JP2877993B2 - Adhesive for wiring board, method for manufacturing printed wiring board using this adhesive, and printed wiring board - Google Patents

Adhesive for wiring board, method for manufacturing printed wiring board using this adhesive, and printed wiring board

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JP2877993B2
JP2877993B2 JP3205617A JP20561791A JP2877993B2 JP 2877993 B2 JP2877993 B2 JP 2877993B2 JP 3205617 A JP3205617 A JP 3205617A JP 20561791 A JP20561791 A JP 20561791A JP 2877993 B2 JP2877993 B2 JP 2877993B2
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    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
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    • H05K2203/00Indexing scheme relating to apparatus or processes for manufacturing printed circuits covered by H05K3/00
    • H05K2203/07Treatments involving liquids, e.g. plating, rinsing
    • H05K2203/0756Uses of liquids, e.g. rinsing, coating, dissolving
    • H05K2203/0773Dissolving the filler without dissolving the matrix material; Dissolving the matrix material without dissolving the filler

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、無電解めっき性および
塗布性がともに優れた配線板用接着剤とこの接着剤を用
いたプリント配線板の製造方法およびプリント配線板に
関するものであり、特に耐熱性,電気特性および基板と
無電解めっき膜との密着性に優れた無電解めっきに適合
した接着剤とこの接着剤を用いたプリント配線板の製造
方法およびプリント配線板に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an adhesive for wiring boards excellent in both electroless plating properties and coating properties, a method for manufacturing a printed wiring board using this adhesive, and a printed wiring board. The present invention relates to an adhesive suitable for electroless plating, which is excellent in heat resistance, electrical characteristics, and adhesion between a substrate and an electroless plating film, a method for manufacturing a printed wiring board using the adhesive, and a printed wiring board.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年、電子工業の進歩に伴い電子機器の
小型化あるいは高速化が進められており、このためプリ
ント配線板やLSIを実装する配線板においてもファイ
ンパターンによる高密度化および高い信頼性が要求され
ている。
2. Description of the Related Art In recent years, with the advance of the electronics industry, electronic devices have been reduced in size or increased in speed. For this reason, printed wiring boards and wiring boards on which LSIs are mounted have been improved in density and fine reliability by fine patterns. Is required.

【0003】従来、プリント配線板に導体回路を形成す
る方法としては、基板に銅箔を積層した後、フォトエッ
チングすることにより、導体回路を形成するエッチドフ
ォイル方法が広く行われている。この方法によれば、基
板との密着性に優れた導体回路を形成することができる
が、銅箔の厚さが厚いためにエッチングにより高精度の
ファインパターンが得難いという大きな欠点があり、さ
らに製造工程も複雑で効率が良くないなどの諸問題があ
る。
Conventionally, as a method of forming a conductive circuit on a printed wiring board, an etched foil method of forming a conductive circuit by laminating a copper foil on a substrate and then performing photoetching has been widely used. According to this method, a conductor circuit having excellent adhesion to a substrate can be formed, but there is a major drawback that a high-precision fine pattern is difficult to be obtained by etching due to a large thickness of a copper foil. There are various problems such as complicated processes and inefficient processes.

【0004】このため、最近、配線板に導体を形成する
方法として、ジエン系合成ゴムを含む接着剤を基板表面
に塗布して接着層を形成し、この接着層の表面を粗化し
た後、無電解めっきを施して導体を形成するアディティ
ブ法が採用されている。しかしながら、この方法で一般
的に使用されている接着剤は合成ゴムを含むため、例え
ば高温時に密着強度が大きく低下したり、ハンダ付けの
際に無電解めっき膜がふくれるなど耐熱性が低いこと
と、表面抵抗などの電気特性が充分でない欠点があり、
使用範囲がかなり制限されている。
Therefore, recently, as a method of forming a conductor on a wiring board, an adhesive containing a diene-based synthetic rubber is applied to the surface of a substrate to form an adhesive layer, and after the surface of the adhesive layer is roughened, An additive method of forming a conductor by performing electroless plating is employed. However, since the adhesive generally used in this method contains a synthetic rubber, for example, the adhesive strength is greatly reduced at a high temperature, or the heat resistance is low, such as the electroless plating film bulging during soldering. There is a disadvantage that the electrical properties such as surface resistance are not sufficient,
The range of use is quite limited.

【0005】これに対し、発明者らは、先に前述の如き
無電解めっきを施すための接着剤が有する欠点を解消
し、耐熱性,電気特性および無電解めっき膜との密着性
に極めて優れ、かつ比較的容易に実施できる無電解めっ
き用接着剤およびこの接着剤を用いた配線板の製造方法
を特開昭61−276875号公報で提案した。すなわち、この
開示された技術は、酸化剤に対して可溶性の予め硬化処
理された耐熱性樹脂粉末が、硬化処理することにより酸
化剤に対して難溶性となる特性を有する未硬化の耐熱性
樹脂液中に分散されてなることを特徴とする接着剤、お
よびこの接着剤を基板に塗布した後、乾燥硬化して接着
剤層を形成させ、前記接着剤層の表面部分に分散してい
る上記微粉末の少なくとも一部を溶解除去して接着剤層
の表面を粗化し、次いで無電解めっきを施すことを特徴
とする配線板の製造方法である。
On the other hand, the present inventors have solved the above-mentioned drawbacks of the adhesive for performing electroless plating, and have extremely excellent heat resistance, electric characteristics and adhesion to the electroless plating film. Japanese Patent Application Laid-Open No. 61-276875 proposes an adhesive for electroless plating which can be carried out relatively easily and a method for manufacturing a wiring board using this adhesive. That is, the disclosed technology is based on a precured heat-resistant resin powder that is soluble in an oxidizing agent, and has an uncured heat-resistant resin having a property of being hardly soluble in an oxidizing agent when cured. An adhesive characterized by being dispersed in a liquid, and after applying the adhesive to a substrate, drying and curing to form an adhesive layer, and the adhesive is dispersed on a surface portion of the adhesive layer. A method for manufacturing a wiring board, comprising dissolving and removing at least a part of fine powder to roughen the surface of an adhesive layer, and then performing electroless plating.

【0006】この既知技術によれば、上記接着剤は、予
め硬化処理された耐熱性樹脂微粉末が耐熱性樹脂液中に
分散されており、この接着剤を基板に塗布し乾燥硬化さ
せるとマトリックスを形成する耐熱性樹脂中に耐熱性樹
脂微粉末が均一に分散した状態の接着剤層が形成され
る。そして、前記耐熱性樹脂微粉末とマトリックス耐熱
性樹脂とは酸化剤に対する溶解性に差異があるため、前
記接着層を酸化剤で処理することにより、接着層の表面
部分に分散している微粉末が主として溶解除去され、効
果的なアンカー窪みが形成されて接着剤層の表面を均一
粗化でき、ひいては基板と無電解めっき膜との高い密着
強度と高い信頼性が得られる。
According to this known technique, the adhesive is prepared by dispersing a heat-resistant resin fine powder which has been cured in advance in a heat-resistant resin liquid. The adhesive layer is formed in a state where the heat-resistant resin fine powder is uniformly dispersed in the heat-resistant resin forming the above. Since the heat-resistant resin fine powder and the matrix heat-resistant resin have different solubility in an oxidizing agent, by treating the adhesive layer with an oxidizing agent, the fine powder dispersed in the surface portion of the adhesive layer is treated. Is mainly dissolved and removed, an effective anchor depression is formed, and the surface of the adhesive layer can be uniformly roughened. As a result, high adhesion strength and high reliability between the substrate and the electroless plating film can be obtained.

【0007】[0007]

【発明が解決しようとする課題】ところで、この耐熱性
樹脂微粉末としては、耐熱性と電気絶縁性に優れ、通常
の薬品に対して安定で、しかも予め硬化処理を施した場
合には耐熱性樹脂あるいはこの樹脂を溶解する溶剤に対
して難溶性であることが要求され、さらにはクロム酸な
どの酸化剤により溶解することができる特性を具備する
樹脂である必要性から、エポキシ樹脂などの数種の樹脂
が挙げられた。
By the way, this heat-resistant resin fine powder has excellent heat resistance and electrical insulation, is stable to ordinary chemicals, and has a heat resistance when cured in advance. It is required that the resin be insoluble in a resin or a solvent that dissolves the resin, and furthermore, it needs to be a resin having characteristics that can be dissolved by an oxidizing agent such as chromic acid. Seed resins were listed.

【0008】しかしながら、その樹脂の硬化手段によっ
ては、必ずしも上記特性を全て具備した良好な耐熱性樹
脂微粉末が得られないのが実情であった。例えば、硬化
剤の選択によっては、耐熱性樹脂微粉末の酸化剤に対す
る溶解性が不十分となり、明確なアンカーが形成され
ず、その結果ピール強度が低下し、導体パットが剥がれ
てしまうなど、実装信頼性に問題があった。
However, depending on the curing means of the resin, it has not always been possible to obtain a good heat-resistant resin fine powder having all of the above characteristics. For example, depending on the selection of the curing agent, the solubility of the heat-resistant resin fine powder in the oxidizing agent becomes insufficient, a clear anchor is not formed, and as a result, the peel strength is reduced, and the conductor pad is peeled off. There was a problem with reliability.

【0009】本発明の目的は、上記従来技術が抱える問
題点を克服することにあり、特に、明確なアンカーが容
易に形成できる耐熱性樹脂微粉末の成分を見出し、接着
剤の無電解めっき性を損なうこと無く、かつ塗布性に優
れた接着剤とこれを用いたプリント配線板の製造方法お
よびプリント配線板を提案することにある。
An object of the present invention is to overcome the above-mentioned problems of the prior art. In particular, the present invention has found a component of a heat-resistant resin fine powder capable of easily forming a clear anchor, and has disclosed an electroless plating property of an adhesive. It is an object of the present invention to propose an adhesive excellent in applicability without impairing the above, a method of manufacturing a printed wiring board using the same, and a printed wiring board.

【0010】[0010]

【課題を解決するための手段】発明者らは、上記の如き
問題点克服のために鋭意研究した結果、エポキシ樹脂の
硬化剤としてアミン系硬化剤を使用することにより、所
望の耐熱性樹脂微粉末を得ることができることを見出
し、本発明に想到した。
Means for Solving the Problems The inventors of the present invention have conducted intensive studies for overcoming the above-mentioned problems, and as a result, the use of an amine-based curing agent as a curing agent for an epoxy resin has made it possible to obtain a desired heat-resistant resin fine powder. The inventors have found that a powder can be obtained, and have reached the present invention.

【0011】すなわち、本発明の接着剤は、第1に、酸
あるいは酸化剤に対して可溶性である硬化処理済の耐熱
性樹脂微粉末を、硬化処理が施された場合には酸あるい
は酸化物に対して難溶性となる特性を有する未硬化の耐
熱性樹脂マトリックス中に分散させてなる接着剤におい
て、前記耐熱性樹脂微粉末としてアミン系硬化剤で硬化
されたエポキシ樹脂を用い、前記耐熱性樹脂マトリック
スとしてイミダゾール系硬化剤で硬化されるエポキシ樹
脂を用いることを特徴とする配線板用接着剤である。な
お、このマトリックスは、不燃化処理のためハロゲン化
されていてもよい。
That is, first, the adhesive of the present invention is obtained by curing a heat-resistant resin fine powder which has been cured and is soluble in an acid or an oxidizing agent. In an adhesive dispersed in an uncured heat-resistant resin matrix having the property of being hardly soluble in, using an epoxy resin cured with an amine-based curing agent as the heat-resistant resin fine powder, An adhesive for a wiring board, wherein an epoxy resin cured with an imidazole-based curing agent is used as a resin matrix. This matrix may be halogenated for non-combustible treatment.

【0012】ここで、前記樹脂微粉末を分散させる耐熱
性樹脂マトリックスは、多官能性エポキシ樹脂および
2官能性エポキシ樹脂のなかから選ばれる少なくとも1
種、もしくは、多官能性エポキシ樹脂および2官能性
エポキシ樹脂のなかから選ばれる少なくとも1種とイミ
ダゾール系硬化剤の混合物、からなり、上記マトリック
スは、固形分で、20〜100 wt%の多官能性エポキシ樹脂
と0〜80wt%の2官能性エポキシ樹脂とからなる耐熱性
樹脂と、マトリックスの合計固形分に対して2〜10wt%
のイミダゾール系硬化剤とで構成することが望ましい。
Here, the heat-resistant resin matrix in which the resin fine powder is dispersed is at least one selected from a polyfunctional epoxy resin and a bifunctional epoxy resin.
Or a mixture of at least one selected from a polyfunctional epoxy resin and a bifunctional epoxy resin, and an imidazole-based curing agent, wherein the matrix has a solid content of 20 to 100 wt% of a polyfunctional resin. Heat-resistant resin consisting of functional epoxy resin and 0 to 80 wt% bifunctional epoxy resin, and 2 to 10 wt% based on total solid content of matrix
And an imidazole-based curing agent.

【0013】第2に、酸あるいは酸化剤に対して可溶性
である硬化処理済の耐熱性樹脂微粉末を、硬化処理が施
された場合には酸あるいは酸化物に対して難溶性となる
特性を有する未硬化の耐熱性樹脂マトリックス中に分散
させてなる接着剤において、前記耐熱性樹脂微粉末とし
てアミン系硬化剤で硬化されたエポキシ樹脂を用い、前
記耐熱性樹脂マトリックスとしてエポキシ樹脂,アクリ
ル基を有する樹脂およびアクリル樹脂から選ばれる少な
くとも1種を用いることを特徴とする配線板用接着剤で
ある。なお、このマトリックスは、不燃化処理のためハ
ロゲン化されていてもよい。
Second, a cured heat-resistant resin fine powder that is soluble in an acid or an oxidizing agent is hardly soluble in an acid or an oxide when cured. In an adhesive dispersed in an uncured heat-resistant resin matrix having an epoxy resin cured with an amine-based curing agent as the heat-resistant resin fine powder, an epoxy resin and an acrylic group are used as the heat-resistant resin matrix. An adhesive for a wiring board, characterized by using at least one selected from a resin and an acrylic resin. This matrix may be halogenated for non-combustible treatment.

【0014】ここで、前記樹脂微粉末を分散させる耐熱
性樹脂マトリックスは、多官能性の、エポキシ樹脂,
アクリル基を有する樹脂,アクリル樹脂から選ばれ
る少なくとも1種、もしくは前記,,の樹脂から
選ばれる少なくとも1種と2官能性の、エポキシ樹
脂,アクリル樹脂から選ばれる少なくとも1種の樹脂
との混合樹脂からなり、上記マトリックス中の耐熱性樹
脂は、固形分で、20〜100 wt%の多官能性の、エポキ
シ樹脂,アクリル基を有する樹脂,アクリル樹脂か
ら選ばれる少なくとも1種と、0〜80wt%の2官能性
の、エポキシ樹脂,アクリル樹脂から選ばれる少な
くとも1種とからなることが好適である。
Here, the heat resistant resin matrix in which the resin fine powder is dispersed is a polyfunctional epoxy resin,
Resin having an acrylic group, at least one selected from acrylic resins, or a mixed resin of at least one selected from the above resins and at least one resin selected from bifunctional epoxy resins and acrylic resins Wherein the heat-resistant resin in the matrix is at least one of a polyfunctional epoxy resin, an acrylic group-containing resin, and an acrylic resin having a solid content of 20 to 100 wt%, and 0 to 80 wt%. It is preferable to comprise at least one selected from bifunctional epoxy resins and acrylic resins.

