by adhering either a heat-resistant resin fine powder with a particle size of 2 μm or less or an inorganic fine powder with an average particle size of 2 μm or less, whichever is smaller, on the surface of a 0 μm heat-resistant resin powder; When using such a heat-resistant resin powder, the anchor shape, which becomes sharp when using an acid instead of an oxidizing agent, can be made even more complex. In particular, it is more suitable to use the mixture as a heat-resistant resin powder.

ここで、前記耐熱性樹脂粉末のうち、擬似粒子、凝集粒
子および混合物中の耐熱性用l旨粉末の大きさが平均粒
径で2〜10μmの大きさのものを用いる理由は、平均
粒径で10μmよりも大きいと、酸化処理に伴う溶解除
去によって形成されるアンカーが小さく、かつ不均一分
布になり易いからである。このような場合、めっき膜の
密着強度が悪くなって製品の信頼性が低下し、さらには
接着剤層表面の凸凹が必要以上に激しくなって、導体の
微細パターンが得難くなること、および、部品などを実
装する上で不都合が生じ易くなる。一方、平均粒径が2
μmよりも小さいと、アンカーが不明確になり易いから
であるからである。より好ましくは3〜8μmの大きさ
のものが好適ある。
Here, among the heat-resistant resin powders, the pseudo particles, agglomerated particles, and the heat-resistant resin powder in the mixture are used with an average particle size of 2 to 10 μm. This is because if the diameter is larger than 10 μm, the anchors formed by dissolution and removal accompanying the oxidation treatment are small and tend to be non-uniformly distributed. In such a case, the adhesion strength of the plating film deteriorates, reducing the reliability of the product, and furthermore, the surface unevenness of the adhesive layer becomes more severe than necessary, making it difficult to obtain a fine conductor pattern. Inconveniences are likely to occur when mounting parts and the like. On the other hand, the average particle size is 2
This is because if it is smaller than μm, the anchor tends to become unclear. More preferably, the size is 3 to 8 μm.

一方、擬似粒子の付着粉末、凝集粒子を構成する耐熱性
樹脂粉末、および混合物中の耐熱性樹脂粉末の大きさを
、平均粒径で2μm以下の大きさにすることが必要とな
る理由は、2μmよりも大きいとアンカー効果が低下し
、めっき膜の密着強度が悪くなるからである。より好ま
しくは0.8μI以下の大きさのものが好適である。
On the other hand, the reason why it is necessary to set the size of the adhering powder of the pseudo particles, the heat-resistant resin powder constituting the aggregated particles, and the heat-resistant resin powder in the mixture to an average particle size of 2 μm or less is as follows. This is because if it is larger than 2 μm, the anchoring effect will be reduced and the adhesion strength of the plating film will be poor. More preferably, the size is 0.8 μI or less.

また、擬似粒子、凝集粒子の粒径は、擬似粒子の母粒子
に付着した粉末、凝集粒子を構成する各耐熱性樹脂粉末
の約2倍以上の粒径であることが望ましい。
Further, the particle size of the pseudo particles and aggregated particles is desirably about twice or more of each heat-resistant resin powder constituting the powder attached to the base particles of the pseudo particles and the aggregated particles.

前記平均粒径2〜IOμmの耐熱性樹脂粉末と平均粒径
2μm以下の耐熱性樹脂粉末との混合物は、形成される
アンカーの形状を極めて複雑なものにする上で、平均粒
径2μm以下の耐熱性樹脂粉末の含有量を50〜85重
量%とすることが好ましい。
The mixture of the heat-resistant resin powder with an average particle size of 2 to IO μm and the heat-resistant resin powder with an average particle size of 2 μm or less is suitable for making the shape of the formed anchor extremely complex. It is preferable that the content of the heat-resistant resin powder is 50 to 85% by weight.

かかる耐熱性樹脂粉末は、耐熱性と電気絶縁性に優れ、
酸基外の薬品に対して安定な性質を示す樹脂である。そ
して、この樹脂としては、予め硬化処理することにより
マトリックス形成用耐熱性樹脂液あるいは溶剤に対して
は難溶性となるが、酸に対しては可溶性となる樹脂を用
いることが必要である。例えば、エポキシ樹脂、ポリエ
ステル樹脂、ビスマレイミド−トリアジン樹脂のなかか
ら選ばれるいずれか少なくとも1種のものである。
This heat-resistant resin powder has excellent heat resistance and electrical insulation properties,
It is a resin that exhibits stable properties against chemicals other than acid groups. As this resin, it is necessary to use a resin that becomes sparingly soluble in the matrix-forming heat-resistant resin liquid or solvent by curing in advance, but becomes soluble in acids. For example, it is at least one selected from epoxy resins, polyester resins, and bismaleimide-triazine resins.

なかでも、ポリフェノール系硬化剤、ポリアミン系硬化
剤、カルボン酸ヒドラジド類、ジアミノマレオニトリル
類、ジシアンジアミド、イミタソル類ポリアミンのナイ
ロン塩及びリン酸塩、ルイス酸及びそのアミン錯体など
の硬化剤あるいは架橋剤で硬化もしくは架橋させたエポ
キシ樹脂は特性的にも優れており好適である。
Among them, curing agents or crosslinking agents such as polyphenol curing agents, polyamine curing agents, carboxylic acid hydrazides, diamino maleonitriles, dicyandiamide, imitasol polyamine nylon salts and phosphates, Lewis acids and their amine complexes, etc. Cured or crosslinked epoxy resins have excellent properties and are suitable.

また、前記無機粉末としては、例えば炭酸カルシウムを
使用することができる。
Further, as the inorganic powder, for example, calcium carbonate can be used.

さらに、前記凝集粒子、擬似粒子は、混合時に解離して
1次粒子に戻ることがない程度の接着力で結合されてい
ることが必要である。
Furthermore, it is necessary that the aggregated particles and pseudo-particles are bonded together with such adhesive strength that they do not dissociate and return to primary particles during mixing.

擬似粒子は、付着させるべき微粉末を母粒子の表面に結
合剤を使って付着結合させただけのものでもよいが、酸
に対して可溶性である硬化処理した耐熱性樹脂粉末(母
粒子)に対し、この母粒子がまだ幾分軟らかい状態のと
きに、該粉末各種をまふして付着せしめることにより、
母粒子表面内に若干くい込ませた状態で硬化させたもの
でもよく、また凝集粒子にあっては樹脂微粉末自体を加
熱して融着させるか、結合剤を介して接着し、単一粒子
の如き接着力で結合したものでもよく、こn、らはいず
れも等しくアンカー形成効果に優れる。
Pseudo-particles can be made by simply adhering fine powder to the surface of a base particle using a binder, but it is also possible to use a hardened heat-resistant resin powder (base particle) that is soluble in acids. On the other hand, when the mother particles are still in a somewhat soft state, by muffing and adhering the various powders,
It may be hardened after being slightly embedded in the surface of the base particle, or in the case of agglomerated particles, the fine resin powder itself may be heated and fused, or it may be bonded with a binder to form a single particle. They may be bonded with adhesive force such as, and both of these are equally excellent in the anchor forming effect.

このような耐熱性樹脂微粉末としては、例えば、耐熱性
樹脂を熱硬化させてからジェットミルや凍結粉砕機など
を用いて微粉砕したものを用いる。
As such a heat-resistant resin fine powder, for example, a heat-resistant resin that is thermally hardened and then finely pulverized using a jet mill, a freeze pulverizer, or the like is used.

その他、硬化処理する前に耐熱性樹脂溶液を噴霧したの
ち乾燥したもの、未硬化耐熱性樹脂エマルジョンに水溶
性硬化剤を加えて撹拌したりじで得られる1次微粒子を
、熱風乾燥器などで乾燥加熱したものか、あるいは各種
バインダーを添加混合して乾燥したものなどを、ボール
ミル、超音波分散機などを用いて解砕し、さらに風力分
級機などで分級することによっても作製することができ
る。
In addition, primary fine particles obtained by spraying and drying a heat-resistant resin solution before curing treatment, or by adding a water-soluble curing agent to an uncured heat-resistant resin emulsion and stirring it, are dried using a hot air dryer, etc. It can also be produced by drying and heating it, or by adding and mixing various binders and drying it, crushing it using a ball mill, ultrasonic disperser, etc., and then classifying it using a wind classifier, etc. .

このようにして得られる耐熱性樹脂粉末の形状は、球形
だけでなく各種の複雑な形状を有しており、これにより
形成されるアンカーの形状もより複雑になるため、高い
ビール強度、プル強度などの密着強度をもたらす。
The shape of the heat-resistant resin powder obtained in this way is not only spherical but also has various complex shapes, and the shape of the anchor formed is also more complex, resulting in high beer strength and pull strength. It provides adhesion strength such as

また、本発明にかかる耐熱性樹脂粉末(擬似粒子)は、
中心粒径となるものを基準として128mの範囲内に6
0−t%以上が存在するようなハラツキを存するものが
好ましい。このようなバラツキのものに限定する理由は
、バラツキか上記範囲よりも大きいと製品の信頼性が低
下するためである。
Furthermore, the heat-resistant resin powder (pseudo particles) according to the present invention is
6 within a range of 128m based on the central grain size
It is preferable to have a uniformity of 0-t% or more. The reason for limiting the variation is that if the variation is larger than the above range, the reliability of the product will decrease.

