JP3137483B2 - Multilayer printed wiring board and method of manufacturing the same - Google Patents

Multilayer printed wiring board and method of manufacturing the same

Info

Publication number
JP3137483B2
JP3137483B2 JP34768092A JP34768092A JP3137483B2 JP 3137483 B2 JP3137483 B2 JP 3137483B2 JP 34768092 A JP34768092 A JP 34768092A JP 34768092 A JP34768092 A JP 34768092A JP 3137483 B2 JP3137483 B2 JP 3137483B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
resin
particles
wiring board
printed wiring
weight
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Lifetime
Application number
JP34768092A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JPH05299837A (en
Inventor
元雄 浅井
千恵 大西
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Ibiden Co Ltd
Original Assignee
Ibiden Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Ibiden Co Ltd filed Critical Ibiden Co Ltd
Publication of JPH05299837A publication Critical patent/JPH05299837A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP3137483B2 publication Critical patent/JP3137483B2/en
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K2203/00Indexing scheme relating to apparatus or processes for manufacturing printed circuits covered by H05K3/00
    • H05K2203/07Treatments involving liquids, e.g. plating, rinsing
    • H05K2203/0756Uses of liquids, e.g. rinsing, coating, dissolving
    • H05K2203/0773Dissolving the filler without dissolving the matrix material; Dissolving the matrix material without dissolving the filler

Landscapes

  • Chemically Coating (AREA)
  • Production Of Multi-Layered Print Wiring Board (AREA)
  • Manufacturing Of Printed Wiring (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、多層プリント配線板お
よびその製造方法に関し、特に耐熱性樹脂からなる樹脂
絶縁層によって電気的に絶縁された複数の無電解めっき
膜からなる導体回路を有する多層プリント配線板および
その製造方法について提案する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a multilayer printed wiring board and a method of manufacturing the same, and more particularly, to a multilayer printed wiring board having a conductor circuit composed of a plurality of electroless plated films electrically insulated by a resin insulation layer composed of a heat-resistant resin. A printed wiring board and a method for manufacturing the same are proposed.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年、電子技術の進歩に伴い、大型コン
ピューターなどの電子機器においては高密度化あるいは
演算機能の高速化が進められている。その結果、最近で
は、プリント配線板についても上述の高密度化や高速演
算化に対応して、配線回路が多層に形成された多層プリ
ント配線板が脚光を浴びるようになってきた。
2. Description of the Related Art In recent years, with the advance of electronic technology, electronic devices such as large-sized computers have been increasing their density or operating functions. As a result, in recent years, multilayer printed wiring boards in which wiring circuits are formed in multiple layers have come into the spotlight in response to the above-described high density and high-speed operation of printed wiring boards.

【0003】このような多層プリント配線板としては、
従来、内装回路が形成された複数の回路板をプリプレグ
を絶縁層として積層しプレスした後、スルーホールによ
って各内装回路を接続し、導通させた形式のものが代表
的なものであった。
[0003] As such a multilayer printed wiring board,
Conventionally, a plurality of circuit boards on which an internal circuit is formed are laminated and pressed using a prepreg as an insulating layer, and then each of the internal circuits is connected through a through hole to conduct electricity.

【0004】しかしながら、このような形式の多層プリ
ント配線板は、複数の内装回路をスルーホールを介して
接続,導通させたものであるため、配線回路が複雑にな
りすぎて高密度化あるいは高速化を実現することが困難
であるという問題点があった。
However, in such a multilayer printed wiring board of this type, a plurality of internal circuits are connected and conducted through through holes, so that the wiring circuit becomes too complicated to increase the density or speed. Is difficult to realize.

【0005】このような問題点を克服することのできる
多層プリント配線板として、最近、導体回路と有機絶縁
膜とを交互にビルドアップした多層プリント配線板が開
発されている。たしかに、この多層プリント配線板は、
超高密度化と高速化に適合したものである。しかし、実
際には有機絶縁膜上に無電解めっき膜を信頼性よく形成
させることが困難であるという欠点があった。そのため
に、かかる多層プリント配線板においては、導体回路
を、蒸着やスパッタリングなどのPVD法もしくは前記
PVD法と無電解めっきとの併用法で形成していた。し
かしながら、このようなPVD法による導体回路形成方
法は、生産性に劣りコスト高になるという欠点があっ
た。
As a multilayer printed wiring board which can overcome such problems, a multilayer printed wiring board in which conductive circuits and organic insulating films are alternately built up has recently been developed. Certainly, this multilayer printed wiring board
It is suitable for ultra-high density and high speed. However, there is a drawback that it is actually difficult to form an electroless plating film on an organic insulating film with high reliability. Therefore, in such a multilayer printed wiring board, the conductor circuit is formed by a PVD method such as vapor deposition or sputtering, or a combination of the PVD method and electroless plating. However, such a method of forming a conductor circuit by the PVD method has a disadvantage that productivity is poor and cost is high.

【0006】これに対し、発明者らは、前述の如き従来
の多層プリント配線板の有する欠点を解消することを目
的として種々研究し、先に特開昭63−126297号公報およ
び特開平2−188992号公報により、多層プリント配線板
およびその製造方法にかかる各発明を提案した。
On the other hand, the inventors of the present invention have made various studies for the purpose of solving the above-mentioned drawbacks of the conventional multilayer printed wiring board, and have previously described JP-A-63-126297 and JP-A-2-126297. Japanese Patent Application No. 188992 proposed various inventions relating to a multilayer printed wiring board and a method for manufacturing the same.

【0007】すなわち、これらの先行提案技術は、無電
解めっきして得られる複数の導体回路を、耐熱性樹脂か
らなる樹脂絶縁層によって電気的に絶縁してなる多層プ
リント配線板において、前記樹脂絶縁層を、硬化処理す
ることにより酸あるいは酸化剤に対して難溶性となる特
性を有する未硬化の耐熱性樹脂液中に、酸あるいは酸化
剤に対して可溶性の予め硬化処理された耐熱性樹脂粒子
を分散させてなる接着剤で構成した多層プリント配線
板、および前記接着剤を基板に塗布した後、乾燥硬化し
て樹脂絶縁層を形成させ、この樹脂絶縁層の表面部分に
分散している上記樹脂粒子の少なくとも一部を溶解除去
して表面を粗化し、次いでその粗化表面に無電解めっき
を施して多層プリント配線板を製造する方法である。
That is, these prior arts provide a multilayer printed wiring board in which a plurality of conductor circuits obtained by electroless plating are electrically insulated by a resin insulating layer made of a heat-resistant resin. In the uncured heat-resistant resin liquid having the property of being hardly soluble in an acid or an oxidizing agent by curing the layer, heat-cured resin particles previously cured and soluble in the acid or the oxidizing agent. A multilayer printed wiring board composed of an adhesive obtained by dispersing the above, and after applying the adhesive to a substrate, drying and curing to form a resin insulating layer, and the resin insulating layer is dispersed on a surface portion of the resin insulating layer. This is a method of manufacturing a multilayer printed wiring board by dissolving and removing at least a part of resin particles to roughen the surface, and then performing electroless plating on the roughened surface.

【0008】上記先行技術の特徴は、マトリックスを形
成する耐熱性樹脂中に耐熱性樹脂粒子が均一に分散した
状態の樹脂絶縁層が、予め硬化処理された耐熱性樹脂粒
子を耐熱性樹脂液中に分散させてなる接着剤を、基板に
塗布し乾燥硬化させることにより形成されているもので
ある。すなわち、前記耐熱性樹脂粒子と耐熱性樹脂マト
リックスとは、酸あるいは酸化剤に対する溶解性に差異
があるため、酸あるいは酸化剤で処理した場合、接着剤
層の表面部分に分散している樹脂粒子のみが主として溶
解除去され、それ故に効果的なアンカー窪みが形成さ
れ、ひいては基板と無電解めっき膜との高い密着強度と
高い信頼性が得られる。
The feature of the prior art is that the resin insulating layer in a state where the heat-resistant resin particles are uniformly dispersed in the heat-resistant resin forming the matrix is formed by preliminarily curing the heat-resistant resin particles in the heat-resistant resin liquid. The adhesive is formed by applying an adhesive dispersed on a substrate and drying and curing the applied adhesive. That is, since the heat-resistant resin particles and the heat-resistant resin matrix have different solubility in an acid or an oxidizing agent, when treated with an acid or an oxidizing agent, the resin particles dispersed on the surface portion of the adhesive layer Only the main component is dissolved and removed, and an effective anchor depression is formed. As a result, high adhesion strength and high reliability between the substrate and the electroless plating film can be obtained.

【0009】[0009]

【発明が解決しようとする課題】ところで、上記接着剤
では、酸あるいは酸化剤に可溶性の耐熱性樹脂粒子とし
て、汎用的で容易に入手でき、しかも、耐薬品性,耐熱
性,電気特性,硬度に優れる樹脂であるエポキシ樹脂を
採用し使用していた。しかしながら、近年、プリント基
板の高密度化が急速に進んだこともあって、前記耐熱性
樹脂粒子としてエポキシ樹脂を使用して製造した多層プ
リント配線板を、温度,湿度の高い環境で使用すると、
導体回路である銅の溶解,析出が生じて表面抵抗値が低
下し、ひいてはパターン間がショートする問題のあるこ
とが判った。
By the way, in the above-mentioned adhesive, general-purpose and easily available as heat-resistant resin particles soluble in an acid or an oxidizing agent, and furthermore, chemical resistance, heat resistance, electric characteristics, hardness and the like. Epoxy resin, which is an excellent resin, was used. However, in recent years, the density of printed circuit boards has rapidly increased, and when a multilayer printed wiring board manufactured using an epoxy resin as the heat-resistant resin particles is used in an environment with high temperature and humidity,
It has been found that copper, which is a conductor circuit, dissolves and precipitates, lowering the surface resistance value, and eventually causing a short circuit between the patterns.

【0010】この原因は、酸あるいは酸化剤に溶解性の
あるエポキシ樹脂粒子を製造する際、イオン性化合物を
使用しているために、ナトリウムイオンや塩素イオンが
エポキシ樹脂粒子中に残留し、この残留イオンが、下記
の〜式に示すようなマイグレーション反応を引き起
こすからである(図5参照)。 Na +Cl +H2 O → NaOH + HCl … Cu +2NaOH → Cu(OH)+ 2Na… Cu +2HCl → CuCl + 2H … このように、従来の多層プリント配線板においては、使
用環境により信頼性が低下するという未解決の課題を残
していた。
[0010] The reason for this is that when an epoxy resin particle soluble in an acid or an oxidizing agent is produced, an ionic compound is used, so that sodium ions and chlorine ions remain in the epoxy resin particle. This is because the residual ions cause a migration reaction as shown in the following formulas (see FIG. 5). Na + + Cl + H 2 O → NaOH + HCl ... Cu + 2NaOH → Cu (OH) 2 + 2Na + ... Cu + 2HCl → CuCl 2 + 2H + As described above, the conventional multilayer printed wiring board is more reliable depending on the use environment. Unsolved problem that the performance is reduced.

【0011】本発明の目的は、上記未解決の課題を有利
に解決することにあり、特に、使用環境に左右されるこ
とのない、耐熱性樹脂粒子の成分を見出し、この新規に
知見した耐熱性樹脂粒子の採用によって前記樹脂絶縁層
を形成することにより、環境特性が優れ、もって信頼性
の高い多層プリント配線板を確実にかつ安価に提供する
技術を確立することにある。
SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to advantageously solve the above-mentioned unsolved problems. In particular, the present invention has found a component of heat-resistant resin particles which is not influenced by the use environment, An object of the present invention is to establish a technique for reliably and inexpensively providing a multilayer printed wiring board having excellent environmental characteristics and high reliability by forming the resin insulating layer by employing conductive resin particles.

【0012】[0012]

【課題を解決するための手段】本発明者らは、上掲の目
的実現のために研究を進めるうちに、酸や酸化剤に可溶
性の耐熱性樹脂粒子用エポキシ樹脂は、製造の際にイオ
ン性化合物を使用するために、樹脂中にNa,塩素イオン
などが残留し、また、エポキシ樹脂の架橋点間分子量が
1000以上であるために、前記イオンが樹脂中を動きやす
く、それ故に上記の如き反応を引き起こすことを突き止
めた。そこで、このようなイオン性化合物を使用しない
樹脂に関し鋭意研究した結果、酸あるいは酸化剤に溶解
する耐熱性樹脂粒子としてメラミン樹脂粒子およびまた
は尿素樹脂粒子(以下、「メラミン樹脂等粒子」と言
う)を使用することにより、上記マイグレーション反応
を引き起こすことがなく、超高密度で、耐薬品性や耐熱
性,電気特性,硬度に優れる、高信頼性の多層プリント
配線板が得られることを新規に見出し、本発明に想到し
た。
Means for Solving the Problems As the present inventors proceeded with research for realizing the above-mentioned object, the epoxy resin for heat-resistant resin particles soluble in an acid or an oxidizing agent became ionic at the time of production. Na, chloride ions, etc. remain in the resin, and the molecular weight between cross-linking points of the epoxy resin decreases
It has been determined that, due to being above 1000, the ions are mobile in the resin and therefore cause the reaction as described above. Therefore, as a result of intensive research on a resin not using such an ionic compound, melamine resin particles and / or urea resin particles (hereinafter, referred to as “melamine resin particles”) as heat-resistant resin particles soluble in an acid or an oxidizing agent. It has been newly found that the use of a high-reliability multilayer printed wiring board which does not cause the above-mentioned migration reaction, has an extremely high density, and is excellent in chemical resistance, heat resistance, electrical properties and hardness, can be obtained. The present invention has been made.