【0015】なお、上述した接着剤は、上記接着剤のそ
の粘度を、回転粘度計で測定した値が、回転数6rpm の
とき5.1 ±2.0 Pa・s ,より好ましくは5.1 ±0.7 Pa・
s 、回転数60rpmのとき2.4 ±1.0 Pa・s ,より好ま
しくは2.4 ±0.3 Pa・s を示し、かつ回転数6rpmの
粘度と回転数60rpmの粘度との比が2.1 ±1.0 ,より
好ましくは2.1 ±0.4 を示すものであり、またマトリッ
クス中の耐熱性樹脂微粉末,未硬化の耐熱性樹脂および
硬化剤の固形分濃度は、55〜85wt%であり、さらには耐
熱性樹脂微粉末の含有量は、耐熱性樹脂マトリックスと
硬化剤もしくは光開始剤の混合物、あるいは硬化剤もし
くは光開始剤を含んだマトリックスの固形分100 重量部
に対して10〜100 重量部である。
The above-mentioned adhesive has a viscosity of 5.1 ± 2.0 Pa · s at a rotation speed of 6 rpm, more preferably 5.1 ± 0.7 Pa · s, when the viscosity of the adhesive is measured by a rotational viscometer.
s, 2.4 ± 1.0 Pa · s at 60 rpm, more preferably 2.4 ± 0.3 Pa · s, and the ratio of the viscosity at 6 rpm to the viscosity at 60 rpm is 2.1 ± 1.0, more preferably 2.1 ± 1.0. The solid content of the heat-resistant resin fine powder, uncured heat-resistant resin and curing agent in the matrix is 55 to 85 wt%, and the content of heat-resistant resin fine powder Is 10 to 100 parts by weight based on 100 parts by weight of the solid content of the mixture of the heat-resistant resin matrix and the curing agent or photoinitiator, or the matrix containing the curing agent or photoinitiator.

【0016】上記接着剤を用いる本発明のプリント配線
板製造方法は、上述した接着剤を、基板上にロールコー
ター,カーテンコーター,スクリーン印刷およびスプレ
ーコーターなどで塗布した後、乾燥硬化して接着剤層を
形成させ、前記接着剤層の表面部分に分散している熱硬
化性微粉末の少なくとも一部を溶解除去して接着剤層の
表面を粗化し、その後無電解めっきを施すことを特徴と
するアディティブプロセスによる方法である。
In the method for producing a printed wiring board of the present invention using the above-mentioned adhesive, the above-mentioned adhesive is applied onto a substrate by a roll coater, curtain coater, screen printing, spray coater or the like, and then dried and cured. Forming a layer, roughening the surface of the adhesive layer by dissolving and removing at least a part of the thermosetting fine powder dispersed in the surface portion of the adhesive layer, and thereafter performing electroless plating. This is a method based on an additive process.

【0017】そして、上記製造方法によって得られる本
発明のプリント配線板は、少なくとも一方の基板表面に
接着剤層を設けて、その上に導体回路を形成してなるプ
リント配線板において、酸あるいは酸化剤に対して可溶
性である硬化処理済の耐熱性樹脂微粉末を、硬化処理が
施された場合には酸あるいは酸化物に対して難溶性とな
る特性を有する未硬化の耐熱性樹脂マトリックス中に分
散させてなる接着剤として、前記耐熱性樹脂微粉末がア
ミン系硬化剤で硬化されたエポキシ樹脂としたことを特
徴とし、前記耐熱性樹脂マトリックスがイミダゾール系
硬化剤で硬化されるエポキシ樹脂、もしくはエポキシ樹
脂,アクリル基を有する樹脂,およびアクリル樹脂であ
るものを用いることを特徴とするプリント配線板であ
る。
The printed wiring board of the present invention obtained by the above-mentioned manufacturing method is characterized in that the printed wiring board obtained by providing an adhesive layer on at least one substrate surface and forming a conductive circuit thereon has an acid or oxidation property. The cured heat-resistant resin fine powder that is soluble in the agent is mixed in an uncured heat-resistant resin matrix having the property of being hardly soluble in acids or oxides when cured. As the adhesive to be dispersed, the heat-resistant resin fine powder is an epoxy resin cured with an amine-based curing agent, and the heat-resistant resin matrix is epoxy resin cured with an imidazole-based curing agent, or A printed wiring board using an epoxy resin, a resin having an acrylic group, and an acrylic resin.

【0018】[0018]

【作用】発明者らは、耐熱性樹脂微粉末用樹脂の硬化剤
を種々変化させて研究した結果、耐熱性樹脂微粉末とし
てアミン系硬化剤で硬化したエポキシ樹脂が好適である
ことを見出したのである。このアミン系硬化剤で硬化し
たエポキシ樹脂が好適である理由を以下に示す。
The inventors of the present invention conducted various studies on the curing agent of the resin for the heat-resistant resin fine powder and found that an epoxy resin cured with an amine-based curing agent was suitable as the heat-resistant resin fine powder. It is. The reason why the epoxy resin cured with the amine-based curing agent is suitable will be described below.

【0019】すなわち、エポキシ樹脂のエポキシ基とア
ミン系硬化剤のアミノ基の活性水素との硬化反応により
形成されるセグメント構造が、酸あるいは酸化剤に対し
て、特に溶解性が高いことを見出したものであり、アミ
ン系硬化剤を用いることにより、酸化剤に易溶で、しか
も耐熱性が高い樹脂微粉末を得ることができるからであ
る。このようなセグメントとしては、例えば下記のよう
な構造が考えられる。
That is, it has been found that the segment structure formed by the curing reaction between the epoxy group of the epoxy resin and the active hydrogen of the amino group of the amine-based curing agent has particularly high solubility in an acid or an oxidizing agent. This is because the use of an amine-based curing agent makes it possible to obtain a resin fine powder that is easily soluble in an oxidizing agent and has high heat resistance. For example, the following structure can be considered as such a segment.

【0020】従って、本発明では、上述したアミン系硬
化剤で硬化したエポキシ樹脂を耐熱性樹脂微粉末として
使用することにより、効果的なアンカー窪みを容易に形
成させることができ、それ故に塗布状態、膜厚およびピ
ール強度の全ての条件に満足した接着剤を得ることがで
きるようになる。
Therefore, in the present invention, an effective anchor dent can be easily formed by using the epoxy resin cured with the above-mentioned amine-based curing agent as a heat-resistant resin fine powder. It is possible to obtain an adhesive satisfying all conditions of film thickness and peel strength.

【0021】なお、耐熱性樹脂微粉末の配合量は、樹脂
マトリックスの合計固形分100 重量部に対して、10〜10
0 重量部の範囲が好ましい。この理由は、この微粉末の
配合量が10重量部より少ないと、溶解除去して形成され
るアンカーが明確に形成されない。一方、微粉末の配合
量が100 重量部よりも多くなると、接着剤層が多孔質に
なり、接着剤層と無電解めっき膜の密着強度(ピール強
度)が低下するからである。
The amount of the heat-resistant resin fine powder is 10 to 10 parts by weight based on 100 parts by weight of the total solid content of the resin matrix.
A range of 0 parts by weight is preferred. The reason for this is that if the amount of the fine powder is less than 10 parts by weight, the anchor formed by dissolution and removal is not clearly formed. On the other hand, if the amount of the fine powder is more than 100 parts by weight, the adhesive layer becomes porous, and the adhesion strength (peel strength) between the adhesive layer and the electroless plating film decreases.

【0022】また、前記耐熱性樹脂微粉末の粒度は、平
均粒径が10μm以下であることが好ましく、特に5μm
以下であることが好適である。その理由は、平均粒径が
10μmより大きいと、溶解除去して形成されるアンカー
の密度が小さくなり、かつ不均一になりやすいため、密
着強度とその信頼性が低下する。しかも、接着剤層表面
の凹凸が激しくなるので、導体の微細パターンが得にく
く、かつ部品などを実装する上でも好ましくないからで
ある。
The average particle size of the heat-resistant resin fine powder is preferably 10 μm or less, more preferably 5 μm or less.
It is preferred that: The reason is that the average particle size is
If it is larger than 10 μm, the density of the anchor formed by dissolution and removal becomes small and tends to be non-uniform, so that the adhesion strength and its reliability are reduced. In addition, the irregularities on the surface of the adhesive layer become severe, so that it is difficult to obtain a fine pattern of the conductor, and it is not preferable for mounting components and the like.

【0023】このような耐熱性樹脂微粉末としては、例
えば、平均粒径が2μm以下の耐熱性樹脂粉末を凝集さ
せて平均粒径2〜10μmの大きさとした凝集粒子、平均
粒径2〜10μmの耐熱性樹脂粉末と平均粒径が2μm以
下の耐熱性樹脂粉末との粒子混合物、または平均粒径2
〜10μmの耐熱性樹脂粉末の表面に平均粒径が2μm以
下の耐熱性樹脂粉末もしくは無機微粉末のいずれか少な
くとも1種を付着させてなる疑似粒子のなかから選ばれ
ることが望ましい。
Examples of such heat-resistant resin fine powder include agglomerated particles obtained by aggregating heat-resistant resin powder having an average particle diameter of 2 μm or less to have an average particle diameter of 2 to 10 μm, and an average particle diameter of 2 to 10 μm. Particle mixture of a heat-resistant resin powder having a mean particle size of 2 μm or less, or an average particle size of 2
It is desirable to select from pseudo particles obtained by adhering at least one of a heat-resistant resin powder having an average particle diameter of 2 μm or less or an inorganic fine powder to the surface of a heat-resistant resin powder of 10 μm or less.

【0024】ここで、本発明で使用するマトリックス耐
熱性樹脂としては、耐熱性,電気絶縁性,化学的安定性
および接着性に優れ、かつ硬化処理することにより酸化
剤に対して難溶性となる特性を有する樹脂であれば使用
することができ、特に、前記樹脂微粉末を分散させる耐
熱性樹脂マトリックスが、多官能性の、エポキシ樹
脂,アクリル基を有する樹脂,アクリル樹脂から選
ばれる少なくとも1種の樹脂、もしくは前記,,
の樹脂から選ばれる少なくとも1種と2官能性の、エ
ポキシ樹脂,アクリル樹脂から選ばれる少なくとも1
種との混合樹脂からなることが望ましい。
Here, the matrix heat-resistant resin used in the present invention is excellent in heat resistance, electric insulation, chemical stability and adhesiveness, and becomes hardly soluble in an oxidizing agent by curing treatment. Any resin can be used as long as it has characteristics. In particular, the heat-resistant resin matrix in which the resin fine powder is dispersed is at least one selected from polyfunctional epoxy resins, resins having an acrylic group, and acrylic resins. Resin, or the above,
At least one selected from the group consisting of epoxy resins and acrylic resins;
Desirably, it is made of a resin mixed with a seed.

【0025】この上記マトリックス中の耐熱性樹脂は、
固形分で、20〜100 wt%の多官能性の、エポキシ樹
脂,アクリル基を有する樹脂,アクリル樹脂から選
ばれる少なくとも1種と、0〜80wt%の2官能性の、
エポキシ樹脂,アクリル樹脂から選ばれる少なくとも
1種との混合樹脂からなることが好適である。この理由
は、多官能性樹脂の固形分20wt%より少ない場合には、
接着剤の硬度が低下し、しかも耐薬品性が低下するから
である。
The heat resistant resin in the matrix is
A solid content of at least one selected from an epoxy resin, a resin having an acrylic group, and an acrylic resin having a polyfunctionality of 20 to 100% by weight and a bifunctionality of 0 to 80% by weight;
It is preferable to use a mixed resin with at least one selected from an epoxy resin and an acrylic resin. The reason is that when the solid content of the polyfunctional resin is less than 20 wt%,
This is because the hardness of the adhesive decreases and the chemical resistance decreases.

【0026】また、このマトリックス樹脂の硬化剤とし
ては、DICY,アミン系硬化剤,酸無水物およびイミダゾ
ール系硬化剤などがよい。特に、エポキシ樹脂の場合
は、このマトリックスの合計固形分に対して2〜10wt%
のイミダゾール系硬化剤を含有させることが好ましい。
この理由は、10wt%を超えると硬化しすぎて脆くなり、
2wt%より少ないと硬化が不十分なためである。
As the curing agent for the matrix resin, DICY, amine curing agents, acid anhydrides and imidazole curing agents are preferable. Particularly, in the case of an epoxy resin, 2 to 10% by weight based on the total solid content of the matrix.
It is preferable to include an imidazole-based curing agent.
The reason is that if it exceeds 10 wt%, it will be too hard and brittle,
If the content is less than 2% by weight, the curing is insufficient.

【0027】なお、硬化済の2官能性エポキシ樹脂微粉
末を、未硬化の多官能性エポキシ樹脂および2官能性エ
ポキシ樹脂のなかから選ばれる少なくとも1種の耐熱性
樹脂マトリックス中に分散させてなる混合物は、イミダ
ゾール系硬化剤とそれぞれ分離して保存し、使用直前に
この両者を混合し、使用することが望ましい。
The cured bifunctional epoxy resin fine powder is dispersed in at least one heat-resistant resin matrix selected from an uncured polyfunctional epoxy resin and a bifunctional epoxy resin. The mixture is desirably stored separately from the imidazole-based curing agent, and the two are mixed and used immediately before use.

【0028】また、このマトリックス用耐熱性樹脂とし
ては、溶剤を含まない耐熱性樹脂をそのまま使用するこ
ともできるが、耐熱性樹脂を溶剤に溶解してなる耐熱性
樹脂は、粘度調節が容易にできるため微粉末を均一に分
散させることができ、しかも基板に塗布し易いので有利
に使用することができる。なお、前記耐熱性樹脂を溶解
するのに使用する溶剤としては、通常溶剤、例えばメチ
ルエチルケトン,メチルセロソルブ,エチルセロソル
ブ,ブチルセロソルブ,ブチルセロソルブアセテート,
ブチルカルビトール,ブチルセルロース,テトラリン,
ジメチルホルムアミド,ノルマルメチルピロリドンなど
を挙げることができる。また、上記マトリックス耐熱性
樹脂に、例えば、フッ素樹脂やポリイミド樹脂,ベンゾ
グアナミン樹脂などの有機質充填剤、あるいはシリカや
アルミナ,酸化チタン,ジルコニアなどの無機質微粉末
からなる充填剤を適宜配合してもよい。その他、着色剤
(顔料),レベリング剤,消泡剤,紫外線吸収剤および
難燃化剤などの添加剤を用いることができる。
As the heat-resistant resin for the matrix, a heat-resistant resin containing no solvent can be used as it is, but the heat-resistant resin obtained by dissolving the heat-resistant resin in the solvent can easily adjust the viscosity. As a result, the fine powder can be uniformly dispersed, and can be advantageously used because it can be easily applied to a substrate. The solvent used to dissolve the heat-resistant resin is usually a solvent such as methyl ethyl ketone, methyl cellosolve, ethyl cellosolve, butyl cellosolve, butyl cellosolve acetate, or the like.
Butyl carbitol, butyl cellulose, tetralin,
Examples include dimethylformamide and normal methylpyrrolidone. Further, an organic filler such as a fluorine resin, a polyimide resin, or a benzoguanamine resin, or a filler composed of an inorganic fine powder such as silica, alumina, titanium oxide, or zirconia may be appropriately added to the matrix heat-resistant resin. . In addition, additives such as a coloring agent (pigment), a leveling agent, an antifoaming agent, an ultraviolet absorber, and a flame retardant can be used.

