JP3152508B2 - Adhesive for wiring board, method for manufacturing printed wiring board using this adhesive, and printed wiring board - Google Patents

Adhesive for wiring board, method for manufacturing printed wiring board using this adhesive, and printed wiring board

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JP3152508B2
JP3152508B2 JP19392692A JP19392692A JP3152508B2 JP 3152508 B2 JP3152508 B2 JP 3152508B2 JP 19392692 A JP19392692 A JP 19392692A JP 19392692 A JP19392692 A JP 19392692A JP 3152508 B2 JP3152508 B2 JP 3152508B2
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Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、配線板用接着剤とこの
接着剤を用いたプリント配線板の製造方法およびプリン
ト配線板に関するものであり、特に耐薬品性や耐熱性,
電気特性,硬度に優れる無電解めっきに適合した接着剤
とこの接着剤を用いたプリント配線板の製造方法および
プリント配線板についての提案である。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an adhesive for wiring boards, a method for manufacturing a printed wiring board using the adhesive, and a printed wiring board.
An adhesive suitable for electroless plating with excellent electrical properties and hardness, a method for manufacturing a printed wiring board using the adhesive, and a proposal for a printed wiring board.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年、電子工業の進歩に伴い電子機器の
小型化あるいは高速化が進められており、このためプリ
ント配線板やLSIを実装する配線板においてもファイ
ンパターンによる高密度化および高い信頼性が要求され
ている。
2. Description of the Related Art In recent years, with the advance of the electronics industry, electronic devices have been reduced in size or increased in speed. For this reason, printed wiring boards and wiring boards on which LSIs are mounted have been improved in density and fine reliability by fine patterns. Is required.

【0003】従来、プリント配線板に導体回路を形成す
る方法としては、基板に銅箔を積層した後、フォトエッ
チングすることにより、導体回路を形成するエッチドフ
ォイル方法が広く行われている。この方法によれば、基
板との密着性に優れた導体回路を形成することができる
が、銅箔の厚さが厚いためにエッチングにより高精度の
ファインパターンが得難いという大きな欠点があり、さ
らに製造工程も複雑で効率が良くないなどの諸問題があ
る。
Conventionally, as a method of forming a conductive circuit on a printed wiring board, an etched foil method of forming a conductive circuit by laminating a copper foil on a substrate and then performing photoetching has been widely used. According to this method, a conductor circuit having excellent adhesion to a substrate can be formed, but there is a major drawback that a high-precision fine pattern is difficult to be obtained by etching due to a large thickness of a copper foil. There are various problems such as complicated processes and inefficient processes.

【0004】このため最近、基板に導体を形成する方法
として、ジエン系合成ゴムを含む接着剤を基板表面に塗
布して接着層を形成し、この接着層の表面を粗化した
後、無電解めっきを施して導体を形成するアディティブ
法が採用されている。しかしながら、この方法で一般的
に使用されている接着剤は合成ゴムを含むため、例えば
高温時に密着強度が大きく低下したり、ハンダ付けの際
に無電解めっき膜がふくれるなど耐熱性が低いこと、表
面抵抗などの電気特性が充分でないことなど欠点があ
り、使用範囲がかなり制限されている。
For this reason, recently, as a method for forming a conductor on a substrate, an adhesive containing a diene-based synthetic rubber is applied to the surface of the substrate to form an adhesive layer, and after the surface of the adhesive layer is roughened, An additive method of forming a conductor by plating is adopted. However, since the adhesive generally used in this method contains a synthetic rubber, for example, the adhesive strength is greatly reduced at a high temperature, or the heat resistance is low, such as an electroless plating film bulging during soldering, There are drawbacks such as insufficient electrical properties such as surface resistance, and the range of use is considerably limited.

【0005】これに対し、発明者らは、先に前述の如き
無電解めっきを施すための接着剤が有する欠点を解消
し、耐熱性,電気特性および無電解めっき膜との密着性
に極めて優れ、かつ比較的容易に実施できる無電解めっ
き用接着剤およびこの接着剤を用いた配線板の製造方法
を特開昭61−276875号公報で提案した。すなわち、この
開示された技術は、酸化剤に対して可溶性の予め硬化処
理された耐熱性樹脂粉末が、硬化処理することにより酸
化剤に対して難溶性となる特性を有する未硬化の耐熱性
樹脂液中に分散されてなることを特徴とする接着剤、お
よびこの接着剤を基板に塗布した後、乾燥硬化して接着
剤層を形成させ、前記接着剤層の表面部分に分散してい
る上記微粉末の少なくとも一部を溶解除去して接着剤層
の表面を粗化し、次いで無電解めっきを施すことを特徴
とする配線板の製造方法である。
On the other hand, the present inventors have solved the above-mentioned drawbacks of the adhesive for performing electroless plating, and have extremely excellent heat resistance, electric characteristics and adhesion to the electroless plating film. Japanese Patent Application Laid-Open No. 61-276875 proposes an adhesive for electroless plating which can be carried out relatively easily and a method for manufacturing a wiring board using this adhesive. That is, the disclosed technology is based on a precured heat-resistant resin powder that is soluble in an oxidizing agent, and has an uncured heat-resistant resin having a property of being hardly soluble in an oxidizing agent when cured. An adhesive characterized by being dispersed in a liquid, and after applying the adhesive to a substrate, drying and curing to form an adhesive layer, and the adhesive is dispersed on a surface portion of the adhesive layer. A method for manufacturing a wiring board, comprising dissolving and removing at least a part of fine powder to roughen the surface of an adhesive layer, and then performing electroless plating.

【0006】この既知技術によれば、上記接着剤は、予
め硬化処理された耐熱性樹脂微粉末が耐熱性樹脂液中に
分散されており、この接着剤を基板に塗布し乾燥硬化さ
せるとマトリックスを形成する耐熱性樹脂中に耐熱性樹
脂微粉末が均一に分散した状態の接着剤層が形成され
る。そして、前記耐熱性樹脂微粉末と耐熱性樹脂マトリ
ックスとは酸化剤に対する溶解性に差異があるため、前
記接着剤層を酸化剤で処理することにより、接着剤層の
表面部分に分散している微粉末が主として溶解除去さ
れ、効果的アンカー窪みが形成されて接着剤層の表面を
均一粗化でき、ひいては基板と無電解めっき膜との高い
密着強度と高い信頼性が得られる。
According to this known technique, the adhesive is prepared by dispersing a heat-resistant resin fine powder which has been cured in advance in a heat-resistant resin liquid. The adhesive layer is formed in a state where the heat-resistant resin fine powder is uniformly dispersed in the heat-resistant resin forming the above. Since the heat-resistant resin fine powder and the heat-resistant resin matrix have different solubility in an oxidizing agent, the adhesive layer is treated with an oxidizing agent to be dispersed on the surface of the adhesive layer. The fine powder is mainly dissolved and removed, and an effective anchor depression is formed, so that the surface of the adhesive layer can be uniformly roughened. As a result, high adhesion strength and high reliability between the substrate and the electroless plating film can be obtained.

【0007】[0007]

【発明が解決しようとする課題】ところで、上記接着剤
では、酸もしくは酸化剤に可溶性の耐熱性樹脂微粉末と
して、汎用的で容易に入手でき、しかも、耐薬品性,耐
熱性,電気特性,硬度に優れる樹脂であるエポキシ樹脂
を採用し使用した。しかしながら、近年、プリント基板
の高密度化が急速に進んだこともあって、このエポキシ
樹脂を耐熱性樹脂微粉末とする接着剤を使用したプリン
ト配線板を、温度,湿度の高い環境で使用すると、導体
回路である銅の溶解,析出が生じて表面抵抗値が低下
し、ひいてはパターン間がショートする問題があること
が判った。この原因は、酸あるいは酸化剤に溶解性のあ
るエポキシ樹脂微粉末を製造する際、イオン性化合物を
使用しているために、ナトリウムイオンや塩素イオンが
エポキシ樹脂微粉末中に不可避に残留し、この残留イオ
ンが、下記の〜式に示すような反応(マイグレーシ
ョン)および、その他の反応を引き起こすからであると
推定されている(図7参照)。 Na+ +Cl- +H2 O → NaOH + HCl … Cu +2NaOH → Cu(OH)2 + 2Na+ … Cu +2HCl → CuCl2 + 2H+
By the way, in the above-mentioned adhesive, general-purpose and easily available as a heat-resistant resin fine powder soluble in an acid or an oxidizing agent. Epoxy resin, which is a resin with excellent hardness, was adopted and used. However, in recent years, the density of printed circuit boards has been rapidly increasing, and printed wiring boards that use adhesives that use epoxy resin as heat-resistant resin fine powder in high-temperature, high-humidity environments It has been found that there is a problem that copper, which is a conductor circuit, dissolves and precipitates, lowers the surface resistance value, and causes a short circuit between patterns. The reason for this is that, when producing an epoxy resin fine powder that is soluble in an acid or an oxidizing agent, an ionic compound is used, so that sodium ions and chlorine ions remain inevitably remaining in the epoxy resin fine powder. It is presumed that this residual ion causes a reaction (migration) and other reactions as shown in the following formulas (1) and (2) (see FIG. 7). Na + + Cl + H 2 O → NaOH + HCl… Cu + 2NaOH → Cu (OH) 2 + 2Na + ... Cu + 2HCl → CuCl 2 + 2H + ...

【0008】本発明の目的は、上記問題点を有利に解決
することにあり、特に、使用環境に左右されることのな
い、耐薬品性,耐熱性,電気特性,硬度などに優れる接
着剤およびこれを用いたプリント配線板の製造方法およ
びプリント配線板を提供することにある。
An object of the present invention is to advantageously solve the above-mentioned problems, and in particular, to provide an adhesive excellent in chemical resistance, heat resistance, electrical properties, hardness and the like which is not affected by the use environment. An object of the present invention is to provide a printed wiring board manufacturing method and a printed wiring board using the same.

【0009】[0009]

【課題を解決するための手段】発明者らは、上記問題点
に関して調査したところ、酸もしくは酸化剤に可溶性の
耐熱性樹脂微粉末用エポキシ樹脂は、製造の際にイオン
性化合物を使用するために、樹脂中にNa,塩素イオン
などが残留し、また、エポキシ樹脂の架橋点間分子量が
1000以上であるために、前記イオンが樹脂中で動きやす
く、それ故に上記の如き反応を引き起こすことを突き止
めた。そこで、このようなイオン性化合物を使用しない
樹脂に関し鋭意研究した結果、耐熱性樹脂微粉末として
アミノ樹脂微粉末を使用することにより、上記反応を引
き起こすことがなく耐薬品性,耐熱性,電気特性,硬度
に優れる接着剤が得られることを新規に知見し、本発明
に想到した。
Means for Solving the Problems The inventors of the present invention have investigated the above problems, and found that an epoxy resin for a heat-resistant resin fine powder soluble in an acid or an oxidizing agent uses an ionic compound at the time of production. In addition, Na, chloride ions, etc. remain in the resin, and the molecular weight between cross-linking points of the epoxy resin decreases.
It has been determined that, due to being above 1000, the ions are mobile in the resin and therefore cause the reaction as described above. Therefore, as a result of intensive research on a resin not using such an ionic compound, the use of amino resin fine powder as heat resistant resin fine powder does not cause the above-described reaction, and thus has high chemical resistance, heat resistance, and electrical characteristics. The present inventors newly found that an adhesive having excellent hardness can be obtained, and arrived at the present invention.