【0013】すなわち、本発明は、無電解めっきして得
られる複数層からなる導体回路を、耐熱性樹脂からなる
樹脂絶縁層によって電気的に絶縁してなる多層プリント
配線板において、前記樹脂絶縁層を、硬化処理を受ける
と酸あるいは酸化剤に対して難溶性となる未硬化樹脂マ
トリックス中に、メラミン樹脂等粒子を、樹脂マトリッ
クスの固形分100重量部に対して、10〜100重量
部を配合し、分散させた接着剤で構成し、かつこの樹脂
絶縁層の無電解めっき膜形成面の前記メラミン樹脂等粒
子を、酸あるいは酸化剤にて処理し溶解除去することに
より、アンカー形成用凹部としたことを特徴とする多層
プリント配線板である。
That is, the present invention relates to a multilayer printed wiring board in which a conductor circuit formed of a plurality of layers obtained by electroless plating is electrically insulated by a resin insulating layer made of a heat-resistant resin. In an uncured resin matrix which becomes hardly soluble in an acid or an oxidizing agent when subjected to a curing treatment, particles such as melamine resin are blended in an amount of 10 to 100 parts by weight based on 100 parts by weight of the solid content of the resin matrix. And composed of dispersed adhesive, and the particles of the melamine resin or the like on the surface of the resin insulating layer on which the electroless plating film is formed, are treated with an acid or an oxidizing agent to be dissolved and removed, so that the anchor-forming concave portion is formed. It is a multilayer printed wiring board characterized by doing.

【0014】本発明の多層プリント配線板製造方法は、
耐熱性樹脂からなる樹脂絶縁層によって電気的に絶縁さ
れた無電解めっき膜からなる複数の導体回路を有する多
層プリント配線板を製造する方法において、少なくとも
下記(a) 〜(c) 工程;すなわち、 (a)導体回路を形成した基板上に、硬化処理を受ける
と酸あるいは酸化剤に対して難溶性となる未硬化樹脂マ
トリックス中に、メラミン樹脂等粒子を、樹脂マトリッ
クスの固形分100重量部に対して、10〜100重量
部を配合して、分散させた1層以上の接着剤による樹脂
絶縁層を形成する工程、 (b)前記各樹脂絶縁層の表面部分に点在しているメラ
ミン樹脂等粒子部分のみを、酸あるいは酸化剤を使用し
て溶解除去し、無電解めっき膜を形成する側の面を粗化
する工程、 (c)粗化された前記樹脂絶縁層上に無電解めっきを施
すことにより、導体回路を形成する工程、を経ることを
特徴とする多層プリント配線板の製造方法である。
The method for manufacturing a multilayer printed wiring board according to the present invention comprises:
In a method of manufacturing a multilayer printed wiring board having a plurality of conductor circuits made of an electroless plating film electrically insulated by a resin insulating layer made of a heat-resistant resin, at least the following steps (a) to (c); (A) On an uncured resin matrix which becomes hardly soluble in an acid or an oxidizing agent when subjected to a curing treatment on a substrate on which a conductive circuit is formed, particles such as melamine resin are added to a solid content of 100 parts by weight of the resin matrix. A step of forming a resin insulating layer by one or more adhesives in which 10 to 100 parts by weight are mixed and dispersed, (b) melamine resin scattered on the surface of each resin insulating layer (C) electroless plating on the roughened resin insulating layer by dissolving and removing only the uniform particle portions using an acid or an oxidizing agent to roughen the surface on which the electroless plating film is formed; Apply By a method for manufacturing a multilayer printed wiring board, characterized in that through the process, to form a conductor circuit.

【0015】[0015]

【作用】さて、耐熱性樹脂粒子としてエポキシ樹脂を用
いた既知のプリント配線板用接着剤は、上述のようなマ
イグレーション反応により、表面抵抗値が低下する現象
が観察される。このことから、発明者らは、種々の樹脂
に対し、温度40℃, 湿度90%,電圧24Vの条件下で長期
劣化試験を行い、抵抗値の経時変化を調べた。その結
果、電気特性に優れる樹脂としては、ポリイミド樹脂,
エポキシ樹脂などが知られているが、なかでも酸化剤に
可溶で、かつ抵抗値の経時変化がない、すなわち上記マ
イグレーション反応を引き起こすことのない樹脂とし
て、メラミン樹脂等粒子が最も効果的な樹脂であること
を突き止めたのである。
The known adhesive for printed wiring boards using epoxy resin as the heat-resistant resin particles shows a phenomenon that the surface resistance decreases due to the above-mentioned migration reaction. From this, the inventors conducted a long-term deterioration test on various resins under the conditions of a temperature of 40 ° C., a humidity of 90% and a voltage of 24 V, and examined the change over time in the resistance value. As a result, polyimide resin,
Epoxy resins and the like are known, but among them, as a resin that is soluble in an oxidizing agent and has no change in resistance value with time, that is, a resin that does not cause the above-mentioned migration reaction, a resin such as a melamine resin is the most effective resin. It was found that it was.

【0016】すなわち、メラミン樹脂等粒子を耐熱性樹
脂粒子として採用することにより、使用環境とくに高
温,高湿度雰囲気で使用される場合であっても、マイグ
レーションを起こして、導体回路が溶け、表面抵抗値が
低下するようなことがなく、充分な導体の密着強度が得
られ、しかも、耐薬品性,耐熱性,電気特性,硬度に優
れる多層プリント配線板とすることができるようにな
る。
That is, by employing particles of melamine resin or the like as heat-resistant resin particles, even when used in a use environment, particularly in a high-temperature, high-humidity atmosphere, migration occurs, the conductor circuit is melted, and the surface resistance is reduced. Thus, a multilayer printed wiring board having sufficient adhesion strength of the conductor without lowering the value and having excellent chemical resistance, heat resistance, electrical characteristics and hardness can be obtained.

【0017】このようなアンカー形成用メラミン樹脂等
粒子としては、例えば、平均粒径が2μm以下のメラミ
ン樹脂等微粉末を凝集させて平均粒径2〜10μmの大き
さとした凝集粒子、平均粒径2〜10μmのメラミン樹脂
等粉末と平均粒径が2μm以下のメラミン樹脂等粉末と
の粒子混合物、または平均粒径2〜10μmのメラミン樹
脂等粉末の表面に平均粒径が2μm以下のメラミン樹脂
等微粉末もしくは無機微粉末のいずれか少なくとも1種
を付着させてなる疑似粒子のなかから選ばれる1種以上
のものであることが望ましい。
Examples of such melamine resin particles for forming an anchor include agglomerated particles obtained by aggregating fine powder such as melamine resin having an average particle size of 2 μm or less to an average particle size of 2 to 10 μm, A particle mixture of a powder of melamine resin such as 2 to 10 μm and a powder of melamine resin such as melamine having an average particle size of 2 μm or less, or a melamine resin having an average particle size of 2 μm or less on the surface of the powder of melamine resin such as melamine resin having an average particle size of 2 to 10 μm It is desirable that the particles are at least one selected from pseudo particles obtained by adhering at least one of a fine powder and an inorganic fine powder.

【0018】このアンカー形成用メラミン樹脂等粒子の
粒度は、平均粒径が10μm以下であることが好ましく、
特に5μm以下であることが好適である。その理由は、
平均粒径が10μmより大きいと、溶解除去して形成され
るアンカーの密度が小さくなり、かつ不均一になりやす
いため、密着強度とその信頼性が低下する。しかも、樹
脂絶縁層表面の凹凸が激しくなるので、導体の微細パタ
ーンが得られにくく、かつ部品などを実装する上でも好
ましくないからである。
The average particle diameter of the particles of the anchor-forming melamine resin or the like is preferably 10 μm or less.
It is particularly preferable that the thickness be 5 μm or less. The reason is,
If the average particle diameter is larger than 10 μm, the density of the anchor formed by dissolving and removing becomes small and tends to be non-uniform, so that the adhesion strength and its reliability are reduced. In addition, since the surface of the resin insulating layer becomes very uneven, it is difficult to obtain a fine pattern of the conductor, and this is not preferable in mounting components and the like.

【0019】また、このアンカー形成用メラミン樹脂等
粒子の配合量は、樹脂マトリックスの合計固形分100 重
量部に対して、10〜100 重量部の範囲が好ましい。この
理由は、この樹脂粒子の配合量が10重量部より少ない
と、溶解除去して形成されるアンカーが明確に形成され
ない。一方、樹脂粒子の配合量が100 重量部よりも多く
なると、樹脂絶縁層表面が多孔質になり、接着剤層と無
電解めっき膜の密着強度(ピール強度)が低下するから
である。
The amount of the melamine resin particles for forming an anchor is preferably in the range of 10 to 100 parts by weight based on 100 parts by weight of the total solid content of the resin matrix. The reason for this is that if the amount of the resin particles is less than 10 parts by weight, an anchor formed by dissolution and removal is not clearly formed. On the other hand, if the amount of the resin particles is more than 100 parts by weight, the surface of the resin insulating layer becomes porous, and the adhesion strength (peel strength) between the adhesive layer and the electroless plating film decreases.

【0020】本発明で耐熱性樹脂粒子として採用された
メラミン樹脂等粒子は、ホルムアルデヒドと反応できる
アミノ基を有する樹脂微粒子である。この理由は、これ
らの樹脂が、耐熱性に優れる、表面硬度が大きい、
機械的強度に優れる、電気絶縁性,特に耐アーク特
性に優れる、耐有機溶剤性がよい、酸または酸化剤
に対して溶解性が高いからである。
The particles of the melamine resin or the like employed as the heat-resistant resin particles in the present invention are resin fine particles having an amino group capable of reacting with formaldehyde. The reason is that these resins have excellent heat resistance, large surface hardness,
This is because it is excellent in mechanical strength, excellent in electric insulation, particularly excellent in arc resistance, good in organic solvent resistance, and highly soluble in acids or oxidizing agents.

【0021】これらの樹脂のうち、メラミン樹脂は、メ
ラミンとホルムアルデヒドとの付加縮合物であり、酸性
で反応すると白色で水に不溶の樹脂を生成し、アルカリ
性で反応すると透明で水に可溶の樹脂を生成する。すな
わち、メラミン樹脂は、(化1)に示すように、メラミ
ンとホルムアルデヒドを中性もしくはアルカリ性で反応
させてメチロールメラミンとし、このメチロールメラミ
ンを、酸または加熱により脱水,脱ホルマリンして縮合
させ、メチレン結合,エーテル結合を形成して巨大分子
化することにより得られる。
Among these resins, the melamine resin is an addition condensation product of melamine and formaldehyde, and produces a white and water-insoluble resin when reacted with an acid, and a transparent and water-soluble resin when reacted with an alkali. Produce resin. That is, as shown in (Chemical Formula 1), a melamine resin is obtained by reacting melamine with formaldehyde under neutral or alkaline conditions to obtain methylol melamine. It is obtained by forming a bond and an ether bond to form a macromolecule.

【0022】さらに、このメラミン樹脂は、成形材料と
しては、一般に、メラミンに対するホルムアルデヒドの
モル比が約1:2〜1:3の範囲にあり、特にこのモル
比が大きいものほど硬度の高い成形品をつくるのに適す
る。従って、上記モル比の範囲内にあるメラミンとホル
ムアルデヒドを、アンモニアなどを用いて中性ないし微
アルカリ性に保ち、80〜90℃で反応させ、得られたシロ
ップにレーヨン, パルプ布細片, アスベスト, 繊維など
の基材を加えて乾燥, 粗砕し、顔料, 離型剤,硬化剤な
どを加え微粉砕し成形材料とする。なお、硬化剤を加え
なくても加熱加圧で十分硬化するが、一般には、クエン
酸, フタル酸, 有機カルボン酸エステルなどの硬化剤を
用いる。
Further, the melamine resin is generally used as a molding material in a formaldehyde to melamine molar ratio of about 1: 2 to 1: 3. Suitable for making. Therefore, melamine and formaldehyde in the above molar ratio range are kept neutral or slightly alkaline with ammonia or the like, and reacted at 80 to 90 ° C., and the resulting syrup is rayon, pulp cloth strip, asbestos, A base material such as fiber is added, dried and crushed, and a pigment, a release agent, a curing agent and the like are added and finely crushed to obtain a molding material. It should be noted that curing is sufficiently performed by heating and pressing without adding a curing agent, but a curing agent such as citric acid, phthalic acid, or organic carboxylic acid ester is generally used.