【0029】次に、前記接着剤を用いてプリント配線板
を製造する方法について説明する。本発明の製造方法
は、基板上に、耐熱性樹脂微粉末をマトリックスとなる
耐熱性樹脂中に分散させて得られる前記接着剤を、ロー
ルコーターなどにより塗布し、乾燥硬化して、接着剤層
を形成する。この接着剤層の厚さは通常2〜40μm程度
であるが、この接着剤層を金属基板や多層配線板の層間
絶縁層を兼ねて使用する場合にはそれ以上に厚く塗布す
ることもできる。
Next, a method of manufacturing a printed wiring board using the adhesive will be described. The production method of the present invention is a method wherein the adhesive obtained by dispersing a heat-resistant resin fine powder in a heat-resistant resin serving as a matrix on a substrate is applied by a roll coater or the like, and dried and cured to form an adhesive layer. To form The thickness of the adhesive layer is usually about 2 to 40 μm. However, when the adhesive layer is used also as an interlayer insulating layer of a metal substrate or a multilayer wiring board, it can be applied more thickly.

【0030】この塗布に当っては、耐熱性樹脂マトリッ
クスがエポキシ樹脂の場合は、コーティングローラとド
クターバーとの隙間を0.2 〜0.6mm 、搬送速度を0.1 〜
3.0m/分とすることが好ましい。この理由は、前記隙間
が0.6mm より広いと塗膜にムラが発生しやすく、0.2mm
より狭いと適切な膜厚を得難いからである。また、搬送
速度が0.1mm /分より遅いと量産性に欠け、3.0mm /分
より速いと膜厚が不均一となるからである。一方、耐熱
性樹脂マトリックスがアクリル基を有する樹脂もしくは
アクリル樹脂の場合も同様である。
In this application, when the heat-resistant resin matrix is epoxy resin, the gap between the coating roller and the doctor bar is 0.2 to 0.6 mm, and the conveying speed is 0.1 to 0.6.
Preferably it is 3.0 m / min. The reason is that if the gap is wider than 0.6 mm, the coating film tends to be uneven,
If the thickness is smaller, it is difficult to obtain an appropriate film thickness. On the other hand, if the conveying speed is lower than 0.1 mm / min, mass productivity is lacking, and if the conveying speed is higher than 3.0 mm / min, the film thickness becomes non-uniform. On the other hand, the same applies to the case where the heat-resistant resin matrix is a resin having an acrylic group or an acrylic resin.

【0031】本発明の製造方法で使用する上記基板とし
ては、例えばプラスチック基板,セラミック基板,金属
基板およびフィルム基板などを使用することができ、具
体的にはガラスエポキシ基板,ガラスポリイミド基板,
アルミナ基板,低温焼成セラミック基板,窒化アルミニ
ウム基板,アルミニウム基板,鉄基板およびポリイミド
フィルム基板などを使用することができる。そして、こ
れらの基板を用いて、片面配線板,両面スルーホール配
線板およびCu/ポリイミド多層配線板のような多層配線
板などを製作することができる。なお、上記接着剤その
ものを板状あるいはフィルム状プリプレグに成形して無
電解めっきを施すことのできる接着性を有する基体とす
ることもできる。
As the substrate used in the manufacturing method of the present invention, for example, a plastic substrate, a ceramic substrate, a metal substrate, a film substrate and the like can be used, and specifically, a glass epoxy substrate, a glass polyimide substrate,
Alumina substrates, low-temperature fired ceramic substrates, aluminum nitride substrates, aluminum substrates, iron substrates, polyimide film substrates, and the like can be used. By using these substrates, a single-sided wiring board, a double-sided through-hole wiring board, and a multilayer wiring board such as a Cu / polyimide multilayer wiring board can be manufactured. The adhesive itself can be formed into a plate-like or film-like prepreg to provide an adhesive base that can be subjected to electroless plating.

【0032】次いで、前記接着層の表面に分散している
耐熱性樹脂微粉末微粉末の少なくとも一部を、酸もしく
は酸化剤を用いて溶解除去する。この方法としては、前
記酸もしくは酸化剤の溶液を用いて、接着層を形成した
基板をその溶液中に浸漬するか、あるいは基板に酸もし
くは酸化剤溶液をスプレーするなどの手段によって実施
することができ、その結果接着層の表面を粗化すること
ができる。なお、この耐熱性樹脂微粉末フィラーの溶解
除去を効果的に行わせることを目的として、予め前記接
着層の表面部分を、例えば微粉研磨剤によるポリシング
や液体ホーニングを行うことにより軽く粗化することが
極めて有効である。
Next, at least a part of the heat-resistant resin fine powder dispersed on the surface of the adhesive layer is dissolved and removed using an acid or an oxidizing agent. As this method, it is possible to use a solution of the acid or the oxidizing agent, and immerse the substrate on which the adhesive layer is formed in the solution, or to spray the acid or the oxidizing agent solution on the substrate. As a result, the surface of the adhesive layer can be roughened. For the purpose of effectively dissolving and removing the heat-resistant resin fine powder filler, the surface portion of the adhesive layer is lightly roughened in advance by, for example, polishing with a fine abrasive or liquid honing. Is extremely effective.

【0033】接着剤を粗化する酸化剤としては、クロム
酸やクロム酸塩,過マンガン酸塩,オゾンなどがよい。
また、酸としては、塩酸や硫酸,有機酸などがよい。
As the oxidizing agent for roughening the adhesive, chromate, chromate, permanganate, ozone, and the like are preferable.
Further, as the acid, hydrochloric acid, sulfuric acid, organic acids and the like are preferable.

【0034】そしてその後、基板上の表面粗化された接
着層に無電解めっきを施して、所望のプリント配線板を
得る。この無電解めっきとしては、例えば無電解銅めっ
き,無電解ニッケルめっき,無電解スズめっき,無電解
金めっきおよび無電解銀めっきなどを挙げることがで
き、特に無電解銅めっき,無電解ニッケルめっきおよび
無電解金めっきのいずれか少なくとも1種であることが
好適である。なお、前記無電解めっきを施した上に更に
異なる種類の無電解めっきあるいは電気めっきを行った
り、ハンダをコートしたりすることもできる。
After that, the surface roughened adhesive layer on the substrate is subjected to electroless plating to obtain a desired printed wiring board. Examples of the electroless plating include electroless copper plating, electroless nickel plating, electroless tin plating, electroless gold plating, and electroless silver plating. It is preferable that at least one of electroless gold plating is used. It should be noted that, after the electroless plating is performed, a different type of electroless plating or electroplating may be performed, or solder may be coated.

【0035】なお、上述したような本発明の方法により
得られた配線板は、既知のプリント配線板について実施
されている種々の方法でも導体回路を形成することがで
き、例えば基板に無電解めっきを施してから回路をエッ
チングする方法や無電解めっきを施す際に直接回路を形
成する方法などを適用することができる。
The wiring board obtained by the method of the present invention as described above can be used to form a conductor circuit by any of various methods used for known printed wiring boards. And a method of directly forming a circuit when performing electroless plating.

【0036】次に、上述のようにして得られる本発明の
プリント配線板について説明する。本発明のプリント配
線板としては、例えば、図1(f),図3(f) に示すように
基板1上に接着剤層2を介してめっきレジスト3および
導体回路4を形成してなる片面プリント配線板、図2
(f),図4(f)に示すように基板1両面の接着剤層2とス
ルーホール5を介してめっきレジスト3および導体回路
4を形成してなる両面プリント配線板、および図5〜図
10に示すように第1導体層4を形成させた基板1′上
に、バイアホール7を有する層間絶縁層(接着剤層)
2′を介した導体回路(4,6,8,10)を多層形成させてな
るビルドアップ多層配線板において、
Next, the printed wiring board of the present invention obtained as described above will be described. As the printed wiring board of the present invention, for example, as shown in FIGS. 1 (f) and 3 (f), a single-sided printed circuit board is formed by forming a plating resist 3 and a conductive circuit 4 on a substrate 1 with an adhesive layer 2 interposed therebetween. Printed wiring board, Figure 2
(f), a double-sided printed wiring board formed by forming a plating resist 3 and a conductive circuit 4 through an adhesive layer 2 and a through hole 5 on both surfaces of a substrate 1 as shown in FIG.
As shown in FIG. 10, on the substrate 1 'on which the first conductor layer 4 is formed, an interlayer insulating layer having a via hole 7 (adhesive layer)
In a build-up multilayer wiring board in which conductor circuits (4, 6, 8, 10) via 2 'are formed in multiple layers,

【0037】上記接着剤が、いずれの場合も、酸あるい
は酸化剤に対して可溶性である硬化処理済の耐熱性樹脂
微粉末を、硬化処理が施された場合には酸あるいは酸化
物に対して難溶性となる特性を有する未硬化の耐熱性樹
脂マトリックス中に分散させてなるものであり、前記耐
熱性樹脂微粉末としてアミン系硬化剤で硬化されたエポ
キシ樹脂を用いることを特徴とし、前記耐熱性樹脂マト
リックスは、多官能性の、エポキシ樹脂,アクリル
基を有する樹脂およびアクリル樹脂から選ばれる少な
くとも1種の樹脂、もしくは前記,,の樹脂から
選ばれる少なくとも1種と2官能性の、エポキシ樹脂
およびアクリル樹脂から選ばれる少なくとも1種との
混合樹脂からなることが望ましい。なお、エポキシ樹脂
の場合は、イミダゾール系硬化剤で硬化させることが有
利である。
In any case, the adhesive is a cured heat-resistant resin fine powder that is soluble in an acid or an oxidizing agent, and an acid or an oxide when cured. Dispersed in an uncured heat-resistant resin matrix having the property of becoming hardly soluble, characterized in that an epoxy resin cured with an amine-based curing agent is used as the heat-resistant resin fine powder, The functional resin matrix is a polyfunctional epoxy resin, at least one resin selected from an epoxy resin, a resin having an acrylic group, and an acrylic resin, or a bifunctional epoxy resin having at least one selected from the above resins And a resin mixture with at least one selected from acrylic resins. In the case of an epoxy resin, it is advantageous to cure with an imidazole-based curing agent.

【0038】[0038]

【実施例】(実施例1) (1) ビスフェノールA型エポキシ樹脂(油化シェル製)
100 重量部をMEKで希釈し、硬化剤として鎖上脂肪族
ポリアミン(ジエチレントリアミン;住友化学製)を8
重量部配合した後、100 ℃で2時間乾燥硬化した。この
硬化させたエポキシ樹脂を粗粉砕し、その後、液体窒素
で凍結させながら、超音速ジェット粉砕機(日本ニュー
マチック工業製)を用いて微粉砕し、さらに風力分級機
(日本ドナルドソン製)を使用して分級して、平均粒径
1.7μmのエポキシ樹脂微粉末を得た。 (2) フェノールノボラック型エポキシ樹脂(油化シェル
製)60重量部、ビスフェノールA型エポキシ樹脂(油化
シェル製)40重量部およびイミダゾール系硬化剤(四国
化成製)5重量部をブチルセロソルブアセテートに溶解
し、この組成物の固形分100 重量部に対して、(1) で作
成した微粉末を50重量部の割合で混合して、その後3本
ロールで混練し、さらにブチルセロソルブアセテートを
添加して固形分濃度75%の接着剤溶液を作成した。この
溶液の粘度は、JIS−K7117に準じ、東京計器製デジ
タル粘度計を用い、20℃、60秒間測定したところ、回転
数6rpm で5.2 Pa・s 、60rpm で2.5 Pa・s であり、そ
のSVI値(チキソトロピック性)は2.0 であった。 (3) ガラスエポキシ樹脂基板1を研磨により粗化し、J
IS−B0601 Rmax =2〜3μmの粗面を形成後、前
記(2) で作成した感光性樹脂組成物の溶液をロールコー
ターを用いて塗布した。この時の塗布方法は、コーティ
ングロールとして、中高粘度用レジスト用コーティング
ロール(大日本スクリーン製)を用い、コーティングロ
ーラとドクターバーとの隙間を0.4mm 、コーティングロ
ーラとバックアップローラとの隙間を1.4mm および搬送
速度を400mm/s とした。そして、水平状態で20分放置し
た後、70℃で乾燥させて厚さ約50μmの接着剤層2を形
成した(図1(b),(c) 参照)。 (4) 前記(3) の基板1を、クロム酸(CrO3 )500g/l
水溶液からなる酸化剤に70℃で15分間浸漬して接着剤層
の表面を粗化してから、中和溶液(シプレイ社製、PN
−950 )に浸漬して水洗した。接着剤が粗化された基板
1にパラジウム触媒(シプレイ社製)を付与して接着剤
層2の表面を活性化させた(図1(d) 参照)。 (5) 前記基板1を窒素ガス雰囲気(10ppm 酸素)中で12
0 ℃で30分、触媒固定化の熱処理を行い、その後、感光
性のドライフィルムをラミネートし、露光した後、変成
クロロセンで現像し、めっきレジスト3(厚さ40μm )
を形成した(図1(e) 参照)。 (6) めっきレジスト3形成し終えた前記基板1を、表1
に示す組成の無電解銅めっき液に11時間浸漬して、めっ
き膜4の厚さ25μm の無電解銅めっきを施し、プリント
配線板を得た(図1(f) 参照)。
EXAMPLES (Example 1) (1) Bisphenol A type epoxy resin (made by Yuka Shell)
100 parts by weight were diluted with MEK, and a chain-chain aliphatic polyamine (diethylenetriamine; manufactured by Sumitomo Chemical) was added as a curing agent in 8 parts.
After mixing by weight, the mixture was dried and cured at 100 ° C. for 2 hours. The cured epoxy resin is roughly pulverized, and then finely pulverized using a supersonic jet pulverizer (manufactured by Nippon Pneumatic) while being frozen with liquid nitrogen, and further subjected to a wind classifier (manufactured by Nippon Donaldson). Use and classify the average particle size
An epoxy resin fine powder of 1.7 μm was obtained. (2) Dissolve 60 parts by weight of phenol novolak type epoxy resin (manufactured by Yuka Shell), 40 parts by weight of bisphenol A type epoxy resin (manufactured by Yuka Shell) and 5 parts by weight of imidazole-based curing agent (manufactured by Shikoku Kasei) in butyl cellosolve acetate Then, 50 parts by weight of the fine powder prepared in (1) was mixed with 100 parts by weight of the solid content of this composition, and then kneaded with three rolls, and butyl cellosolve acetate was added. An adhesive solution having a concentration of 75% was prepared. The viscosity of this solution was measured using a digital viscometer manufactured by Tokyo Keiki Co., Ltd. at 20 ° C. for 60 seconds in accordance with JIS-K7117. The viscosity was 5.2 Pa · s at 6 rpm and 2.5 Pa · s at 60 rpm. The value (thixotropic property) was 2.0. (3) The glass epoxy resin substrate 1 is roughened by polishing.
After forming a rough surface of IS-B0601 R max = 2 to 3 μm, the solution of the photosensitive resin composition prepared in the above (2) was applied using a roll coater. At this time, the coating method uses a resist coating roll for medium and high viscosity resist (manufactured by Dainippon Screen) as the coating roll, the gap between the coating roller and the doctor bar is 0.4 mm, and the gap between the coating roller and the backup roller is 1.4 mm. And the transport speed was 400 mm / s. Then, after standing for 20 minutes in a horizontal state, the adhesive layer 2 was dried at 70 ° C. to form an adhesive layer 2 having a thickness of about 50 μm (see FIGS. 1B and 1C). (4) 500 g / l of chromic acid (CrO 3 )
The surface of the adhesive layer was roughened by immersion in an oxidizing agent composed of an aqueous solution at 70 ° C. for 15 minutes, and then neutralized with a neutralizing solution (PN, manufactured by Shipley Co., Ltd.).
−950) and washed with water. The surface of the adhesive layer 2 was activated by applying a palladium catalyst (manufactured by Shipley) to the substrate 1 with the roughened adhesive (see FIG. 1 (d)). (5) The substrate 1 is placed in a nitrogen gas atmosphere (10 ppm oxygen) for 12 hours.
A heat treatment for immobilizing the catalyst is performed at 0 ° C. for 30 minutes. Then, a photosensitive dry film is laminated, exposed, developed with modified chlorocene, and plated resist 3 (40 μm thick)
Was formed (see FIG. 1 (e)). (6) The substrate 1 on which the plating resist 3 has been formed is placed in Table 1
The plating film 4 was immersed in an electroless copper plating solution having the composition shown in Table 1 for 11 hours, and subjected to electroless copper plating with a thickness of 25 μm to obtain a printed wiring board (see FIG. 1 (f)).