なお、上記耐熱性樹脂粉末(母粒子および付着粉末)の
表面には、マトリ、ラス形成耐熱性樹脂との接合をよ(
するために、マトリックスに溶解しない程度に、予め半
硬化層または未反応官能基を付与してもよい。
Note that the surface of the heat-resistant resin powder (base particles and adhering powder) is coated with matrices and lath-forming heat-resistant resin.
In order to do this, a semi-cured layer or an unreacted functional group may be provided in advance to the extent that it does not dissolve in the matrix.

つぎに、上記耐熱性樹脂粉末および同種の粉末を分散保
持する側のマトリックス形成用耐熱性樹脂について述べ
る。この樹脂は、耐熱性、電気絶縁性、化学的安定性お
よび接着性に優れるものを用い、かつ硬化処理すること
により酸に対して難溶性もしくは不溶性となる特性を有
するものでなければならない。例えば、エポキシ樹脂、
エポキシ変成ポリミイド樹脂、ポリミイド樹脂、フェノ
ール樹脂のなかから選ばれるいずれか少なくとも1種の
ものを用いる。なお、これらの樹脂に感光性を付与した
ものは、ピルドア、プ配線板の層間絶縁材用接着剤とし
て好適である。
Next, the heat-resistant resin for forming a matrix that disperses and holds the heat-resistant resin powder and the same kind of powder will be described. This resin must have excellent heat resistance, electrical insulation, chemical stability, and adhesive properties, and must have the property of becoming poorly soluble or insoluble in acids when cured. For example, epoxy resin,
At least one selected from epoxy modified polymide resin, polymide resin, and phenol resin is used. Note that these resins imparted with photosensitivity are suitable as adhesives for interlayer insulating materials for pill doors and printed wiring boards.

前述のように、前記耐熱性樹脂粉末と硬化処理された後
のマトリックス形成用耐p11樹脂とで1よ、酸に対す
る溶解特性に大きな差異がある。したがって、前記接着
剤層を酸で処理すると、この層の表面部分に分散してい
る耐熱性樹脂粉末の方は溶解除去され、一方、前記酸に
対して難溶性もしくは不溶性のマトリックス形成用耐熱
性樹脂の方は、はとんど溶解されることなく基材として
残り、溶解除去された樹脂粉末の部分が窪みとなってア
ンカーを形成する。なお、同じ種類の耐熱性樹脂であっ
ても、例えば耐熱性樹脂粉末として酸に溶は易いエポキ
シ樹脂を用い、他方前記マトリックス耐熱性樹脂として
酸に対して比較的溶は難いエポキシ樹脂を組合わせて使
用しても同じようなアンカー形成効果を得ることができ
る。
As mentioned above, there is a large difference in acid solubility characteristics between the heat-resistant resin powder and the matrix-forming p11 resin after curing. Therefore, when the adhesive layer is treated with acid, the heat-resistant resin powder dispersed on the surface of this layer is dissolved and removed, while the heat-resistant resin powder for forming a matrix that is sparingly soluble or insoluble in the acid The resin remains as a base material without being dissolved, and the portion of the resin powder that has been dissolved and removed forms a depression and forms an anchor. Even if the same type of heat-resistant resin is used, for example, an epoxy resin that is easily soluble in acids is used as the heat-resistant resin powder, and an epoxy resin that is relatively difficult to dissolve in acids is used as the matrix heat-resistant resin. A similar anchoring effect can be obtained by using

なお、前記微粉末を分散させるための耐熱性樹脂液とし
ては、溶剤を含まない耐熱性樹脂液をそのまま使用する
ことができるが、とくに耐熱性樹脂を溶剤に溶解した耐
熱性樹脂液は低粘度であるから、粉末を均一に分散させ
やすく、また基板に塗布し易いので有利に使用すること
ができる。
Note that as the heat-resistant resin liquid for dispersing the fine powder, a heat-resistant resin liquid that does not contain a solvent can be used as it is, but a heat-resistant resin liquid in which a heat-resistant resin is dissolved in a solvent has a low viscosity. Therefore, it is easy to disperse the powder uniformly and it is easy to apply it to the substrate, so it can be used advantageously.

上記耐熱性樹脂を溶解するのに使用する溶剤としては、
通常の溶剤、例えば、メチルエチルケトン、メチルセル
ソルブ、エチルセルソルブ ブチル力ルヒトール、ブチ
ルセルロース、テトラリンジメチルホルムアミド、ノル
マルメチルピロリドンなどを用いることができる。
The solvent used to dissolve the above heat-resistant resin is as follows:
Common solvents such as methyl ethyl ketone, methyl cellosolve, ethyl cellosolve, butyl luhitol, butyl cellulose, tetralin dimethylformamide, n-methylpyrrolidone, etc. can be used.

なお、マトリックスとなる耐熱性樹脂液中には、例えば
、シリカ、アルミナ、酸化チタン、ジルコニアなどの無
機W微粉末からなる充填剤を適宜配合してもよい。
Note that a filler made of fine inorganic W powder such as silica, alumina, titanium oxide, and zirconia may be appropriately blended into the heat-resistant resin liquid serving as the matrix.

前記マトリックス形成用耐熱性樹脂に対する耐熱性樹脂
粉末の配合量は、マトリックス形成用耐熱性樹脂固形分
100重量部に対して2〜350重量部の範囲内である
ことが望ましい。この理由は、耐熱性樹脂微粉末の配合
量が2重量部より少ないと溶解除去して形成されるアン
カーの密度が低くなり、基板と無電解めっき膜との充分
な密着強度が得られず、一方350重量部よりも多くな
ると接着剤層の表面がほとんど溶解することになるので
、アンカーの形成が実質上阻害されるからである。
The blending amount of the heat-resistant resin powder in the matrix-forming heat-resistant resin is preferably in the range of 2 to 350 parts by weight based on 100 parts by weight of the solid content of the matrix-forming heat-resistant resin. The reason for this is that if the blending amount of the heat-resistant resin fine powder is less than 2 parts by weight, the density of the anchor formed by dissolving and removing it will be low, and sufficient adhesion strength between the substrate and the electroless plating film will not be obtained. On the other hand, if the amount exceeds 350 parts by weight, most of the surface of the adhesive layer will be dissolved, and the formation of anchors will be substantially inhibited.

特に、前記マトリックス形成用耐熱性樹脂に対する耐熱
性樹脂粉末の配合量は、マトリックス耐熱性樹脂固形分
100重量部に対して5〜200重量部の範囲が好適で
ある。この範囲の配合量だと、基板と無電解めっき膜と
の密着強度を高くできるからである。
In particular, the blending amount of the heat-resistant resin powder in the matrix-forming heat-resistant resin is preferably in the range of 5 to 200 parts by weight based on 100 parts by weight of the solid content of the matrix heat-resistant resin. This is because when the amount is within this range, the adhesion strength between the substrate and the electroless plated film can be increased.

次に上記接着剤を用いたプリント配線板の製造方法につ
いて説明する。
Next, a method of manufacturing a printed wiring board using the above adhesive will be explained.

(al  まず、基板上に、前記耐熱性樹脂粉末を、マ
トリックスとする耐熱性樹脂液中に分散させた接着剤を
塗布し、引続き乾燥硬化させることにより接着剤層を形
成する。この塗布の方法としては、例えば、ローラコー
ト法、デツプコート法、スプレーコート法、スピナーコ
ート法、カーテンコート法、スクリーン印刷法などの各
種の手段による。
(al) First, an adhesive in which the heat-resistant resin powder is dispersed in a heat-resistant resin liquid as a matrix is applied onto the substrate, and then the adhesive layer is formed by drying and curing. Method of this application For example, various methods such as a roller coating method, a dip coating method, a spray coating method, a spinner coating method, a curtain coating method, and a screen printing method are used.

この工程の処理において、接着剤の塗布、乾燥硬化によ
って基板上に得られる接着剤層の厚さは、通常、2〜4
0μm程度である。しかし、この接着剤層を金属基板や
多層配線板の層間絶縁膜を兼ねて使用する場合には、そ
れ以上に厚く塗布することも有効である。
In this process, the thickness of the adhesive layer obtained on the substrate by coating, drying and curing the adhesive is usually 2 to 4 mm.
It is about 0 μm. However, when this adhesive layer is used also as an interlayer insulating film for a metal substrate or a multilayer wiring board, it is also effective to apply it thicker than that.

本発明において使用する基板としては、例えば、プラス
千ツク基板、セラミック基板、金属基板フィルム基板な
どを使用することができる。具体的に挙げるなら、ガラ
スエポキシ基板、ガラスボリミイト基板、アルミナ基板
、低温焼成セラミック基板、窒化アルミニウム基板、ア
ルミニウム基板、鉄基板、ポリイミドフィルム基板など
である。
As the substrate used in the present invention, for example, a plastic substrate, a ceramic substrate, a metal substrate, a film substrate, etc. can be used. Specifically, they include glass epoxy substrates, glass borimite substrates, alumina substrates, low-temperature fired ceramic substrates, aluminum nitride substrates, aluminum substrates, iron substrates, polyimide film substrates, and the like.