【0023】[0023]

【化1】 Embedded image

【0024】尿素樹脂は、尿素とホルムアルデヒドの縮
重合により作られる熱硬化性樹脂である(化2参照)。
この尿素樹脂からなる微粒子の製法としては、例えば、
まず、尿素とホルマリンを約1:2のモル比で混ぜ、中
性またはアルカリ性で熱することにより、モノメチロー
ル尿素,ジメチロール尿素を経て、45〜50%の初期重合
物を含む液を調製し、その後、この初期重合物にパルプ
または木粉などの充填材を加えて混合し、さらに加熱し
て重合を進め、乾燥後粉砕して樹脂粒子とする。
The urea resin is a thermosetting resin produced by the condensation polymerization of urea and formaldehyde (see Chemical Formula 2).
As a method for producing the fine particles composed of the urea resin, for example,
First, urea and formalin are mixed at a molar ratio of about 1: 2, and heated by neutral or alkaline to prepare a liquid containing 45 to 50% of an initial polymer via monomethylol urea and dimethylol urea, Thereafter, a filler such as pulp or wood flour is added to and mixed with the initial polymerized product, and the mixture is further heated to proceed with polymerization, dried, and ground to obtain resin particles.

【0025】[0025]

【化2】 Embedded image

【0026】なお、エポキシ樹脂微粒子,例えば、ビス
フェノールA型エポキシ樹脂(油化シェル製)粒子は、
樹脂中に残留するナトリウムイオンや塩素イオンの濃度
が、いずれも5ppm程度であり、しかも、ジシアン系硬
化剤で硬化して酸や酸化剤に可溶としたものは、架橋点
間分子量が1900で、前記イオンが樹脂中で動きやすい。
それ故に、アンカー形成用耐熱性樹脂粒子としてエポキ
シ樹脂を使用すると、マイグレーション反応を引き起こ
すこととなる。一方、耐熱性樹脂マトリックスとして使
用される酸や酸化剤に不溶のエポキシ樹脂は、架橋点間
分子量が600程度で、ナトリウムイオンや塩素イオンが
樹脂中で固定されるので、マイグレーション反応を引き
起こしにくい。
The epoxy resin fine particles, for example, bisphenol A type epoxy resin (made by Yuka Shell) particles are:
The concentration of sodium ion and chlorine ion remaining in the resin is about 5 ppm, and the resin cured with a dicyanic curing agent and soluble in acid or oxidizing agent has a molecular weight between crosslinking points of 1900. In addition, the ions easily move in the resin.
Therefore, when an epoxy resin is used as the heat-resistant resin particles for forming the anchor, a migration reaction is caused. On the other hand, an epoxy resin insoluble in an acid or an oxidizing agent used as a heat-resistant resin matrix has a molecular weight between cross-linking points of about 600, and sodium ions and chloride ions are fixed in the resin, so that a migration reaction is hardly caused.

【0027】次に、上記メラミン樹脂等粒子を分散させ
る樹脂マトリックスとしては、耐熱性,電気絶縁性,化
学的安定性および接着性に優れ、かつ硬化処理すること
により酸や酸化剤に対して難溶性となる特性を有する未
硬化の樹脂であれば使用することができ、特に、多官能
性の、エポキシ樹脂,アクリル基を有する樹脂,
アクリル樹脂から選ばれる少なくとも1種の樹脂、もし
くは前記,,の樹脂から選ばれる少なくとも1種
と2官能性の、エポキシ樹脂,アクリル樹脂から選
ばれる少なくとも1種との混合樹脂からなることが望ま
しい。
Next, the resin matrix in which the particles such as the melamine resin are dispersed is excellent in heat resistance, electrical insulation, chemical stability and adhesiveness, and is hard to resist acid and oxidizing agent by curing. Any uncured resin having the property of being soluble can be used. In particular, a polyfunctional epoxy resin, a resin having an acrylic group,
It is desirable to use at least one resin selected from acrylic resins or a mixed resin of at least one selected from the above resins and at least one difunctional epoxy resin or acrylic resin.

【0028】なかでも、ビスフェノールA型、ビスフェ
ノールF型、フェノールノボラック型やクレゾールノボ
ラック型のエポキシ樹脂、ビスマレイドトリアジン樹
脂、ポリイミド樹脂およびフェノール樹脂などの熱硬化
性樹脂と、フェノールアラルキル型やフェノールノボラ
ック型のエポキシ樹脂をアクリル化した樹脂、アクリル
樹脂および感光性ポリイミド樹脂などの感光性樹脂が好
適に使用される。
Among them, thermosetting resins such as bisphenol A type, bisphenol F type, phenol novolak type and cresol novolak type epoxy resin, bismaleid triazine resin, polyimide resin and phenol resin, phenol aralkyl type and phenol novolak type A photosensitive resin such as a resin obtained by converting an epoxy resin into an acrylate, an acrylic resin, and a photosensitive polyimide resin is preferably used.

【0029】この上記樹脂マトリックス中の耐熱性樹脂
の混合割合は、多官能性の樹脂が固形分で、20wt%以
上、2官能性の樹脂が、80wt%未満の混合樹脂からなる
ことが好適である。この理由は、多官能性樹脂が固形分
で20wt%より少ない場合には、接着剤の硬度が低下し、
しかも耐薬品性が低下するからである。
The mixing ratio of the heat-resistant resin in the resin matrix is preferably such that the polyfunctional resin is a solid content and the mixed resin is 20 wt% or more and the bifunctional resin is less than 80 wt%. is there. The reason for this is that if the polyfunctional resin is less than 20 wt% solids, the hardness of the adhesive will decrease,
Moreover, chemical resistance is reduced.

【0030】また、この樹脂マトリックスの硬化剤とし
ては、DICY,アミン系硬化剤,酸無水物およびイミダゾ
ール系硬化剤などがよい。特に、エポキシ樹脂の場合
は、このマトリックスの合計固形分に対して2〜10wt%
のイミダゾール系硬化剤を含有させることが好ましい。
この理由は、10wt%を超えると硬化しすぎて脆くなり、
2wt%より少ないと硬化が不十分なためである。
As the curing agent for the resin matrix, DICY, amine curing agents, acid anhydrides and imidazole curing agents are preferable. Particularly, in the case of an epoxy resin, 2 to 10% by weight based on the total solid content of the matrix.
It is preferable to include an imidazole-based curing agent.
The reason is that if it exceeds 10 wt%, it will be too hard and brittle,
If the content is less than 2% by weight, the curing is insufficient.

【0031】なお、硬化済のメラミン樹脂等粒子を、未
硬化の多官能性エポキシ樹脂および2官能性エポキシ樹
脂のなかから選ばれる少なくとも1種の耐熱性樹脂マト
リックス中に分散させてなる混合物は、イミダゾール系
硬化剤とそれぞれ分離して保存し、使用直前にこの両者
を混合して使用することは、ポットライフ(可使用時
間)を長くする上で望ましい。
A mixture obtained by dispersing particles of a cured melamine resin or the like in at least one heat-resistant resin matrix selected from an uncured polyfunctional epoxy resin and a bifunctional epoxy resin is as follows: It is desirable to separately store the imidazole-based curing agent and store them, and to mix and use them immediately before use in order to increase the pot life (usable time).

【0032】次に、本発明の多層プリント配線板を製造
する方法について説明する。本発明の製造方法は、まず
導体回路を形成した基板上に、酸あるいは酸化剤に対し
て可溶性の耐熱性樹脂粒子を酸あるいは酸化剤に対して
難溶性である耐熱性樹脂マトリックス中に分散させて得
られる接着剤を、ロールコーターなどにより塗布し、乾
燥硬化して、樹脂絶縁層を形成することにより始まる。
Next, a method for manufacturing the multilayer printed wiring board of the present invention will be described. The production method of the present invention first disperses heat-resistant resin particles soluble in an acid or an oxidizing agent in a heat-resistant resin matrix that is hardly soluble in an acid or an oxidizing agent on a substrate on which a conductive circuit is formed. The process is started by applying the obtained adhesive by a roll coater or the like, drying and curing to form a resin insulating layer.

【0033】導体回路を形成した基板上に、上記樹脂絶
縁層を形成する方法としては、例えば硬化後の特性が酸
化剤に対して難溶性である未硬化の感光性樹脂中に、酸
化剤に対して可溶性の耐熱性樹脂粒子を分散させた接着
剤を塗布する方法、あるいは前記接着剤をフィルム状に
加工した樹脂フィルム,もしくはこの接着剤をガラスク
ロス等の繊維に含浸させたプリプレグを貼付する方法を
適用することができる。これの形成の方法としては、例
えばローラーコート法、ディップコート法、スプレーコ
ート法、スピナーコート法、カーテンコート法およびス
クリーン印刷法などの各種の手段を適用することができ
る。
As a method of forming the resin insulating layer on the substrate on which the conductor circuit is formed, for example, an uncured photosensitive resin whose properties after curing are hardly soluble in an oxidizing agent is added to the oxidizing agent. On the other hand, a method of applying an adhesive in which soluble heat-resistant resin particles are dispersed, or a resin film obtained by processing the adhesive into a film, or a prepreg in which fibers such as glass cloth are impregnated with the adhesive is attached. The method can be applied. As a method for forming this, various means such as a roller coating method, a dip coating method, a spray coating method, a spinner coating method, a curtain coating method, and a screen printing method can be applied.

【0034】上述した酸あるいは酸化剤に対して可溶性
のメラミン樹脂等粒子は、いずれも硬化処理された耐熱
性樹脂で構成される。このメラミン樹脂等粒子を構成す
る耐熱性樹脂を硬化処理されたものに限ったのは、硬化
処理していないものを用いると、マトリックスを形成す
る耐熱性樹脂液あるいはこのマトリックスを形成する耐
熱性樹脂を溶剤を用いて溶解した溶液中に添加した場
合、このメラミン樹脂等粒子を構成する耐熱性樹脂も該
耐熱性樹脂液あるいは溶液中に溶解してしまい、メラミ
ン樹脂等粒子としての機能を発揮させることが不可能に
なるからである。
The above-mentioned particles such as a melamine resin soluble in an acid or an oxidizing agent are all made of a cured heat-resistant resin. The heat-resistant resin constituting the particles such as the melamine resin is limited to the one subjected to the curing treatment. The use of the non-cured resin results in a heat-resistant resin liquid forming a matrix or a heat-resistant resin forming the matrix. When added to a solution dissolved using a solvent, the heat-resistant resin constituting the particles such as the melamine resin also dissolves in the heat-resistant resin liquid or solution, and exerts the function as the particles such as the melamine resin. It becomes impossible.

【0035】かかるメラミン樹脂等粒子は、例えば、樹
脂を熱硬化させてからジェットミルや凍結粉砕機などを
用いて粉砕したり、硬化処理する前にメラミン樹脂等溶
液を噴霧乾燥したのち硬化処理したり、あるいは未硬化
メラミン樹脂等エマルジョンに水溶液硬化剤を加えて攪
拌したりして得られる粒子を、風力分級機などにより分
級することによって製造される。
The particles of the melamine resin or the like are, for example, heat-cured and then pulverized by a jet mill or a freeze-pulverizer, or spray-dried and then cured by a solution of the melamine resin before the curing treatment. Particles obtained by adding an aqueous curing agent to an emulsion such as an uncured melamine resin or the like and stirring the resulting mixture are classified by an air classifier or the like.

【0036】なお、このメラミン樹脂等粒子を構成する
耐熱性樹脂を硬化処理する方法としては、加熱により硬
化させる方法あるいは触媒を添加して硬化させる方法な
どがあるが、なかでも加熱硬化させる方法が実用的であ
る。
As a method of curing the heat-resistant resin constituting the particles such as the melamine resin, there is a method of curing by heating or a method of curing by adding a catalyst. Among them, a method of curing by heating is preferred. It is practical.

【0037】前記メラミン樹脂等粒子のうち、メラミン
樹脂等粉末の表面にメラミン樹脂等微粉末もしくは無機
微粉末のいずれか少なくとも1種を付着させてなる擬似
粒子とする方法としては、例えば、メラミン樹脂等粉末
の表面にメラミン樹脂等微粉末もしくは無機微粉末をま
ぶした後、加熱して融着させるか、結合剤を介して接着
させる方法を適用することが有利である。
Among the particles of the melamine resin or the like, as a method of forming pseudo particles obtained by adhering at least one of a fine powder such as a melamine resin and an inorganic fine powder to the surface of the powder such as a melamine resin, for example, a melamine resin It is advantageous to apply a method in which a fine powder such as a melamine resin or an inorganic fine powder is sprinkled on the surface of such a powder and then heated and fused or bonded via a binder.