【0010】すなわち、本発明は、酸あるいは酸化剤に
対して可溶性である硬化処理済の耐熱性樹脂微粉末を、
硬化処理が施された場合には酸あるいは酸化剤に対して
難溶性となる特性を示す未硬化の耐熱性樹脂マトリック
ス中に分散させてなる接着剤において、前記耐熱性樹脂
微粉末としてアミノ樹脂微粉末を用いることを特徴とす
る配線板用接着剤であり、アミノ樹脂微粉末は、メラミ
ン樹脂,尿素樹脂およびグアナミン樹脂のうちから選ば
れるいずれか1種または2種以上の樹脂微粉末とし、耐
熱性樹脂マトリックスは、熱硬化性耐熱樹脂もしくは感
光性耐熱樹脂のいずれか1つを用いることが好適であ
る。
That is, the present invention provides a cured heat-resistant resin fine powder which is soluble in an acid or an oxidizing agent,
In the case of an adhesive dispersed in an uncured heat-resistant resin matrix exhibiting a property of being hardly soluble in an acid or an oxidizing agent when subjected to a curing treatment, the amino resin fine powder is used as the heat-resistant resin fine powder. An adhesive for a wiring board characterized by using a powder, wherein the amino resin fine powder is one or more resin fine powders selected from melamine resin, urea resin and guanamine resin, and heat resistant. As the conductive resin matrix, it is preferable to use one of a thermosetting heat-resistant resin and a photosensitive heat-resistant resin.

【0011】この熱硬化性耐熱樹脂のマトリックスは、
未硬化の多官能性エポキシ樹脂または未硬化の2官能性
エポキシ樹脂のいずれかである熱硬化性耐熱樹脂とイミ
ダゾール系硬化剤との混合物からなり、上記マトリック
スは、固形分で、20〜100 wt%の未硬化の多官能性エポ
キシ樹脂と80〜0wt%の未硬化の2官能性エポキシ樹脂
とからなる熱硬化性耐熱樹脂と、固形分で、2〜10wt%
のイミダゾール系硬化剤とで構成し、アミノ樹脂微粉末
は、この耐熱性樹脂マトリックス中に、それの固形分10
0 重量部に対して10〜100 重量部分散混合する。
The matrix of the thermosetting heat-resistant resin is as follows:
It is composed of a mixture of a thermosetting heat-resistant resin, which is either an uncured polyfunctional epoxy resin or an uncured bifunctional epoxy resin, and an imidazole-based curing agent, and the matrix has a solid content of 20 to 100 wt. % Of an uncured polyfunctional epoxy resin and 80 to 0 wt% of an uncured bifunctional epoxy resin, and a solid content of 2 to 10 wt%
And an imidazole-based curing agent, and the amino resin fine powder is contained in this heat-resistant resin matrix in a solid content of 10%.
Disperse and mix 10 to 100 parts by weight with respect to 0 parts by weight.

【0012】一方、感光性耐熱樹脂のマトリックスは、
未硬化の多官能性エポキシ樹脂,未硬化の多官能性のア
クリル基を有する樹脂および未硬化の多官能性アクリル
樹脂から選ばれる少なくとも1種の感光性耐熱樹脂、も
しくは、これらの樹脂と未硬化の2官能性エポキシ樹脂
および未硬化の2官能性アクリル樹脂から選ばれる少な
くとも1種の感光性耐熱樹脂との混合物からなり、上記
マトリックスは、固形分で、20〜100 wt%の未硬化の多
官能性エポキシ樹脂,未硬化の多官能性のアクリル基を
有する樹脂および未硬化の多官能性アクリル樹脂から選
ばれる少なくとも1種の感光性耐熱樹脂と、固形分で、
80〜0wt%の未硬化の2官能性エポキシ樹脂および未硬
化の2官能性アクリル樹脂から選ばれる少なくとも1種
の感光性耐熱樹脂との混合樹脂で構成し、アミノ樹脂微
粉末は、この耐熱性樹脂マトリックス中に、それの固形
分100 重量部に対して、10〜100 重量部分散混合する。
On the other hand, the matrix of the photosensitive heat-resistant resin is
At least one photosensitive heat-resistant resin selected from an uncured polyfunctional epoxy resin, an uncured polyfunctional resin having an acrylic group, and an uncured polyfunctional acrylic resin, or an uncured resin and these resins A matrix comprising at least one photosensitive heat-resistant resin selected from the group consisting of a bifunctional epoxy resin and an uncured bifunctional acrylic resin, wherein the matrix has a solid content of 20 to 100 wt% of an uncured polystyrene. At least one photosensitive heat-resistant resin selected from a functional epoxy resin, an uncured polyfunctional acrylic resin, and an uncured polyfunctional acrylic resin;
80 to 0% by weight of a mixed resin with at least one photosensitive heat-resistant resin selected from uncured bifunctional epoxy resin and uncured bifunctional acrylic resin. The resin matrix is dispersed and mixed in an amount of 10 to 100 parts by weight based on 100 parts by weight of the solid content.

【0013】そして、上述した接着剤を用いた本発明の
プリント配線板の製造方法は、例えば、この接着剤をロ
ールコーターで塗布したり、あるいは接着剤をシート状
にしてラミネートすることにより、基板上に接着剤層を
設けて硬化したのち、その接着剤層の表面を酸あるいは
酸化剤で粗化し、その後、無電解めっきを施すことを特
徴とする。この接着剤を基板上にロールコーターで塗布
する場合は、コーティングローラとドクターバーとの隙
間を0.2 〜0.6mm 、搬送速度を0.1 〜3.0m/分とするこ
とが望ましい。なお、本発明のプリント配線板の製造方
法においては、無電解めっきを施す前にめっきレジスト
を設けることもできる。
In the method of manufacturing a printed wiring board of the present invention using the above-mentioned adhesive, for example, the adhesive is applied by a roll coater, or the adhesive is laminated in a sheet form. After the adhesive layer is provided and cured, the surface of the adhesive layer is roughened with an acid or an oxidizing agent, and then electroless plating is performed. When this adhesive is applied to the substrate by a roll coater, it is desirable that the gap between the coating roller and the doctor bar is 0.2 to 0.6 mm and the transfer speed is 0.1 to 3.0 m / min. In the method of manufacturing a printed wiring board according to the present invention, a plating resist may be provided before performing the electroless plating.

【0014】さらに、上記本発明方法により得られる本
発明のプリント配線板は、少なくとも一方の基板表面に
酸あるいは酸化剤に対して可溶性である硬化処理済の耐
熱性樹脂微粉末を、硬化処理されて酸あるいは酸化剤に
対して難溶性である特性を示す耐熱性樹脂マトリックス
中に分散させてなる接着剤層を設けて、その上に導体回
路を形成してなるプリント配線板において、接着剤中
の、耐熱性樹脂微粉末としてアミノ樹脂微粉末を用いた
ことを特徴とするものである。なお、上記本発明プリン
ト配線板の導体回路間には、めっきレジストが残存して
いてもよい。
Further, the printed wiring board of the present invention obtained by the above method of the present invention is obtained by subjecting at least one substrate surface to a hardening-treated heat-resistant resin fine powder which is soluble in an acid or an oxidizing agent. In a printed wiring board formed by providing an adhesive layer dispersed in a heat-resistant resin matrix exhibiting a property of being hardly soluble in an acid or an oxidizing agent, and forming a conductive circuit thereon, Characterized in that amino resin fine powder is used as heat resistant resin fine powder. Note that a plating resist may remain between the conductor circuits of the printed wiring board of the present invention.

【0015】[0015]

【作用】さて、既知の接着剤では、上述のようなマイグ
レーション反応により、表面抵抗値が低下する現象が観
察される。このことから、発明者らは、種々の樹脂に対
し、温度40℃, 湿度90%,電圧24Vの条件下で長期劣化
試験を行い、抵抗値の経時変化を調べた。その結果、電
気特性に優れる樹脂としては、ポリイミド樹脂,エポキ
シ樹脂などが知られているが、なかでも酸化剤に可溶
で、かつ抵抗値の経時変化がない、すなわち上記マイグ
レーション反応を引き起こすことのない樹脂として、ア
ミノ樹脂が最も効果的な樹脂であることを突き止めたの
である。
With the known adhesive, a phenomenon in which the surface resistance decreases due to the above-described migration reaction is observed. From this, the inventors conducted a long-term deterioration test on various resins under the conditions of a temperature of 40 ° C., a humidity of 90% and a voltage of 24 V, and examined the change over time in the resistance value. As a result, polyimide resins, epoxy resins, and the like are known as resins having excellent electrical properties. Among them, resins that are soluble in an oxidizing agent and have no change with time in resistance value, that is, the above-described migration reaction can be caused. Amino resin was found to be the most effective resin.

【0016】従って、本発明によれば、耐熱性樹脂微粉
末として酸や酸化剤に対して可溶性である硬化処理済の
アミノ樹脂微粉末を採用することにより、使用環境とく
に高温,高湿度雰囲気で使用される場合であっても、マ
イグレーションを起こしたり、導体回路が溶けて、表面
抵抗値が低下するようなことがなく、充分な導体の密着
強度が得られる。しかも、耐薬品性,耐熱性,電気特
性,硬度に優れる接着剤とすることができるようにな
る。
Therefore, according to the present invention, by using a cured amino resin fine powder which is soluble in an acid or an oxidizing agent as a heat resistant resin fine powder, it can be used in a use environment, particularly in a high temperature and high humidity atmosphere. Even when used, migration does not occur, and the conductor circuit is not melted, so that the surface resistance value does not decrease, and sufficient adhesion strength of the conductor can be obtained. In addition, an adhesive having excellent chemical resistance, heat resistance, electrical properties, and hardness can be obtained.

【0017】本発明の接着剤において、耐熱性樹脂マト
リックス中に分散含有させてアンカー窪みを形成するた
めの上記アミノ樹脂微粉末は、耐熱性樹脂マトリックス
の合計固形分100 重量部に対して、10〜100 重量部の範
囲を混合する。この理由は、この微粉末の配合量が10重
量部より少ないと、溶解除去して形成されるアンカーが
明確に形成されない。一方、微粉末の配合量が100 重量
部よりも多くなると、接着剤層が多孔質になり、接着剤
層と無電解めっき膜の密着強度(ピール強度)が低下す
るからである。
In the adhesive of the present invention, the amino resin fine powder for forming an anchor recess by being dispersed in a heat-resistant resin matrix is used in an amount of 10 parts by weight based on 100 parts by weight of the total solid content of the heat-resistant resin matrix. Mix in the range of ~ 100 parts by weight. The reason for this is that if the amount of the fine powder is less than 10 parts by weight, the anchor formed by dissolution and removal is not clearly formed. On the other hand, if the amount of the fine powder is more than 100 parts by weight, the adhesive layer becomes porous, and the adhesion strength (peel strength) between the adhesive layer and the electroless plating film decreases.