【0039】[0039]

【表1】 [Table 1]

【0040】(実施例2) (1) ビスフェノールF型エポキシ樹脂(油化シェル製)
100 重量部をMEKで希釈し、硬化剤として環状脂肪族
ポリアミン(メンセンジアミンRohm and Hase製)を20
重量部配合した後、100 ℃で1時間、150 で2時間乾燥
硬化した。この硬化させたエポキシ樹脂を粗粉砕し、そ
の後、液体窒素で凍結させながら、超音速ジェット粉砕
機(日本ニューマチック工業製)を用いて微粉砕して、
さらに風力分級機(日本ドナルドソン製)を使用して分
級し、平均粒径1.3 μmのエポキシ樹脂微粉末を得た。 (2) オルソクレゾールノボラック型エポキシ樹脂(油化
シェル製)100 重量部およびキュアゾール硬化剤(四国
化成製)5重量部を、ブチルセロソルブとジメチルホル
ムアミドの混合溶媒(比率6/4)に溶解して、この組
成物の固形分100 重量部に対して、(1) で作成した微粉
末を50重量部の割合で混合し、その後3本ロールで混練
し、さらにブチルセロソルブアセテートを添加して固形
分70%の接着剤溶液を得た。この溶液の粘度は、回転数
6rpm で4.2 Pa・s 、60rpm で2.7 Pa・s であり、その
SVI値(チキソトロピック性)は1.8 であった。 (3) ガラスエポキシ樹脂基板1両面を実施例1(3) と同
様に処理し、厚さ約45μmの接着剤層2を形成した(図
2(b),(c) 参照)。 (4) 次に、前記(3) の基板1を、ドリルにより削孔し、
この基板表面を研磨して、フィラーを露出させた後、6
N塩酸水溶液からなる酸に70℃で15分間浸漬して接着剤
層2の表面を粗化してから、中和溶液(シプレイ社製)
に浸漬して水洗した。そして、接着剤が粗化された基板
1にパラジウム触媒(シプレイ社製)を付与して接着剤
層2の表面を活性化させた(図2(d),(e) 参照)。 (5) 前記基板1を窒素ガス雰囲気(10ppm 酸素)中で12
0 ℃で30分、触媒固定化の熱処理を行い、その後、感光
性のドライフィルムをラミネートし、露光した後、変成
クロロセンで現像し、めっきレジスト3(厚さ40μm )
を形成した(図2(f) 参照)。 (6) めっきレジスト3形成し終えた前記基板1を、表1
に示す組成の無電解銅めっき液に11時間浸漬して、両面
にめっき膜4の厚さ30μm の無電解銅めっきを施し、導
体回路とスルーホールを形成し、両面プリント配線板を
得た(図2(f)参照)。
(Example 2) (1) Bisphenol F type epoxy resin (manufactured by Yuka Shell)
100 parts by weight were diluted with MEK, and a cycloaliphatic polyamine (mansendiamine Rohm and Hase) was added as a curing agent to 20 parts by weight.
After mixing by weight, the mixture was dried and cured at 100 ° C for 1 hour and at 150 ° C for 2 hours. The cured epoxy resin is roughly pulverized, and then finely pulverized using a supersonic jet pulverizer (manufactured by Nippon Pneumatic) while being frozen with liquid nitrogen.
Classification was further performed using an air classifier (manufactured by Donaldson Japan) to obtain an epoxy resin fine powder having an average particle size of 1.3 μm. (2) 100 parts by weight of orthocresol novolak type epoxy resin (manufactured by Yuka Shell) and 5 parts by weight of a curing agent (manufactured by Shikoku Chemicals) are dissolved in a mixed solvent of butyl cellosolve and dimethylformamide (ratio 6/4), 50 parts by weight of the fine powder prepared in (1) was mixed with 100 parts by weight of the solid content of this composition, then kneaded with three rolls, and further added with butyl cellosolve acetate to obtain a solid content of 70%. Was obtained. The viscosity of this solution was 4.2 Pa · s at 6 rpm and 2.7 Pa · s at 60 rpm, and its SVI value (thixotropic property) was 1.8. (3) Both surfaces of the glass epoxy resin substrate 1 were treated in the same manner as in Example 1 (3) to form an adhesive layer 2 having a thickness of about 45 μm (see FIGS. 2B and 2C). (4) Next, the substrate 1 of (3) is drilled with a drill,
After polishing the substrate surface to expose the filler, 6
The surface of the adhesive layer 2 is roughened by dipping in an acid composed of an N hydrochloric acid aqueous solution at 70 ° C. for 15 minutes, and then a neutralizing solution (manufactured by Shipley)
And washed with water. Then, the surface of the adhesive layer 2 was activated by applying a palladium catalyst (manufactured by Shipley Co., Ltd.) to the substrate 1 on which the adhesive was roughened (see FIGS. 2 (d) and 2 (e)). (5) The substrate 1 is placed in a nitrogen gas atmosphere (10 ppm oxygen) for 12 hours.
A heat treatment for immobilizing the catalyst is performed at 0 ° C. for 30 minutes. Then, a photosensitive dry film is laminated, exposed, developed with modified chlorocene, and plated resist 3 (40 μm thick)
Was formed (see FIG. 2 (f)). (6) The substrate 1 on which the plating resist 3 has been formed is placed in Table 1
11 hours in an electroless copper plating solution having the composition shown in (1), electroless copper plating with a thickness of 30 μm of the plating film 4 was performed on both surfaces to form conductor circuits and through holes, and a double-sided printed wiring board was obtained ( FIG. 2 (f)).

【0041】(実施例3) (1) フェノールノボラック型エポキシ樹脂(油化シェル
製)100 重量部をMEKで希釈し、硬化剤として脂肪芳
香族アミン(m−キシレンジアミン;昭和電工製)を15
重量部配合した後、120 ℃で3時間乾燥硬化した。この
硬化させたエポキシ樹脂を粗粉砕して、その後液体窒素
で凍結させながら、超音速ジェット粉砕機(日本ニュー
マチック工業製)を用いて微粉砕し、さらに風力分級機
(日本ドナルドソン製)を使用して分級し、平均粒径1.
8 μmのエポキシ樹脂微粉末を得た。 (2) 特殊官能性エポキシ樹脂(油化シェル製)80重量
部、ビスフェノールA型エポキシ樹脂(油化シェル製)
20重量部およびキュアゾール硬化剤(四国化成製)7重
量部をキシレンに溶解し、この組成物の固形分100 重量
部に対して、前記(1) で作成したエポキシ樹脂微粉末を
50重量部の割合で混合した後、3本ロールで混練し、さ
らにブチルセロソルブアセテートを添加して固形分濃度
80%の接着剤溶液を作成した。この溶液の粘度は、回転
数6rpm で5.8 Pa・s 、60rpmで2.0 Pa・s であり、そ
のSVI値は2.2 であった。 (3) この接着剤を用いて実施例1と同様にして、プリン
ト配線板を作成した。
Example 3 (1) 100 parts by weight of a phenol novolak type epoxy resin (manufactured by Yuka Shell) was diluted with MEK, and 15 parts of a fatty aromatic amine (m-xylene diamine; manufactured by Showa Denko) was used as a curing agent.
After mixing by weight, the mixture was dried and cured at 120 ° C. for 3 hours. The cured epoxy resin is roughly pulverized, and then finely pulverized using a supersonic jet pulverizer (manufactured by Nippon Pneumatic) while being frozen with liquid nitrogen, and further subjected to a wind classifier (manufactured by Nippon Donaldson). Classify using, average particle size 1.
An epoxy resin fine powder of 8 μm was obtained. (2) Special functional epoxy resin (made by Yuka Shell) 80 parts by weight, bisphenol A type epoxy resin (made by Yuka Shell)
20 parts by weight and 7 parts by weight of a curing agent (manufactured by Shikoku Chemicals) are dissolved in xylene, and the epoxy resin fine powder prepared in the above (1) is added to 100 parts by weight of the solid content of the composition.
After mixing at a ratio of 50 parts by weight, the mixture was kneaded with a three-roll mill, and butyl cellosolve acetate was added.
An 80% adhesive solution was made. The viscosity of this solution was 5.8 Pa · s at 6 rpm and 2.0 Pa · s at 60 rpm, and its SVI value was 2.2. (3) A printed wiring board was prepared in the same manner as in Example 1 using this adhesive.

【0042】(実施例4) (1) グリシジルアミン型エポキシ樹脂(油化シェル製)
110 重量部をMEKで希釈し、硬化剤として芳香族アミ
ン(m−キシレンジアミン;住友化学製)を15重量部配
合した後、80℃で2時間乾燥硬化した。この硬化させた
エポキシ樹脂を粗粉砕して、その後液体窒素で凍結させ
ながら、超音速ジェット粉砕機(日本ニューマチック工
業製)を用いて微粉砕し、さらに風力分級機(日本ドナ
ルドソン製)を使用して分級し、平均粒径1.8 μmのエ
ポキシ樹脂微粉末を得た。 (2) フェノールアラルキル型エポキシ樹脂(油化シェル
製)50重量部、ノボラック型多官能エポキシ樹脂(油化
シェル製)50重量部およびキュアゾール硬化剤(四国化
成製)5重量部を、ブチルセロソルブアセテートに溶解
し、この組成物の固形分100 重量部に対して、前記(1)
で得たエポキシ樹脂微粉末を50重量部の割合で混合した
後、3本ロールで混練し、さらにブチルセロソルブアセ
テートを添加して固形分濃度80%の接着剤溶液を得た。
この溶液の粘度は、回転数6rpmで5.8 Pa・s ,60rpm
で2.0 Pa・s であり、そのSVI値(チキソトロピック
性)は2.2 であった。 (3) 前記(2) で作成した接着剤溶液をロールコータ(大
日本スクリーン製)を使用して、予めシリコン等の離型
剤を塗布してあるポリエチレンフィルムに塗布して70℃
で1時間乾燥させ、フィルム状接着剤を作成した。 (4) 前記(3) で作成したフィルム状接着剤を銅箔が粘着
されていないガラスポリイミド基板1(東芝ケミカル
製)上に接着剤が塗布されている面を基板側にして、15
0 ℃、40kg/cm2 で200 分間加圧して接着剤層2を形成
した。 (5) 前記(4) で得られた基板1に実施例1の(3) 〜(6)
の工程を実施することによりプリント配線板を作成し
た。
Example 4 (1) Glycidylamine type epoxy resin (made by Yuka Shell)
110 parts by weight were diluted with MEK, and 15 parts by weight of an aromatic amine (m-xylene diamine; manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd.) was added as a curing agent, followed by drying and curing at 80 ° C. for 2 hours. The cured epoxy resin is roughly pulverized, and then finely pulverized using a supersonic jet pulverizer (manufactured by Nippon Pneumatic) while being frozen with liquid nitrogen, and further subjected to a wind classifier (manufactured by Nippon Donaldson). And classified to obtain a fine epoxy resin powder having an average particle size of 1.8 μm. (2) 50 parts by weight of phenol aralkyl type epoxy resin (manufactured by Yuka Shell), 50 parts by weight of novolak type polyfunctional epoxy resin (manufactured by Yuka Shell) and 5 parts by weight of a curing agent (manufactured by Shikoku Kasei) were added to butyl cellosolve acetate. Dissolved, based on 100 parts by weight of the solid content of the composition, (1)
The epoxy resin fine powder obtained in the above was mixed at a ratio of 50 parts by weight, kneaded with three rolls, and butyl cellosolve acetate was added to obtain an adhesive solution having a solid content of 80%.
The viscosity of this solution was 5.8 Pa · s at 60 rpm and 60 rpm.
Was 2.0 Pa · s, and its SVI value (thixotropic property) was 2.2. (3) Using a roll coater (manufactured by Dainippon Screen), apply the adhesive solution prepared in the above (2) to a polyethylene film on which a release agent such as silicon has been applied in advance, and apply 70 ° C.
For 1 hour to prepare a film adhesive. (4) The film-like adhesive prepared in the above (3) was applied to a glass polyimide substrate 1 (manufactured by Toshiba Chemical Co., Ltd.) to which copper foil was not adhered, with the surface on which the adhesive was applied facing the substrate,
The adhesive layer 2 was formed by pressing at 0 ° C. and 40 kg / cm 2 for 200 minutes. (5) The substrate 1 obtained in the above (4) is added to the substrates 1 of the first embodiment.
A printed wiring board was prepared by performing the above steps.