これらの基板は、その表面が予め粗化されていることが
望ましい。これにより、基板と接着剤層との密着強度が
大きくなる。また、これらの基板は、接着剤を塗布する
前に十分乾燥することが望ましい。この理由は、乾燥水
分が不十分だと、残留水分が樹脂の硬化を阻害するから
である。
It is desirable that the surfaces of these substrates be roughened in advance. This increases the adhesion strength between the substrate and the adhesive layer. It is also desirable that these substrates be sufficiently dried before applying the adhesive. The reason for this is that if dry moisture is insufficient, residual moisture will inhibit the curing of the resin.

本発明において、これらの基板を用い、片面配線板1両
面スルーホール配線板2例えばCu/ポリイミド多層プ
リント配線板のような多層プリント配線板などを製作す
ることができる。また、前記接着剤そのものを板状ある
いはフィルム状に成形するか、もしくは、接着剤溶;夜
をガラス撒布に含浸させてプリプレグにすることにより
、5無電解めっきを施すことのできる接着性を有する基
体とすることもできる。
In the present invention, using these substrates, a single-sided wiring board 1 a double-sided through-hole wiring board 2, a multilayer printed wiring board such as a Cu/polyimide multilayer printed wiring board, etc. can be manufactured. In addition, by forming the adhesive itself into a plate shape or film shape, or by impregnating a glass spray cloth with the adhesive solution and making it into a prepreg, it has adhesive properties that allow electroless plating. It can also be used as a substrate.

なお、前記接着剤に、あらかしめ無電解めっきのための
触媒(核)を混合しておいてもよ、い。このような接着
剤を用いると、触媒(核)を付与する工程を省略できる
Note that a catalyst (nucleus) for roughening electroless plating may be mixed into the adhesive. When such an adhesive is used, the step of applying a catalyst (nucleus) can be omitted.

(bl  次に、上述のように形成した接着剤層の表面
を研磨することにより、表面部分に分散している耐熱性
樹脂粉末を接着剤層の表面に露出させる。
(bl) Next, by polishing the surface of the adhesive layer formed as described above, the heat-resistant resin powder dispersed in the surface portion is exposed on the surface of the adhesive layer.

この工程は、前記マトリックス形成用耐熱性樹脂が酸に
対して難溶性もしくは不溶性であるため、この樹脂で前
記耐熱性樹脂粉末が覆われていると、この耐熱性樹脂粉
末を酸にて溶解除去することが難しいからである。すな
わち、この工程で耐熱性樹脂粉末を予め露出させること
により、容易にかつ効率よく溶解除去でき、しかも酸を
使って溶解するので、マトリックス形成用耐熱性樹脂の
方までは溶解しないので、アンカーの形状がシ羊−ブも
のとなる。
In this step, since the heat-resistant resin for matrix formation is poorly soluble or insoluble in acids, if the heat-resistant resin powder is covered with this resin, the heat-resistant resin powder is dissolved and removed with acid. This is because it is difficult to do so. In other words, by exposing the heat-resistant resin powder in advance in this process, it can be easily and efficiently dissolved and removed, and since it is dissolved using acid, the heat-resistant resin for forming the matrix is not dissolved, so the anchor The shape becomes thick.

接着剤層を研磨する方法としては、種々の微粉研磨材に
よるボリシングや液体ホーニングなど公知の方法を用い
る。
As a method for polishing the adhesive layer, known methods such as borishing using various fine powder abrasives and liquid honing are used.

(c)次に、表面に露出している耐熱性樹脂粉末の少な
くとも一部を、酸を用いて溶解除去する。
(c) Next, at least a portion of the heat-resistant resin powder exposed on the surface is dissolved and removed using an acid.

なお、酸による処理に当たっては、例えば塩酸硫酸、り
ん酸、硝酸などの無機酸および酢酸、ギ酸などの有機酸
のなかから選ばれるいずれか少なくとも1種を用いるが
、とりわけ無機酸は有効である。
In the acid treatment, at least one selected from inorganic acids such as hydrochloric acid, sulfuric acid, phosphoric acid, and nitric acid, and organic acids such as acetic acid and formic acid is used, and inorganic acids are particularly effective.

酸の濃度としては、1%より薄いと処理に時間がかかる
ので1%以上にすることが望ましい。また、酸の温度と
しては、70℃を越えるとマトリ・ノクス樹脂も一部溶
解し始めるので常温から70℃以下が望ましい。
The concentration of the acid is desirably 1% or more because if it is less than 1%, it will take time to process. Further, the temperature of the acid is desirably from room temperature to 70°C or lower, since if the temperature exceeds 70°C, some of the Matri-Nox resin will begin to dissolve.

この酸による樹脂粒子の溶解除去の方法としては、前記
酸溶液を用い、接着剤層を有する基板をその溶液中に浸
漬するか、または基板に溶液をスプレーするなどの手段
によって行う。この処理には、クロム酸などの有害′#
J’jltを用いる必要がなく、そのためるこ処理廃液
の廃棄の時間かない上、処理の難しいクロム酸を用いる
ことなく基板の表面の、いわゆる接着剤層の表面を粗化
することができるので、従来技術に比べて有効であると
言える。
The method for dissolving and removing the resin particles using this acid is carried out by using the acid solution and immersing the substrate having the adhesive layer in the solution, or by spraying the solution onto the substrate. This process may contain harmful chemicals such as chromic acid.
There is no need to use J'jlt, so there is no time to dispose of the liquid treatment waste, and the surface of the substrate, the so-called adhesive layer, can be roughened without using chromic acid, which is difficult to process. It can be said that this method is more effective than conventional techniques.

(dl  次に、接着剤層の表面を粗化した基板に対し
無電解めっきを施す。この無電解めっきとしては、例え
ば、舞電解銅めっき、無電解ニッケルめっき。
(dl) Next, electroless plating is applied to the substrate on which the surface of the adhesive layer has been roughened. Examples of this electroless plating include electrolytic copper plating and electroless nickel plating.

無電解ススめっき、無電解金めっき、無電解銀めっきな
どがある。特に無電解銅めっき、無電解ニッケルめっき
、無電解金めっきのいずれか少なくとも1種が好適であ
る。なお、前記無電解めっきを施した上に、さらに異な
る種類の無電解めっきあるいは電気めっきを行ったり、
ハンダをコートしたりしてもよい。
There are electroless soot plating, electroless gold plating, electroless silver plating, etc. Particularly preferred is at least one of electroless copper plating, electroless nickel plating, and electroless gold plating. In addition, in addition to the above electroless plating, a different type of electroless plating or electroplating may be performed,
It may also be coated with solder.

なお、本発明方法の実施により得られるプリント配線板
は、その他の既知の方法で導体回路を形成することもで
き、例えば基板に無電解めっきを施してから回路をエツ
チングする方法や無電解めっきを施す際に直接回路を形
成する方法などを適用することができる。
Note that the printed wiring board obtained by carrying out the method of the present invention can also have conductor circuits formed thereon by other known methods, such as a method of applying electroless plating to the board and then etching the circuit, or a method of applying electroless plating to the board and then etching the circuit. A method of directly forming a circuit can be applied.

本発明の無電解めっき用接着剤を用いてフルアデイティ
ブ法により導体回路を形成する場合、めっきレジストを
形成するが、このめっきレジストの厚さを、無電解めっ
き導体層の厚さより厚くすることが望ましい。
When forming a conductor circuit by a fully additive method using the adhesive for electroless plating of the present invention, a plating resist is formed, but the thickness of this plating resist must be made thicker than the thickness of the electroless plated conductor layer. is desirable.

この理由は次のように説明される。プリント配線板の表
面には種々の電子部品が搭載されるが、プリント配線板
の搭載部位にはハンダがコートされており、搭載時に熱
圧着によりハンダを溶融させ、端子の接続を行う。この
際、従来のプリント配線板では、隣合う導体層表面のハ
ンダが溶融して流れ、ブリッジを形成して配線間を短絡
させてしまう現象がしばしば見られ、収率を低下させる
原因となっている。しかし、めっきレジストの厚さを無
電解めっき導体層の厚さより厚くしておくことにより、
このようなハンダブリッジを防止し収率を向上させるこ
とができる。
The reason for this is explained as follows. Various electronic components are mounted on the surface of a printed wiring board, and the mounting portions of the printed wiring board are coated with solder, and during mounting, the solder is melted by thermocompression bonding and terminals are connected. At this time, in conventional printed wiring boards, there is often a phenomenon where the solder on the surface of adjacent conductor layers melts and flows, forming bridges and shorting between wires, which causes a decrease in yield. There is. However, by making the plating resist thicker than the electroless plated conductor layer,
Such solder bridging can be prevented and the yield can be improved.