【0018】このようなアミノ樹脂微粉末の粒度は、平
均粒径が10μm以下であることが好ましく、特に5μm
以下であることが好適である。その理由は、平均粒径が
10μmより大きいと、溶解除去して形成されるアンカー
の密度が小さくなり、かつ不均一になりやすいため、密
着強度とその信頼性が低下する。しかも、接着剤層表面
の凹凸が激しくなるので、導体の微細パターンが得にく
く、かつ部品などを実装する上でも好ましくないからで
ある。
The average particle size of the amino resin fine powder is preferably 10 μm or less, and more preferably 5 μm
It is preferred that: The reason is that the average particle size is
If it is larger than 10 μm, the density of the anchor formed by dissolution and removal becomes small and tends to be non-uniform, so that the adhesion strength and its reliability are reduced. In addition, the irregularities on the surface of the adhesive layer become severe, so that it is difficult to obtain a fine pattern of the conductor, and it is not preferable for mounting components and the like.

【0019】このようなアミノ樹脂微粉末としては、例
えば、平均粒径が2μm以下のアミノ樹脂微粉末を凝集
させて平均粒径2〜10μmの大きさとした凝集粒子、平
均粒径2〜10μmのアミノ樹脂粉末と平均粒径2μm以
下のアミノ樹脂粉末との粒子混合物、または平均粒径2
〜10μmのアミノ樹脂粉末の表面に平均粒径が2μm以
下のアミノ樹脂粉末もしくは無機微粉末のいずれか少な
くとも1種を付着させてなる疑似粒子のなかから選ばれ
ることが望ましい。
Examples of such amino resin fine powder include aggregated particles having an average particle diameter of 2 to 10 μm by aggregating amino resin fine powder having an average particle diameter of 2 μm or less, and an average particle diameter of 2 to 10 μm. Particle mixture of amino resin powder and amino resin powder having an average particle diameter of 2 μm or less, or an average particle diameter of 2
It is preferable to select from pseudo particles obtained by adhering at least one of an amino resin powder having an average particle diameter of 2 μm or less and an inorganic fine powder on the surface of an amino resin powder of about 10 μm.

【0020】本発明で耐熱性樹脂微粉末として採用され
たアミノ樹脂微粉末は、ホルムアルデヒドと反応できる
アミノ基を有する樹脂微粉末であり、メラミン樹脂,尿
素樹脂およびグアナミン樹脂のうちから選ばれるいずれ
か1種または2種以上の樹脂微粉末とする。この理由
は、これらの樹脂が、耐熱性に優れる、表面硬度が
大きい、機械的強度に優れる、電気絶縁性,特に耐
アーク特性に優れる、耐有機溶剤性がよい、酸また
は酸化剤に対して溶解性が高いからである。
The amino resin fine powder used as the heat-resistant resin fine powder in the present invention is a resin fine powder having an amino group capable of reacting with formaldehyde, and is selected from melamine resin, urea resin and guanamine resin. One or more resin fine powders. The reason is that these resins have excellent heat resistance, high surface hardness, excellent mechanical strength, electrical insulation, especially excellent arc resistance, good organic solvent resistance, acid or oxidizing agent. This is because the solubility is high.

【0021】これらの樹脂のうち、メラミン樹脂は、メ
ラミンとホルムアルデヒドとの付加縮合物であり、酸性
で反応すると白色で水に不溶の樹脂を生成し、アルカリ
性で反応すると透明で水に可溶の樹脂を生成する。すな
わち、メラミン樹脂は、(化学式1)に示すように、メ
ラミンとホルムアルデヒドを中性もしくはアルカリ性で
反応させてメチロールメラミンとし、このメチロールメ
ラミンを、酸または加熱により脱水,脱ホルマリンして
縮合させ、メチレン結合,エーテル結合を形成して巨大
分子化することにより得られる。さらに、このメラミン
樹脂は、成形材料としては、一般に、メラミンに対する
ホルムアルデヒドのモル比が約1:2〜1:3の範囲に
あり、特にこのモル比が大きいものほど硬度の高い成形
品をつくるのに適する。従って、上記モル比の範囲内に
あるメラミンとホルムアルデヒドを、アンモニアなどを
用いて中性ないし微アルカリ性に保ち、80〜90℃で反応
させ、得られたシロップにレーヨン, パルプ布細片, ア
スベスト, 繊維などの基材を加えて乾燥, 粗砕し、顔
料, 離型剤,硬化剤などを加え微粉砕し成形材料とす
る。なお、硬化剤を加えなくても加熱加圧で十分硬化す
るが、一般には、クエン酸, フタル酸, 有機カルボン酸
エステルなどの硬化剤を用いる。
Among these resins, the melamine resin is an addition condensation product of melamine and formaldehyde, and produces a white and water-insoluble resin when reacted with an acid, and a transparent and water-soluble resin when reacted with an alkali. Produce resin. That is, as shown in (Chemical formula 1), a melamine resin is obtained by reacting melamine with formaldehyde in a neutral or alkaline manner to form methylol melamine. It is obtained by forming a bond and an ether bond to form a macromolecule. Further, the melamine resin generally has a molar ratio of formaldehyde to melamine in the range of about 1: 2 to 1: 3 as a molding material. Suitable for. Therefore, melamine and formaldehyde in the above molar ratio range are kept neutral or slightly alkaline with ammonia or the like, and reacted at 80 to 90 ° C., and the resulting syrup is rayon, pulp cloth strip, asbestos, A base material such as fiber is added, dried and crushed, and a pigment, a release agent, a curing agent and the like are added and finely crushed to obtain a molding material. It should be noted that curing is sufficiently performed by heating and pressing without adding a curing agent, but a curing agent such as citric acid, phthalic acid, or organic carboxylic acid ester is generally used.

【0022】[0022]

【化1】 Embedded image

【0023】尿素樹脂は、尿素とホルムアルデヒドの縮
重合により作られる熱硬化性樹脂である(化学式2参
照)。この尿素樹脂からなる微粉末の製法としては、例
えば、まず、尿素とホルマリンを約1:2のモル比で混
ぜ、中性またはアルカリ性で熱することにより、モノメ
チロール尿素,ジメチロール尿素を経て、45〜50%の初
期重合物を含む液を調製し、その後、この初期重合物に
パルプまたは木粉などの充填材を加えて混合し、さらに
加熱して重合を進め、乾燥後粉砕して微粉末とする。
The urea resin is a thermosetting resin produced by the condensation polymerization of urea and formaldehyde (see chemical formula 2). As a method for producing the fine powder made of the urea resin, for example, first, urea and formalin are mixed at a molar ratio of about 1: 2, and heated under neutral or alkaline conditions to obtain monomethylol urea, dimethylol urea, A liquid containing a prepolymer of about 50% is prepared, and then a filler such as pulp or wood flour is added to the prepolymer and mixed, and further heated to proceed with polymerization, dried and pulverized to obtain a fine powder. And

【0024】[0024]

【化2】 Embedded image

【0025】グアナミン樹脂は、メラミン樹脂や尿素樹
脂と同様にして得られるグアナミンとホルムアルデヒド
の付加縮合物であり(化学式3参照)、グアナミンとホ
ルムアルデヒドを酸または加熱により脱水,脱ホルマリ
ンして縮合させ、メチレン結合,エーテル結合を形成し
て巨大分子化することにより得られる。
The guanamine resin is an addition condensate of guanamine and formaldehyde obtained in the same manner as the melamine resin and the urea resin (see chemical formula 3). It is obtained by forming a methylene bond and an ether bond to form a macromolecule.

【0026】[0026]

【化3】 Embedded image

【0027】なお、エポキシ樹脂微粉末, 例えば、ビス
フェノールA型エポキシ樹脂(油化シェル製)微粉末
は、樹脂中に残留するナトリウムイオンや塩素イオンの
濃度が、いずれも5ppm 程度あり、しかも、ジシアン系
硬化剤で硬化して酸や酸化剤に可溶としたものは、架橋
点間分子量が1900で、前記イオンが樹脂中で動きやす
い。それ故に、アンカー形成用耐熱性樹脂微粉末として
エポキシ樹脂を使用すると、マイグレーション反応を引
き起こすこととなる。一方、耐熱性樹脂マトリックスと
して使用される酸や酸化剤に不溶のエポキシ樹脂は、架
橋点間分子量が 600程度で、ナトリウムイオンや塩素イ
オンが樹脂中で固定されるので、マイグレーション反応
を引き起こしにくい。
The fine powder of epoxy resin, for example, fine powder of bisphenol A type epoxy resin (manufactured by Yuka Shell) has a concentration of sodium ions and chloride ions remaining in the resin of about 5 ppm and dicyanic acid. Those cured by a system curing agent and made soluble in an acid or an oxidizing agent have a molecular weight between crosslinking points of 1900, and the ions easily move in the resin. Therefore, when an epoxy resin is used as the heat-resistant resin fine powder for forming an anchor, a migration reaction is caused. On the other hand, an epoxy resin that is insoluble in an acid or an oxidizing agent used as a heat-resistant resin matrix has a molecular weight between cross-linking points of about 600 and sodium ions and chloride ions are fixed in the resin, so that a migration reaction is unlikely to occur.

【0028】次に、上記アミノ樹脂微粉末を分散させる
耐熱性樹脂マトリックスとしては、耐熱性,電気絶縁
性,化学的安定性および接着性に優れ、かつ硬化処理す
ることにより酸化剤に対して難溶性となる特性を有する
熱硬化性耐熱樹脂もしくは感光性耐熱樹脂のいずれか1
つを用いることが好適である。上記熱硬化性耐熱樹脂か
らなるマトリックスとしては、未硬化の多官能性エポキ
シ樹脂または未硬化の2官能性エポキシ樹脂のいずれか
である熱硬化性耐熱樹脂と、イミダゾール系硬化剤の混
合物を用いる。なかでも、ビスフェノールA型,ビスフ
ェノールF型,クレゾールノボラック型やフェノールノ
ボラック型のエポキシ樹脂、ビスマレイドトリアジン樹
脂,ポリイミド樹脂およびフェノール樹脂などの熱硬化
性耐熱樹脂が好適である。
Next, the heat-resistant resin matrix in which the amino resin fine powder is dispersed is excellent in heat resistance, electric insulation, chemical stability and adhesiveness, and is hard to resist an oxidizing agent by curing. Either thermosetting heat-resistant resin or photosensitive heat-resistant resin having the property of becoming soluble
It is preferred to use one. As the matrix composed of the thermosetting heat-resistant resin, a mixture of a thermosetting heat-resistant resin, which is either an uncured polyfunctional epoxy resin or an uncured bifunctional epoxy resin, and an imidazole-based curing agent is used. Of these, thermosetting heat-resistant resins such as bisphenol A type, bisphenol F type, cresol novolak type and phenol novolak type epoxy resin, bismaleid triazine resin, polyimide resin and phenol resin are preferable.