【0043】(実施例5) (1) 実施例1の(1) と同様の方法で作成されたエポキシ
樹脂粒子(平均粒径3.9 μm )200gを、5lのアセトン
中に分散させたエポキシ樹脂粒子懸濁液中へ、ヘンシェ
ルミキサー(三井三池化工機製)内で攪拌しながら、ア
セトン1lに対してエポキシ樹脂(三井石油化学製)を
30gの割合で溶解させたアセトン溶液中に実施例1の
(1) と同様の方法で作成されたエポキシ樹脂粒子(平均
粒径0.5 μm )300gを分散させた懸濁液を滴下すること
により、上記エポキシ樹脂粒子表面にエポキシ樹脂粉末
を付着せしめた後、上記アセトンを除去し、その後、15
0 ℃に加熱して、擬似粒子を作成した。この擬似粒子
は、平均粒径が約4.3 μm であり、約75重量%が、平均
粒径を中心として±2μmの範囲に存在していた。 (2) 前記(1) で調製した疑似粒子50重量部、フェノール
ノボラック型エポキシ樹脂(油化シェル製)60重量部、
ビスフェノールA型エポキシ樹脂(油化シェル製)40重
量部およびイミダゾール系硬化剤(四国化成製)5重量
部の混合物に、ブチルカルビトールを加えてホモディス
パー分散機で調整し、固形分濃度80%の接着剤溶液を作
成した。この溶液の粘度は、回転数6rpm で5.8 Pa・s
、60rpmで2.0 Pa・s であり、そのSVI値(チキソト
ロピック性)は2.2 であった。 (3) この接着剤を用いて実施例1と同様にして、プリン
ト配線板を作成した(図3参照)。
Example 5 (1) Epoxy resin particles obtained by dispersing 200 g of epoxy resin particles (average particle size: 3.9 μm) prepared in the same manner as (1) of Example 1 in 5 l of acetone While stirring the suspension in a Henschel mixer (manufactured by Mitsui Miike Kakoki), an epoxy resin (manufactured by Mitsui Petrochemical) was added to 1 liter of acetone.
Example 1 was dissolved in an acetone solution dissolved at a rate of 30 g.
After dropping a suspension in which 300 g of epoxy resin particles (average particle size 0.5 μm) prepared in the same manner as (1) was dispersed, the epoxy resin powder was adhered to the surface of the epoxy resin particles, The acetone is removed and then 15
Heating to 0 ° C. produced pseudo particles. The pseudo particles had an average particle size of about 4.3 μm, and about 75% by weight was in a range of ± 2 μm around the average particle size. (2) 50 parts by weight of the pseudo particles prepared in the above (1), 60 parts by weight of a phenol novolak type epoxy resin (manufactured by Yuka Shell),
To a mixture of 40 parts by weight of a bisphenol A type epoxy resin (manufactured by Yuka Shell) and 5 parts by weight of an imidazole-based curing agent (manufactured by Shikoku Chemicals), butyl carbitol was added, and the mixture was adjusted with a homodisper disperser. Was prepared. The viscosity of this solution was 5.8 Pa · s at 6 rpm.
, 60 Pa · s at 60 rpm, and its SVI value (thixotropic property) was 2.2. (3) A printed wiring board was prepared in the same manner as in Example 1 using this adhesive (see FIG. 3).

【0044】(実施例6) (1) 実施例1の(1) と同様の方法で作成されたエポキシ
樹脂粒子(平均粒径3.9 μm )を熱風乾燥機内に装入
し、180 ℃で3時間加熱処理して凝集結合させた。この
凝集結合させたエポキシ樹脂粒子を、アセトン中に分散
させ、ボールミルにて5時間解砕した後、風力分級機を
使用して分級し、凝集粒子を作成した。この凝集粒子
は、平均粒径が約3.5 μmであり、約68重量%が、平均
粒径を中心として±2μmの範囲に存在していた。 (2) 前記(1) で調製した凝集粒子50重量部、フェノール
ノボラック型エポキシ樹脂(油化シェル製)60重量部、
ビスフェノールA型エポキシ樹脂(油化シェル製)40重
量部およびイミダゾール系硬化剤(四国化成製)4重量
部の混合物に、ブチルカルビトールを加えてホモディス
パー分散機で調整し、固形分濃度80%の接着剤溶液を作
成した。この溶液の粘度は、回転数6rpm で5.8 Pa・s
、60rpmで2.0 Pa・s であり、そのSVI値(チキソト
ロピック性)は2.2 であった。 (3) この接着剤を用いて実施例2と同様にして、プリン
ト配線板を作成した(図4参照)。
Example 6 (1) Epoxy resin particles (average particle size: 3.9 μm) prepared in the same manner as in (1) of Example 1 were charged into a hot-air dryer, and were heated at 180 ° C. for 3 hours. Heat treatment was performed to cause cohesion. The cohesively bonded epoxy resin particles were dispersed in acetone, crushed in a ball mill for 5 hours, and then classified using an air classifier to prepare coagulated particles. The aggregated particles had an average particle size of about 3.5 μm, and about 68% by weight existed in a range of ± 2 μm around the average particle size. (2) 50 parts by weight of the aggregated particles prepared in the above (1), 60 parts by weight of a phenol novolak type epoxy resin (manufactured by Yuka Shell),
To a mixture of 40 parts by weight of a bisphenol A type epoxy resin (manufactured by Yuka Shell) and 4 parts by weight of an imidazole-based curing agent (manufactured by Shikoku Chemicals), butyl carbitol was added, and the mixture was adjusted with a homodisper disperser. Was prepared. The viscosity of this solution was 5.8 Pa · s at 6 rpm.
, 60 Pa · s at 60 rpm, and its SVI value (thixotropic property) was 2.2. (3) A printed wiring board was prepared using this adhesive in the same manner as in Example 2 (see FIG. 4).

【0045】(実施例7) (1) ガラスエポキシ銅張積層板(東芝ケミカル製)に感
光性ドライフィルム(デュポン製)をラミネートし、所
望の導体回路パターンが描画されたマスクフィルムを通
して紫外線露光させ画像を焼きつける。ついで、1,
1,1−トリクロロエタンで現像を行い、塩化第2銅エ
ッチング液を用いて非導体部の銅を除去した後、メチレ
ンクロリドでドライフィルムを剥離する。これにより、
複数の導体パターンからなる第一導体層4を有する配線
板1′を形成した(図5(a) 参照)。 (2) フェノールアラルキル型エポキシ樹脂の50%アクリ
ル化物100 重量部、ジアリルテレフタレート15重量部、
2-メチル- 1-〔4-(メチルチオ)フェニル〕-2- モルフ
ォリノプロパノン-1(チバ・ガイギー製)4重量部、イ
ミダゾール系硬化剤(四国化成製)4重量部および実施
例1と同様に作成された平均粒径3.9 μmと平均粒径0.
5 μmの2種類のエポキシ樹脂粒子、それぞれ10重量
部、25重量部からなる混合物に、ブチルカルビトールを
加えてホモディスパー分散機で調製し、次いで3本ロー
ラーで混練して固形分濃度80%の接着剤溶液を作成し
た。この溶液の粘度は、回転数6rpm で6.5 Pa・s 、60
rpm で2.9 Pa・s であり、そのSVI値(チキソトロピ
ック性)は2.2 であった。 (3) 前記(1) で作成した配線板1′上に前記(2) で作成
した感光性樹脂組成物の溶液をロールコーターを用いて
塗布し、水平状態で20分放置した後、70℃で乾燥させて
厚さ約50μm感光性樹脂絶縁層2′を形成した(図5
(b) 参照)。 (4) 前記(3) の処理を施した配線板1′に100 μmφの
黒円が印刷されたフォトマスクフィルムを密着させ、超
高圧水銀灯により500mj/cm2 で露光した。これを、1,
1,1−トリクロロエタンで超音波現像処理することに
より、配線板1′上に100 μmφのバイアホールとなる
開口7を形成した。前記配線板1′を超高圧水銀灯によ
り約3000mj/cm2で露光しさらに100 ℃で1時間、その後
150 ℃で10時間加熱処理することによりフォトマスクフ
ィルムに相当する寸法精度に優れた開口7を有する層間
絶縁層2′を形成した(図5(c) 参照)。 (5) 前記(4) で作成した配線板1を、クロム酸(CrO
3)500g/l水溶液からなる酸化剤に70℃,15分間浸漬し
て層間絶縁層2′の表面を粗化してから、中和溶液(シ
プレイ社製)に浸漬して水洗し、その後、常法によりス
ルーホール5を作成した。そして、この層間絶縁層2′
が粗化された基板1′にパラジウム触媒(プレイ社製)
を付与して絶縁層の表面を活性化させ、120 ℃,30分間
パラジウム触媒を固定するための加熱処理を行った(図
5(d),(e) 参照)。 (6) 次いで、配線板1′に感光性ドライフィルム(サン
ノプコ製)をラミネートし、導体パターンを露光した後
現像した(図5(e) 参照)。 (7) 表1に示す組成の無電解銅めっき液に11時間浸漬し
て、めっき膜6の厚さ25μm の無電解銅めっきを施し、
多層プリント配線板を作成した(図5(f) 参照)。
(Example 7) (1) A photosensitive dry film (manufactured by DuPont) is laminated on a glass epoxy copper-clad laminate (manufactured by Toshiba Chemical), and is exposed to ultraviolet light through a mask film on which a desired conductive circuit pattern is drawn. Burn the image. Then, 1,
After developing with 1,1-trichloroethane and removing copper in the non-conductor portion using a cupric chloride etching solution, the dry film is peeled off with methylene chloride. This allows
A wiring board 1 'having a first conductor layer 4 composed of a plurality of conductor patterns was formed (see FIG. 5A). (2) 100 parts by weight of a 50% acrylate of a phenol aralkyl type epoxy resin, 15 parts by weight of diallyl terephthalate,
4-Methyl-1- [4- (methylthio) phenyl] -2-morpholinopropanone-1 (manufactured by Ciba-Geigy) 4 parts by weight, imidazole-based curing agent (manufactured by Shikoku Chemicals) 4 parts by weight and the same as in Example 1. Average particle size of 3.9 μm and average particle size of 0.
Butyl carbitol was added to a mixture consisting of 10 parts by weight and 25 parts by weight of each of two types of epoxy resin particles of 5 μm, and the mixture was prepared with a homodisper disperser. Was prepared. The viscosity of this solution is 6.5 Pa · s at 60 rpm, 60
The rpm was 2.9 Pa · s, and its SVI value (thixotropic property) was 2.2. (3) The solution of the photosensitive resin composition prepared in the above (2) is applied on the wiring board 1 'prepared in the above (1) using a roll coater, and left in a horizontal state for 20 minutes. 5 to form a photosensitive resin insulating layer 2 'having a thickness of about 50 .mu.m.
(b)). (4) A photomask film on which a black circle having a diameter of 100 μm was printed was brought into close contact with the wiring board 1 ′ that had been subjected to the treatment of (3), and was exposed at 500 mj / cm 2 using an ultrahigh pressure mercury lamp. This is
An opening 7 serving as a 100 μmφ via hole was formed on the wiring board 1 ′ by ultrasonic development with 1,1-trichloroethane. The wiring board 1 'is exposed at about 3000 mj / cm 2 by an ultra-high pressure mercury lamp, and further exposed at 100 ° C. for 1 hour.
By performing a heat treatment at 150 ° C. for 10 hours, an interlayer insulating layer 2 ′ having an opening 7 having excellent dimensional accuracy corresponding to a photomask film was formed (see FIG. 5C). (5) The wiring board 1 prepared in (4) is replaced with chromic acid (CrO
3 ) The surface of the interlayer insulating layer 2 'is roughened by immersion in an oxidizing agent composed of a 500 g / l aqueous solution at 70 ° C for 15 minutes, then immersed in a neutralizing solution (manufactured by Shipley Co., Ltd.), washed with water, and then constantly washed. Through holes 5 were formed by the method. Then, the interlayer insulating layer 2 '
Palladium catalyst (made by Prey) on the roughened substrate 1 '
Was applied to activate the surface of the insulating layer, and heat treatment was performed for fixing the palladium catalyst at 120 ° C. for 30 minutes (see FIGS. 5 (d) and 5 (e)). (6) Next, a photosensitive dry film (manufactured by San Nopco) was laminated on the wiring board 1 ', and the conductor pattern was exposed and developed (see FIG. 5 (e)). (7) Immersion in an electroless copper plating solution having the composition shown in Table 1 for 11 hours to perform electroless copper plating with a plating film 6 having a thickness of 25 μm,
A multilayer printed wiring board was prepared (see FIG. 5 (f)).

【0046】(比較例1)基本的には実施例1と同じで
あるが、耐熱性樹脂微粉末として、ジシアン系硬化剤で
硬化させたエポキシ樹脂を使用してプリント配線板を作
成した。
(Comparative Example 1) A printed wiring board was prepared in the same manner as in Example 1, except that an epoxy resin cured with a dicyanic curing agent was used as a heat-resistant resin fine powder.

【0047】実施例1〜7、比較例1で得られたプリン
ト配線板の基板と銅めっき膜との密着強度をJIS-C-6481
の方法で測定したところ、ピール強度は表2に示す結果
となった。表2から明らかなように、比較例で使用した
ジシアン系硬化剤で硬化させたエポキシ樹脂は、酸や酸
化剤に対する溶解度が低いため、本発明のアミン系硬化
剤で硬化させたエポキシ樹脂の場合に比べて低いピール
強度を示した。
The adhesion strength between the substrate of the printed wiring board obtained in Examples 1 to 7 and Comparative Example 1 and the copper plating film was measured according to JIS-C-6481.
As a result, the peel strength was as shown in Table 2. As is clear from Table 2, the epoxy resin cured with the dicyan curing agent used in the comparative example has low solubility in acids and oxidizing agents. Showed a lower peel strength as compared with.

【0048】[0048]

【表2】 [Table 2]

【0049】(実施例8) (1) 実施例7と同様にして、ガラスエポキシ銅張積層板
に複数の導体パターンからなる第一導体層4を有する配
線板1′を形成した(図6(a) 参照)。 (2) 実施例1(1) と同様にして、平均粒径1.7 μmのエ
ポキシ樹脂微粉末を得た。 (3) クレゾールノボラック型エポキシ樹脂(油化シェル
製)の5%アクリル化物60重量部、ビスフェノールA型
エポキシ樹脂(油化シェル製、エピコート1001)40重量
部、ジアリルテレフタレート15重量部、2-メチル- 1-
〔4-(メチルチオ)フェニル〕-2-モルフォリノプロパ
ノン-1(チバ・ガイギー製)4重量部、イミダゾール系
硬化剤(四国化成製)4重量部および前記(2) で得られ
たエポキシ樹脂微粉末50重量部を混合した後、ブチルセ
ロソルブを添加しながらホモディスパー分散機で調製
し、次いで3本ローラーで混練して固形分濃度70%の感
光性の接着剤溶液を作成した。この溶液の粘度は、回転
数6rpm で5.0 Pa・s 、60rpmで2.5 Pa・s であり、そ
のSVI値(チキソトロピック性)は2.0 であった。 (4) 実施例7(3) 〜(7) と同様にして、配線層が4層
(4,6,8,10)のビルドアップ多層配線板を作成した(図
6参照)。
(Embodiment 8) (1) In the same manner as in Embodiment 7, a wiring board 1 'having a first conductor layer 4 composed of a plurality of conductor patterns was formed on a glass epoxy copper clad laminate (FIG. 6 ( a)). (2) In the same manner as in Example 1 (1), an epoxy resin fine powder having an average particle size of 1.7 μm was obtained. (3) 60 parts by weight of 5% acrylate of cresol novolak type epoxy resin (manufactured by Yuka Shell), 40 parts by weight of bisphenol A type epoxy resin (manufactured by Yuka Shell, Epicoat 1001), 15 parts by weight of diallyl terephthalate, 2-methyl -1-
4 parts by weight of [4- (methylthio) phenyl] -2-morpholinopropanone-1 (manufactured by Ciba-Geigy), 4 parts by weight of an imidazole-based curing agent (manufactured by Shikoku Chemicals), and the fine epoxy resin obtained in the above (2) After mixing 50 parts by weight of the powder, the mixture was prepared with a homodisper disperser while adding butyl cellosolve, and then kneaded with three rollers to prepare a photosensitive adhesive solution having a solid concentration of 70%. The viscosity of this solution was 5.0 Pa · s at 6 rpm and 2.5 Pa · s at 60 rpm, and its SVI value (thixotropic property) was 2.0. (4) In the same manner as in Examples 7 (3) to (7), a build-up multilayer wiring board having four wiring layers (4, 6, 8, 10) was produced (see FIG. 6).