【0038】前記メラミン樹脂等粒子のうち、メラミン
樹脂等微粉末を凝集させた凝集粒子とする方法として
は、例えば、メラミン樹脂等微粉末を、熱風乾燥器など
で単に加熱するか、あるいは各種バインダーを添加、混
合して乾燥するなどして凝集させる。そして、その後、
ボールミル、超音波分散機などを用いて解砕し、さらに
風力分級機などにより分級することによって製造するこ
とが有利である。
Among the above-mentioned particles of the melamine resin or the like, as a method of forming fine particles of the melamine resin or the like into agglomerated particles, for example, the fine powder of the melamine resin or the like is simply heated by a hot air drier or the like, or various binders are used. Is added, mixed and dried to cause agglomeration. And then
It is advantageous to disintegrate using a ball mill, an ultrasonic dispersing machine or the like, and further classify by using an air classifier or the like.

【0039】このようにして得られるメラミン樹脂等粒
子の形状は、球形だけでなく各種の複雑な形状を有して
おり、そのためこれにより形成されるアンカーの形状も
それに応じて複雑形状になるため、ピール強度、プル強
度などのめっき膜の密着強度を向上させるのに有効に作
用する。
The shape of the particles of the melamine resin or the like obtained in this way has not only a spherical shape but also various complicated shapes, so that the shape of the anchor formed thereby becomes complicated accordingly. It works effectively to improve the adhesion strength of the plating film such as the peel strength and the pull strength.

【0040】上述の如くして製造されたメラミン樹脂等
粒子は、マトリックスを形成する耐熱性樹脂液あるいは
このマトリックスを形成する耐熱性樹脂を溶剤を用いて
溶解した溶液中に添加して、均一分散させる。
The particles of the melamine resin or the like produced as described above are added to a heat-resistant resin solution for forming a matrix or a solution in which the heat-resistant resin for forming the matrix is dissolved by using a solvent, and then uniformly dispersed. Let it.

【0041】なお、前記メラミン樹脂等粒子を添加する
耐熱性樹脂液としては、溶剤を含まない耐熱性樹脂をそ
のまま使用することもできるが、特に耐熱性樹脂を溶剤
に溶解してなる耐熱性樹脂液は、粘度調節が容易にでき
るため耐熱性粒子を均一に分散させることができ、しか
も基板に塗布し易いので有利に使用することができる。
前記耐熱性樹脂を溶解するのに使用する溶剤としては、
通常溶剤、例えばメチルエチルケトン,メチルセロソル
ブ,エチルセロソルブ,ブチルセロソルブ,ブチルセロ
ソルブアセテート,ブチルカルビトール,ブチルセルロ
ース,テトラリン,ジメチルホルムアミド,ノルマルメ
チルピロリドンなどを挙げることができる。
As the heat-resistant resin liquid to which the particles such as the melamine resin are added, a heat-resistant resin containing no solvent can be used as it is. Particularly, a heat-resistant resin obtained by dissolving a heat-resistant resin in a solvent is used. Since the viscosity of the liquid can be easily adjusted, heat-resistant particles can be uniformly dispersed, and the liquid can be easily applied to a substrate, so that the liquid can be advantageously used.
As a solvent used to dissolve the heat-resistant resin,
Usually, solvents such as methyl ethyl ketone, methyl cellosolve, ethyl cellosolve, butyl cellosolve, butyl cellosolve acetate, butyl carbitol, butyl cellulose, tetralin, dimethylformamide, normal methylpyrrolidone and the like can be mentioned.

【0042】また、上記耐熱性樹脂液に、例えば、フッ
素樹脂やポリイミド樹脂などの有機質充填剤、あるいは
シリカやアルミナ,酸化チタン,ジルコニアなどの無機
質微粉末からなる充填剤を適宜配合してもよい。その
他、着色剤(顔料),レベリング剤,消泡剤,紫外線吸
収剤および難燃化剤などの添加剤を用いることができ
る。
Further, an organic filler such as a fluororesin or a polyimide resin, or a filler composed of an inorganic fine powder such as silica, alumina, titanium oxide or zirconia may be appropriately blended into the heat-resistant resin liquid. . In addition, additives such as a coloring agent (pigment), a leveling agent, an antifoaming agent, an ultraviolet absorber, and a flame retardant can be used.

【0043】本発明における前記樹脂絶縁層の好適な厚
さは、約20〜 100μm程度であるが、特に高い絶縁性が
要求される場合にはそれ以上に厚くすることもできる。
The preferred thickness of the resin insulating layer in the present invention is about 20 to 100 μm, but it can be larger if particularly high insulation is required.

【0044】なお、前記樹脂絶縁層には、導体層間を接
続するためのバイアホールが設けられる。このバイアホ
ールの形成方法としては、マトリックスを構成する耐熱
性樹脂として感光性樹脂を使用する場合は、所定の箇所
を露光した後、現像、エッチングする方法が好適である
が、その他にレーザ加工によりバイアホールを形成する
方法を適用することもできる。一方、耐熱性樹脂として
熱硬化性樹脂を使用する場合は、所定の箇所をレーザや
ドリルを使用して加工する方法が好適である。前記レー
ザ加工によりバイアホールを形成する方法は、樹脂絶縁
層の表面を粗化する前あるいは後のいずれにおいても適
用することができる。
The resin insulating layer is provided with via holes for connecting conductor layers. As a method for forming the via hole, when a photosensitive resin is used as the heat-resistant resin constituting the matrix, a method of exposing a predetermined portion, and then developing and etching is preferable. A method of forming a via hole can also be applied. On the other hand, when a thermosetting resin is used as the heat-resistant resin, a method of processing a predetermined portion using a laser or a drill is preferable. The method of forming via holes by laser processing can be applied before or after roughening the surface of the resin insulating layer.

【0045】本発明に使用する基板としては、例えばプ
ラスチック基板、セラミック基板、金属基板、フィルム
基板などを使用することができ、具体的にはガラスエポ
キシ基板、ガラスポリイミド基板、アルミナ基板、低温
焼成セラミック基板、窒化アルミニウム基板、アルミニ
ウム基板、鉄基板、ポリイミドフィルム基板などを使用
することができる。
As the substrate used in the present invention, for example, a plastic substrate, a ceramic substrate, a metal substrate, a film substrate and the like can be used. Specifically, a glass epoxy substrate, a glass polyimide substrate, an alumina substrate, a low-temperature fired ceramic A substrate, an aluminum nitride substrate, an aluminum substrate, an iron substrate, a polyimide film substrate, or the like can be used.

【0046】次の工程は、前記樹脂絶縁層の表面部分に
点在している前記メラミン樹脂等粒子を酸や酸化剤を用
いて溶解除去する処理である。この工程における溶解除
去の方法としては、前記樹脂絶縁層が形成された基板
を、酸や酸化剤の溶液中に浸漬するか、あるいはこの接
着剤層の表面に酸や酸化剤の溶液をスプレーするなどの
手段によって実施することができ、その結果、接着剤層
の表面を粗化することができる。なお、前記メラミン樹
脂等粒子の溶解除去を効果的に行わせることを目的とし
て、予め前記接着剤層の表面部分を、例えば微粉研磨剤
を用いてポリシングや液体ホーニングを行うことにより
軽く粗化することが極めて有効である。
The next step is a treatment for dissolving and removing particles of the melamine resin or the like scattered on the surface of the resin insulating layer using an acid or an oxidizing agent. As a method of dissolving and removing in this step, the substrate on which the resin insulating layer is formed is immersed in a solution of an acid or an oxidizing agent, or a solution of an acid or an oxidizing agent is sprayed on the surface of the adhesive layer. For example, the surface of the adhesive layer can be roughened. For the purpose of effectively dissolving and removing particles such as the melamine resin, the surface portion of the adhesive layer is lightly roughened by performing polishing or liquid honing using, for example, a fine abrasive. It is extremely effective.

【0047】かかる樹脂絶縁層を粗化する酸化剤として
は、クロム酸やクロム酸塩,過マンガン酸塩,オゾンな
どがよい。また、酸としては、塩酸や硫酸,有機酸など
がよい。
As the oxidizing agent for roughening the resin insulating layer, chromate, chromate, permanganate, ozone, and the like are preferable. Further, as the acid, hydrochloric acid, sulfuric acid, organic acids and the like are preferable.

【0048】次に、本発明においては、前記樹脂絶縁層
の表面を粗化した後、その粗化表面に無電解めっきを施
して、導体回路を形成する工程である。この無電解めっ
きの方法としては、例えば無電解銅めっき、無電解ニッ
ケルめっき、無電解スズめっき、無電解金めっきおよび
無電解銀めっきなどを挙げることができ、特に無電解銅
めっき、無電解ニッケルめっきおよび無電解金めっきの
いずれか少なくとも1種であることが好適である。ま
た、前記無電解めっきを施した上にさらに異なる種類の
無電解めっきあるいは電気めっきを行ったり、はんだを
コートしたりすることもできる。
Next, in the present invention, after the surface of the resin insulating layer is roughened, the roughened surface is subjected to electroless plating to form a conductor circuit. Examples of the method of electroless plating include electroless copper plating, electroless nickel plating, electroless tin plating, electroless gold plating, and electroless silver plating. Particularly, electroless copper plating, electroless nickel It is preferable that at least one of plating and electroless gold plating is used. Further, after the electroless plating is performed, different types of electroless plating or electroplating can be performed, or a solder can be coated.

【0049】なお、本発明方法において上記の導体回路
は、既知のプリント配線板について実施されている他の
方法でも形成することができ、例えば基板に無電解めっ
きを施してから回路をエッチングする方法や無電解めっ
きを施す際に直接回路を形成する方法などを適用しても
よい。
In the method of the present invention, the above-described conductor circuit can be formed by other methods that are used for a known printed wiring board. For example, a method of performing electroless plating on a substrate and then etching the circuit. For example, a method of directly forming a circuit when performing electroless plating or the like may be applied.

【0050】[0050]