また、本発明の無電解めっき用接着剤を用いることによ
り得られるプリント配線板は、多層化されていてもよく
、なかでもビルドアップ多層プリント配線板が好適であ
る。
Moreover, the printed wiring board obtained by using the adhesive for electroless plating of the present invention may be multilayered, and a build-up multilayer printed wiring board is particularly suitable.

ヒルトアソブ多層プリント配線板は、以下の工程、即ち
、 導体層上に無電解めっき用接着剤の層を形成し、これを
酸で粗化する前、もしくは後にバイアホール用の穴を接
着剤層に形成して、触媒(核)を付与し、無電解めっき
を行い、導体層を形成する工程、 を繰り返し行うことにより製造できる。
HILTO ASSOBS multilayer printed wiring boards are manufactured using the following process: forming an adhesive layer for electroless plating on the conductor layer, and drilling holes for via holes into the adhesive layer before or after roughening it with acid. It can be manufactured by repeating the steps of forming a conductor layer, applying a catalyst (nucleus), performing electroless plating, and forming a conductor layer.

ビルドアップ多層プリント配線板を製造する際に用いる
無電解めっき用接着剤のマトリックス形成用耐熱性樹脂
は感光性を有することが望ましい。
It is desirable that the heat-resistant resin for forming the matrix of the adhesive for electroless plating used in manufacturing a build-up multilayer printed wiring board has photosensitivity.

これは、怒光性樹脂をマトリックスに用いた場合、露光
、現像処理を行うことによりバイアホール用の穴を精度
よく形成できるからである。また、前記ビルドアップ多
層プリント配線板には、表層に導体回路ではなく、電子
部品を搭載するための実装用パッドのみが形成され、前
記パッドが内層の回路とバイアホールで接続された形態
も含まれる。
This is because when a photosensitive resin is used for the matrix, holes for via holes can be formed with high accuracy by performing exposure and development processing. The build-up multilayer printed wiring board also includes a form in which only mounting pads for mounting electronic components are formed on the surface layer instead of conductive circuits, and the pads are connected to circuits on the inner layer through via holes. It will be done.

このような多層配vI坂は、表層に実装用パッドのみが
形成されているので、従来のプリント配線板のような実
装パッドと導体回路が共存しているような場合より、実
装パッドの密度が増え、電子部品の高密度実装が可能と
なる。
Since such a multilayer VI slope has only mounting pads formed on the surface layer, the density of mounting pads is lower than that of a conventional printed wiring board where mounting pads and conductor circuits coexist. This makes it possible to implement high-density mounting of electronic components.

以下に実施例を示す。Examples are shown below.

実施例1 (1)酸に可溶なエポキシ樹脂粒子(平均粒径3.9μ
m)のもの200 gを、51のアセトン中に分散させ
てエポキシ樹脂粒子懸濁液を作成し、この懸濁液中に、
次のようなエポキシ樹脂粒子懸FA液:即ち“アセトン
IAに対してエポキシ樹脂を30gの割合で溶解させた
アセトン溶液中に、酸に可溶なエポキシ樹脂微粉末(平
均粒径0.5μm)300gを分散させた懸濁液”を、
ヘンシェルミキサーを使って攪拌しながら滴下すること
により、上記エポキシ樹脂粒子表面にエポキシ樹脂微粉
末を付着せしめた後、上記アセトンを除去し、その後、
150℃に加熱して、擬似粒子を作成した。この擬似粒
子は、平均粒径が4.3μmであり、約75重量%が平
均粒径を中心として:2μmの範囲に存在していた。
Example 1 (1) Acid-soluble epoxy resin particles (average particle size 3.9μ
200 g of m) was dispersed in 51 acetone to create an epoxy resin particle suspension, and in this suspension,
The following epoxy resin particle-suspended FA solution: ``An acid-soluble epoxy resin fine powder (average particle size 0.5 μm) is added to an acetone solution in which 30 g of epoxy resin is dissolved in acetone IA. A suspension in which 300g of
After adhering the epoxy resin fine powder to the surface of the epoxy resin particles by dropping it dropwise while stirring using a Henschel mixer, the acetone is removed, and then,
Pseudo particles were created by heating to 150°C. The pseudo-particles had an average particle size of 4.3 μm, and about 75% by weight existed in a range of 2 μm around the average particle size.

(2)前記(1)で調製した擬似粒子50重量部、フェ
ノールノボラック型エポキシ樹脂60重量部、ビスフェ
ノールA型エポキシ樹脂40重量部、イミダゾール硬化
剤4重量部からなるものにブチルカルピトールを加え、
粘度が120 cpとなるようにホモデイスパー分散機
で調整し、接着剤溶液を作成した。
(2) Adding butyl calpitol to a composition consisting of 50 parts by weight of the pseudo particles prepared in (1) above, 60 parts by weight of phenol novolac type epoxy resin, 40 parts by weight of bisphenol A type epoxy resin, and 4 parts by weight of imidazole curing agent,
An adhesive solution was prepared by adjusting the viscosity to 120 cp using a homodisper disperser.

(3)前記(1)で調製した擬似粒子50重量部、フェ
ノールノボラック型エポキシ樹脂60重量部、ビスフェ
ノールA型エポキシ樹脂40重量部、イミダゾール硬化
剤4重量部からなるものにブチルカルピトールを加え、
粘度が120 cpとなるようにホモデイスパー分散機
で調整し、接着剤溶液を得た。
(3) Adding butyl calpitol to a composition consisting of 50 parts by weight of the pseudo particles prepared in (1) above, 60 parts by weight of phenol novolak type epoxy resin, 40 parts by weight of bisphenol A type epoxy resin, and 4 parts by weight of imidazole curing agent,
The viscosity was adjusted to 120 cp using a homodisper disperser to obtain an adhesive solution.

(4)ガラスポリイミド基板1に前記(3)で得られた
接着剤溶液を塗布した後、100℃で1時間、さらに1
50℃で5時間乾燥硬化させて厚さ20μmの接着剤層
2を形成した。
(4) After applying the adhesive solution obtained in (3) above to the glass polyimide substrate 1, the adhesive solution was heated at 100°C for 1 hour.
The adhesive layer 2 with a thickness of 20 μm was formed by drying and curing at 50° C. for 5 hours.

(5)前記接着剤層2の表面を# 1000のアルミナ
微粉末を用いて回転ブラシ研磨機で研磨した。
(5) The surface of the adhesive layer 2 was polished using a rotary brush polisher using #1000 fine alumina powder.

(6)前記(5)で得られた基板を50%硫酸水溶液に
常温で20分間浸漬して接着剤層の表面を粗面化してか
ら水洗した。
(6) The substrate obtained in (5) above was immersed in a 50% sulfuric acid aqueous solution for 20 minutes at room temperature to roughen the surface of the adhesive layer, and then washed with water.

(7)上記(6)で得られた接着剤層2の粗化面4aを
形成した基板lに、パラジウム触媒を付与して粗化した
粗化接着剤層3の表面を活性化させた。
(7) A palladium catalyst was applied to the substrate l on which the roughened surface 4a of the adhesive layer 2 obtained in the above (6) was formed, to activate the roughened surface of the adhesive layer 3.

(8)基板1上に感光製ドライフィルムをラミ翠−卜し
、所望の導体回路パターンが描画されたマスクフィルム
を通して紫外線露光させ、画像を焼き付けた。ついで、
クロロセンで現像し、無電解めっき用レジスト5を形成
した。
(8) A photosensitive dry film was laminated onto the substrate 1, and an image was printed by exposing it to ultraviolet light through a mask film on which a desired conductor circuit pattern had been drawn. Then,
It was developed with chlorocene to form a resist 5 for electroless plating.

(9)第(8)の処理を終えた基板lを、第1表に示す
組成のアディティブ法用無電解銅めっき液に浸漬して、
めっき膜の厚さ20μmの無電解めっきを施し、導体層
(パターン)6を形成し、第1図(e)に示すようなプ
リント配線板を製造した。
(9) Immerse the substrate l that has undergone the treatment in step (8) in an electroless copper plating solution for additive method having the composition shown in Table 1,
Electroless plating was applied to a plating film having a thickness of 20 μm to form a conductor layer (pattern) 6, thereby producing a printed wiring board as shown in FIG. 1(e).

実施例2 (1)Iaに可溶なエポキシ樹脂粒子(平均粒径0.5
μm)を熱風乾燥機内に装入し、180’cで3時間加
熱処理して凝集結合させた。この凝集結合させたエポキ
シ樹脂粒子を、アセトン中に分散させ、ボールミルにて
5時間解砕した後、風力分級機を用いて分級し凝集粒子
を作成した。この凝集粒子は、平均粒径が約3.5μm
であり、約68重量%が平均粒径を中心として±2μm
の範囲に存在していた。
Example 2 (1) Epoxy resin particles soluble in Ia (average particle size 0.5
μm) was placed in a hot air dryer and heat-treated at 180'C for 3 hours to cause cohesive bonding. The aggregated and bonded epoxy resin particles were dispersed in acetone, crushed in a ball mill for 5 hours, and then classified using an air classifier to form aggregated particles. These aggregated particles have an average particle size of approximately 3.5 μm.
About 68% by weight is ±2μm around the average particle size.
existed within the range of

(2)前記(1)で調製した擬似粒子50重量部、フェ
ノールノボラック型エポキシ樹脂60重量部、ビスフェ
ノールA型樹脂40重量部、イミダゾール硬化剤4重量
部からなるものにブチルカルピトールを加え、接着剤溶
液とした。
(2) Add butyl calpitol to a mixture of 50 parts by weight of the pseudo particles prepared in (1) above, 60 parts by weight of phenol novolac type epoxy resin, 40 parts by weight of bisphenol A type resin, and 4 parts by weight of imidazole curing agent, and bond. It was made into a drug solution.