【0029】この熱硬化性耐熱樹脂マトリックスは、固
形分で、20〜100 wt%の未硬化の多官能性エポキシ樹脂
と80〜0wt%の未硬化の2官能性エポキシ樹脂とからな
る熱硬化性耐熱樹脂と、固形分で、2〜10wt%のイミダ
ゾール系硬化剤との混合物が好ましい。この理由は、多
官能性エポキシ樹脂の固形分が20wt%より少ない場合に
は、接着剤の硬度が低下し、しかも耐薬品性が低下する
からである。また、イミダゾール系硬化剤の固形分が10
wt%を超えると硬化しすぎて脆くなり、2wt%より少な
いと硬化が不十分なために充分な硬度が得られないから
である。
This thermosetting heat-resistant resin matrix is composed of a thermosetting thermosetting resin composed of 20 to 100% by weight of an uncured polyfunctional epoxy resin and 80 to 0% by weight of an uncured bifunctional epoxy resin. A mixture of a heat-resistant resin and an imidazole-based curing agent having a solid content of 2 to 10% by weight is preferable. The reason is that when the solid content of the polyfunctional epoxy resin is less than 20% by weight, the hardness of the adhesive decreases and the chemical resistance decreases. In addition, the solid content of the imidazole-based curing agent is 10%.
If the content is more than 2% by weight, the composition is too hard to be brittle, and if the content is less than 2% by weight, the curing is insufficient and sufficient hardness cannot be obtained.

【0030】なお、硬化済のアミノ樹脂微粉末を、未硬
化の多官能性エポキシ樹脂または未硬化の2官能性エポ
キシ樹脂のいずれかの耐熱性樹脂マトリックス中に分散
させてなる混合物は、イミダゾール系硬化剤とそれぞれ
分離して保存し、使用直前にこの両者を混合して使用す
ることは、ポットライフ(可使用時間)を長くする上で
望ましい。
The mixture obtained by dispersing the cured amino resin fine powder in a heat-resistant resin matrix of either an uncured polyfunctional epoxy resin or an uncured bifunctional epoxy resin is an imidazole-based resin. It is desirable to separately store the curing agent and store them, and to mix and use the two immediately before use in order to prolong the pot life (usable time).

【0031】一方、感光性耐熱樹脂からなるマトリック
スとしては、未硬化の多官能性エポキシ樹脂,未硬化の
多官能性のアクリル基を有する樹脂および未硬化のアク
リル樹脂から選ばれる少なくとも1種の樹脂、もしく
は、これらの樹脂と未硬化の2官能性エポキシ樹脂およ
び未硬化の2官能性アクリル樹脂から選ばれる少なくと
も1種の感光性耐熱樹脂との混合樹脂を用いる。なかで
も、フェノールアラルキル型やフェノールノボラック型
のエポキシ樹脂をアクリル化した樹脂,アクリル樹脂お
よび感光性ポリイミド樹脂などの感光性耐熱樹脂が好適
である。
On the other hand, the matrix made of the photosensitive heat-resistant resin is at least one resin selected from the group consisting of an uncured polyfunctional epoxy resin, an uncured polyfunctional acrylic group-containing resin and an uncured acrylic resin. Alternatively, a mixed resin of these resins and at least one photosensitive heat-resistant resin selected from an uncured bifunctional epoxy resin and an uncured bifunctional acrylic resin is used. Among them, a photosensitive heat-resistant resin such as a phenol aralkyl-type or phenol novolak-type epoxy resin acrylated resin, an acrylic resin, and a photosensitive polyimide resin are preferable.

【0032】この感光性耐熱樹脂マトリックスは、固形
分で、20〜100wt %の未硬化の多官能性エポキシ樹脂,
未硬化の多官能性のアクリル基を有する樹脂および未硬
化の多官能性アクリル樹脂から選ばれる少なくとも1種
の感光性耐熱樹脂と、80〜0wt%の未硬化の2官能性エ
ポキシ樹脂および未硬化の2官能性アクリル樹脂から選
ばれる少なくとも1種の感光性耐熱樹脂との混合樹脂が
好ましい。この理由は、多官能性樹脂の固形分が20wt%
より少ない場合には、接着剤の硬度が低下し、しかも耐
薬品性が低下するからである。この感光性耐熱樹脂マト
リックスには、さらに、光開始剤や光増感剤、反応性希
釈剤などを添加してもよい。
The photosensitive heat-resistant resin matrix has a solid content of 20 to 100% by weight of an uncured polyfunctional epoxy resin,
At least one photosensitive heat-resistant resin selected from an uncured polyfunctional acrylic resin and an uncured polyfunctional acrylic resin; 80 to 0 wt% of uncured bifunctional epoxy resin and uncured A mixed resin with at least one photosensitive heat-resistant resin selected from the above bifunctional acrylic resins is preferred. The reason is that the solid content of polyfunctional resin is 20wt%
If the amount is smaller, the hardness of the adhesive decreases and the chemical resistance decreases. A photoinitiator, a photosensitizer, a reactive diluent, and the like may be further added to the photosensitive heat-resistant resin matrix.

【0033】なお、耐熱性樹脂マトリックスおよびアミ
ノ樹脂微粉末は、ハロゲン化などの不燃化処理が施され
ていてもよい。
The heat-resistant resin matrix and the amino resin fine powder may be subjected to non-combustibility treatment such as halogenation.

【0034】次に、本発明の配線板用接着剤を用いてプ
リント配線板を製造する方法について詳細に説明する。
本発明の配線板用接着剤を用いたプリント配線板の製造
に当たっては、まず、基板上に、酸あるいは酸化剤に対
して可溶性である硬化処理済のアミノ樹脂微粉末を、硬
化処理が施された場合には酸あるいは酸化剤に対して難
溶性となる特性を示す未硬化の耐熱性樹脂マトリックス
中に分散させてなる接着剤を、ロールコーターなどによ
り塗布し、乾燥硬化して、接着剤層を形成する。この接
着剤層の厚さは通常2〜40μm程度であるが、この接着
剤層を金属基板や多層配線板の層間絶縁層を兼ねて使用
する場合にはそれ以上に厚く塗布することもできる。
Next, a method for manufacturing a printed wiring board using the adhesive for wiring boards of the present invention will be described in detail.
In producing a printed wiring board using the wiring board adhesive of the present invention, first, a cured amino resin fine powder that is soluble in an acid or an oxidizing agent is cured on a substrate. In the case of an adhesive or an uncured heat-resistant resin matrix that exhibits the property of being hardly soluble in an acid or oxidizing agent, an adhesive is applied by a roll coater or the like, dried and cured to form an adhesive layer. To form The thickness of the adhesive layer is usually about 2 to 40 μm. However, when the adhesive layer is used also as an interlayer insulating layer of a metal substrate or a multilayer wiring board, it can be applied more thickly.

【0035】この塗布に当っては、耐熱性樹脂マトリッ
クスがエポキシ樹脂の場合は、コーティングローラとド
クターバーとの隙間を0.2 〜0.6mm 、搬送速度を0.1 〜
3.0m/分とすることが好ましい。この理由は、前記隙間
が0.6mm より広いと塗膜にムラが発生しやすく、0.2mm
より狭いと適切な膜厚を得難いからである。また、搬送
速度が0.1mm /分より遅いと量産性に欠け、3.0mm /分
より速いと膜厚が不均一となるからである。一方、耐熱
性樹脂マトリックスがアクリル基を有する樹脂もしくは
アクリル樹脂の場合も同様である。
In this application, when the heat-resistant resin matrix is an epoxy resin, the gap between the coating roller and the doctor bar is 0.2 to 0.6 mm, and the transport speed is 0.1 to 0.6.
Preferably it is 3.0 m / min. The reason is that if the gap is wider than 0.6 mm, the coating film tends to be uneven,
If the thickness is smaller, it is difficult to obtain an appropriate film thickness. On the other hand, if the conveying speed is lower than 0.1 mm / min, mass productivity is lacking, and if the conveying speed is higher than 3.0 mm / min, the film thickness becomes non-uniform. On the other hand, the same applies to the case where the heat-resistant resin matrix is a resin having an acrylic group or an acrylic resin.

【0036】本発明の製造方法で使用する上記基板とし
ては、例えばプラスチック基板,セラミック基板,金属
基板およびフィルム基板などを使用することができ、具
体的にはガラスエポキシ基板,ガラスポリイミド基板,
アルミナ基板,低温焼成セラミック基板,窒化アルミニ
ウム基板,アルミニウム基板,鉄基板およびポリイミド
フィルム基板などを使用することができる。そして、こ
れらの基板を用いて、片面配線板,両面スルーホール配
線板およびCu/ポリイミド多層配線板のような多層配線
板などを製作することができる。なお、上記接着剤その
ものを板状あるいはフィルム状プリプレグに成形して無
電解めっきを施すことのできる接着性を有する基体とす
ることもできる。
As the substrate used in the manufacturing method of the present invention, for example, a plastic substrate, a ceramic substrate, a metal substrate, a film substrate, and the like can be used.
Alumina substrates, low-temperature fired ceramic substrates, aluminum nitride substrates, aluminum substrates, iron substrates, polyimide film substrates, and the like can be used. By using these substrates, a single-sided wiring board, a double-sided through-hole wiring board, and a multilayer wiring board such as a Cu / polyimide multilayer wiring board can be manufactured. The adhesive itself can be formed into a plate-like or film-like prepreg to provide an adhesive base that can be subjected to electroless plating.

【0037】上述した酸あるいは酸化剤に対して可溶性
のアミノ樹脂微粉末は、硬化処理された耐熱性樹脂で構
成される。このアミノ樹脂微粉末を硬化処理されたもの
に限ったのは、硬化処理していないものを用いると、耐
熱性樹脂マトリックスを形成する耐熱性樹脂液あるいは
この耐熱性樹脂マトリックスを形成する耐熱性樹脂を溶
剤を用いて溶解した溶液中に添加した場合、このアミノ
樹脂微粉末も該耐熱性樹脂液あるいは溶液中に溶解して
しまい、アミノ樹脂微粉末としての機能を発揮させるこ
とが不可能になるからである。
The fine amino resin powder soluble in the above-mentioned acid or oxidizing agent is composed of a cured heat-resistant resin. The amino resin fine powder is limited to the cured resin. When the uncured resin is used, the heat resistant resin liquid for forming the heat resistant resin matrix or the heat resistant resin for forming the heat resistant resin matrix is used. When added to a solution dissolved using a solvent, this amino resin fine powder also dissolves in the heat-resistant resin liquid or solution, making it impossible to exhibit the function as the amino resin fine powder. Because.