【実施例】(実施例1) (1) ガラスエポキシ銅張積層板(東芝ケミカル製)に感
光性ドライフィルム(デュポン製)をラミネートし、所
望の導体回路パターンが描画されたマスクフィルムを通
して紫外線露光させ画像を焼きつけ、ついで、1,1,
1−トリクロロエタンで現像を行い、塩化第2銅エッチ
ング液を用いて非導体部の銅を除去した後、塩化メチレ
ンで残った前記感光性ドライフィルムを剥離した。これ
により、複数の導体パターンからなる第一導体層4を有
する配線板1を得た(図1(a) 参照)。 (2) クレゾールノボラック型エポキシ樹脂(油化シェル
製)の60%アクリル化物60重量部、ビスフェノールA型
エポキシ樹脂(油化シェル製)40重量部、ジアリルテレ
フタレート15重量部、2−メチル−1−〔4−(メチル
チオ)フェニル〕−2−モルフォリノプロパノン−1
(チバ・ガイギー製)4重量部、イミダゾール系硬化剤
(四国化成製)4重量部および中空メラミン樹脂粒子
(ホーネン製:粒径2μm)50重量部を混合した後、ブ
チルセロソルブを添加しながら、ホモディスパー攪拌機
で攪拌した。その後、3本ローラーで混練して固形分濃
度70%の感光性接着剤溶液を調製した。この溶液の粘度
は、回転数6rpm で5.0 Pa・s、60rpm で2.5 Pa・s で
あり、そのSVI値は、2.0 であった。 (3) 上記(1) で得た配線板1上に、前記(2) で調製した
感光性樹脂組成物の接着剤溶液をロールコーターを用い
て塗布し、その後、水平状態で20分間放置した後、70℃
で乾燥させて厚さ約50μmの感光性樹脂絶縁層2を形成
した(図1(b),(c) 参照)。 (4) 前記(3) の処理を施した配線板1に100 μmφの黒
円が印刷されたフォトマスクフィルムを密着させ、超高
圧水銀灯により500mj/cm2 で露光した。これを、1,
1,1−トリクロロエタンで超音波現像処理することに
より、配線板1上に100 μmφのバイアホールとなる開
口を形成し、さらに、超高圧水銀灯により約3000mj/cm2
で露光し、100 ℃で1時間、その後、150 ℃で10時間加
熱処理することによりフォトマスクフィルムに相当する
寸法精度に優れた開口7を有する層間樹脂絶縁層2を形
成した(図1(d) 参照)。 (5) 前記(4) で作成した配線板1を、クロム酸500g/l水
溶液からなる酸化剤に70℃,15分間浸漬して層間樹脂絶
縁層2の表面を粗化してから、中和溶液(シプレイ社
製)に浸漬して水洗した。この粗化された層間樹脂絶縁
層2を有する基板1にパラジウム触媒(シプレイ社製)
を付与して樹脂絶縁層2の表面を活性化させ、下記に示
す組成の無電解銅めっき液に11時間浸漬して、めっき膜
6の厚さ25μm の無電解銅めっきを施した(図1(e) 参
照)。 (6) 前記(3) 〜(5) までの工程をさらに2回繰り返し行
うことにより、配線層が4層(4,6,8,10)のビルドアッ
プ多層配線板を製造した(図1(f) 参照)。
EXAMPLES (Example 1) (1) A photosensitive dry film (manufactured by DuPont) is laminated on a glass epoxy copper-clad laminate (manufactured by Toshiba Chemical) and exposed to ultraviolet light through a mask film on which a desired conductive circuit pattern is drawn. And burn the image, then 1,1,
After developing with 1-trichloroethane and removing the copper in the non-conductor portion using a cupric chloride etching solution, the remaining photosensitive dry film was removed with methylene chloride. Thus, the wiring board 1 having the first conductor layer 4 including a plurality of conductor patterns was obtained (see FIG. 1A). (2) 60 parts by weight of a 60% acrylated cresol novolak type epoxy resin (manufactured by Yuka Shell), 40 parts by weight of bisphenol A type epoxy resin (manufactured by Yuka Shell), 15 parts by weight of diallyl terephthalate, 2-methyl-1- [4- (methylthio) phenyl] -2-morpholinopropanone-1
After mixing 4 parts by weight (manufactured by Ciba-Geigy), 4 parts by weight of an imidazole-based curing agent (manufactured by Shikoku Chemicals) and 50 parts by weight of hollow melamine resin particles (manufactured by Honen: particle size 2 μm), homogenous solution was added while adding butyl cellosolve. The mixture was stirred with a disper stirrer. Thereafter, the mixture was kneaded with three rollers to prepare a photosensitive adhesive solution having a solid content of 70%. The viscosity of this solution was 5.0 Pa · s at 6 rpm and 2.5 Pa · s at 60 rpm, and its SVI value was 2.0. (3) The adhesive solution of the photosensitive resin composition prepared in (2) was applied on the wiring board 1 obtained in (1) using a roll coater, and then left in a horizontal state for 20 minutes. After, 70 ℃
To form a photosensitive resin insulating layer 2 having a thickness of about 50 μm (see FIGS. 1B and 1C). (4) A photomask film on which a black circle having a diameter of 100 μm was printed was brought into close contact with the wiring board 1 that had been subjected to the treatment of (3), and was exposed at 500 mj / cm 2 using an ultra-high pressure mercury lamp. This is
By performing ultrasonic development treatment with 1,1-trichloroethane, an opening serving as a 100 μmφ via hole was formed on the wiring board 1, and further, about 3000 mj / cm 2 by an ultra-high pressure mercury lamp.
And then heat-treated at 100 ° C. for 1 hour and then at 150 ° C. for 10 hours to form an interlayer resin insulating layer 2 having openings 7 having excellent dimensional accuracy equivalent to a photomask film (FIG. 1 (d)). )). (5) The wiring board 1 prepared in the above (4) is immersed in an oxidizing agent composed of a 500 g / l aqueous solution of chromic acid at 70 ° C. for 15 minutes to roughen the surface of the interlayer resin insulating layer 2 and then neutralized. (Made by Shipley) and washed with water. A palladium catalyst (manufactured by Shipley) is applied to the substrate 1 having the roughened interlayer resin insulating layer 2.
To activate the surface of the resin insulating layer 2, and immersed in an electroless copper plating solution having the following composition for 11 hours to perform electroless copper plating of the plating film 6 with a thickness of 25 μm (FIG. 1). (e).) (6) By repeating the steps (3) to (5) two more times, a build-up multilayer wiring board having four wiring layers (4, 6, 8, 10) was manufactured (FIG. 1 ( f)).

【0051】〔無電解銅めっき水溶液〕 硫酸銅 0.06/l ホルマリン 0.30/l 水酸化ナトリウム 0.35/l EDTA 0.35/l 添加剤 少々 めっき温度 70〜72℃ pH 12.4[Aqueous solution of electroless copper plating] Copper sulfate 0.06 / l Formalin 0.30 / l Sodium hydroxide 0.35 / l EDTA 0.35 / l Additive A little Plating temperature 70-72 ° C pH 12.4

【0052】(実施例2) (1) メラミン樹脂1275重量部と37%ホルマリン1366重量
部と水730 重量部を混合し、10%炭酸ナトリウムにてpH
=9.0 に調整し、90℃で60分間保持した後、メタノール
を109 重量部加えた。 (2) この樹脂液を噴霧乾燥法にて乾燥し、粉末状の樹脂
を得た。 (3) 前記(2) で得られた樹脂粉末と離型剤、硬化触媒を
ボールミルにて粉砕混合し、上記樹脂の混合粉末を得
た。 (4) 上記の混合粉を150 ℃に加熱した金型中に入れて、
250 kg/cm2の圧力をかけて60分間保持して成形体を得
た。なお、成形中は金型を開いてガス抜きを行った。 (5) 上記成形品はボールミルにて粉砕し、粒径0.5 μm
と5.5 μmの耐熱性樹脂粒子を得た。 (6) 次に、フェノールノボラック型エポキシ樹脂(油化
シェル製)60重量部、ビスフェノールA型エポキシ樹脂
(油化シェル製)40重量部およびイミダゾール系硬化剤
(四国化成製)5重量部をブチルセロソルブアセテート
に溶解して、樹脂マトリックス組成物を得た。そして、
この組成物の固形分100 重量部に対して、前記(5) で作
成した樹脂粒子を、粒径0.5 μmのものを15重量部、粒
径5.5 μmのものを30重量部の割合で混合して、その後
3本ロールで混練し、さらに、ブチルセロソルブアセテ
ートを添加して、固形分濃度75%の接着剤溶液を調製し
た。この溶液の粘度は、JIS−K7117に準じ、東京計
器製デジタル粘度計を用い、20℃、60秒間測定したとこ
ろ、回転数6rpm で5.2 Pa・s 、60rpm で2.6 Pa・sで
あり、そのSVI値(チキソトロピック性)は2.0 であ
った。 (7) 実施例1の(1) と同様に製造した基板1の樹脂面,
導体回路面を研磨により粗化して、JIS B0601 R max=
2〜3μmの粗面を形成した後、その基板1上に、前記
(6)で調製した樹脂組成物の接着剤溶液をロールコータ
ーを用いて塗布した。この時の塗布方法は、コーティン
グロールとして、中高粘度用レジスト用コーティングロ
ール(大日本スクリーン製)を用い、コーティングロー
ラとドクターバーとの隙間を0.4mm 、コーティングロー
ラとバックアップローラとの隙間を1.4mm および搬送速
度を400mm/s であった。その後、水平状態で20分放置し
た後、70℃で乾燥させて厚さ約50μmの樹脂絶縁層2を
形成した(図2(b),(c) 参照)。 (8) 樹脂絶縁層2を形成した基板1を、500g/lのクロム
酸水溶液からなる酸化剤に70℃で15分間浸漬して樹脂絶
縁層2の表面を粗化してから、中和溶液(シプレイ社
製)に浸漬して水洗した。さらに、レーザーでバイアホ
ール用の開口7を形成し(図2(d) 参照)、次いで、絶
縁層表面が粗化された基板1にパラジウム触媒(シプレ
イ社製)を付与して樹脂絶縁層2の表面を活性化させ
た。 (9) 次に、この基板1を窒素ガス雰囲気(10ppm 酸素)
中で120 ℃で30分間、触媒固定化のための熱処理を行
い、その後、感光性のドライフィルムをラミネートし、
露光した後、変成クロロセンで現像し、めっきレジスト
3(厚さ40μm )を形成した(図2(e) 参照)。 (10)めっきレジスト3を形成し終えた前記基板1を、表
1に示す組成の無電解銅めっき液に11時間浸漬して、め
っき膜6の厚さ25μm の無電解銅めっきを施した。(図
2(f) 参照)。 (11)さらに、上記(7) 〜(10)を2回繰り返すことによ
り、多層プリント配線板を製造した(図2(g) 参照)。
Example 2 (1) 1275 parts by weight of a melamine resin, 1366 parts by weight of 37% formalin, and 730 parts by weight of water were mixed, and the pH was adjusted with 10% sodium carbonate.
= 9.0 and maintained at 90 ° C. for 60 minutes, and then 109 parts by weight of methanol was added. (2) The resin liquid was dried by a spray drying method to obtain a powdery resin. (3) The resin powder obtained in the above (2), the release agent, and the curing catalyst were pulverized and mixed by a ball mill to obtain a mixed powder of the above resin. (4) Put the above mixed powder in a mold heated to 150 ° C,
A compact was obtained by applying a pressure of 250 kg / cm2 and holding for 60 minutes. During the molding, the mold was opened to release gas. (5) The above molded product is pulverized with a ball mill and the particle size is 0.5 μm
And 5.5 μm heat-resistant resin particles were obtained. (6) Next, 60 parts by weight of a phenol novolak type epoxy resin (manufactured by Yuka Shell), 40 parts by weight of a bisphenol A type epoxy resin (manufactured by Yuka Shell) and 5 parts by weight of an imidazole-based curing agent (manufactured by Shikoku Kasei) are butyl cellosolve. It was dissolved in acetate to obtain a resin matrix composition. And
With respect to 100 parts by weight of the solid content of this composition, the resin particles prepared in the above (5) were mixed at a ratio of 15 parts by weight with a particle size of 0.5 μm and 30 parts by weight with a particle size of 5.5 μm. Thereafter, the mixture was kneaded with three rolls, and butyl cellosolve acetate was further added to prepare an adhesive solution having a solid content concentration of 75%. The viscosity of this solution was measured using a digital viscometer manufactured by Tokyo Keiki Co., Ltd. at 20 ° C. for 60 seconds in accordance with JIS-K7117. The viscosity was 5.2 Pa · s at 6 rpm and 2.6 Pa · s at 60 rpm. The value (thixotropic property) was 2.0. (7) The resin surface of the substrate 1 manufactured in the same manner as (1) of the first embodiment,
Roughening the conductor circuit surface by polishing, JIS B0601 R max =
After forming a rough surface of 2-3 μm, on the substrate 1
The adhesive solution of the resin composition prepared in (6) was applied using a roll coater. At this time, the coating method uses a resist coating roll for medium and high viscosity resist (manufactured by Dainippon Screen) as the coating roll, the gap between the coating roller and the doctor bar is 0.4 mm, and the gap between the coating roller and the backup roller is 1.4 mm. And the transport speed was 400 mm / s. Then, after standing for 20 minutes in a horizontal state, it was dried at 70 ° C. to form a resin insulating layer 2 having a thickness of about 50 μm (see FIGS. 2B and 2C). (8) The substrate 1 on which the resin insulating layer 2 is formed is immersed in an oxidizing agent composed of a 500 g / l chromic acid aqueous solution at 70 ° C. for 15 minutes to roughen the surface of the resin insulating layer 2 and then neutralized. (Made by Shipley Co.) and washed with water. Further, an opening 7 for a via hole is formed by a laser (see FIG. 2 (d)), and then a palladium catalyst (manufactured by Shipley Co., Ltd.) is applied to the substrate 1 having a roughened insulating layer surface, and the resin insulating layer 2 is formed. Was activated. (9) Next, this substrate 1 is placed in a nitrogen gas atmosphere (10 ppm oxygen).
Heat treatment at 120 ° C for 30 minutes in the catalyst, then laminating a photosensitive dry film,
After exposure, it was developed with denatured chlorocene to form a plating resist 3 (40 μm thick) (see FIG. 2 (e)). (10) The substrate 1 on which the plating resist 3 had been formed was immersed in an electroless copper plating solution having the composition shown in Table 1 for 11 hours to perform electroless copper plating with a plating film 6 having a thickness of 25 μm. (See FIG. 2 (f)). (11) Further, the above (7) to (10) were repeated twice to produce a multilayer printed wiring board (see FIG. 2 (g)).