(3)ガラスエポキシ基板1の表面を湿式で研磨して粗
面化した後、80℃で3時間加熱乾燥させ硬化を阻害す
る水分を除去した後、前記(2)で調製した接着剤溶液
をロールコータ−で塗布し、100℃で1時間、さらに
150℃で5時間乾燥硬化させて厚さ20μmの接着剤
層2を形成した。
(3) After wet-polishing the surface of the glass epoxy substrate 1 to make it rough, heat and dry it at 80°C for 3 hours to remove moisture that inhibits curing, and then apply the adhesive solution prepared in (2) above. The adhesive layer 2 was coated with a roll coater and dried and cured at 100° C. for 1 hour and then at 150° C. for 5 hours to form an adhesive layer 2 with a thickness of 20 μm.

(1)前記接着剤層2の表面を# 1000のアルミナ
微粉末を用いて回転ブラシ研磨機で研磨した。
(1) The surface of the adhesive layer 2 was polished using a rotary brush polisher using #1000 fine alumina powder.

(5)前記(4)で得られた基板1を6Nの塩酸水溶液
に常温で20分間浸漬して接着剤層2の表面を粗面化し
、粗化面3を形成してから水洗した。
(5) The substrate 1 obtained in the above (4) was immersed in a 6N hydrochloric acid aqueous solution at room temperature for 20 minutes to roughen the surface of the adhesive layer 2 to form a roughened surface 3, and then washed with water.

(6)上記(5)で得られた接着剤層2の粗化面4bを
有する基板lに、パラジウム触媒を付与して接着剤層の
表面を活性化させた。
(6) A palladium catalyst was applied to the substrate l having the roughened surface 4b of the adhesive layer 2 obtained in (5) above to activate the surface of the adhesive layer.

(7)基板l上に感光製ドライフィルムをラミふ−トし
、所望の導体回路パターンか描画されたマスクフィルム
を通して紫外線露光させ、画像を焼き付けた。ついで、
クロロセンで現像し、厚さ40μmの無電解めっき用レ
ジスト5を形成した。
(7) A photosensitive dry film was laminated onto the substrate 1, and an image was printed by exposing it to ultraviolet light through a mask film on which a desired conductor circuit pattern had been drawn. Then,
It was developed with chlorocene to form a resist 5 for electroless plating with a thickness of 40 μm.

(8)上記(7)の処理を終えた基板lを、第1表に示
す組成のアディティブ法用無電解銅めっき液に浸漬し、
ついで第2表に示す電解めっき液を用いて、めっき膜の
厚さ30μmの電解めっきを施し、導体層(パターン)
6を形成した。
(8) Immerse the substrate l that has been treated in (7) above in an electroless copper plating solution for additive method having the composition shown in Table 1,
Next, using the electrolytic plating solution shown in Table 2, electrolytic plating was performed to a thickness of 30 μm to form a conductor layer (pattern).
6 was formed.

(9)次に、導体層6の上にさらに厚さ5μmの半田め
っきを行い、第2図fe)に示すようなプリント配線板
を得た。
(9) Next, solder plating with a thickness of 5 μm was further performed on the conductor layer 6 to obtain a printed wiring board as shown in FIG. 2 (fe).

実施例3 (1)カラスエポキシ基板1の両面に内層の導体層6を
常法に従って形成したものを準備した。
Example 3 (1) A glass epoxy substrate 1 with inner conductor layers 6 formed on both sides according to a conventional method was prepared.

(2)フェノールノボラック型エポキシ樹脂60重量部
、ビスフェノールA型エポキシ樹脂40重量部、イミダ
ゾール硬化剤4重量部、アンカー形成用の粗粒子及び微
粉末として、酸に可溶なエポキシ樹脂粉末で、平均粒径
3.9μmのもの10重量部および平均粒径0.5μm
のもの25重量部からなるものにブチルカルピトールを
加え、接着剤溶液を調製した。
(2) 60 parts by weight of phenol novolac type epoxy resin, 40 parts by weight of bisphenol A type epoxy resin, 4 parts by weight of imidazole curing agent, acid-soluble epoxy resin powder as coarse particles and fine powder for anchor formation, average 10 parts by weight of particle size 3.9 μm and average particle size 0.5 μm
An adhesive solution was prepared by adding butylcarpitol to 25 parts by weight of the same.

(3)実施例1の(4)、(5)と同様の方法により、
接着剤層2を形成した後、りん酸水溶液で、接着剤層を
粗化して粗化面4cを形成した。
(3) By the same method as (4) and (5) of Example 1,
After forming the adhesive layer 2, the adhesive layer was roughened with a phosphoric acid aqueous solution to form a roughened surface 4c.

(4)スルーホール16形成用の貫通孔16aをドリル
で形成した。
(4) A through hole 16a for forming the through hole 16 was formed using a drill.

(5)基板上1にパラジウム触媒を付与して接着剤層の
粗化面3を活性化させた。
(5) A palladium catalyst was applied to the substrate 1 to activate the roughened surface 3 of the adhesive layer.

(6)実施例1の(8)、(9)の方法にて、厚さ30
μmのめっきレジストを形成し、厚さ25μmの無電解
めっきを施して第2めっき導体層9を形成することによ
り、第3図te+ gこ示すような多層プリント配線板
を製造した。
(6) Using the methods (8) and (9) of Example 1, the thickness was 30 mm.
A multilayer printed wiring board as shown in FIG. 3 was manufactured by forming a plating resist having a thickness of .mu.m and performing electroless plating to a thickness of 25 .mu.m to form a second plated conductor layer 9.

実施例4 (1)前記実施例1と同様にして得られた接着剤溶、夜
に、チクソトロピノク剤1重量%、レベリング剤0.5
重量%を含有するようそれぞれ添加し、含浸液を調整し
た。
Example 4 (1) Adhesive solution obtained in the same manner as in Example 1, mixed with 1% by weight of thixotropic agent and 0.5% by weight of leveling agent.
The impregnating liquid was prepared by adding each of them so as to contain the same amount by weight.

(2)前記含浸液中に、カップリング剤(PhSi (
OEt)3が塗布されたガラス織布8を浸漬した。つい
で、これを150°Cで70分間乾燥させ、プリプレグ
を作成した。
(2) A coupling agent (PhSi (
A glass woven fabric 8 coated with OEt) 3 was immersed. This was then dried at 150°C for 70 minutes to produce a prepreg.

(3)前記プリプレグを、すでに内層導体層6が形成さ
れている基板lの両面配線板に両面に2枚ずつ重ね、1
50℃、40kg/cm2で200分間加圧して接着剤
層2を形成した。
(3) Lay two sheets of the prepreg on both sides of the double-sided wiring board of the substrate l on which the inner conductor layer 6 has already been formed, and
Adhesive layer 2 was formed by applying pressure at 50° C. and 40 kg/cm 2 for 200 minutes.

(4)りん酸水溶液で、接着剤層2を粗化して粗化面4
aを得た。
(4) Roughen the adhesive layer 2 with a phosphoric acid aqueous solution and roughen the roughened surface 4.
I got a.

(5)スルーホール16形成用の貫通孔をドリルで形成
した。
(5) A through hole for forming the through hole 16 was formed using a drill.

(6)基板l上にパラジウム触媒を付与して接着剤層の
粗化面3を活性化させた。
(6) A palladium catalyst was applied onto the substrate l to activate the roughened surface 3 of the adhesive layer.

(7)実施例1の(8)、(9)の方法にて、厚さ30
μmのめっきレジスト5を形成した後、厚さ25μmの
無電解めっきを施すことにより第2めっき導体層9を形
成し、第4図に示すような多層プリント配線板を製造し
た。
(7) Using the methods (8) and (9) of Example 1, the thickness was 30 mm.
After forming a plating resist 5 having a thickness of 25 μm, a second plated conductor layer 9 was formed by electroless plating to a thickness of 25 μm, thereby producing a multilayer printed wiring board as shown in FIG. 4.

実施例5 (1)実施例3と同様にして接着側溶液を調整した。Example 5 (1) An adhesion side solution was prepared in the same manner as in Example 3.

(2)前記接着剤をポリエチレンフィルム14の片面に
塗布した後、100℃で1時間乾燥させ、半硬化状態と
して、接着剤フィルム14を作成した。
(2) After the adhesive was applied to one side of the polyethylene film 14, it was dried at 100° C. for 1 hour to be in a semi-cured state, and the adhesive film 14 was prepared.