【0038】かかるアミノ樹脂微粉末は、例えば、アミ
ノ樹脂を熱硬化させてからジェットミルや凍結粉砕機な
どを用いて粉砕したり、硬化処理する前にアミノ樹脂溶
液を噴霧乾燥したのち硬化処理したり、あるいは未硬化
アミノ樹脂エマルジョンに水溶液硬化剤を加えて攪拌し
たりして得られる粒子を、風力分級機などにより分級す
ることによって製造される。また、アミノ樹脂を発泡剤
を用いて加熱硬化させてから粉砕することにより、独立
気泡を有するアミノ樹脂微粉末とすることもできる。
The amino resin fine powder is, for example, heat-cured amino resin and then pulverized using a jet mill or a freeze pulverizer, or spray-dried the amino resin solution before curing, and then cured. Particles obtained by adding an aqueous curing agent to an uncured amino resin emulsion and stirring the resulting mixture are classified by an air classifier or the like. Further, the amino resin may be cured by heating with a foaming agent and then pulverized to obtain amino resin fine powder having closed cells.

【0039】このアミノ樹脂微粉末を構成する耐熱性樹
脂を硬化処理する方法としては、加熱により硬化させる
方法あるいは触媒を添加して硬化させる方法などがある
が、なかでも加熱硬化させる方法が実用的である。
As a method for curing the heat-resistant resin constituting the amino resin fine powder, there is a method of curing by heating or a method of curing by adding a catalyst. Among them, the method of curing by heating is practical. It is.

【0040】前記アミノ樹脂微粉末のうち、アミノ樹脂
粉末の表面にアミノ樹脂微粉末もしくは無機微粉末のい
ずれか少なくとも1種を付着させてなる擬似粒子とする
方法としては、例えば、アミノ樹脂粒子の表面にアミノ
樹脂微粉末もしくは無機微粉末をまぶした後、加熱して
融着させるか、結合剤を介して接着させる方法を適用す
ることが有利である。
Among the amino resin fine powders, as a method for forming pseudo particles obtained by adhering at least one of amino resin fine powder and inorganic fine powder to the surface of the amino resin powder, for example, amino resin particles It is advantageous to apply a method in which an amino resin fine powder or an inorganic fine powder is coated on the surface and then heated and fused or bonded via a binder.

【0041】前記アミノ樹脂微粉末のうち、アミノ樹脂
粉末を凝集させた凝集粒子とする方法としては、例え
ば、アミノ樹脂粉末を、熱風乾燥器などで単に加熱する
か、あるいは各種バインダーを添加、混合して乾燥する
などして凝集させる。そして、その後、ボールミル、超
音波分散機などを用いて解砕し、さらに風力分級機など
により分級することによって製造することが有利であ
る。
Among the amino resin fine powders, as a method of forming aggregated particles obtained by aggregating the amino resin powder, for example, the amino resin powder is simply heated by a hot air drier or the like, or various binders are added and mixed. And agglomerated by drying. Then, it is advantageous that the product is crushed using a ball mill, an ultrasonic disperser, or the like, and further classified by an air classifier or the like to produce the product.

【0042】このようにして得られるアミノ樹脂微粉末
の形状は、球形だけでなく各種の複雑な形状を有してお
り、そのためこれにより形成されるアンカーの形状もそ
れに応じて複雑形状になるため、ピール強度、プル強度
などのめっき膜の密着強度を向上させるのに有効に作用
する。
The shape of the amino resin fine powder obtained in this way has not only a spherical shape but also various complicated shapes, so that the shape of the anchor formed thereby becomes complicated accordingly. It works effectively to improve the adhesion strength of the plating film such as the peel strength and the pull strength.

【0043】上述の如くして製造されたアミノ樹脂微粉
末は、耐熱性樹脂マトリックスを形成する耐熱性樹脂液
あるいはこの耐熱性樹脂マトリックスを形成する耐熱性
樹脂を溶剤を用いて溶解した溶液中に添加して、均一分
散させる。
The amino resin fine powder produced as described above is mixed with a heat-resistant resin solution forming a heat-resistant resin matrix or a solution obtained by dissolving a heat-resistant resin forming the heat-resistant resin matrix using a solvent. Add and uniformly disperse.

【0044】前記アミノ樹脂微粉末を添加する耐熱性樹
脂液としては、溶剤を含まない耐熱性樹脂をそのまま使
用することもできるが、特に耐熱性樹脂を溶剤に溶解し
てなる耐熱性樹脂液は、粘度調節が容易にできるため樹
脂微粉末を均一に分散させることができ、しかも基板に
塗布し易いので有利に使用することができる。前記耐熱
性樹脂を溶解するのに使用する溶剤としては、通常溶
剤、例えばメチルエチルケトン,メチルセロソルブ,エ
チルセロソルブ,ブチルセロソルブ,ブチルセロソルブ
アセテート,ブチルカルビトール,ブチルセルロース,
テトラリン,ジメチルホルムアミド,ノルマルメチルピ
ロリドンなどを使用することができる。
As the heat-resistant resin liquid to which the amino resin fine powder is added, a heat-resistant resin containing no solvent can be used as it is. Particularly, a heat-resistant resin liquid obtained by dissolving a heat-resistant resin in a solvent is preferable. Since the viscosity can be easily adjusted, the resin fine powder can be uniformly dispersed, and can be advantageously used because it can be easily applied to a substrate. Examples of the solvent used for dissolving the heat-resistant resin include, for example, methyl ethyl ketone, methyl cellosolve, ethyl cellosolve, butyl cellosolve, butyl cellosolve acetate, butyl carbitol, butyl cellulose, and the like.
Tetralin, dimethylformamide, normal methylpyrrolidone and the like can be used.

【0045】また、上記耐熱性樹脂液に、例えば、フッ
素樹脂やポリイミド樹脂,ベンゾグアナミン樹脂などの
有機質充填剤、あるいはシリカやアルミナ,酸化チタ
ン,ジルコニアなどの無機質微粉末からなる充填剤を適
宜配合してもよい。その他、着色剤(顔料),レベリン
グ剤,消泡剤,紫外線吸収剤および難燃化剤などの添加
剤を用いることができる。
An organic filler such as a fluororesin, a polyimide resin or a benzoguanamine resin, or a filler composed of an inorganic fine powder such as silica, alumina, titanium oxide, or zirconia is appropriately blended into the heat-resistant resin liquid. You may. In addition, additives such as a coloring agent (pigment), a leveling agent, an antifoaming agent, an ultraviolet absorber, and a flame retardant can be used.

【0046】次の工程は、基板上に設けた接着剤層の表
面を粗化する処理である。この工程においては、耐熱性
樹脂マトリックスが熱硬化性樹脂の場合は、基板上に形
成させた未硬化もしくは半硬化状態(Bステージ状態)
の接着剤層を熱硬化して硬化状態(Cステージ状態)と
し、その後、前記接着剤層の表面部分に分散しているア
ミノ樹脂微粉末の少なくとも一部を、酸や酸化剤で溶解
除去して接着剤層の表面を粗化する。
The next step is a treatment for roughening the surface of the adhesive layer provided on the substrate. In this step, when the heat-resistant resin matrix is a thermosetting resin, an uncured or semi-cured state formed on the substrate (B-stage state)
Is thermally cured to a cured state (C stage state), and then at least a part of the amino resin fine powder dispersed on the surface of the adhesive layer is dissolved and removed with an acid or an oxidizing agent. To roughen the surface of the adhesive layer.

【0047】一方、接着剤層の前記耐熱性樹脂マトリッ
クスが感光性樹脂の場合は、基板上に形成させた未硬化
もしくは半硬化状態(Bステージ状態)の接着剤層にフ
ォトマスクを密着させ、光硬化して硬化状態(Cステー
ジ状態)とし、その後、不要な部分を現像処理して、粗
化面を得る。
On the other hand, when the heat-resistant resin matrix of the adhesive layer is a photosensitive resin, a photomask is brought into close contact with the uncured or semi-cured (B-stage) adhesive layer formed on the substrate. Light curing is performed to obtain a cured state (C-stage state), and thereafter, unnecessary portions are developed to obtain a roughened surface.

【0048】上記接着剤層の表面に分散しているアミノ
樹脂微粉末の溶解除去は、上記酸もしくは酸化剤の溶液
を用いて、接着剤層を形成した基板をその溶液中に浸漬
するか、あるいは基板に酸もしくは酸化剤溶液をスプレ
ーするなどの手段によって実施することができ、その結
果、接着剤層の表面を粗化することができる。なお、こ
のアミノ樹脂微粉末の溶解除去を効果的に行わせること
を目的として、予め前記接着剤層の表面部分を、例えば
微粉研磨剤によるポリシングや液体ホーニングを行うこ
とにより軽く粗化することが極めて有効である。
The amino resin fine powder dispersed on the surface of the adhesive layer can be dissolved and removed by immersing the substrate on which the adhesive layer has been formed in the solution using the acid or oxidizing agent solution, Alternatively, it can be carried out by means such as spraying an acid or oxidant solution onto the substrate, and as a result, the surface of the adhesive layer can be roughened. For the purpose of effectively dissolving and removing the amino resin fine powder, the surface portion of the adhesive layer may be lightly roughened in advance by, for example, polishing with a fine abrasive or liquid honing. Extremely effective.

【0049】ここで、接着剤層を粗化する酸化剤として
は、クロム酸やクロム酸塩,過マンガン酸塩,オゾンな
どがよく、酸としては、塩酸や硫酸,有機酸などがよ
い。
The oxidizing agent for roughening the adhesive layer is preferably chromic acid, chromate, permanganate, ozone or the like, and the acid is preferably hydrochloric acid, sulfuric acid, organic acid or the like.

【0050】そして次の工程は、基板上の粗化した接着
剤層の表面に無電解めっきを施して、必要な導体パター
ンを形成する処理である。この処理は、例えば無電解銅
めっき,無電解ニッケルめっき,無電解スズめっき,無
電解金めっきおよび無電解銀めっきなどを挙げることが
でき、特に無電解銅めっき,無電解ニッケルめっきおよ
び無電解金めっきのいずれか少なくとも1種の方法を用
いることが好適である。
The next step is a process of forming a required conductor pattern by applying electroless plating to the surface of the roughened adhesive layer on the substrate. This treatment includes, for example, electroless copper plating, electroless nickel plating, electroless tin plating, electroless gold plating, and electroless silver plating, and particularly, electroless copper plating, electroless nickel plating, and electroless gold plating. It is preferable to use at least one method of plating.