【0053】(実施例3) (1) フェノールノボラック型エポキシ樹脂(油化シェル
製)の60%アクリル化物60重量部、ビスフェノールA型
エポキシ樹脂(油化シェル製)40重量部、イミダゾール
系硬化剤(四国化成製)4重量部、ジアリルテレフタレ
ート15重量部および2−メチル−1−〔4−(メチルチ
オ)フェニル〕−2モルフォリノプロパノン−1(チバ
ガイギー製)4重量部をブチルセロソルブに溶解し、こ
の組成物の固形分100 重量部に対して、ボールミルで粉
砕したメラミン樹脂粒子(ホーネン製)粒径0.5 μmの
ものを15重量部、粒径5.5 μmのものを30重量部の割合
で混合し、3本ロールで混練した後、さらにブチルセロ
ソルブを添加して固形分濃度55%の接着剤溶液を調製し
た。この溶液の粘度は、回転数6rpm で2.6 Pa・s、60r
pm で1.0 Pa・s であり、そのSVI値(チキソトロピ
ック性)は2.6 であった。 (2) この接着剤をロールコータでシリコンコーティング
が施してあるポリエチレンフィルム12に塗布し、120 ℃
で30分加熱乾燥させ、接着剤フィルムを作成した(図3
(a),(b) 参照)。 (3) このフィルムを導体回路が形成された絶縁板(基板
1)に重ね、ポリエチレンフィルム12を剥がした後、加
熱プレスして樹脂絶縁層2を得た(図3(c),(d),(e) 参
照)。 (4) 実施例1と同様にして多層プリント配線板を製造し
た(図3参照)。
(Example 3) (1) 60 parts by weight of a 60% acrylate of a phenol novolak type epoxy resin (manufactured by Yuka Shell), 40 parts by weight of a bisphenol A epoxy resin (manufactured by Yuka Shell), an imidazole-based curing agent 4 parts by weight (manufactured by Shikoku Chemicals), 15 parts by weight of diallyl terephthalate and 4 parts by weight of 2-methyl-1- [4- (methylthio) phenyl] -2morpholinopropanone-1 (manufactured by Ciba Geigy) were dissolved in butyl cellosolve. With respect to 100 parts by weight of the solid content of the composition, 15 parts by weight of melamine resin particles (made by Honen) having a particle size of 0.5 μm and 30 parts by weight of those having a particle size of 5.5 μm were mixed with a ball mill, After kneading with three rolls, butyl cellosolve was further added to prepare an adhesive solution having a solid concentration of 55%. The viscosity of this solution is 2.6 Pa · s at 60 rpm and 60 r.
It was 1.0 Pa · s at pm, and its SVI value (thixotropic property) was 2.6. (2) Apply this adhesive to a polyethylene film 12 coated with silicon using a roll coater,
For 30 minutes to produce an adhesive film (Fig. 3
(See (a), (b)). (3) This film was placed on an insulating plate (substrate 1) on which a conductor circuit was formed, and after the polyethylene film 12 was peeled off, it was heated and pressed to obtain a resin insulating layer 2 (FIGS. 3C and 3D). , (e)). (4) A multilayer printed wiring board was manufactured in the same manner as in Example 1 (see FIG. 3).

【0054】(実施例4) (1) 実施例2と同様にして作成したメラミン樹脂粒子
(平均粒径3.9 μm )を熱風乾燥機内に装入し、180 ℃
で3時間加熱処理して凝集結合させた。この凝集結合さ
せたメラミン樹脂粒子を、アセトン中に分散させ、ボー
ルミルにて5時間解砕した後、風力分級機を使用して分
級し、凝集粒子を作成した。この凝集粒子は、平均粒径
が約3.5 μmであり、約68重量%が平均粒径を中心とし
て±2μmの範囲に存在していた。 (2) フェノールノボラック型エポキシ樹脂(油化シェル
製)60重量部、ビスフェノールA型エポキシ樹脂(油化
シェル製)40重量部およびイミダゾール系硬化剤(四国
化成製)5重量部をメチルエチルケトンに溶解し、この
組成物の固形分100 重量部に対して、前記(1) で作成し
た凝集粒子を50重量部の割合で混合し、ボールミルで混
練した後、さらにメチルエチルケトンを添加して固形分
濃度55%の接着剤溶液を調製した。この溶液の粘度は、
回転数6rpm で0.6 Pa・s 、60rpmで0.5 Pa・s であ
り、そのSVI値(チキソトロピック性)は1.2 であっ
た。 (3) この接着剤溶液をガラスクロスに含浸させ、乾燥
し、プリプレグ11を作成した(図4(a) 参照)。 (4) 導体回路4が形成されているガラスエポキシ基板1
に、プリプレグ11を重ねて、加熱プレスし、樹脂絶縁層
2を形成した(図4(b) 参照)。 (5) 次いで、樹脂絶縁層2を形成し終えた基板1を、ド
リルにより削孔し、6N塩酸水溶液からなる酸に70℃で
15分間浸漬して樹脂絶縁層2の表面を粗化してから、中
和溶液(シプレイ社製)に浸漬して水洗した。表面が粗
化された絶縁層を有する基板1にパラジウム触媒(シプ
レイ社製)を付与して樹脂絶縁層2の表面を活性化させ
た(図4(c) 参照)。 (6) 前記基板1を窒素ガス雰囲気(10ppm 酸素)中で12
0 ℃で30分間、触媒固定化のための熱処理を行い、その
後、感光性のドライフィルムをラミネートし、露光した
後、変成クロロセンで現像し、めっきレジスト3(厚さ
40μm )を形成した(図4(d) 参照)。 (7) めっきレジストを形成し終えた前記基板1を、表1
に示す組成の無電解銅めっき液に11時間浸漬して、両面
にめっき膜6の厚さ30μm の無電解銅めっきを施し、導
体回路とスルーホール5を形成し、両面プリント配線板
を製造した(図5(e) 参照)。
Example 4 (1) Melamine resin particles (average particle size: 3.9 μm) prepared in the same manner as in Example 2 were charged into a hot air drier and heated at 180 ° C.
For 3 hours for coagulation bonding. The coagulated and bonded melamine resin particles were dispersed in acetone, crushed by a ball mill for 5 hours, and then classified using an air classifier to prepare coagulated particles. The aggregated particles had an average particle size of about 3.5 μm, and about 68% by weight was in a range of ± 2 μm around the average particle size. (2) Dissolve 60 parts by weight of phenol novolak type epoxy resin (manufactured by Yuka Shell), 40 parts by weight of bisphenol A type epoxy resin (manufactured by Yuka Shell) and 5 parts by weight of imidazole-based curing agent (manufactured by Shikoku Chemicals) in methyl ethyl ketone. Then, 50 parts by weight of the agglomerated particles prepared in the above (1) were mixed with 100 parts by weight of the solid content of this composition, and kneaded with a ball mill. Was prepared. The viscosity of this solution is
It was 0.6 Pa · s at 6 rpm and 0.5 Pa · s at 60 rpm, and its SVI value (thixotropic property) was 1.2. (3) This adhesive solution was impregnated in a glass cloth and dried to prepare a prepreg 11 (see FIG. 4 (a)). (4) Glass epoxy substrate 1 on which conductive circuit 4 is formed
Then, a prepreg 11 was overlaid and heated and pressed to form a resin insulating layer 2 (see FIG. 4B). (5) Next, the substrate 1 on which the resin insulating layer 2 has been formed is drilled by a drill, and is immersed in an acid composed of a 6N hydrochloric acid aqueous solution at 70 ° C.
After the surface of the resin insulating layer 2 was roughened by immersion for 15 minutes, it was immersed in a neutralizing solution (manufactured by Shipley) and washed with water. The surface of the resin insulating layer 2 was activated by applying a palladium catalyst (manufactured by Shipley) to the substrate 1 having the insulating layer whose surface was roughened (see FIG. 4 (c)). (6) The substrate 1 is placed in a nitrogen gas atmosphere (10 ppm oxygen) for 12 minutes.
A heat treatment for immobilizing the catalyst was performed at 0 ° C. for 30 minutes. Thereafter, a photosensitive dry film was laminated, exposed, developed with modified chlorocene, and plated resist 3 (thickness:
40 μm) (see FIG. 4 (d)). (7) The substrate 1 on which the plating resist has been formed is placed in Table 1
11 hours in an electroless copper plating solution having the composition shown in Table 1 and a 30 μm-thick electroless copper plating film was formed on both surfaces to form a conductor circuit and a through hole 5 to produce a double-sided printed wiring board. (See FIG. 5 (e)).

【0055】(実施例5) (1) 実施例2の(1) 〜(6) と同様の処理を施し(ただ
し、硬化剤を除く)、接着剤溶液Aを調製した。 (2) イミダゾール系硬化剤5重量部をブチルセロソルブ
に溶解させ、接着剤溶液Bを調製した。 (3) 接着剤溶液Aと接着剤溶液Bを常温で1か月保存し
た後、両者を混合し、接着剤溶液を得た。特性は実施例
2と同じであった。 (4) この接着剤溶液を使用して実施例2と同様に多層プ
リント配線板を製造した。
Example 5 (1) An adhesive solution A was prepared by performing the same treatments as in (1) to (6) of Example 2 (excluding the curing agent). (2) An adhesive solution B was prepared by dissolving 5 parts by weight of an imidazole-based curing agent in butyl cellosolve. (3) The adhesive solution A and the adhesive solution B were stored at room temperature for one month, and then mixed to obtain an adhesive solution. The characteristics were the same as in Example 2. (4) Using this adhesive solution, a multilayer printed wiring board was manufactured in the same manner as in Example 2.

【0056】(実施例6) (1) 難燃性ノボラック型エポキシ樹脂(日本化薬製)10
0 重量部とイミダゾール系硬化剤(四国化成製)7重量
部をブチルセロソルブアセテートに溶解し、この組成物
の固形分100 重量部に対して、実施例2の(5) で作成し
た樹脂粒子を、粒径0.5 μmのものを15重量部、粒径5.
5 μmのものを30重量部の割合で混合し、その後3本ロ
ールで混練して、さらにブチルセロソルブアセテートを
添加し、固形分濃度75%の接着剤溶液を調製した。この
溶液の粘度は、回転数6rpm で5.2Pa・s 、60rpm で2.5
Pa・s であり、そのSVI値(チキソトロピック性)
は2.0 であった。 (2) この接着剤を用い、実施例2と同様にして多層プリ
ント配線板を製造した。
Example 6 (1) Flame retardant novolak type epoxy resin (Nippon Kayaku) 10
0 parts by weight and 7 parts by weight of an imidazole-based curing agent (manufactured by Shikoku Chemicals) were dissolved in butyl cellosolve acetate, and the resin particles prepared in (5) of Example 2 were added to 100 parts by weight of the solid content of this composition. 15 parts by weight with a particle size of 0.5 μm, particle size 5.
A mixture of 5 μm was mixed at a ratio of 30 parts by weight, and then kneaded with three rolls, and butyl cellosolve acetate was further added to prepare an adhesive solution having a solid content of 75%. The viscosity of this solution was 5.2 Pa · s at 6 rpm and 2.5 at 60 rpm.
Pa · s and its SVI value (thixotropic property)
Was 2.0. (2) Using this adhesive, a multilayer printed wiring board was manufactured in the same manner as in Example 2.

【0057】(実施例7) (1) 5lのアセトン中に、実施例2の(1) 〜(5) と同様
の方法で作成したメラミン樹脂粒子(平均粒径3.9 μm
)200gを分散させた懸濁液を、ヘンシェルミキサー
(三井三池化工機製)内で攪拌しながら、アセトン10l
中に、実施例2の(1)〜(5) と同様にして得られたメラ
ミン樹脂微粉末(平均粒径0.5 μm )300gを分散させた
懸濁液を滴下混合することにより、上記メラミン樹脂粒
子表面にメラミン樹脂微粉末を付着せしめた後、アセト
ンを除去し、その後、150 ℃に加熱して、擬似粒子を作
成した。この擬似粒子は、平均粒径が約4.3 μm であ
り、約75重量%が、平均粒径を中心として±2μmの範
囲に存在していた。 (2) オルトクレゾールノボラック型エポキシ樹脂(日本
化薬製)の60%アクリル化物100 重量部、ジアリルテレ
フタレート15重量部、2−メチル−1−〔4−(メチル
チオ)フェニル〕−2−モルフォリノプロパノン−1
(チバ・ガイギー製)4重量部、イミダゾール系硬化剤
(四国化成製)4重量部、光開始剤(チバ・ガイギー
製)および前記(1) のメラミン樹脂粒子50重量部を混合
した後、ブチルセロソルブを添加しながら、ホモディス
パー攪拌機で攪拌した。その後3本ローラーで混練して
固形分濃度70%の感光性接着剤溶液を調製した。この溶
液の粘度は、回転数6rpm で5.1 Pa・s 、60rpm で2.6
Pa・s であり、そのSVI値は、2.0 であった。 (3) この接着剤溶液を用い、実施例1と同様にして多層
プリント配線板を製造した。
(Example 7) (1) Melamine resin particles (average particle size of 3.9 μm) prepared in the same manner as in (1) to (5) of Example 2 in 5 l of acetone
While stirring 200 g of the suspension in a Henschel mixer (manufactured by Mitsui Miike Kakoki Co., Ltd.), 10 l of acetone was added.
A suspension in which 300 g of melamine resin fine powder (average particle size: 0.5 μm) obtained in the same manner as in (1) to (5) of Example 2 was dispersed was dropped and mixed, thereby obtaining the melamine resin. After the melamine resin fine powder was adhered to the particle surface, acetone was removed and then heated to 150 ° C. to produce pseudo particles. The pseudo particles had an average particle size of about 4.3 μm, and about 75% by weight was in a range of ± 2 μm around the average particle size. (2) 100 parts by weight of 60% acrylate of ortho-cresol novolac type epoxy resin (manufactured by Nippon Kayaku), 15 parts by weight of diallyl terephthalate, 2-methyl-1- [4- (methylthio) phenyl] -2-morpholinopropanone -1
After mixing 4 parts by weight (manufactured by Ciba-Geigy), 4 parts by weight of an imidazole-based curing agent (manufactured by Shikoku Chemicals), 50 parts by weight of the photoinitiator (manufactured by Ciba-Geigy) and the melamine resin particles of the above (1), butyl cellosolve Was added and stirred with a homodisper stirrer. Thereafter, the mixture was kneaded with three rollers to prepare a photosensitive adhesive solution having a solid content of 70%. The viscosity of this solution was 5.1 Pa · s at 6 rpm and 2.6 at 60 rpm.
Pa · s, and its SVI value was 2.0. (3) Using this adhesive solution, a multilayer printed wiring board was manufactured in the same manner as in Example 1.