(3)ガラスエポキシ基板Iの表面を湿式で研磨して粗
面化した後、80℃で3時間加熱乾燥させ硬化を阻害す
る水分を除去した後、前記(2)で得た接着剤フィルム
14を積層し、150℃、40kg7cm2で200分
間加圧して接着剤層2を形成した。
(3) After roughening the surface of the glass epoxy substrate I by wet polishing, the adhesive film 14 obtained in the above (2) was dried by heating at 80° C. for 3 hours to remove moisture that inhibits curing. were laminated and pressed at 150° C. and 40 kg 7 cm 2 for 200 minutes to form adhesive layer 2.

(4)ポリエステルフィルム14を剥離した後、前記接
着剤層1の表面を# 1000のフルミナ微扮末を用い
て回転ブラン研磨機で研磨した。
(4) After peeling off the polyester film 14, the surface of the adhesive layer 1 was polished using a rotary blank polisher using #1000 Flumina powder.

(5)前記(4)で得られた基板を6Nの塩酸水溶液に
常温で20分間浸漬して接着剤の表面を粗面化3してか
ら水洗した。
(5) The substrate obtained in (4) above was immersed in a 6N hydrochloric acid aqueous solution for 20 minutes at room temperature to roughen the surface of the adhesive (3), and then washed with water.

(6)上記(5)で得られた接着剤層2の粗化面4Cを
有する基板1に、パラジウム触媒を付与することにより
、接着剤層の粗化表面3を活性化させた。
(6) A palladium catalyst was applied to the substrate 1 having the roughened surface 4C of the adhesive layer 2 obtained in (5) above to activate the roughened surface 3 of the adhesive layer.

(7)基+Iil上に感光製ドライフィルムをラミネー
トし、所望の導体回路パターンが描画され1こマスクフ
ィルムを通して紫外線露光させ、画像を焼き付けた。つ
いで、クロロセンで現像し、厚さ40μmの無電解めっ
き用レジスト5を形成した。
(7) A photosensitive dry film was laminated on the base +Iil, a desired conductor circuit pattern was drawn, and the film was exposed to ultraviolet light through a mask film to print the image. Then, it was developed with chlorocene to form a resist 5 for electroless plating with a thickness of 40 μm.

(8)第1表に示す組成のアディティブ法用無電解銅め
っき液に浸漬して、めっき膜の厚さ30μmの無電解め
っきを施し、導体パターンを形成した。
(8) Electroless plating was applied to the plated film to a thickness of 30 μm by immersing it in an electroless copper plating solution for additive method having the composition shown in Table 1 to form a conductor pattern.

(9)厚さ5μmの半田めっきを行い、第5図(hlに
示すような導体層6上にさらに半田めっき層7を形成し
てなるプリント配線板を得た。
(9) Solder plating was performed to a thickness of 5 μm to obtain a printed wiring board in which a solder plating layer 7 was further formed on the conductor layer 6 as shown in FIG. 5 (hl).

実施例6 (1)ガラスエポキシ洞張積響板1をエツチング処理し
て、配線板を形成した。
Example 6 (1) A wiring board was formed by etching the glass epoxy hollow soundboard 1.

(2)実施例■と同様にして、擬似粒子を作成した。こ
の擬似粒子は平均粒径が約4.3μmであり、約75重
量%が、平均粒径を中心として128mの範囲に存在し
ていた。
(2) Pseudo-particles were created in the same manner as in Example ①. These pseudo-particles had an average particle size of about 4.3 μm, and about 75% by weight existed in a range of 128 m around the average particle size.

(3)タレゾールノボラック型エポキシ樹脂の50%ア
クリル化物を60重量部、ビスフェノールA型エポキシ
樹脂の50%アクリル化物を60重量部、ビスフェノー
ルA型エポキシ樹脂を40重量部、ジアリルテレフタレ
ートを15重量部、2−メチル−1−C4−(メチルチ
オ)フェニル〕2−モリフォリノプロパノン−1を4重
量部、イミダゾール4重量部、前記(2)で作成した擬
似粒子50重量部を混合した後、ブチルセルソルブを添
加しながら、ホモデイスパー撹拌機で粘度を250cρ
に調整し、次いで3本ローラーで混練して感光性樹脂′
組成物の溶液を作成した。
(3) 60 parts by weight of 50% acrylate of Talesol novolak epoxy resin, 60 parts by weight of 50% acrylate of bisphenol A epoxy resin, 40 parts by weight of bisphenol A epoxy resin, and 15 parts by weight of diallyl terephthalate. , 2-methyl-1-C4-(methylthio)phenyl] After mixing 4 parts by weight of 2-morpholinopropanone-1, 4 parts by weight of imidazole, and 50 parts by weight of the pseudo particles prepared in (2) above, While adding butyl cellosolve, adjust the viscosity to 250 cρ using a homodisper stirrer.
and then knead with three rollers to form a photosensitive resin.
A solution of the composition was prepared.

(4)60gの亜塩素酸ナトリウム、18gの水酸化ナ
トリウム、5gのりん酸ナトリウム、5gの突成ナトリ
ウムを水に溶解させ11として、アルカリ性亜塩素酸ナ
トリウム溶液を調製した。
(4) An alkaline sodium chlorite solution was prepared by dissolving 60 g of sodium chlorite, 18 g of sodium hydroxide, 5 g of sodium phosphate, and 5 g of sodium chloride in water.

(5)30重量%ホルマリン水?容、夜3f)d、38
gのKOHを水INに溶解させて、アルカリ性還元剤水
溶液を調製した。
(5) 30% by weight formalin water? Yong, night 3f) d, 38
An alkaline reducing agent aqueous solution was prepared by dissolving g of KOH in water IN.

(6)前記(1)で作成した配線板を、前記(4)で得
られたアルカリ性亜塩素酸ナトリウム溶液に2〜3分間
浸漬した。ついで、前記(5)で調製したアルカリ性還
元剤水溶液中に70”Cで15分間浸漬し、粗化を行っ
た。
(6) The wiring board prepared in (1) above was immersed in the alkaline sodium chlorite solution obtained in (4) above for 2 to 3 minutes. Then, it was immersed in the aqueous alkaline reducing agent solution prepared in (5) above at 70''C for 15 minutes to roughen it.

(7)前記(6)で作成した配線板上に、前記(3)で
調製した感光性樹脂組成物の溶液を、ナイフコーターを
用いて塗布し、水平状態で20分放置した後、70℃で
乾燥させて、厚さ約50μmの感光性樹脂絶縁層を形成
した。
(7) On the wiring board prepared in (6) above, apply the solution of the photosensitive resin composition prepared in (3) above using a knife coater, leave it in a horizontal state for 20 minutes, and then apply the solution at 70°C. This was dried to form a photosensitive resin insulating layer with a thickness of about 50 μm.

(8)前記(7)の処理を施した配線板に100μmφ
の黒円か印刷されたフォトマスクフィルムを密着させ、
超高圧水銀灯により500m J /cm2で露光した
。これをクロロセン溶液で超音波現像処理することによ
り、配線板上1100A1φのハ1アホール17となる
開口17aを形成した。
(8) 100 μmφ on the wiring board treated in (7) above.
Closely attach the black circle or printed photomask film,
Exposure was performed using an ultra-high pressure mercury lamp at 500 mJ/cm2. By subjecting this to ultrasonic development using a chlorocene solution, an opening 17a that would become a 1100 A1 diameter hole 17 on the wiring board was formed.

この配線板を、超高圧水銀灯により約3000 mJ/
cm2で露光し、さらに100℃で1時間、その後15
0℃で10時間加熱処理することによりフォトマスクフ
ィルムに相当する寸法精度に優れた開口17aを有する
第6図(b)に示すような樹脂絶縁層(接着剤層) 2
1を形成した。
This wiring board was heated to approximately 3000 mJ/
cm2, then 1 hour at 100°C, then 15
A resin insulating layer (adhesive layer) 2 as shown in FIG. 6(b) has openings 17a with excellent dimensional accuracy corresponding to a photomask film by heat treatment at 0° C. for 10 hours.
1 was formed.

(9)前記樹脂絶縁層21を# 1000のアルミナ粉
末で研磨した後、前記樹脂絶縁層を硝酸溶液に70°C
で15分間浸漬して、眉間樹脂絶縁層の表面を粗化3し
てから、中和溶液に浸漬して水洗した。
(9) After polishing the resin insulating layer 21 with #1000 alumina powder, the resin insulating layer was heated in a nitric acid solution at 70°C.
The surface of the glabellar resin insulating layer was roughened by immersion in water for 15 minutes, and then immersed in a neutralizing solution and washed with water.

樹脂絶縁層2′が粗化4aされた基板lに、パラジウム
触媒を付与して絶縁層2′の表面を活性化させ、常法に
従いめっきレジストを形成した後、第−表に示す組成の
無電解銅めっき液に11時間浸漬して、めっき膜の厚さ
25μmの無電解銅めっきを施し、第2めっき導体層9
を形成した。
After applying a palladium catalyst to the substrate l on which the resin insulating layer 2' has been roughened 4a to activate the surface of the insulating layer 2' and forming a plating resist according to a conventional method, a plating resist having the composition shown in Table 1 is applied. The second plated conductor layer 9 was immersed in an electrolytic copper plating solution for 11 hours to provide electroless copper plating with a thickness of 25 μm.
was formed.