【0050】(実施例9) (1) 実施例7と同様にして、ガラスエポキシ銅張積層板
に複数の導体パターンからなる第一導体層4を有する配
線板1′を形成した(図7(a) 参照)。 (2) ビスフェノールF型エポキシ樹脂(油化シェル製)
110 重量部をMEKで希釈し、硬化剤として環状脂肪族
ポリアミン(メンセンジアミン;住友化学製)を5重量
部配合した後、120 ℃で3時間乾燥硬化した。この硬化
させたエポキシ樹脂を粗粉砕して、液体窒素で凍結させ
ながら、超音速ジェット粉砕機(日本ニューマチック工
業製)を用いて微粉砕し、さらに風力分級機(日本ドナ
ルドソン製)を使用して分級し、平均粒径3.9 μmと0.
5 μmのエポキシ樹脂微粉末を得た。 (3) (2) の方法で作成された樹脂粒子(平均粒径3.9 μ
m)200gを、5lのアセトン中に分散させたエポキシ樹
脂粒子懸濁液中へ、ヘンシェルミキサー(三井三池化工
機製)を30gの割合で溶解させたアセトン溶液中に、
(1) と同様に作成された樹脂粒子(平均粒径0.5μm)3
00gを分散させた懸濁液を滴下することにより、上記エ
ポキシ樹脂粒子表面にエポキシ樹脂粉末を付着せしめた
後、上記アセトンを除去し、その後150 ℃に加熱して、
疑似粒子を作成した。この疑似粒子は、平均粒径が約4.
3 μmであり、約75重量%が、平均粒径を中心として±
2μmの範囲に存在していた。 (4) クレゾールノボラック型エポキシ樹脂(日本化薬
製)の75%アクリル化物50重量部、ビスフェノールA型
エポキシ樹脂(ダウケミカル製)50重量部、ジペンタエ
リスリトールヘキサアクレート25重量部、ベンジルアク
リルケタール(チバ・ガイギー製)5重量部、イミダゾ
ール系硬化剤(四国化成製)6重量部および前記(2) で
作成したエポキシ樹脂微粉末50重量部を混合した後、ブ
チルセロソルブを添加しながらホモディスパー攪拌機で
攪拌し、その後、3本ローラーで混練して、固形分濃度
70%の感光性の接着剤溶液を作成した。この溶液の粘度
は、回転数6rpm で5.2 Pa・s 、60rpm で2.6 Pa・s で
あり、そのSVI値(チキソトロピック性)は2.0 であ
った。 (5) 前記(1) で作成した配線板1′上に前記(4) で作成
した感光性樹脂組成物の溶液をロールコーターを用いて
塗布し水平状態で20分放置した後、70℃で乾燥させて厚
さ約45μm感光性樹脂層2′を形成した。 (6) 実施例7(4) 〜(6) と同様にして、配線層が4層
(4,6,8,10)のビルドアップ多層配線板を作成した(図
7参照)。
(Embodiment 9) (1) In the same manner as in Embodiment 7, a wiring board 1 'having a first conductor layer 4 composed of a plurality of conductor patterns was formed on a glass epoxy copper clad laminate (FIG. 7 ( a)). (2) Bisphenol F type epoxy resin (made by Yuka Shell)
110 parts by weight were diluted with MEK, and 5 parts by weight of a cycloaliphatic polyamine (mensendiamine; manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd.) was added as a curing agent, followed by drying and curing at 120 ° C. for 3 hours. The cured epoxy resin is coarsely crushed and finely crushed using a supersonic jet crusher (manufactured by Nippon Pneumatic Industries) while being frozen with liquid nitrogen, and then an air classifier (manufactured by Nippon Donaldson) is used. And classify it into an average particle size of 3.9 μm.
An epoxy resin fine powder of 5 μm was obtained. (3) Resin particles (average particle size 3.9 μm) prepared by the method of (2)
m) 200 g of an epoxy resin particle suspension dispersed in 5 l of acetone, and an acetone solution in which a Henschel mixer (manufactured by Mitsui Miike Kakoki Co., Ltd.) was dissolved at a ratio of 30 g,
Resin particles prepared as in (1) (average particle size 0.5 μm) 3
After dropping the suspension in which 00 g was dispersed, the epoxy resin powder was adhered to the surface of the epoxy resin particles, the acetone was removed, and then heated to 150 ° C.
A pseudo particle was created. These pseudo particles have an average particle size of about 4.
3 μm, and about 75% by weight is ±
It was in the range of 2 μm. (4) 50% by weight of 75% acrylate of cresol novolak type epoxy resin (Nippon Kayaku), 50 parts by weight of bisphenol A type epoxy resin (Dow Chemical), 25 parts by weight of dipentaerythritol hexaacrylate, benzyl acryl ketal After mixing 5 parts by weight (manufactured by Ciba-Geigy), 6 parts by weight of an imidazole-based curing agent (manufactured by Shikoku Chemicals) and 50 parts by weight of the epoxy resin fine powder prepared in the above (2), a homodisper stirrer is added while adding butyl cellosolve. And then knead with three rollers to obtain a solid content
A 70% photosensitive adhesive solution was made. The viscosity of this solution was 5.2 Pa · s at 6 rpm and 2.6 Pa · s at 60 rpm, and its SVI value (thixotropic property) was 2.0. (5) The solution of the photosensitive resin composition prepared in the above (4) is applied on the wiring board 1 'prepared in the above (1) using a roll coater and left in a horizontal state for 20 minutes. It was dried to form a photosensitive resin layer 2 'having a thickness of about 45 .mu.m. (6) Example 7 A build-up multilayer wiring board having four wiring layers (4, 6, 8, and 10) was prepared in the same manner as in (4) to (6) (see FIG. 7).

【0051】(実施例10) (1) 実施例7と同様にして、ガラスエポキシ銅張積層板
に複数の導体パターンからなる第一導体層4を有する配
線板1′を形成した(図8(a) 参照)。 (2) グリシジルアミン型エポキシ樹脂(油化シェル製)
110 重量部をMEKで希釈し、硬化剤として芳香族アミ
ン(m−キシレンジアミン;住友化学製)を5重量部配
合した後、120 ℃で3時間乾燥硬化した。この硬化させ
たエポキシ樹脂を粗粉砕して、液体窒素で凍結させなが
ら、超音速ジェット粉砕機(日本ニューマチック工業
製)を用いて微粉砕し、さらに風力分級機(日本ドナル
ドソン製)を使用して分級し、平均粒径3.9 μmのエポ
キシ樹脂微粉末を得た。 (3) 前記(2) の方法で作成された樹脂粒子(平均粒径3.
9μm)を熱風乾燥機内に装入し、180 ℃で3時間加熱
処理して凝集結合させた。この凝集結合させたエポキシ
樹脂粒子を、アセトン中に分散させ、ボールミルにて5
時間解砕した後、風力分級機を使用して分級し、凝集粒
子を作成した。この凝集粒子は、平均粒径が約3.5 μm
であり、約68重量%が、平均粒径を中心として±2μm
の範囲に存在していた。 (4) クレゾールノボラック型エポキシ樹脂(日本化薬
製)の50%アクリル化物40重量部、ビスフェノールA型
エポキシ樹脂(油化シェル製)60重量部、ジアクリルテ
レフタレート15重量部、2-ヒドロキシ-1,3−ビス(ヒド
ラジノカルボエチル)-5- イソプロピルヒドントイン
(味の素製)30重量部および前記(3) で作成したエポキ
シ樹脂微粉末60重量部を混合した後、ブチルセロソルブ
を添加しながらホモディスパー攪拌機で攪拌し、その
後、3本ローラーで混練して、固形分濃度60%の感光性
の接着剤溶液を作成した。 (5) 前記(1) で作成した配線板1′上に前記(4) で作成
した感光性樹脂組成物の溶液をロールコーターを用いて
塗布し水平状態で20分放置した後、70℃で乾燥させて厚
さ約45μm感光性樹脂層2′を形成した。 (6) 実施例7(4) 〜(6) と同様にして、配線層が4層
(4,6,8,10)のビルドアップ多層配線板を作成した(図
8参照)。
(Example 10) (1) In the same manner as in Example 7, a wiring board 1 'having a first conductor layer 4 composed of a plurality of conductor patterns was formed on a glass epoxy copper clad laminate (FIG. 8 ( a)). (2) Glycidylamine type epoxy resin (made by Yuka Shell)
110 parts by weight were diluted with MEK, and 5 parts by weight of an aromatic amine (m-xylenediamine; manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd.) was added as a curing agent, followed by drying and curing at 120 ° C. for 3 hours. The cured epoxy resin is coarsely crushed and finely crushed using a supersonic jet crusher (manufactured by Nippon Pneumatic Industries) while being frozen with liquid nitrogen, and then an air classifier (manufactured by Nippon Donaldson) is used. And classified to obtain an epoxy resin fine powder having an average particle size of 3.9 μm. (3) The resin particles (average particle size of 3.
9 μm) was placed in a hot-air drier and subjected to heat treatment at 180 ° C. for 3 hours for cohesive bonding. The cohesively bonded epoxy resin particles are dispersed in acetone, and are dispersed in a ball mill.
After pulverizing for an hour, the particles were classified using an air classifier to produce aggregated particles. The aggregated particles have an average particle size of about 3.5 μm
And about 68% by weight is ± 2 μm around the average particle size.
Existed in the range. (4) 40 parts by weight of a 50% acrylate of cresol novolak type epoxy resin (manufactured by Nippon Kayaku), 60 parts by weight of bisphenol A type epoxy resin (manufactured by Yuka Shell), 15 parts by weight of diacryl terephthalate, 2-hydroxy-1 After mixing 30 parts by weight of 3,3-bis (hydrazinocarboethyl) -5-isopropylhydontoin (manufactured by Ajinomoto) and 60 parts by weight of the epoxy resin fine powder prepared in the above (3), homogenization was conducted while adding butyl cellosolve. The mixture was stirred by a disper stirrer and kneaded with three rollers to prepare a photosensitive adhesive solution having a solid content of 60%. (5) The solution of the photosensitive resin composition prepared in the above (4) is applied on the wiring board 1 'prepared in the above (1) using a roll coater and left in a horizontal state for 20 minutes. It was dried to form a photosensitive resin layer 2 'having a thickness of about 45 .mu.m. (6) Example 7 In the same manner as in (4) to (6), a build-up multilayer wiring board having four wiring layers (4, 6, 8, 10) was prepared (see FIG. 8).

【0052】(実施例11) (1) 実施例7と同様にして、ガラスエポキシ銅張積層板
に複数の導体パターンからなる第一導体層4を有する配
線板1′を形成した(図9(a),(b) 参照)。 (2) グリシジルアミン型エポキシ樹脂(油化シェル製)
110 重量部をMEKで希釈し、硬化剤として芳香族アミ
ン(m−キシレンジアミン;住友化学製)を5重量部配
合した後、120 ℃で3時間乾燥硬化した。この硬化させ
たエポキシ樹脂を粗粉砕して、液体窒素で凍結させなが
ら、超音速ジェット粉砕機(日本ニューマチック工業
製)を用いて微粉砕し、さらに風力分級機(日本ドナル
ドソン製)を使用して分級し、平均粒径3.9 μm、0.5
μmのエポキシ樹脂微粉末を得た。 (3) フェノールアラルキル型エポキシ樹脂の80%アクリ
ル化物100 重量部、ジアリルテレフタレート15重量部、
2-メチル- 1-〔4-(メチルチオ)フェニル〕-2- モルフ
ォリノプロパノン-1(チバ・ガイギー製)4重量部、イ
ミダゾール系硬化剤(四国化成製)4重量部および前記
(2) で得られた平均粒径3.9 μm、0.5μmの2種類の
エポキシ樹脂微粉末をそれぞれ10重量部,25重量部を混
合した後、ブチルカルビトールを添加しながらホモディ
スパー分散機で調製し、次いで3本ローラーで混練して
固形分濃度80%の感光性の接着剤溶液を作成した。この
溶液の粘度は、回転数6rpm で5.8 Pa・s 、60rpm で2.
5 Pa・s であり、そのSVI値(チキソトロピック性)
は2.1 であった。 (4) 前記(1) の基板1′上に感光性の接着剤溶液を塗布
し、120 ℃,30 分加熱し乾燥させた。さらに、この基板
1′に100 μmφの黒円が印刷されたフォトマスクフィ
ルムを密着させ、超高圧水銀灯により500mj/cm2 で露光
した。これを、1,1,1−トリクロロエタンで超音波
現像処理することにより、配線板上に100 μmφのバイ
アホールとなる開口7を形成した。前記配線板を超高圧
水銀灯により約3000mj/cm2で露光しさらに100 ℃で1時
間、その後150 ℃で10時間加熱処理することによりフォ
トマスクフィルムに相当する寸法精度に優れた開口部7
を形成した(図9(c),(d) 参照)。 (5) 前記(1) で作成した配線板1′上に前記(3) で作成
した感光性樹脂組成物の溶液をロールコーターを用いて
塗布し水平状態で20分放置した後、70℃で乾燥させて厚
さ約50μm感光性樹脂層2′を形成した。次いで、前記
(4) と同様の処理(但し、黒円の径は85μm)により、
バイヤホール開口部7を形成した(図9(e),(f) 参
照)。 (6) 前記(5) で作成した配線板1′を、6N塩酸からな
る酸に70℃,15分間浸漬して層間絶縁層2′の表面を粗
化してから、中和溶液(シプレイ社製)に浸漬して水洗
した。この層間絶縁層2′が粗化された基板1′にパラ
ジウム触媒(シプレイ社製)を付与して絶縁層2′の表
面を活性化させ、120 ℃,30分間パラジウム触媒を固定
するための加熱処理を行い、その後表1に示す組成の無
電解銅めっき液に11時間浸漬して、めっき膜6の厚さ25
μm の無電解銅めっきを施した(図9(g),(h) 参照)。
(7) 前記(4) 〜(6) までの工程を2回繰り返し行うこと
により、配線層が4層のビルドアップ多層配線板を作成
した(図9参照)。
(Example 11) (1) In the same manner as in Example 7, a wiring board 1 'having a first conductor layer 4 composed of a plurality of conductor patterns was formed on a glass epoxy copper clad laminate (FIG. 9 ( a) and (b)). (2) Glycidylamine type epoxy resin (made by Yuka Shell)
110 parts by weight were diluted with MEK, and 5 parts by weight of an aromatic amine (m-xylenediamine; manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd.) was added as a curing agent, followed by drying and curing at 120 ° C. for 3 hours. The cured epoxy resin is coarsely crushed and finely crushed using a supersonic jet crusher (manufactured by Nippon Pneumatic Industries) while being frozen with liquid nitrogen, and then an air classifier (manufactured by Nippon Donaldson) is used. And classified, average particle size 3.9 μm, 0.5
A μm epoxy resin fine powder was obtained. (3) 100 parts by weight of 80% acrylate of phenol aralkyl type epoxy resin, 15 parts by weight of diallyl terephthalate,
2-methyl-1- [4- (methylthio) phenyl] -2-morpholinopropanone-1 (manufactured by Ciba-Geigy) 4 parts by weight, an imidazole-based curing agent (manufactured by Shikoku Chemicals) 4 parts by weight and the aforementioned
After mixing 10 parts by weight and 25 parts by weight of the two types of epoxy resin fine powder having an average particle size of 3.9 μm and 0.5 μm obtained in (2), respectively, the mixture is prepared with a homodisper disperser while adding butyl carbitol. Then, the mixture was kneaded with three rollers to prepare a photosensitive adhesive solution having a solid content concentration of 80%. The viscosity of this solution was 5.8 Pa · s at 6 rpm and 2.60 at 60 rpm.
5 Pa · s and its SVI value (thixotropic property)
Was 2.1. (4) A photosensitive adhesive solution was applied on the substrate 1 'of (1), and heated and dried at 120 ° C. for 30 minutes. Further, a photomask film on which a black circle having a diameter of 100 μm was printed was brought into close contact with the substrate 1 ′, and the substrate 1 ′ was exposed to light at 500 mj / cm 2 using an ultrahigh pressure mercury lamp. This was subjected to ultrasonic development with 1,1,1-trichloroethane to form an opening 7 serving as a 100 μmφ via hole on the wiring board. The above-mentioned wiring board is exposed at about 3000 mj / cm 2 by an ultra-high pressure mercury lamp, and is further subjected to a heat treatment at 100 ° C. for 1 hour and then at 150 ° C. for 10 hours.
(See FIGS. 9 (c) and 9 (d)). (5) The solution of the photosensitive resin composition prepared in (3) is applied on the wiring board 1 'prepared in (1) using a roll coater and left in a horizontal state for 20 minutes. It was dried to form a photosensitive resin layer 2 'having a thickness of about 50 μm. Then,
By the same process as (4) (however, the diameter of the black circle is 85 μm)
Via hole openings 7 were formed (see FIGS. 9 (e) and 9 (f)). (6) The wiring board 1 'prepared in (5) is immersed in an acid consisting of 6N hydrochloric acid at 70 ° C. for 15 minutes to roughen the surface of the interlayer insulating layer 2', and then neutralized with a neutralizing solution (manufactured by Shipley Co., Ltd.). ) And washed with water. The surface of the insulating layer 2 'is activated by applying a palladium catalyst (manufactured by Shipley Co., Ltd.) to the substrate 1' having the interlayer insulating layer 2 'roughened, and heating for fixing the palladium catalyst at 120 ° C. for 30 minutes. Treatment, and then immersed in an electroless copper plating solution having the composition shown in Table 1 for 11 hours to obtain a plating film 6 having a thickness of 25%.
Electroless copper plating of μm was applied (see FIGS. 9 (g) and 9 (h)).
(7) The steps (4) to (6) were repeated twice to produce a build-up multilayer wiring board having four wiring layers (see FIG. 9).