【0058】(実施例8) 本実施例は、基本的には、実施例1と同じであるが、接
着剤溶液として、フェノールノボラック型エポキシ樹脂
(油化シェル製)60重量部、2官能性のアクリル樹脂
(油化シェル製)40重量部およびイミダゾール系硬化剤
(四国化成製)5重量部をブチルセロソルブアセテート
に溶解し、この組成物の固形分100 重量部に対して、メ
ラミン樹脂粒子を粒径0.5 μmのものを15重量部、粒径
5.5 μmのものを30重量部の割合で3本ロールにて混合
し、さらにブチルセルソルブアセテートを添加して固形
分濃度75%としたものを使用した。
(Example 8) This example is basically the same as Example 1, except that 60 parts by weight of a phenol novolak type epoxy resin (manufactured by Yuka Shell) is used as an adhesive solution. 40 parts by weight of an acrylic resin (manufactured by Yuka Shell) and 5 parts by weight of an imidazole-based curing agent (manufactured by Shikoku Chemicals) are dissolved in butyl cellosolve acetate, and melamine resin particles are added to 100 parts by weight of the solid content of this composition. 15 parts by weight of 0.5 μm diameter, particle size
A mixture of 5.5 μm and 30 parts by weight was mixed with a three-roll mill, and butylcellosolve acetate was further added to adjust the solid content to 75%.

【0059】(実施例9) 本実施例は、基本的には、実施例1と同じであるが、接
着剤溶液として、フェノールノボラック型エポキシ樹脂
(油化シェル製)の60%アクリル化物60重量部、2官能
性のアクリル樹脂(油化シェル製)40重量部およびイミ
ダゾール系硬化剤(四国化成製)5重量部をブチルセロ
ソルブアセテートに溶解し、この組成物の固形分100 重
量部に対して、メラミン樹脂粒子を粒径0.5 μmのもの
を15重量部、粒径5.5 μmのものを30重量部の割合で3
本ロールにて混合し、さらにブチルセルソルブアセテー
トを添加して固形分濃度75%としたものを使用した。
Example 9 This example is basically the same as Example 1, except that a 60% acrylated phenol novolak type epoxy resin (manufactured by Yuka Shell Co.) was used as an adhesive solution. Of a bifunctional acrylic resin (manufactured by Yuka Shell) and 5 parts by weight of an imidazole-based curing agent (manufactured by Shikoku Chemicals) were dissolved in butyl cellosolve acetate. 15 parts by weight of melamine resin particles having a particle size of 0.5 μm and 30 parts by weight of those having a particle size of 5.5 μm
The mixture was mixed with this roll, and butyl cellosolve acetate was further added to adjust the solid content to 75%.

【0060】(実施例10) 本実施例は、基本的には、実施例1と同じであるが、接
着剤溶液として、アクリル樹脂(油化シェル製)60重量
部、ビスフェノールA型エポキシ樹脂(油化シェル製)
40重量部およびイミダゾール系硬化剤(四国化成製)5
重量部をブチルセロソルブアセテートに溶解し、この組
成物の固形分100 重量部に対して、メラミン樹脂粒子を
粒径0.5 μmのものを15重量部、粒径5.5 μmのものを
30重量部の割合で3本ロールにて混合し、さらにブチル
セルソルブアセテートを添加して固形分濃度75%とした
ものを使用した。
Example 10 This example is basically the same as Example 1, except that 60 parts by weight of an acrylic resin (manufactured by Yuka Shell) and a bisphenol A type epoxy resin ( Oiled shell)
40 parts by weight and imidazole-based curing agent (Shikoku Chemicals) 5
Parts by weight were dissolved in butyl cellosolve acetate, and 15 parts by weight of melamine resin particles having a particle size of 0.5 μm and 15 parts by weight of
The mixture was mixed with three rolls at a ratio of 30 parts by weight, and butylcellosolve acetate was further added to adjust the solid content to 75%.

【0061】(実施例11) 本実施例は、基本的には、実施例1と同じであるが、接
着剤溶液として、アクリル樹脂(油化シェル製)60重量
部、2官能性のアクリル樹脂(油化シェル製)40重量部
およびイミダゾール系硬化剤(四国化成製)5重量部を
ブチルセロソルブアセテートに溶解し、この組成物の固
形分100 重量部に対して、メラミン樹脂粒子を粒径0.5
μmのものを15重量部、粒径5.5 μmのものを30重量部
の割合で3本ロールにて混合し、さらにブチルセルソル
ブアセテートを添加して固形分濃度75%としたものを使
用した。
Example 11 This example is basically the same as Example 1, except that 60 parts by weight of an acrylic resin (manufactured by Yuka Shell) was used as the adhesive solution. 40 parts by weight (manufactured by Yuka Shell) and 5 parts by weight of an imidazole-based curing agent (manufactured by Shikoku Chemicals) were dissolved in butyl cellosolve acetate, and melamine resin particles having a particle size of 0.5 were added to 100 parts by weight of the solid content of this composition.
A mixture having a particle size of 15 μm and a mixture having a particle size of 5.5 μm at a ratio of 30 parts by weight were mixed with a three-roll mill, and butylcellosolve acetate was added to obtain a solid concentration of 75%.

【0062】(実施例12) 本実施例は、基本的には、実施例1と同じであるが、接
着剤溶液として、アクリル樹脂(油化シェル製)100 重
量部およびイミダゾール系硬化剤(四国化成製)5重量
部をブチルセロソルブアセテートに溶解し、この組成物
の固形分100 重量部に対して、メラミン樹脂粒子を粒径
0.5 μmのものを15重量部、粒径5.5 μmのものを30重
量部の割合で3本ロールにて混合し、さらにブチルセル
ソルブアセテートを添加して固形分濃度75%としたもの
を使用した。
Example 12 This example is basically the same as Example 1, except that 100 parts by weight of an acrylic resin (made by Yuka Shell) and an imidazole-based curing agent (Shikoku) were used as the adhesive solution. 5 parts by weight of a chemical compound) was dissolved in butyl cellosolve acetate, and the melamine resin particles had a particle size of 100 parts by weight of the solid content of the composition.
A mixture having a solid content of 75% was prepared by mixing 15 parts by weight of 0.5 μm and 30 parts by weight of a particle having a particle size of 5.5 μm with three rolls, and further adding butyl cellosolve acetate. .

【0063】(実施例13) (1) 尿素、イソチオ尿素およびホルマリンを1:1:2
のモル比で混合し、この混合物を80℃で加熱処理し、共
縮合させて尿素−チオ尿素共縮合樹脂粒子を得た。 (2) 本実施例は、基本的には実施例4と同様であるが、
アミノ樹脂粒子として、上記(1) で得られた尿素−チオ
尿素共縮合樹脂粒子を使用した。また、フェノールノボ
ラック型エポキシ樹脂100 重量部を使用し、ビスフェノ
ールA型エポキシ樹脂は使用しなかった。なお、本実施
例での接着剤溶液の粘度は、JIS−K7117に準じ、東
京計器製デジタル粘度計を用い、20℃、60秒間測定した
ところ、6rpm で0.05 Pa・s であった。
Example 13 (1) Urea, isothiourea and formalin were mixed in a ratio of 1: 1: 2
The mixture was heated at 80 ° C. and co-condensed to obtain urea-thiourea co-condensed resin particles. (2) This embodiment is basically the same as the fourth embodiment,
The urea-thiourea co-condensation resin particles obtained in the above (1) were used as the amino resin particles. Also, 100 parts by weight of a phenol novolak type epoxy resin was used, and no bisphenol A type epoxy resin was used. The viscosity of the adhesive solution in this example was measured at 20 ° C. for 60 seconds using a digital viscometer manufactured by Tokyo Keiki according to JIS-K7117, and it was 0.05 Pa · s at 6 rpm.

【0064】(比較例) (1) 耐熱性樹脂粒子として、ジシアン系硬化剤で硬化さ
せたエポキシ樹脂を使用した以外は、実施例1と同様に
して多層プリント配線板を製造した。
Comparative Example (1) A multilayer printed wiring board was manufactured in the same manner as in Example 1 except that an epoxy resin cured with a dicyanic curing agent was used as heat-resistant resin particles.

【0065】上述のようにして製造された多層プリント
配線板の無電解めっき膜の密着性(ピール強度)、電気
特性(電気絶縁性)、硬度(バーコル硬度)、耐マイグ
レーション性(不純物の影響)および酸や酸化剤に対す
るアミノ樹脂粒子の溶解速度(アミノ樹脂の溶解速度)
を評価したところ、表1に示す結果となった。
The adhesion (peel strength), electrical characteristics (electrical insulation), hardness (Barcol hardness), and migration resistance (influence of impurities) of the electroless plated film of the multilayer printed wiring board manufactured as described above. Rate of amino resin particles in water and acid and oxidizing agent (dissolution rate of amino resin)
Was evaluated, and the results shown in Table 1 were obtained.

【0066】この表1に示す結果から明らかなように、
本発明例の場合は、導体の高い密着強度が得られるだけ
でなく、導体間の絶縁信頼性に優れており、高密度なプ
リント配線板を製造する上で特に有利である。また、表
面硬度が高いためワイヤーボンディング性にも優れてお
り、ベアチップ実装用基板としても有利に使用すること
ができる。
As is apparent from the results shown in Table 1,
In the case of the present invention, not only high adhesion strength of conductors can be obtained, but also insulation reliability between conductors is excellent, which is particularly advantageous for manufacturing a high-density printed wiring board. In addition, since it has a high surface hardness, it has excellent wire bonding properties, and can be advantageously used as a bare chip mounting substrate.

【0067】[0067]

【表1】 [Table 1]

【0068】次に、本発明の多層プリント配線板を100
℃の煮沸水に2時間浸漬することにより、接着剤層の表
面抵抗の変化を調べた結果、初期値に比べて変化は生じ
なかった。さらに、本発明例では、表面温度を300 ℃に
保持したホットプレートに配線板の表面を密着させて10
分間加熱する耐熱性試験を行った後にも異常は認められ
なかった。
Next, the multilayer printed wiring board of the present invention was
As a result of examining the change in the surface resistance of the adhesive layer by immersing it in boiling water at 2 ° C. for 2 hours, no change occurred as compared with the initial value. Further, in the example of the present invention, the surface of the wiring board is brought into close contact with a hot plate whose surface temperature is maintained at 300 ° C.
No abnormalities were observed after a heat resistance test of heating for 1 minute.