(4)〜(9)の工程を2回繰り返すことにより、第3
めっき導体層10、第4めっき導体層11と順次に形成
し、第6図Fdlに示すようなビルドアップ多層配V!
板を製造した。
By repeating steps (4) to (9) twice, the third
The plated conductor layer 10 and the fourth plated conductor layer 11 are sequentially formed to form a build-up multilayer arrangement V! as shown in FIG. 6 Fdl.
The board was manufactured.

実施例7 この実施例は、基本的に実施例6と同様であるが、第2
層に形成されるめっき導体層9の代わりに、パッド(バ
イアホールで下層の導体回路と電気的に接続されている
)12を形成し、これにソルダーコート13を施して、
半導体部品を搭載するためのパッドのみが形成された、
第7図に示すようなプリント配線板を製造した。
Example 7 This example is basically the same as Example 6, but with a second
Instead of the plated conductor layer 9 formed in the layer, a pad 12 (which is electrically connected to the underlying conductor circuit through a via hole) is formed, and a solder coat 13 is applied to this.
Only pads for mounting semiconductor components are formed.
A printed wiring board as shown in FIG. 7 was manufactured.

実施例8 本実施例は、基本的には実施例1と同様であるが、本実
施例では、無電解めっき用接着剤にパラジウム触媒を加
えておき、パラジウム触媒の付与工程を省いた。
Example 8 This example is basically the same as Example 1, but in this example, a palladium catalyst was added to the adhesive for electroless plating, and the step of applying the palladium catalyst was omitted.

第1表 無電解銅めっきの条件 第2表 電解めっきの条件 比較例1 この比較例は、基本的には実施例Iと同様であるが、平
均粒径3.9μmおよび平均粒径0.5μmの酸に可溶
なエポキシ樹脂粒子の代わりに、平均粒径3.9μmお
よび平均粒径0.5μmの酸化剤に可?容なエポキシ樹
脂粒子を使用して擬似粒子を作製し、50%硫酸の代わ
りにクロム酸(酸化剤)を用いて粗化処理を行い、第8
図に示すようなプリント配線板を製造した。
Table 1 Conditions for electroless copper plating Table 2 Conditions for electrolytic plating Comparative example 1 This comparative example is basically the same as Example I, except that the average grain size is 3.9 μm and the average grain size is 0.5 μm. In place of the acid-soluble epoxy resin particles, an oxidizing agent with an average particle size of 3.9 μm and an average particle size of 0.5 μm can be used. Pseudo-particles were prepared using hard-bodied epoxy resin particles, and roughening treatment was performed using chromic acid (oxidizing agent) instead of 50% sulfuric acid.
A printed wiring board as shown in the figure was manufactured.

比較例2 この比較例は、基本約6こは実施例2と同様であるが、
平均粒径0.5μmの酸に可溶なエポキシ樹脂粒子の代
わりに、平均粒径0.5μmの酸化剤に可溶なエポキシ
樹脂粒子を使用して平均粒径が約3.5μmの凝集粒子
を作製し、6N塩酸の代わりに、クロム酸(酸化剤)を
用いて粗化処理を行い、第9図に示すようなプリント配
線板を製造した。
Comparative Example 2 This comparative example is basically the same as Example 2 in about 6 points, but
Instead of acid-soluble epoxy resin particles with an average particle size of 0.5 μm, oxidizing agent-soluble epoxy resin particles with an average particle size of 0.5 μm are used to produce agglomerated particles with an average particle size of about 3.5 μm. was prepared and subjected to roughening treatment using chromic acid (oxidizing agent) instead of 6N hydrochloric acid to produce a printed wiring board as shown in FIG. 9.

比較例3 この比較例は、基本的には実施例3と同様であるが、平
均粒径3.9μmおよび平均粒径0.5μmの酸に可溶
なエポキシ樹脂粒子の代わりに、平均粒径3.9μmお
よび平均粒径0.5μmの酸化剤に可溶なエポキシ樹脂
を使用し、りん酸の代わりにクロム酸(酸化剤)を用い
て粗化処理を行い、第1O図に示すようなプリント配線
板を製造した。
Comparative Example 3 This comparative example is basically the same as Example 3, but instead of acid-soluble epoxy resin particles with an average particle size of 3.9 μm and an average particle size of 0.5 μm, An oxidizing agent-soluble epoxy resin with an average particle size of 3.9 μm and 0.5 μm was used, and roughening treatment was performed using chromic acid (oxidizing agent) instead of phosphoric acid to form a material as shown in Figure 1O. Manufactured printed wiring boards.

以上説明した(c1実施例1〜8、比較例1〜3で得ら
れたプリント配線板について、基板とi同めっき膜との
宙着強度をJ [S−(、−6481の方法で測定した
Regarding the printed wiring boards obtained in Examples 1 to 8 and Comparative Examples 1 to 3 as explained above, the strength of the interposition between the substrate and the same plating film was measured by the method of J [S-(, -6481). .

また、100℃の煮沸水にプリント配線板を浸漬するこ
とにより、接着剤層の表面抵抗の変化を測定した。
In addition, changes in the surface resistance of the adhesive layer were measured by immersing the printed wiring board in boiling water at 100°C.

これらの結果を第3表に示す。These results are shown in Table 3.

弔 表 〔発明の効果] 以上説明したように本発明によれば、耐熱性、電気特性
および基板と無電解めっき模との密着性かともに極めて
優れ、特に表面の粗化に際し、マトリックスをも余分に
溶解することがないから、アンカー形状がシャープにな
り、それだけめっき密着性に極めて優れた無電解めっき
用接着剤を提供できる。
[Effect of the invention] As explained above, according to the present invention, the heat resistance, electrical properties, and adhesion between the substrate and the electroless plating pattern are extremely excellent, and in particular, when the surface is roughened, the matrix can be removed evenly. Since the anchor does not dissolve in water, the anchor shape becomes sharp, and an adhesive for electroless plating with extremely excellent plating adhesion can be provided.

しかもこのような接着剤の採用により、プリント配線板
の製造に際しても、表面を十分に粗化するための複雑な
条件が不要であり、また、クロム酸などの有害物質を用
いる訳ではないから、その廃棄および処理の手間が省け
、さらには作業環境についてみ特別な設備や注意が不必
要である。
Moreover, by using such an adhesive, there is no need for complicated conditions to sufficiently roughen the surface when manufacturing printed wiring boards, and no harmful substances such as chromic acid are used. The trouble of disposing of and processing them can be saved, and furthermore, there is no need for special equipment or precautions regarding the working environment.

この意味において本発明は、利用分野も高密度で高精度
のプリント配線板、ハイブリットIC配線板、LSIを
実装する多層配線板など広く適用され、産業上極めて有
用である。
In this sense, the present invention is applicable to a wide range of fields such as high-density and high-precision printed wiring boards, hybrid IC wiring boards, and multilayer wiring boards mounting LSI, and is extremely useful industrially.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第1図(al〜fe)は、実施例1の製造工程を示した
図、第2図(al〜(elは、実施例2の製造工程を示
した図、第3図(al〜(e)は、実施例3の製造工程
を示した図、第4図は、実施例4で得られるプリント配
線板のの断面図、 第5図(al〜(h)は、実施例5の製造工程を示した
図、第6図(al〜(d)は、実施例6の製造工程を示
した図、第7図は、実施例7で得られるプリント配線板
の断面図、 第8図は、比較例1に基づくプリント配線板の断面図、 第9図は、比較例2に基づくプリント配線板の断面図、 第10図は、比較例3に基づくプリント配線板の断面図
である。 ■・・・基板、2・・・接着剤層、  2′・・・絶縁
層、3・・・粗化面、 4a・・・擬似粒子入り接着剤
層、4b・・・凝集粒子入り接着剤層、 4c・・・粒径の異った2種類の粒子入り接着剤層、5
・・・めっきレジスト、 6・・・導体層、7・・・半
田めっき層、 8・・・ガラス織布、9・・・第2めっ
き導体層、1o・・・第3めっき導体層、11・・・第
4めっき導体層、 12・・・パッド13・・・ソルダ
ーコート、 14・・・ポリエチレンフィルム 15a・・・酸化剤で粗化した擬似粒子入り接着剤層1
5b・・・酸化剤で粗化した凝集粒子入り接着剤層15
c・・・酸化剤で粗化した粒径の異なる2種の粒子入り
接着剤層
Figures 1 (al to fe) are diagrams showing the manufacturing process of Example 1, Figure 2 (al to (el) are diagrams showing the manufacturing process of Example 2, and Figure 3 (al to (e) are diagrams showing the manufacturing process of Example 2. ) is a diagram showing the manufacturing process of Example 3, FIG. 4 is a cross-sectional view of the printed wiring board obtained in Example 4, and FIG. 5 (al to h) is a diagram showing the manufacturing process of Example 5. 6(al to d) are diagrams showing the manufacturing process of Example 6, FIG. 7 is a cross-sectional view of the printed wiring board obtained in Example 7, and FIG. 8 is a diagram showing the manufacturing process of Example 6. 9 is a sectional view of a printed wiring board based on Comparative Example 1, FIG. 9 is a sectional view of a printed wiring board based on Comparative Example 2, and FIG. 10 is a sectional view of a printed wiring board based on Comparative Example 3. ... Substrate, 2... Adhesive layer, 2'... Insulating layer, 3... Roughened surface, 4a... Adhesive layer containing pseudo particles, 4b... Adhesive layer containing aggregated particles, 4c...Adhesive layer containing two types of particles with different particle sizes, 5
... Plating resist, 6... Conductor layer, 7... Solder plating layer, 8... Glass woven fabric, 9... Second plated conductor layer, 1o... Third plated conductor layer, 11 ... Fourth plated conductor layer, 12... Pad 13... Solder coat, 14... Polyethylene film 15a... Adhesive layer 1 containing pseudo particles roughened with oxidizing agent
5b...Adhesive layer 15 containing aggregated particles roughened with an oxidizing agent
c...Adhesive layer containing two types of particles with different particle sizes roughened with an oxidizing agent