【0053】(実施例12) (1) グリシジルアミン型エポキシ樹脂(油化シェル製)
110 重量部をMEKで希釈し、硬化剤として芳香族アミ
ン(m−キシレンジアミン;住友化学製)を5重量部配
合した後、120 ℃で3時間乾燥硬化した。この硬化させ
たエポキシ樹脂を粗粉砕して、液体窒素で凍結させなが
ら、超音速ジェット粉砕機(日本ニューマチック工業
製)を用いて微粉砕し、さらに風力分級機(日本ドナル
ドソン製)を使用して分級し、平均粒径3.9 μm、0.5
μmのエポキシ樹脂微粉末を得た。 (2) フェノールアラルキル型エポキシ樹脂の50%アクリ
ル化物100 重量部、ジアリルテレフタレート15重量部、
2-メチル- 1-〔4-(メチルチオ)フェニル〕-2- モルフ
ォリノプロパノン-1(チバ・ガイギー製)4重量部、イ
ミダゾール系硬化剤(四国化成製)4重量部および前記
(2) で得られた平均粒径3.9 μm、0.5μmの2種類の
エポキシ樹脂微粉末をそれぞれ10重量部,25重量部を混
合した後、ブチルカルビトールを添加しながらホモディ
スパー分散機で調製し、次いで3本ローラーで混練して
固形分濃度80%の感光性の接着剤溶液を作成した。この
溶液の粘度は、回転数6rpm で5.8 Pa・s 、60rpm で2.
5 Pa・s であり、そのSVI値(チキソトロピック性)
は2.1 であった。 (3) 次に、ガラスエポキシ両面銅張積層板の表面銅箔を
常法によりフォトエッチングして得られた配線板1′上
に、前記(3) で作成した接着剤溶液をロールコーターで
全面に塗布した後、100 ℃で1時間、さらに150 ℃で5
時間乾燥硬化して絶縁層2′を形成した(図5(a),(b)
参照)。 (4) この基板1′に100 μmφの黒円が印刷されたフォ
トマスクフィルムを密着させ、超高圧水銀灯により500m
j/cm2 で露光した。これを、1,1,1−トリクロロエ
タンで超音波現像処理することにより、配線板上に100
μmφのバイアホールとなる開口7を形成した。前記配
線板1′を超高圧水銀灯により約3000mj/cm2で露光しさ
らに100 ℃で1時間、その後150 ℃で10時間加熱処理す
ることによりフォトマスクフィルムに相当する寸法精度
に優れた開口部7を形成した(図5(c) 参照)。 (5) 次いで硫酸に10分間浸漬し、樹脂表面を粗化し、中
和後水洗した(図5(d) 参照)。 (6) 常法により、スルーホール5を作成した。 (7) 基板1′にパラジウム触媒(シプレイ社製)を付与
して絶縁層2′の表面を活性化させ、窒素ガス雰囲気
下、120 ℃で30分間加熱して触媒を固定化した。 (8) 次いで、配線板1′に感光性ドライフィルム(サン
ノプコ製)をラミネートし、導体パターンを露光した後
現像した(図5(e) 参照)。 (9) 表1に示す組成の無電解銅めっき液に11時間浸漬し
て、めっき膜6の厚さ25μm の無電解銅めっきを施し、
多層プリント配線板を作成した(図5(f) 参照)。
Example 12 (1) Glycidylamine type epoxy resin (manufactured by Yuka Shell)
110 parts by weight were diluted with MEK, and 5 parts by weight of an aromatic amine (m-xylenediamine; manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd.) was added as a curing agent, followed by drying and curing at 120 ° C. for 3 hours. The cured epoxy resin is coarsely crushed and finely crushed using a supersonic jet crusher (manufactured by Nippon Pneumatic Industries) while being frozen with liquid nitrogen, and then an air classifier (manufactured by Nippon Donaldson) is used. And classified, average particle size 3.9 μm, 0.5
A μm epoxy resin fine powder was obtained. (2) 100 parts by weight of a 50% acrylate of a phenol aralkyl type epoxy resin, 15 parts by weight of diallyl terephthalate,
2-methyl-1- [4- (methylthio) phenyl] -2-morpholinopropanone-1 (manufactured by Ciba-Geigy) 4 parts by weight, an imidazole-based curing agent (manufactured by Shikoku Chemicals) 4 parts by weight and the aforementioned
After mixing 10 parts by weight and 25 parts by weight of the two types of epoxy resin fine powder having an average particle size of 3.9 μm and 0.5 μm obtained in (2), respectively, the mixture is prepared with a homodisper disperser while adding butyl carbitol. Then, the mixture was kneaded with three rollers to prepare a photosensitive adhesive solution having a solid content concentration of 80%. The viscosity of this solution was 5.8 Pa · s at 6 rpm and 2.60 at 60 rpm.
5 Pa · s and its SVI value (thixotropic property)
Was 2.1. (3) Next, the adhesive solution prepared in the above (3) is entirely coated with a roll coater on the wiring board 1 'obtained by photoetching the surface copper foil of the glass epoxy double-sided copper-clad laminate by a conventional method. After coating at 100 ° C for 1 hour,
After drying and curing for an hour, an insulating layer 2 'was formed (FIGS. 5A and 5B).
reference). (4) A photomask film on which a black circle of 100 μmφ is printed is brought into close contact with the substrate 1 ′, and the photomask film is 500 m long using an ultra-high pressure mercury lamp.
Exposure was at j / cm 2 . This is subjected to ultrasonic development with 1,1,1-trichloroethane, so that 100
An opening 7 serving as a μmφ via hole was formed. The wiring board 1 'is exposed to light of about 3000 mj / cm 2 by an ultra-high pressure mercury lamp, and is further subjected to heat treatment at 100 ° C. for 1 hour and then at 150 ° C. for 10 hours. Was formed (see FIG. 5 (c)). (5) Next, the resin surface was immersed in sulfuric acid for 10 minutes to roughen the surface, neutralized and washed with water (see FIG. 5 (d)). (6) Through-hole 5 was prepared by an ordinary method. (7) A palladium catalyst (manufactured by Shipley Co., Ltd.) was applied to the substrate 1 'to activate the surface of the insulating layer 2', and the catalyst was fixed by heating at 120 ° C. for 30 minutes in a nitrogen gas atmosphere. (8) Next, a photosensitive dry film (manufactured by San Nopco) was laminated on the wiring board 1 ', and the conductor pattern was exposed and developed (see FIG. 5 (e)). (9) Immersion in an electroless copper plating solution having the composition shown in Table 1 for 11 hours to perform electroless copper plating with a plating film 6 having a thickness of 25 μm,
A multilayer printed wiring board was prepared (see FIG. 5 (f)).

【0054】(実施例13) (1) 実施例1の(1),(2) と同様の処理を行い、接着剤溶
液Aを得た。ただし、イミダゾール系硬化剤(四国化成
製)を混合しなかった。 (2) イミダゾール系硬化剤(四国化成製)5重量部を適
量のブチルセロソルブアセテートに混合し、接着剤溶液
Bを得た。 (3) 接着剤溶液Aと接着剤溶液Bを混合し、ホモジナイ
ザー攪拌機で混合した。得られた接着剤の特性は実施例
1と同様であった。 (4) この接着剤を用い、実施例1と同様の処理を行い、
プリント配線板を製造した。前記接着剤溶液A,Bは、
長期保存が可能である。
Example 13 (1) The same treatment as (1) and (2) in Example 1 was performed to obtain an adhesive solution A. However, an imidazole-based curing agent (manufactured by Shikoku Chemicals) was not mixed. (2) An adhesive solution B was obtained by mixing 5 parts by weight of an imidazole-based curing agent (manufactured by Shikoku Chemicals) with an appropriate amount of butyl cellosolve acetate. (3) The adhesive solution A and the adhesive solution B were mixed and mixed with a homogenizer stirrer. The properties of the obtained adhesive were the same as in Example 1. (4) The same treatment as in Example 1 was performed using this adhesive,
A printed wiring board was manufactured. The adhesive solutions A and B are
Long-term storage is possible.

【0055】(実施例14) (1) 本実施例は基本的には実施例1と同様であるが、特
殊多官能性エポキシ樹脂(油化シェル製)100 重量部と
イミダゾール系硬化剤(四国化成製)5重量部をブチル
セロソルブアセテートに溶解し、この組成物の固形分10
0 重量部に対して、実施例1の(1) で作成した微粉末を
50重量部の割合で混合して、その後3本ロールで混練
し、さらにブチルセロソルブアセテートを添加して固形
分濃度75wt%の接着剤溶液を作成した。この溶液の粘度
は、回転数6rpm で5.3 Pa・s 、60rpm で2.4 Pa・s で
あり、そのSVI値(チキソトロピック性)は2.2 であ
った。 (2) この接着剤を用い、実施例1と同様にしてプリント
配線板を作成した。
Example 14 (1) This example is basically the same as Example 1, except that 100 parts by weight of a special polyfunctional epoxy resin (manufactured by Yuka Shell) and an imidazole-based curing agent (Shikoku) 5 parts by weight) were dissolved in butyl cellosolve acetate, and the solid content of this composition was 10%.
0 parts by weight of the fine powder prepared in (1) of Example 1
The mixture was mixed at a ratio of 50 parts by weight, and then kneaded with three rolls, and butyl cellosolve acetate was added to prepare an adhesive solution having a solid content of 75% by weight. The viscosity of this solution was 5.3 Pa · s at 6 rpm and 2.4 Pa · s at 60 rpm, and its SVI value (thixotropic property) was 2.2. (2) Using this adhesive, a printed wiring board was prepared in the same manner as in Example 1.

【0056】(実施例15) (1) 本実施例は基本的には実施例8と同様であるが、オ
ルトクレゾール型エポキシ樹脂(日本化薬製)の70%ア
クリル化物 100重量部、ジアリルテレフタレート15重量
部、2-メチル- 1-〔4-(メチルチオ)フェニル〕-2- モ
ルフォリノプロパノン-1(チバ・ガイギー製)4重量
部、イミダゾール系硬化剤(四国化成製)2重量部、光
開始剤(チバガイギー製)5重量部および実施例8の
(2) で得られたエポキシ樹脂微粉末50重量部を混合した
後、ブチルセロソルブを添加しながらホモディスパー分
散機で調製し、次いで3本ローラーで混練して固形分濃
度70%の感光性の接着剤溶液を作成した。この溶液の粘
度は、回転数6rpm で5.1 Pa・s 、60rpm で2.4 Pa・s
であり、そのSVI値(チキソトロピック性)は2.1 で
あった。 (2) この接着剤を用い、実施例8と同様にして多層プリ
ント配線板を作成した。
Example 15 (1) This example is basically the same as Example 8, except that 100% by weight of 70% acrylate of ortho-cresol type epoxy resin (manufactured by Nippon Kayaku), diallyl terephthalate 15 parts by weight, 2 parts by weight of 2-methyl-1- [4- (methylthio) phenyl] -2-morpholinopropanone-1 (manufactured by Ciba-Geigy), 2 parts by weight of imidazole-based curing agent (manufactured by Shikoku Chemicals) 5 parts by weight of an initiator (manufactured by Ciba-Geigy) and of Example 8
After mixing 50 parts by weight of the epoxy resin fine powder obtained in (2), the mixture is prepared with a homodisper disperser while adding butyl cellosolve, and then kneaded with three rollers to obtain a photosensitive adhesive having a solid concentration of 70%. An agent solution was prepared. The viscosity of this solution is 5.1 Pa · s at 6 rpm and 2.4 Pa · s at 60 rpm.
The SVI value (thixotropic property) was 2.1. (2) Using this adhesive, a multilayer printed wiring board was prepared in the same manner as in Example 8.

【0057】(比較例2)基本的には実施例1と同じで
あるが、耐熱性樹脂微粉末として、ジシアン系硬化剤で
硬化させたエポキシ樹脂を使用してプリント配線板を作
成した。
(Comparative Example 2) Basically the same as in Example 1, except that an epoxy resin cured with a dicyanic curing agent was used as a heat-resistant resin fine powder to produce a printed wiring board.