【0051】なお、本発明の製造方法においては、前記
無電解めっきを施した上に、さらに異なる種類の無電解
めっきあるいは電気めっきを行ったり、ハンダをコート
したりすることもできる。
In the manufacturing method of the present invention, after performing the above-described electroless plating, different types of electroless plating or electroplating may be further performed, or solder may be coated.

【0052】また、本発明方法において上記の導体回路
は、既知のプリント配線板について実施されている他の
方法でも形成することができ、例えば基板に無電解めっ
きを施してから回路をエッチングする方法や無電解めっ
きを施す際に直接回路を形成する方法などを適用しても
よい。
Further, in the method of the present invention, the above-mentioned conductive circuit can be formed by other methods used for a known printed wiring board. For example, a method of performing electroless plating on a substrate and then etching the circuit. For example, a method of directly forming a circuit when performing electroless plating or the like may be applied.

【0053】さらに、本発明方法において多層プリント
配線板を製造する場合は、バイアホール用の穴などを形
成して、上述した方法と同様にして無電解めっきを施す
ことを特徴とするアディティブプロセスが適用される。
なお、感光性樹脂を用いた場合は、特にビルドアップ多
層配線板を製造するのに効果的である。
Further, in the case of manufacturing a multilayer printed wiring board by the method of the present invention, an additive process characterized by forming holes for via holes and performing electroless plating in the same manner as described above. Applied.
The use of a photosensitive resin is particularly effective for manufacturing a build-up multilayer wiring board.

【0054】上述した本発明の製造方法の適用により得
られる本発明のプリント配線基板は、例えば、図1(f),
図2(f),図6(g) に示すように基板1上に接着剤層2を
介してめっきレジスト3および導体回路4を形成してな
る片面プリント配線板、図3(f) に示すように基板1両
面の接着剤層2とスルーホール5を介してめっきレジス
ト3および導体回路4を形成してなる両面スルーホール
プリント配線板、および図4(d) に示すように第1導体
層4を形成させた基板1上に、バイアホール7を有する
層間絶縁層(接着剤層)2を介した導体回路(4,6,8,1
0)を多層形成させてなるビルドアップ多層配線板にお
いて、上記接着剤が、いずれの場合も、酸あるいは酸化
剤に対して可溶性である硬化処理済の耐熱性樹脂微粉末
を、硬化処理されて酸あるいは酸化剤に対して難溶性で
ある特性を示す耐熱性樹脂マトリックス中に分散させて
なるものであり、しかも、前記耐熱性樹脂微粉末として
アミノ樹脂微粉末を用い、耐熱性樹脂マトリックスとし
ては、エポキシ樹脂,アクリル基を有する樹脂,アクリ
ル樹脂から選ばれる少なくとも1種の樹脂を使用するも
のである。
The printed wiring board of the present invention obtained by applying the above-described manufacturing method of the present invention is, for example, shown in FIG.
As shown in FIGS. 2 (f) and 6 (g), a single-sided printed wiring board having a plating resist 3 and a conductive circuit 4 formed on a substrate 1 via an adhesive layer 2, as shown in FIG. 3 (f). A double-sided through-hole printed wiring board in which a plating resist 3 and a conductive circuit 4 are formed via an adhesive layer 2 on both sides of a substrate 1 and a through-hole 5, and a first conductive layer as shown in FIG. 4 is formed on a substrate 1 on which a conductive circuit (4, 6, 8, 1) is interposed via an interlayer insulating layer (adhesive layer) 2 having a via hole 7.
0), in a build-up multilayer wiring board formed by multilayering, the adhesive is hardened by curing a heat-resistant resin fine powder which is soluble in any case with an acid or an oxidizing agent. It is dispersed in a heat-resistant resin matrix exhibiting a property of being hardly soluble in an acid or an oxidizing agent, and furthermore, an amino resin fine powder is used as the heat-resistant resin fine powder. At least one resin selected from the group consisting of epoxy resin, resin having an acrylic group, and acrylic resin is used.

【0055】[0055]

【実施例】(実施例1)(1) メラミン樹脂1275重量部と
37%ホルマリン1366重量部と水730 重量部を混合し、10
%炭酸ナトリウムにてpH=9.0 に調整し、90℃で60分間
保持した後、メタノールを109 重量部加えた。 (2) この樹脂液を噴霧乾燥法にて乾燥し、粉末状の樹脂
を得た。 (3) 前記(2) で得られた樹脂粉末と離型剤、硬化触媒を
ボールミルにて粉砕混合した。 (4) 150 ℃に加熱した金型中に前記混合粉を入れて、25
0 kg/cm2の圧力で60分保持した。この成形に際しては、
金型を開きガス抜きを行った。 (5) 前記(2) で得られた成形品をボールミルにて粉砕
し、微粉化し、粒径0.5μmと5.5 μmの粉末を得た。 (6) フェノールノボラック型エポキシ樹脂(油化シェル
製)60重量部、ビスフェノールA型エポキシ樹脂(油化
シェル製)40重量部およびイミダゾール系硬化剤(四国
化成製)5重量部をブチルセロソルブアセテートに溶解
し、この組成物の固形分100 重量部に対して、前記(5)
で作成した微粉末を、粒径0.5 μmのものを15重量部、
粒径5.5 μmのものを30重量部の割合で混合し、その後
3本ロールで混練して、さらにブチルセロソルブアセテ
ートを添加し、固形分濃度75%の接着剤溶液を作成し
た。この溶液の粘度は、JIS−K7117に準じ、東京計
器製デジタル粘度計を用い、20℃、60秒間測定したとこ
ろ、回転数6rpm で5.2 Pa・s 、60rpm で2.6 Pa・s で
あり、そのSVI値(チキソトロピック性)は2.0 であ
った。 (7) ガラスエポキシ基板1を研磨により粗化して、JIS
B0601 R max=2〜3μmの粗面を形成した後、その基
板上に、前記(6) で作成した感光性樹脂組成物の接着剤
溶液をロールコーターを用いて塗布した。この時の塗布
方法は、コーティングロールとして、中高粘度用レジス
ト用コーティングロール(大日本スクリーン製)を用
い、コーティングローラとドクターバーとの隙間を0.4m
m 、コーティングローラとバックアップローラとの隙間
を1.4mm および搬送速度を400mm/sであった。その後、
水平状態で20分放置した後、70℃で乾燥させて厚さ約50
μmの接着剤層2を形成した(図1(b),(c) 参照)。 (8) 接着剤層2を形成した基板1を、500g/lのクロム酸
(CrO3 )水溶液からなる酸化剤に70℃で15分間浸漬
して接着剤層2の表面を粗化してから、中和溶液(シプ
レイ社製)に浸漬して水洗した。接着剤が粗化された基
板1にパラジウム触媒(シプレイ社製)を付与して接着
剤層2の表面を活性化させた(図1(d)参照)。 (9) 次に、この基板1を窒素ガス雰囲気(10ppm 酸素)
中で120 ℃で30分、触媒固定化の熱処理を行い、その
後、感光性のドライフィルムをラミネートし、露光した
後、変成クロロセンで現像し、めっきレジスト3(厚さ
40μm )を形成した(図1(e) 参照)。 (10)めっきレジスト3を形成し終えた前記基板1を、表
1に示す組成の無電解銅めっき液に11時間浸漬して、め
っき膜4の厚さ25μm の無電解銅めっきを施し、プリン
ト配線板を得た(図1(f) 参照)。
EXAMPLES (Example 1) (1) 1275 parts by weight of melamine resin
Mix 1366 parts by weight of 37% formalin and 730 parts by weight of water,
The mixture was adjusted to pH = 9.0 with sodium carbonate, and kept at 90 ° C. for 60 minutes, and then 109 parts by weight of methanol was added. (2) The resin liquid was dried by a spray drying method to obtain a powdery resin. (3) The resin powder obtained in the above (2), a release agent, and a curing catalyst were pulverized and mixed in a ball mill. (4) Put the mixed powder in a mold heated to 150 ° C,
It was kept at a pressure of 0 kg / cm 2 for 60 minutes. In this molding,
The mold was opened and degassing was performed. (5) The molded product obtained in the above (2) was pulverized with a ball mill and pulverized to obtain powders having particle diameters of 0.5 μm and 5.5 μm. (6) Dissolve 60 parts by weight of phenol novolak type epoxy resin (manufactured by Yuka Shell), 40 parts by weight of bisphenol A type epoxy resin (manufactured by Yuka Shell) and 5 parts by weight of imidazole-based curing agent (manufactured by Shikoku Kasei) in butyl cellosolve acetate The solid content of 100 parts by weight of the composition, (5)
15 parts by weight of the fine powder prepared in
A mixture having a particle size of 5.5 μm was mixed at a ratio of 30 parts by weight, and then kneaded with three rolls, and butyl cellosolve acetate was further added to prepare an adhesive solution having a solid concentration of 75%. The viscosity of this solution was measured using a digital viscometer manufactured by Tokyo Keiki Co., Ltd. at 20 ° C. for 60 seconds in accordance with JIS-K7117. The viscosity was 5.2 Pa · s at 6 rpm and 2.6 Pa · s at 60 rpm. The value (thixotropic property) was 2.0. (7) The glass epoxy substrate 1 is roughened by polishing,
After forming a rough surface of B0601 R max = 2 to 3 μm, the adhesive solution of the photosensitive resin composition prepared in the above (6) was applied to the substrate using a roll coater. At this time, the coating method used a coating roll for resist for medium and high viscosity (manufactured by Dainippon Screen) as a coating roll, and the gap between the coating roller and the doctor bar was 0.4 m.
m, the gap between the coating roller and the backup roller was 1.4 mm, and the transport speed was 400 mm / s. afterwards,
After standing for 20 minutes in a horizontal state, dry at 70 ° C to a thickness of about 50
An adhesive layer 2 having a thickness of μm was formed (see FIGS. 1B and 1C). (8) The substrate 1 on which the adhesive layer 2 is formed is immersed in an oxidizing agent consisting of a 500 g / l chromic acid (CrO 3 ) aqueous solution at 70 ° C. for 15 minutes to roughen the surface of the adhesive layer 2. It was immersed in a neutralization solution (manufactured by Shipley) and washed with water. The surface of the adhesive layer 2 was activated by applying a palladium catalyst (manufactured by Shipley) to the substrate 1 having the roughened adhesive (see FIG. 1 (d)). (9) Next, this substrate 1 is placed in a nitrogen gas atmosphere (10 ppm oxygen).
Heat treatment at 120 ° C. for 30 minutes in the catalyst, then laminating a photosensitive dry film, exposing, developing with modified chlorocene, and plating resist 3 (thickness
40 μm) (see FIG. 1 (e)). (10) The substrate 1 on which the plating resist 3 has been formed is immersed in an electroless copper plating solution having the composition shown in Table 1 for 11 hours to perform electroless copper plating with a plating film 4 having a thickness of 25 μm. A wiring board was obtained (see FIG. 1 (f)).