【0069】なお、無電解めっき膜の密着強度(ピール
強度),電気絶縁性,硬度および不純物の影響(耐マイ
グレーション特性)についての各試験方法を説明する。 (1) 無電解めっき膜の密着強度(ピール強度) JIS−C−6481 (2) 電気絶縁 プリント配線板に形成されているL/S=100 /100 μ
mのくし型パターンに直流電圧または周波数50Hzもしく
は60Hzで正弦波交流のせん頭電圧を用い、500Vを印加す
る。電圧の印加は約5秒間で規定電圧までに徐々に上昇
させ、1分間充電し、機械的損傷,フラッシュオーバー
および絶縁破壊(0.5mA 以上の電流を流した場合)など
の異常の有無を調べる。 (3) 硬度(バーコル硬度) 装置:形式A アルミ合金製基準片の指示値85〜87(硬質), 43〜48
(軟質) 機種:GYZJ934−1 調整:ガラス板を用い、100 ±1の指示値になるように
調整し、次にアルミ合金製の基準片を用い、基準片指示
値になるように調整する。 操作:硬さ試験機の圧子が試料面に対して垂直になるよ
うに押しつけ、最大値の指示値を読み取る。測定位置
は、試料端から3mm以上内側の平滑な面であること。
また、同じ試料で測定する場合は、規定によってできた
窪みから3mm以上離れていること。 測定:基板を150 ℃に加熱し、5分間保ち、硬度を測定
する。 (4) 不純物の影響(耐マイグレーション) 試験片:L/S=50/50μmのくし型が形成されたプリ
ント配線板 測定 :温度85±1℃,相対湿度85〜90%の恒温恒湿槽
の中に入れ、バイアス30Vをかけ放置する。1000時間後
パターン間にマイグレーションの有無を調べる。
Each test method for the adhesion strength (peel strength) of the electroless plating film, the electrical insulation, the hardness, and the influence of impurities (migration resistance) will be described. (1) Adhesion strength (peel strength) of electroless plating film JIS-C-6481 (2) Electrical insulation L / S = 100/100 μ formed on printed wiring board
A DC voltage or a sine-wave AC peak voltage at a frequency of 50 Hz or 60 Hz is applied to the comb pattern of m, and 500 V is applied. The voltage is gradually increased to the specified voltage in about 5 seconds, charged for 1 minute, and checked for abnormalities such as mechanical damage, flashover, and dielectric breakdown (when a current of 0.5 mA or more is applied). (3) Hardness (Barcol hardness) Device: Type A Indicated value of aluminum alloy reference piece 85-87 (hard), 43-48
(Soft) Model: GYZJ934-1 Adjustment: Using a glass plate, adjust so as to have an indicated value of 100 ± 1, then use an aluminum alloy reference piece to adjust so as to be the indicated value of the reference piece. Operation: Press the indenter of the hardness tester so as to be perpendicular to the sample surface, and read the indicated value of the maximum value. The measurement position should be a smooth surface at least 3 mm inside from the sample end.
When measuring with the same sample, it must be at least 3 mm away from the pit defined by the regulations. Measurement: The substrate is heated to 150 ° C., kept for 5 minutes, and the hardness is measured. (4) Influence of impurities (migration resistance) Specimen: Printed wiring board with L / S = 50/50 μm comb-shaped Measurement: Temperature and humidity of 85 ± 1 ° C, 85-90% relative humidity And leave it with a bias of 30V. After 1000 hours, check for migration between patterns.

【0070】[0070]

【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
メラミン樹脂およびまたは尿素樹脂を耐熱性樹脂粒子と
して使用することにより、使用環境に作用されることの
なく、充分な導体の密着強度が得られ、しかも、耐薬品
性、耐熱性、電気特性および硬度に優れる多層プリント
配線板を安定して提供できる。
As described above, according to the present invention,
By using melamine resin and / or urea resin as heat-resistant resin particles, sufficient adhesion strength of conductor can be obtained without being affected by use environment, and chemical resistance, heat resistance, electrical properties and hardness And a stable multilayer printed wiring board can be provided.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の一実施例を示す工程図である。FIG. 1 is a process chart showing one embodiment of the present invention.

【図2】本発明の他の実施例を示す工程図である。FIG. 2 is a process chart showing another embodiment of the present invention.

【図3】本発明の他の実施例を示す工程図である。FIG. 3 is a process chart showing another embodiment of the present invention.

【図4】本発明の他の実施例を示す工程図である。FIG. 4 is a process chart showing another embodiment of the present invention.

【図5】プリント配線板のマイグレーション反応を示す
説明図である。
FIG. 5 is an explanatory diagram showing a migration reaction of a printed wiring board.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 基板(配線板) 2 接着剤層(絶縁層) 3 めっきレジスト 4、6、8、10 配線層(めっき層、導体層) 5 スルーホール用孔 7 バイアホール用開口 11 プリプレグ 12 ポリエチレンフィルム DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Substrate (wiring board) 2 Adhesive layer (insulating layer) 3 Plating resist 4, 6, 8, 10 Wiring layer (plating layer, conductor layer) 5 Through hole hole 7 Via hole opening 11 Prepreg 12 Polyethylene film

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) H05K 3/46 H05K 3/38 H05K 3/18 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page (58) Field surveyed (Int.Cl. 7 , DB name) H05K 3/46 H05K 3/38 H05K 3/18

Claims (2)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】 無電解めっきして得られる複数層からな
る導体回路を、耐熱性樹脂からなる樹脂絶縁層によって
電気的に絶縁してなる多層プリント配線板において、前
記樹脂絶縁層を、硬化処理を受けると酸あるいは酸化剤
に対して難溶性となる未硬化樹脂マトリックス中に、
ラミン樹脂粒子およびまたは尿素樹脂粒子を配合し、分
散させた接着剤で構成し、かつこの樹脂絶縁層の無電解
めっき膜形成面の前記メラミン樹脂粒子およびまたは尿
素樹脂粒子を、酸あるいは酸化剤にて処理し溶解除去す
ることにより、アンカー形成用凹部としたことを特徴と
する多層プリント配線板。
1. A multilayer printed wiring board in which a conductor circuit formed by a plurality of layers obtained by electroless plating is electrically insulated by a resin insulation layer made of a heat-resistant resin. In the uncured resin matrix that becomes hardly soluble in acids or oxidizing agents when exposed to
Lamin resin particles and / or urea resin particles are blended and formed of an adhesive dispersed therein, and the melamine resin particles and / or urine on the electroless plating film forming surface of the resin insulating layer.
A multilayer printed wiring board, characterized in that base resin particles are treated with an acid or an oxidizing agent and dissolved and removed to form anchor forming recesses.
【請求項2】耐熱性樹脂からなる樹脂絶縁層によって電
気的に絶縁された無電解めっき膜からなる複数の導体回
路を有する多層プリント配線板を製造する方法におい
て、 少なくとも下記(a)〜(c)工程;すなわち、 (a)導体回路を形成した基板上に、硬化処理を受ける
と酸あるいは酸化剤に対して難溶性となる未硬化樹脂マ
トリックス中に、メラミン樹脂粒子およびまたは尿素樹
脂粒子を配合して、分散させた1層以上の接着剤による
樹脂絶縁層を形成する工程、 (b)前記各樹脂絶縁層の表面部分に点在しているメラ
ミン樹脂粒子およびまたは尿素樹脂粒子部分のみを、酸
あるいは酸化剤を使用して溶解除去し、無電解めっき膜
を形成する側の面を粗化する工程、 (c)粗化された前記樹脂絶縁層上に無電解めっきを施
すことにより、導体回路を形成する工程、 を経ることを特徴とする多層プリント配線板の製造方
法。
2. A method for manufacturing a multilayer printed wiring board having a plurality of conductive circuits formed of an electroless plating film electrically insulated by a resin insulating layer made of a heat-resistant resin, comprising at least the following steps (a) to (c): Steps: (a) melamine resin particles and / or urea resin are added to an uncured resin matrix which becomes hardly soluble in an acid or an oxidizing agent when subjected to a curing treatment on a substrate on which a conductive circuit is formed;
By blending a fat particles, a step of forming a resin insulating layer according to one or more layers of adhesive are dispersed, camera that are scattered on the surface portion of the (b) each of the resin insulating layer
A step of dissolving and removing only the min resin particles and / or urea resin particles using an acid or an oxidizing agent to roughen the surface on which the electroless plating film is formed; (c) the roughened resin insulation Forming a conductive circuit by applying electroless plating on the layer. A method for manufacturing a multilayer printed wiring board, the method comprising:
JP34768092A 1992-02-21 1992-12-28 Multilayer printed wiring board and method of manufacturing the same Expired - Lifetime JP3137483B2 (en)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP3467492 1992-02-21
JP4-34674 1992-02-21

Related Child Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP32477399A Division JP3172516B2 (en) 1992-02-21 1999-11-15 Multilayer printed wiring board and method of manufacturing the same

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH05299837A JPH05299837A (en) 1993-11-12
JP3137483B2 true JP3137483B2 (en) 2001-02-19

Family

ID=12420976

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP34768092A Expired - Lifetime JP3137483B2 (en) 1992-02-21 1992-12-28 Multilayer printed wiring board and method of manufacturing the same

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP3137483B2 (en)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101921992B1 (en) * 2011-11-02 2018-11-26 테크노 타카츠키 주식회사 Electromagnetic vibrating diaphragm pump

Families Citing this family (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6384344B1 (en) 1995-06-19 2002-05-07 Ibiden Co., Ltd Circuit board for mounting electronic parts
WO1998011605A1 (en) 1995-06-19 1998-03-19 Ibiden Co., Ltd. Circuit board for mounting electronic parts
US6010768A (en) 1995-11-10 2000-01-04 Ibiden Co., Ltd. Multilayer printed circuit board, method of producing multilayer printed circuit board and resin filler
CN100544555C (en) * 1995-11-10 2009-09-23 揖斐电株式会社 The manufacture method of multilayer board and multilayer board

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101921992B1 (en) * 2011-11-02 2018-11-26 테크노 타카츠키 주식회사 Electromagnetic vibrating diaphragm pump

Also Published As

Publication number Publication date
JPH05299837A (en) 1993-11-12

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US5795618A (en) Polymerizable adhesive (comprising cured amino resin powder) for print ed circuit board
US5589255A (en) Adhesive for electroless plating, printed circuit boards and method of producing the same
TW322680B (en)
JPS63126297A (en) Multilayer printed interconnection board and manufacture of the same
JPH0734505B2 (en) Multilayer printed wiring board and manufacturing method thereof
JP3137483B2 (en) Multilayer printed wiring board and method of manufacturing the same
JP3064780B2 (en) Manufacturing method of flex-rigid multilayer printed wiring board
JP3138520B2 (en) Multilayer printed wiring board and method of manufacturing the same
JP3152508B2 (en) Adhesive for wiring board, method for manufacturing printed wiring board using this adhesive, and printed wiring board
JP2877993B2 (en) Adhesive for wiring board, method for manufacturing printed wiring board using this adhesive, and printed wiring board
JP3298957B2 (en) Adhesive sheet for electroless plating, method for manufacturing printed wiring board using this adhesive sheet, and printed wiring board
JP3261185B2 (en) Prepreg for wiring board, method for manufacturing printed wiring board using this prepreg, and printed wiring board
JP3172516B2 (en) Multilayer printed wiring board and method of manufacturing the same
JP3219827B2 (en) Heat-resistant resin particles for anchor formation, adhesive for electroless plating, method for manufacturing printed wiring board using this adhesive, and printed wiring board
JP2877992B2 (en) Adhesive for wiring board, method for manufacturing printed wiring board using this adhesive, and printed wiring board
JP3007648B2 (en) Method for manufacturing adhesive printed wiring board for electroless plating and printed wiring board
JP3002591B2 (en) Adhesive sheet, method for manufacturing printed wiring board using this adhesive sheet, and printed wiring board
JPH05222539A (en) Prepreg for circuit board, production of printed circuit board using the same and printed circuit board
JP2834912B2 (en) Adhesive for wiring board, method for manufacturing printed wiring board using this adhesive, and printed wiring board
JP2000191910A (en) Heat-resistant resin composition, interlayer insulating film and multilayered circuit board
JPH028283A (en) Adhesive for nonelectrolytic plating
JP2832181B2 (en) Photosensitive resin insulation
JP3076680B2 (en) Adhesive for wiring board, method for manufacturing printed wiring board using this adhesive, and printed wiring board
JP2002164661A (en) Printed wiring board, and insulating resin composition therefor
JP3115435B2 (en) Adhesives and printed wiring boards

Legal Events

Date Code Title Description
R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

FPAY Renewal fee payment (prs date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20071208

Year of fee payment: 7

FPAY Renewal fee payment (prs date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20081208

Year of fee payment: 8

FPAY Renewal fee payment (prs date is renewal date of database)

Year of fee payment: 9

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20091208

FPAY Renewal fee payment (prs date is renewal date of database)

Year of fee payment: 9

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20091208

FPAY Renewal fee payment (prs date is renewal date of database)

Year of fee payment: 10

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20101208

FPAY Renewal fee payment (prs date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20101208

Year of fee payment: 10

FPAY Renewal fee payment (prs date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20111208

Year of fee payment: 11

FPAY Renewal fee payment (prs date is renewal date of database)

Year of fee payment: 11

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20111208

FPAY Renewal fee payment (prs date is renewal date of database)

Year of fee payment: 12

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20121208

FPAY Renewal fee payment (prs date is renewal date of database)

Year of fee payment: 13

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20131208

EXPY Cancellation because of completion of term
FPAY Renewal fee payment (prs date is renewal date of database)

Year of fee payment: 13

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20131208