【0058】実施例8〜12、比較例2で得られたプリン
ト配線板の基板と銅めっき膜との密着強度をJIS-C-6481
の方法で測定したところ、ピール強度は表3に示す結果
となった。表3から明らかなように、比較例で使用した
ジシアン系硬化剤で硬化させたエポキシ樹脂は、酸や酸
化剤に対する溶解度が低いため、本発明のアミン系硬化
剤で硬化させたエポキシ樹脂の場合に比べて低いピール
強度を示した。さらに、本発明の接着剤は、破壊靱性値
が大きく、ドリル加工性や打ち抜き加工性が優れている
ことが判った。
The adhesion strength between the substrate of the printed wiring board obtained in Examples 8 to 12 and Comparative Example 2 and the copper plating film was measured according to JIS-C-6481.
As a result, the peel strength was as shown in Table 3. As is clear from Table 3, the epoxy resin cured with the dicyan curing agent used in the comparative example has low solubility in acids and oxidizing agents. Showed a lower peel strength as compared with. Furthermore, it was found that the adhesive of the present invention has a large fracture toughness value and is excellent in drill workability and punching workability.

【0059】[0059]

【表3】 [Table 3]

【0060】[0060]

【発明の効果】以上説明したように、本発明の配線板用
接着剤とこの接着剤を用いた配線板の製造方法によれ
ば、接着剤の対無電解めっき性,耐熱性,電気特性,基
板と無電解めっき膜との密着性,加工性および塗布性に
極めて優れる配線板用接着剤およびこの接着剤を用いた
プリント配線板を容易に得ることができる。
As described above, according to the wiring board adhesive of the present invention and the method of manufacturing a wiring board using this adhesive, the adhesive has good electroless plating properties, heat resistance, electrical properties, An adhesive for a wiring board which is extremely excellent in adhesion, workability and applicability between a substrate and an electroless plating film and a printed wiring board using this adhesive can be easily obtained.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明のプリント配線板の一実施例を示す製造
工程図である。
FIG. 1 is a manufacturing process diagram showing one embodiment of a printed wiring board of the present invention.

【図2】本発明のプリント配線板の一実施例を示す他の
製造工程図である。
FIG. 2 is another manufacturing process diagram showing one embodiment of the printed wiring board of the present invention.

【図3】本発明のプリント配線板の一実施例を示す他の
製造工程図である。
FIG. 3 is another manufacturing process drawing showing one embodiment of the printed wiring board of the present invention.

【図4】本発明のプリント配線板の一実施例を示す他の
製造工程図である。
FIG. 4 is another manufacturing process diagram showing one embodiment of the printed wiring board of the present invention.

【図5】本発明のプリント配線板の一実施例を示す他の
製造工程図である。
FIG. 5 is another manufacturing process drawing showing one embodiment of the printed wiring board of the present invention.

【図6】本発明のプリント配線板の一実施例を示す他の
製造工程図である。
FIG. 6 is another manufacturing process drawing showing one embodiment of the printed wiring board of the present invention.

【図7】本発明のプリント配線板の一実施例を示す他の
製造工程図である。
FIG. 7 is another manufacturing process drawing showing one embodiment of the printed wiring board of the present invention.

【図8】本発明のプリント配線板の一実施例を示す他の
製造工程図である。
FIG. 8 is another manufacturing process drawing showing one embodiment of the printed wiring board of the present invention.

【図9】本発明のプリント配線板の一実施例を示す他の
製造工程図である。
FIG. 9 is another manufacturing process diagram showing one embodiment of the printed wiring board of the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1,1′ 基板(配線板) 2,2′ 接着剤層(絶縁層) 3 めっきレジスト 4,6,8,10 配線板(めっき膜,導体層) 5 スルーホール用孔 7 バイアホール用開口 1, 1 'substrate (wiring board) 2, 2' adhesive layer (insulating layer) 3 plating resist 4, 6, 8, 10 wiring board (plating film, conductor layer) 5 through hole hole 7 via hole opening

Claims (15)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】 酸あるいは酸化剤に対して可溶性である
硬化処理済の耐熱性樹脂微粉末を、硬化処理が施された
場合には酸あるいは酸化物に対して難溶性となる特性を
有する未硬化の耐熱性樹脂マトリックス中に分散させて
なる接着剤において、 耐熱性樹脂微粉末としてアミン系硬化剤で硬化されたエ
ポキシ樹脂を用いることを特徴とする配線板用接着剤。
1. A cured heat-resistant resin fine powder which is soluble in an acid or an oxidizing agent, and which is hardly soluble in an acid or an oxide when cured. An adhesive for a wiring board, wherein an epoxy resin cured with an amine-based curing agent is used as heat-resistant resin fine powder in an adhesive dispersed in a cured heat-resistant resin matrix.
【請求項2】 酸あるいは酸化剤に対して可溶性である
硬化処理済の耐熱性樹脂微粉末を、硬化処理が施された
場合には酸あるいは酸化物に対して難溶性となる特性を
有する未硬化の耐熱性樹脂マトリックス中に分散させて
なる接着剤において、 前記耐熱性樹脂微粉末としてアミン系硬化剤で硬化され
たエポキシ樹脂を用い、前記耐熱性樹脂マトリックスと
してイミダゾール系硬化剤で硬化されるエポキシ樹脂を
用いることを特徴とする配線板用接着剤。
2. A cured heat-resistant resin fine powder which is soluble in an acid or an oxidizing agent, and which is hardly soluble in an acid or an oxide when cured. In an adhesive dispersed in a cured heat-resistant resin matrix, using an epoxy resin cured with an amine-based curing agent as the heat-resistant resin fine powder, and cured with an imidazole-based curing agent as the heat-resistant resin matrix An adhesive for wiring boards, characterized by using an epoxy resin.
【請求項3】 酸あるいは酸化剤に対して可溶性である
硬化処理済の耐熱性樹脂微粉末を、硬化物が酸あるいは
酸化物に対して難溶性となる特性を有する未硬化の耐熱
性樹脂マトリックス中に分散させてなる接着剤におい
て、 前記耐熱性樹脂微粉末としてアミン系硬化剤で硬化され
たエポキシ樹脂を用い、前記耐熱性樹脂マトリックスと
してエポキシ樹脂,アクリル基を有する樹脂およびアク
リル樹脂から選ばれる少なくとも1種を用いることを特
徴とする配線板用接着剤。
3. A cured heat-resistant resin fine powder which is soluble in an acid or an oxidizing agent, and an uncured heat-resistant resin matrix having a property that a cured product is hardly soluble in an acid or an oxide. In the adhesive dispersed therein, an epoxy resin cured with an amine-based curing agent is used as the heat-resistant resin fine powder, and the heat-resistant resin matrix is selected from an epoxy resin, a resin having an acrylic group, and an acrylic resin. An adhesive for a wiring board, wherein at least one kind is used.
【請求項4】 上記接着剤のその粘度を回転粘度計で測
定した粘度が、回転数6rpm のとき5.1 ±2.0 Pa・s 、
回転数60rpmのとき2.4 ±1.0 Pa・s を示し、かつ回
転数6rpmの粘度と回転数60rpmの粘度との比が、
2.1 ±1.0 を示す請求項1〜3のいずれか1つに記載の
接着剤。
4. The viscosity of the adhesive measured by a rotational viscometer at a rotational speed of 6 rpm is 5.1 ± 2.0 Pa · s,
It shows 2.4 ± 1.0 Pa · s at a rotation speed of 60 rpm, and the ratio of the viscosity at a rotation speed of 6 rpm to the viscosity at a rotation speed of 60 rpm is:
The adhesive according to any one of claims 1 to 3, which exhibits 2.1 ± 1.0.
【請求項5】 硬化済の2官能性エポキシ樹脂微粉末
を、未硬化の多官能性エポキシ樹脂および2官能性エポ
キシ樹脂のなかから選ばれる少なくとも1種からなるマ
トリックス樹脂中に、分散させてなる混合物と、イミダ
ゾール系硬化剤とからなる請求項2に記載の接着剤。
5. A cured bifunctional epoxy resin fine powder is dispersed in a matrix resin comprising at least one selected from an uncured polyfunctional epoxy resin and a bifunctional epoxy resin. The adhesive according to claim 2, comprising a mixture and an imidazole-based curing agent.
【請求項6】 上記樹脂マトリックスは、固形分で、20
〜100 wt%の多官能性エポキシ樹脂と0〜80wt%の2官
能性エポキシ樹脂で構成し、2官能性エポキシ樹脂微粉
末の含有量を、マトリックスの合計固形分100 重量部に
対して10〜100 重量部とした請求項5に記載の接着剤。
6. The resin matrix according to claim 1, wherein the solid content is 20%.
100 wt% of a multifunctional epoxy resin and 0 to 80 wt% of a bifunctional epoxy resin, and the content of the bifunctional epoxy resin fine powder is 10 to 10 parts by weight based on 100 parts by weight of the total solid content of the matrix. The adhesive according to claim 5, wherein the amount is 100 parts by weight.
【請求項7】 硬化済の2官能性エポキシ樹脂を、未硬
化の多官能性エポキシ樹脂および2官能性エポキシ樹脂
のなかから選ばれる少なくとも1種からなる樹脂と、イ
ミダゾール系硬化剤の混合物からなるマトリックス中
に、分散させてなる請求項2に記載の接着剤。
7. The cured bifunctional epoxy resin comprises a mixture of at least one resin selected from an uncured polyfunctional epoxy resin and a bifunctional epoxy resin, and an imidazole-based curing agent. The adhesive according to claim 2, which is dispersed in a matrix.
【請求項8】 上記マトリックスは、固形分で、20〜10
0 wt%の多官能性エポキシ樹脂と0〜80wt%の2官能性
エポキシ樹脂とからなる耐熱性樹脂と、マトリックスの
合計固形分に対して2〜10wt%のイミダゾール系硬化剤
とで構成し、2官能性エポキシ樹脂微粉末の含有量を、
上記マトリックスの固形分100 重量部に対して10〜100
重量部とした請求項7に記載の接着剤。
8. The matrix according to claim 1, wherein the matrix is a solid content,
A heat-resistant resin comprising 0 wt% of a multifunctional epoxy resin and 0 to 80 wt% of a bifunctional epoxy resin, and 2 to 10 wt% of an imidazole-based curing agent based on the total solid content of the matrix, The content of the bifunctional epoxy resin fine powder is
10 to 100 based on 100 parts by weight of solid content of the matrix
The adhesive according to claim 7, which is in parts by weight.
【請求項9】 硬化済の2官能性エポキシ樹脂を、未硬
化の、多官能性エポキシ樹脂,多官能性のアクリル基を
有する樹脂および多官能性アクリル樹脂から選ばれる少
なくとも1種の樹脂、もしくは、多官能性エポキシ樹
脂,多官能性のアクリル基を有する樹脂および多官能性
アクリル樹脂から選ばれる少なくとも1種と2官能性エ
ポキシ樹脂および2官能性アクリル樹脂から選ばれる少
なくとも1種の混合樹脂中に、分散させてなる請求項3
に記載の接着剤。
9. The cured bifunctional epoxy resin may be an uncured polyfunctional epoxy resin, at least one resin selected from a polyfunctional acrylic group-containing resin and a polyfunctional acrylic resin, or A mixed resin of at least one selected from a polyfunctional epoxy resin, a resin having a polyfunctional acrylic group and a polyfunctional acrylic resin and at least one selected from a bifunctional epoxy resin and a bifunctional acrylic resin Claim 3 which is dispersed
The adhesive according to item 1.
【請求項10】 上記耐熱性樹脂マトリックスは、固形
分で、20〜100 wt%の多官能性エポキシ樹脂,多官能性
のアクリル基を有する樹脂および多官能性アクリル樹脂
から選ばれる少なくとも1種と、0〜80wt%以下の2官
能性エポキシ樹脂,および2官能性アクリル樹脂から選
ばれる少なくとも1種で構成し、2官能性エポキシ樹脂
微粉末の含有量を、マトリックスの合計固形分100 重量
部に対して10〜100 重量部とした請求項9に記載の接着
剤。
10. The heat-resistant resin matrix comprises at least one selected from a polyfunctional epoxy resin having a solid content of 20 to 100% by weight, a resin having a polyfunctional acrylic group, and a polyfunctional acrylic resin. , A bifunctional epoxy resin of 0 to 80% by weight or less, and a bifunctional acrylic resin, and the content of the bifunctional epoxy resin fine powder is adjusted to 100 parts by weight of the total solid content of the matrix. The adhesive according to claim 9, wherein the adhesive is used in an amount of 10 to 100 parts by weight.
【請求項11】 マトリックス中の耐熱性樹脂微粉末,
未硬化の耐熱性樹脂および硬化剤の固形分濃度が、55〜
85wt%である請求項1に記載の接着剤。
11. A heat-resistant resin fine powder in a matrix,
The solid content concentration of the uncured heat-resistant resin and curing agent is 55 to
The adhesive according to claim 1, which is 85 wt%.
【請求項12】 少なくとも一方の基板表面に接着剤層
を設けて、その上に導体回路を形成してなるプリント配
線板において、酸あるいは酸化剤に対して可溶性である
硬化処理済の耐熱性樹脂微粉末を、硬化処理が施された
場合には酸あるいは酸化物に対して難溶性となる特性を
有する未硬化の耐熱性樹脂マトリックス中に分散させて
なる接着剤として、前記耐熱性樹脂微粉末がアミン系硬
化剤で硬化されたエポキシ樹脂であるものを用いること
を特徴とするプリント配線板。
12. A cured heat-resistant resin which is soluble in acid or oxidizing agent in a printed wiring board having an adhesive layer provided on at least one substrate surface and a conductive circuit formed thereon. The heat-resistant resin fine powder, as an adhesive dispersed in an uncured heat-resistant resin matrix having the property of being hardly soluble in an acid or oxide when subjected to a curing treatment, Wherein the resin is an epoxy resin cured with an amine-based curing agent.
【請求項13】 前記耐熱性樹脂マトリックスは、イミ
ダゾール系硬化剤で硬化されるエポキシ樹脂である請求
項12に記載のプリント配線板。
13. The printed wiring board according to claim 12, wherein the heat-resistant resin matrix is an epoxy resin cured with an imidazole-based curing agent.
【請求項14】 前記耐熱性樹脂マトリックスは、エポ
キシ樹脂,アクリル基を有する樹脂およびアクリル樹脂
から選ばれる少なくとも1種の樹脂である請求項12に記
載のプリント配線板。
14. The printed wiring board according to claim 12, wherein the heat resistant resin matrix is at least one resin selected from an epoxy resin, a resin having an acrylic group, and an acrylic resin.
【請求項15】 請求項1〜11のいずれか一つに記載さ
れた接着剤を基板上に被成した後、次いで、これを乾燥
硬化して接着剤層とし、その後前記接着剤層の表面部分
に分散している熱硬化性微粉末の少なくとも一部を溶解
除去することにより、この接着剤層の表面を粗化し、さ
らにその後、粗化接着剤層上に無電解めっきを施すこと
を特徴とするプリント配線板の製造方法。
15. An adhesive according to claim 1, which is applied on a substrate, and then dried and cured to form an adhesive layer, and then the surface of the adhesive layer is formed. The surface of the adhesive layer is roughened by dissolving and removing at least a part of the thermosetting fine powder dispersed in the part, and thereafter, electroless plating is performed on the roughened adhesive layer. Manufacturing method of a printed wiring board.
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