【0056】[0056]

【表1】 [Table 1]

【0057】(実施例2)(1) 5lのアセトン中に、実
施例1の(1) 〜(5) と同様の方法で作成したメラミン樹
脂粒子(平均粒径3.9 μm )200gを分散させた懸濁液
を、ヘンシェルミキサー(三井三池化工機製)内で攪拌
しながら、アセトン10l中に、実施例1の(1) 〜(5) と
同様の方法で作成したメラミン樹脂微粉末(平均粒径0.
5 μm )300gを分散させた懸濁液を滴下混合することに
より、上記メラミン樹脂粒子表面にメラミン樹脂微粉末
を付着せしめた後、アセトンを除去し、その後、150 ℃
に加熱して、擬似粒子を作成した。この擬似粒子は、平
均粒径が約4.3 μm であり、約75重量%が、平均粒径を
中心として±2μmの範囲に存在していた。 (2) 前記(1) で調製した疑似粒子50重量部、フェノール
ノボラック型エポキシ樹脂(油化シェル製)60重量部、
ビスフェノールA型エポキシ樹脂(油化シェル製)40重
量部およびイミダゾール系硬化剤(四国化成製)5重量
部からなる混合物に、ブチルカルビトールを添加してホ
モディスパー分散機で調整し、固形分濃度80%の接着剤
溶液を作成した。この溶液の粘度は、回転数6rpm で5.
8 Pa・s、60rpm で2.0 Pa・s であり、そのSVI値
(チキソトロピック性)は2.9 であった。 (3) この接着剤を用いて実施例1と同様にして、プリン
ト配線板を製造した(図2参照)。
Example 2 (1) 200 g of melamine resin particles (average particle size: 3.9 μm) prepared in the same manner as in (1) to (5) of Example 1 were dispersed in 5 l of acetone. While stirring the suspension in a Henschel mixer (manufactured by Mitsui Miike Kakoki Co., Ltd.), melamine resin fine powder (average particle size) prepared in the same manner as in (1) to (5) of Example 1 in 10 liters of acetone. 0.
5 μm) The suspension in which 300 g was dispersed was dropped and mixed, whereby the melamine resin fine powder was adhered to the surface of the melamine resin particles, acetone was removed, and then 150 ° C.
To produce pseudo particles. The pseudo particles had an average particle size of about 4.3 μm, and about 75% by weight was in a range of ± 2 μm around the average particle size. (2) 50 parts by weight of the pseudo particles prepared in the above (1), 60 parts by weight of a phenol novolak type epoxy resin (manufactured by Yuka Shell),
To a mixture consisting of 40 parts by weight of a bisphenol A type epoxy resin (manufactured by Yuka Shell) and 5 parts by weight of an imidazole-based curing agent (manufactured by Shikoku Chemicals), butyl carbitol was added, and the mixture was adjusted with a homodisper disperser. An 80% adhesive solution was made. The viscosity of this solution was 5.
It was 2.0 Pa · s at 8 Pa · s and 60 rpm, and its SVI value (thixotropic property) was 2.9. (3) A printed wiring board was manufactured using this adhesive in the same manner as in Example 1 (see FIG. 2).

【0058】(実施例3)(1) 実施例1と同様にして作
成したメラミン樹脂粒子(平均粒径3.9 μm )を熱風乾
燥機内に装入し、180 ℃で3時間加熱処理して凝集結合
させた。この凝集結合させたメラミン樹脂粒子を、アセ
トン中に分散させ、ボールミルにて5時間解砕した後、
風力分級機を使用して分級し、凝集粒子を作成した。こ
の凝集粒子は、平均粒径が約3.5 μmであり、約68重量
%が平均粒径を中心として±2μmの範囲に存在してい
た。 (2) 前記(1) で調製した凝集粒子50重量部、フェノール
ノボラック型エポキシ樹脂(油化シェル製)60重量部、
ビスフェノールA型エポキシ樹脂(油化シェル製)40重
量部およびイミダゾール系硬化剤(四国化成製)4重量
部からなる混合物にブチルカルビトールを加え、固形分
濃度80%の接着剤溶液を作成した。この溶液の粘度は、
回転数6rpm で5.4 Pa・s 、60rpm で2.0 Pa・s であ
り、そのSVI値(チキソトロピック性)は2.2 であっ
た。 (3) ガラスエポキシ基板1の両面を研磨により粗化し、
JIS B0601 R max=2〜3μmの粗面を形成した後、そ
の基板1上に、前記(2) で作成した感光性樹脂組成物の
接着剤溶液をロールコーターを用いて塗布し、その後水
平状態で20分放置した後、70℃で乾燥させて厚さ約45μ
mの接着剤層2を形成した(図3(b),(c) 参照)。 (4) 次いで、ドリルにより、削孔し、この基板1を軽く
バフ研磨してフィラー表面を露出させた後、6N塩酸水
溶液からなる酸に70℃で15分間浸漬して接着剤層2の表
面を粗化してから、中和溶液(シプレイ社製)に浸漬し
て水洗した。接着剤が粗化された基板1にパラジウム触
媒(シプレイ社製)を付与して接着剤層2の表面を活性
化させた(図3(d),(e) 参照)。 (5) 次に、この基板1を、窒素ガス雰囲気(10ppm 酸
素)中で120 ℃で30分、触媒固定化の熱処理を行い、そ
の後、感光性のドライフィルムをラミネートし、露光し
た後、変成クロロセンで現像し、めっきレジスト3(厚
さ40μm )を形成した(図3(f) 参照)。 (6) めっきレジスト3を形成し終えた前記基板1を、表
1に示す組成の無電解銅めっき液に11時間浸漬して、両
面にめっき膜4の厚さ30μm の無電解銅めっきを施し、
導体回路とスルーホール5を形成し、両面プリント配線
板を得た(図3(f) 参照)。
Example 3 (1) Melamine resin particles (average particle size: 3.9 μm) prepared in the same manner as in Example 1 were charged into a hot air drier and heat-treated at 180 ° C. for 3 hours to form cohesive bonds. I let it. The coagulated melamine resin particles are dispersed in acetone and crushed in a ball mill for 5 hours.
The particles were classified using an air classifier to produce aggregated particles. The aggregated particles had an average particle size of about 3.5 μm, and about 68% by weight was in a range of ± 2 μm around the average particle size. (2) 50 parts by weight of the aggregated particles prepared in the above (1), 60 parts by weight of a phenol novolak type epoxy resin (manufactured by Yuka Shell),
Butyl carbitol was added to a mixture of 40 parts by weight of a bisphenol A type epoxy resin (manufactured by Yuka Shell) and 4 parts by weight of an imidazole-based curing agent (manufactured by Shikoku Chemicals) to prepare an adhesive solution having a solid concentration of 80%. The viscosity of this solution is
It was 5.4 Pa · s at 6 rpm and 2.0 Pa · s at 60 rpm, and its SVI value (thixotropic property) was 2.2. (3) Both surfaces of the glass epoxy substrate 1 are roughened by polishing,
After forming a rough surface of JIS B0601 R max = 2 to 3 μm, the adhesive solution of the photosensitive resin composition prepared in the above (2) is applied on the substrate 1 by using a roll coater, and then placed in a horizontal state. After drying at 70 ° C for about 45μ
m of the adhesive layer 2 was formed (see FIGS. 3B and 3C). (4) Next, the surface of the adhesive layer 2 was cut by drilling, and the substrate 1 was lightly buffed to expose the filler surface, and then immersed in an acid composed of a 6N hydrochloric acid aqueous solution at 70 ° C. for 15 minutes. Was roughened and then immersed in a neutralizing solution (manufactured by Shipley) and washed with water. The surface of the adhesive layer 2 was activated by applying a palladium catalyst (manufactured by Shipley) to the substrate 1 having the roughened adhesive (see FIGS. 3 (d) and 3 (e)). (5) Next, the substrate 1 was subjected to a heat treatment for immobilizing the catalyst at 120 ° C. for 30 minutes in a nitrogen gas atmosphere (10 ppm oxygen), and then a photosensitive dry film was laminated, exposed, and then denatured. By developing with chlorocene, a plating resist 3 (thickness: 40 μm) was formed (see FIG. 3 (f)). (6) The substrate 1 on which the plating resist 3 has been formed is immersed in an electroless copper plating solution having the composition shown in Table 1 for 11 hours, and both surfaces are plated with a 30 μm thick electroless copper plating film 4. ,
Conductor circuits and through holes 5 were formed to obtain a double-sided printed wiring board (see FIG. 3 (f)).