Claims (12)

【特許請求の範囲】[Claims] 1.酸に対して可溶性の予め硬化処理された耐熱性樹脂
粉末を、硬化処理することにより酸に対して難溶性もし
くは不溶性となる特性を有する未硬化のマトリックス形
成用耐熱性樹脂中に散在させたものからなる無電解めっ
き用接着剤。
1. Pre-cured heat-resistant resin powder that is soluble in acids is dispersed in an uncured matrix-forming heat-resistant resin that has the property of becoming poorly soluble or insoluble in acids when cured. Adhesive for electroless plating consisting of.
2.前記耐熱性樹脂粉末は、平均粒径が10μm以下で
ある請求項1に記載の接着剤。
2. The adhesive according to claim 1, wherein the heat-resistant resin powder has an average particle size of 10 μm or less.
3.前記耐熱性樹脂粉末は、 平均粒径2μm以下の耐熱性樹脂粉末を凝集させて平均
粒径2〜10μmの大きさとした凝集粒子、 平均粒径2〜10μmの耐熱性樹脂粉末と平均粒径2μ
m以下の耐熱性樹脂粉末との混合物、平均粒径2〜10
μmの耐熱性樹脂粉末の表面に平均粒径2μm以下の耐
熱性樹脂粉末もしくは平均粒径2μm以下の無機粉末の
いずれか少なくとも1種を付着させてなる擬似粒子、 のなかから選ばれるいずれか少なくとも1種である請求
項1または2に記載の接着剤。
3. The heat-resistant resin powder includes: agglomerated particles having an average particle size of 2 to 10 μm by agglomerating heat-resistant resin powder with an average particle size of 2 μm or less, and heat-resistant resin powder with an average particle size of 2 to 10 μm and an average particle size of 2 μm.
Mixture with heat-resistant resin powder of not more than m, average particle size 2-10
Pseudo-particles formed by adhering at least one of heat-resistant resin powder with an average particle size of 2 μm or less or inorganic powder with an average particle size of 2 μm or less on the surface of heat-resistant resin powder with a diameter of 2 μm or less; The adhesive according to claim 1 or 2, which is one type of adhesive.
4.前記耐熱性樹脂粉末は、エポキシ樹脂である請求項
1〜3のいずれか1つに記載の接着剤。
4. The adhesive according to any one of claims 1 to 3, wherein the heat-resistant resin powder is an epoxy resin.
5.前記耐熱性樹脂粉末を散在させるマトリックス形成
用耐熱性樹脂は、エポキシ樹脂、エポキシ変成ポリイミ
ド樹脂、ポリイミド樹脂、フェノール樹脂のなかから選
ばれるいずれか少なくとも1種の樹脂である請求項1〜
4のいずれか1つに記載の接着剤。
5. The matrix-forming heat-resistant resin in which the heat-resistant resin powder is scattered is at least one resin selected from epoxy resins, epoxy-modified polyimide resins, polyimide resins, and phenol resins.
4. The adhesive according to any one of 4.
6.無電解めっき用接着剤を介して導体層が設けられる
プリント配線板を製造するに当たり、少なくとも以下(
a)〜(d)の工程: (a)基板に対し、酸に対して可溶性の予め硬化処理さ
れた耐熱性樹脂粉末を、硬化処理することにより酸に対
して難溶性もしくは不溶性となる特性を有する未硬化の
耐熱性樹脂樹脂液中に分散させてなる接着剤を塗布し、
これを乾燥,硬化処理を施すことにより、接着剤層を形
成する工程。 (b)硬化させた前記接着剤層の表面を研磨することに
より、該接着剤層の表面部分に散在している前記耐熱性
樹脂粉末の一部を接着剤層表面に露出させる工程。 (c)接着剤層表面に露出した前記耐熱性樹脂粉末の少
なくとも一部を、酸にて溶解除去することにより、接着
剤層の表面を粗化する工程。 (d)粗化した表面に、無電解めっきを施す工程。 を経ることを特徴とする接着剤を用いたプリント配線板
の製造方法。
6. When manufacturing a printed wiring board on which a conductor layer is provided via an electroless plating adhesive, at least the following (
Steps a) to (d): (a) A heat-resistant resin powder that is soluble in acids and has been cured in advance is cured to give the substrate the property of being poorly soluble or insoluble in acids. Applying an adhesive dispersed in an uncured heat-resistant resin resin liquid,
The process of forming an adhesive layer by drying and curing this. (b) A step of exposing a portion of the heat-resistant resin powder scattered on the surface of the adhesive layer to the surface of the adhesive layer by polishing the surface of the cured adhesive layer. (c) Roughening the surface of the adhesive layer by dissolving and removing at least a portion of the heat-resistant resin powder exposed on the surface of the adhesive layer with acid. (d) A step of applying electroless plating to the roughened surface. A method for manufacturing a printed wiring board using an adhesive, which comprises:
7.前記耐熱性樹脂粉末は、平均粒径が10μm以下で
ある請求項6に記載の製造方法。
7. 7. The manufacturing method according to claim 6, wherein the heat-resistant resin powder has an average particle size of 10 μm or less.
8.前記耐熱性樹脂粉末は、 平均粒径2μm以下の耐熱性樹脂粉末を凝集させて平均
粒径2〜10μmの大きさとした凝集粒子、 平均粒径2〜10μmの耐熱性樹脂粉末と平均粒径2μ
m以下の耐熱性樹脂粉末との混合物、平均粒径2〜10
μmの耐熱性樹脂粉末の表面に平均粒径2μm以下の耐
熱性樹脂粉末もしくは平均粒径2μm以下の無機粉末の
いずれか少なくとも1種を付着させてなる擬似粒子、 のなかから選ばれるいずれか少なくとも1種である請求
項6または7に記載の製造方法。
8. The heat-resistant resin powder includes: agglomerated particles having an average particle size of 2 to 10 μm by agglomerating heat-resistant resin powder with an average particle size of 2 μm or less, and heat-resistant resin powder with an average particle size of 2 to 10 μm and an average particle size of 2 μm
Mixture with heat-resistant resin powder of not more than m, average particle size 2-10
Pseudo-particles formed by adhering at least one of heat-resistant resin powder with an average particle size of 2 μm or less or inorganic powder with an average particle size of 2 μm or less on the surface of heat-resistant resin powder with a diameter of 2 μm or less; The manufacturing method according to claim 6 or 7, which is one type.
9.前記耐熱性樹脂粉末は、エポキシ樹脂である請求項
6〜8のいずれか1つに記載の製造方法。
9. The manufacturing method according to any one of claims 6 to 8, wherein the heat-resistant resin powder is an epoxy resin.
10.前記耐熱性樹脂粉末を分散させるマトリックス形
成用耐熱性樹脂液は、エポキシ樹脂、エポキシ変成ポリ
ミイド樹脂、ポリミイド樹脂、フェノール樹脂のなかか
ら選ばれるいずれか少なくとも1種の樹脂液である請求
項6〜9のいずれか1つに記載の製造方法。
10. The matrix-forming heat-resistant resin liquid in which the heat-resistant resin powder is dispersed is at least one resin liquid selected from epoxy resins, epoxy-modified polymide resins, polymide resins, and phenol resins. The manufacturing method according to any one of.
11.前記(c)工程において使用する酸は、硫酸、塩
酸、硝酸、燐酸及び酢酸、ギ酸のなかから選ばれるいず
れか少なくとも1種である請求項6〜10のいずれか1
つに記載の製造方法。
11. Any one of claims 6 to 10, wherein the acid used in step (c) is at least one selected from sulfuric acid, hydrochloric acid, nitric acid, phosphoric acid, acetic acid, and formic acid.
The manufacturing method described in.
12.前記無電解めっきは、無電解銅めっき、無電解ニ
ッケルめっき、無電解金めっきの何れか少なくとも1種
である請求項6〜11に記載の製造方法。
12. 12. The manufacturing method according to claim 6, wherein the electroless plating is at least one of electroless copper plating, electroless nickel plating, and electroless gold plating.
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