【0059】(実施例4)(1) ガラスエポキシ銅張積層
板(東芝ケミカル製)に感光性ドライフィルム(デュポ
ン製)をラミネートし、所望の導体回路パターンが描画
されたマスクフィルムを通して紫外線露光させ画像を焼
きつける。ついで、1,1,1−トリクロロエタンで現
像を行い、塩化第2銅エッチング液を用いて非導体部の
銅を除去した後、塩化メチレンでドライフィルムを剥離
する。これにより、複数の導体パターンからなる第一導
体層4を有する配線板1を形成した(図4(a) 参照)。 (2) クレゾールノボラック型エポキシ樹脂(日本火薬
製)の50%アクリル化物60重量部、ビスフェノールA型
エポキシ樹脂(油化シェル製)40重量部、ジアリルテレ
フタレート15重量部、2−メチル−1−〔4−(メチル
チオ)フェニル〕−2−モルフォリノプロパノン−1
(チバ・ガイギー製)4重量部、イミダゾール系硬化剤
(四国化成製)4重量部および中空メラミン樹脂微粉末
(ホーネンコーポレーション製:粒径2μm)50重量部
を混合した後、ブチルセロソルブを添加しながら、ホモ
ディスパー攪拌機で攪拌した。その後3本ローラーで混
練して固形分濃度70%の感光性接着剤溶液を作成した。
この溶液の粘度は、回転数6rpm で5.0 Pa・s 、60rpm
で2.5 Pa・s であり、そのSVI値は、2.0 であった。 (3) 上記(1) で作成した配線板1上に、前記(2) で作成
した感光性樹脂組成物の接着剤溶液をロールコーターを
用いて塗布し、その後水平状態で20分間放置した後、70
℃で乾燥させて厚さ約50μmの感光性樹脂絶縁層2を形
成した(図4(b) ,(c)参照)。 (4) 前記(3) の処理を施した配線板1に100 μmφの黒
円が印刷されたフォトマスクフィルムを密着させ、超高
圧水銀灯により500mj/cm2 で露光した。これを、1,
1,1−トリクロロエタンで超音波現像処理することに
より、配線板1上に100 μmφのバイアホールとなる開
口を形成し、さらに、超高圧水銀灯により約3000mj/cm2
で露光し、100 ℃で1時間、その後150 ℃で10時間加熱
処理することによりフォトマスクフィルムに相当する寸
法精度に優れた開口7を有する層間絶縁層2を形成した
(図4(d) 参照)。 (5) 前記(4) で作成した配線板1を、クロム酸(CrO
3 )500g/l水溶液からなる酸化剤に70℃,15分間浸漬し
て層間絶縁層2の表面を粗化してから、中和溶液(シプ
レイ社製)に浸漬して水洗した。この層間絶縁層2が粗
化された基板にパラジウム触媒(シプレイ社製)を付与
して絶縁層2の表面を活性化させ、表1に示す組成の無
電解銅めっき液に11時間浸漬して、めっき膜6の厚さ25
μm の無電解銅めっきを施した(図4(d),(e) 参照)。 (6) 前記(3) 〜(5) までの工程をさらに2回繰り返し行
うことにより、配線層が4層(4,6,8,10)のビルドアッ
プ多層配線板を作成した(図4(f) 参照)。
Example 4 (1) A photosensitive dry film (manufactured by DuPont) was laminated on a glass epoxy copper-clad laminate (manufactured by Toshiba Chemical), and exposed to ultraviolet light through a mask film on which a desired conductive circuit pattern was drawn. Burn the image. Then, development is performed with 1,1,1-trichloroethane, copper in the non-conductor portion is removed using a cupric chloride etching solution, and the dry film is peeled off with methylene chloride. Thus, the wiring board 1 having the first conductor layer 4 including a plurality of conductor patterns was formed (see FIG. 4A). (2) 60 parts by weight of a 50% acrylate of a cresol novolak type epoxy resin (manufactured by Nippon Kayaku), 40 parts by weight of a bisphenol A type epoxy resin (manufactured by Yuka Shell), 15 parts by weight of diallyl terephthalate, 2-methyl-1- [ 4- (methylthio) phenyl] -2-morpholinopropanone-1
After mixing 4 parts by weight (manufactured by Ciba-Geigy), 4 parts by weight of an imidazole-based curing agent (manufactured by Shikoku Chemicals) and 50 parts by weight of fine powder of hollow melamine resin (manufactured by Honen Corporation: particle size 2 μm), while adding butyl cellosolve The mixture was stirred with a homodisper stirrer. Thereafter, the mixture was kneaded with three rollers to prepare a photosensitive adhesive solution having a solid content of 70%.
The viscosity of this solution was 5.0 Pa · s at 60 rpm and 60 rpm.
Was 2.5 Pa · s, and its SVI value was 2.0. (3) The adhesive solution of the photosensitive resin composition prepared in (2) is applied to the wiring board 1 prepared in (1) above using a roll coater, and then left horizontally for 20 minutes. , 70
The photosensitive resin insulating layer 2 having a thickness of about 50 .mu.m was formed by drying at .degree. C. (see FIGS. 4 (b) and 4 (c)). (4) A photomask film on which a black circle having a diameter of 100 μm was printed was brought into close contact with the wiring board 1 that had been subjected to the treatment of (3), and was exposed at 500 mj / cm 2 using an ultra-high pressure mercury lamp. This is
By performing ultrasonic development treatment with 1,1-trichloroethane, an opening serving as a 100 μmφ via hole was formed on the wiring board 1, and further, about 3000 mj / cm 2 by an ultra-high pressure mercury lamp.
Then, heat treatment was performed at 100 ° C. for 1 hour and then at 150 ° C. for 10 hours to form an interlayer insulating layer 2 having openings 7 having excellent dimensional accuracy corresponding to a photomask film (see FIG. 4D). ). (5) The wiring board 1 prepared in (4) is replaced with chromic acid (CrO
3 ) The surface of the interlayer insulating layer 2 was roughened by immersing it in an oxidizing agent consisting of a 500 g / l aqueous solution at 70 ° C. for 15 minutes, and then immersed in a neutralizing solution (manufactured by Shipley) and washed with water. A surface of the insulating layer 2 was activated by applying a palladium catalyst (manufactured by Shipley) to the substrate having the roughened interlayer insulating layer 2 and immersed in an electroless copper plating solution having the composition shown in Table 1 for 11 hours. , Thickness of plating film 6 25
A μm electroless copper plating was applied (see FIGS. 4 (d) and 4 (e)). (6) By repeating the steps (3) to (5) two more times, a build-up multilayer wiring board having four wiring layers (4, 6, 8, 10) was prepared (FIG. f)).

【0060】(実施例5)(1) フェノールノボラック型
エポキシ樹脂(油化シェル製)60重量部、ビスフェノー
ルA型エポキシ樹脂(油化シェル製)40重量部およびイ
ミダゾール系硬化剤(四国化成製)5重量部をメチルエ
チルケトンに溶解し、この組成物の固形分100 重量部に
対して、ボールミルで粉砕したメラミン樹脂微粉末(ホ
ーネンコーポレーション製)粒径0.5 μmのものを15重
量部、粒径5.5 μmのものを30重量部の割合で混合し、
ボールミルで混練した後、さらにメチルエチルケトンを
添加して固形分濃度55%の接着剤溶液を作成した。この
溶液の粘度は、回転数6rpmで0.6 Pa・s 、60rpm で0.5
Pa・s であり、そのSVI値(チキソトロピック性)
は1.2 であった。 (2) この接着剤溶液をガラスクロスに含浸させ、乾燥
し、プリプレグ11を作成した(図5(a) 参照)。 (3) 導体回路4が形成されているガラスエポキシ基板1
に、プリプレグ11を重ねて、加熱プレスし、接着剤層2
を形成した(図5(b) 参照)。 (4) 次いで、ドリルにより、削孔し、この基板1を、6
N塩酸水溶液からなる酸に70℃で15分間浸漬して接着剤
層2の表面を粗化してから、中和溶液(シプレイ社製)
に浸漬して水洗した。接着剤が粗化された基板1にパラ
ジウム触媒(シプレイ社製)を付与して接着剤層2の表
面を活性化させた(図5(c) 参照)。 (5) 前記基板1を窒素ガス雰囲気(10ppm 酸素)中で12
0 ℃で30分、触媒固定化の熱処理を行い、その後、感光
性のドライフィルムをラミネートし、露光した後、変成
クロロセンで現像し、めっきレジスト3(厚さ40μm )
を形成した(図5(d) 参照)。 (6) めっきレジストを形成し終えた前記基板1を、表1
に示す組成の無電解銅めっき液に11時間浸漬して、両面
にめっき膜4の厚さ30μm の無電解銅めっきを施し、導
体回路とスルーホール5を形成し、両面プリント配線板
を得た(図5(e) 参照)。
Example 5 (1) 60 parts by weight of phenol novolak type epoxy resin (manufactured by Yuka Shell), 40 parts by weight of bisphenol A type epoxy resin (manufactured by Yuka Shell), and an imidazole-based curing agent (manufactured by Shikoku Chemicals) 5 parts by weight were dissolved in methyl ethyl ketone, and 15 parts by weight of a melamine resin fine powder (manufactured by Honen Corporation) having a particle size of 0.5 μm and a particle size of 5.5 μm were added to 100 parts by weight of the solid content of the composition. Are mixed in a proportion of 30 parts by weight,
After kneading with a ball mill, methyl ethyl ketone was further added to prepare an adhesive solution having a solid content concentration of 55%. The viscosity of this solution is 0.6 Pa · s at a rotation speed of 6 rpm and 0.5 at 60 rpm.
Pa · s and its SVI value (thixotropic property)
Was 1.2. (2) This adhesive solution was impregnated in a glass cloth and dried to prepare a prepreg 11 (see FIG. 5 (a)). (3) Glass epoxy substrate 1 on which conductive circuit 4 is formed
, Prepreg 11 is overlaid, hot pressed, and adhesive layer 2
Was formed (see FIG. 5 (b)). (4) Next, a hole is drilled by a drill, and the substrate 1 is
The surface of the adhesive layer 2 is roughened by dipping in an acid composed of an N hydrochloric acid aqueous solution at 70 ° C. for 15 minutes, and then a neutralizing solution (manufactured by Shipley)
And washed with water. The surface of the adhesive layer 2 was activated by applying a palladium catalyst (manufactured by Shipley) to the substrate 1 having the roughened adhesive (see FIG. 5 (c)). (5) The substrate 1 is placed in a nitrogen gas atmosphere (10 ppm oxygen) for 12 hours.
A heat treatment for immobilizing the catalyst is performed at 0 ° C. for 30 minutes. Then, a photosensitive dry film is laminated, exposed, developed with modified chlorocene, and plated resist 3 (40 μm thick)
Was formed (see FIG. 5 (d)). (6) The substrate 1 on which the plating resist has been formed is placed in Table 1
11 hours, immersed in an electroless copper plating solution having the composition shown in (1) for 11 hours, applied electroless copper plating having a thickness of 30 μm to the plating film 4 on both sides to form a conductor circuit and a through hole 5, thereby obtaining a double-sided printed wiring board. (See FIG. 5 (e)).

【0061】(実施例6)(1) フェノールノボラック型
エポキシ樹脂(油化シェル製)60重量部、ビスフェノー
ルA型エポキシ樹脂(油化シェル製)40重量部およびイ
ミダゾール系硬化剤(四国化成製)5重量部をブチルセ
ロソルブに溶解し、この組成物の固形分100 重量部に対
して、ボールミルで粉砕したメラミン樹脂微粉末(ホー
ネンコーポレーション製)粒径0.5 μmのものを15重量
部、粒径5.5 μmのものを30重量部の割合で混合し、3
本ロールで混練した後、さらにブチルセロソルブを添加
して固形分濃度55%の接着剤溶液を作成した。この溶液
の粘度は、回転数6rpm で2.6 Pa・s 、60rpm で1.0 Pa
・s であり、そのSVI値(チキソトロピック性)は2.
6 であった。 (2) この接着剤をロールコータでシリコンコーティング
が施してあるポリエチレンフィルム12に塗布し、120 ℃
で30分加熱乾燥させ、接着剤フィルムを得た(図6(a),
(b) 参照)。 (3) このフィルムを絶縁板(基板1)に重ね、ポリエチ
レンフィルム12を剥がした後、加熱プレスして接着剤層
2を得た(図6(c),(d) 参照)。 (4) 実施例1と同様にしてプリント配線板を得た(図6
参照)。
Example 6 (1) 60 parts by weight of phenol novolak type epoxy resin (manufactured by Yuka Shell), 40 parts by weight of bisphenol A type epoxy resin (manufactured by Yuka Shell) and an imidazole-based curing agent (manufactured by Shikoku Chemicals) 5 parts by weight were dissolved in butyl cellosolve, and 15 parts by weight of a melamine resin fine powder (manufactured by Honen Corporation) having a particle size of 0.5 μm and a particle size of 5.5 μm were added to 100 parts by weight of the solid content of the composition. Are mixed in a proportion of 30 parts by weight,
After kneading with this roll, butyl cellosolve was further added to prepare an adhesive solution having a solid content concentration of 55%. The viscosity of this solution was 2.6 Pa · s at 6 rpm and 1.0 Pa at 60 rpm.
S and its SVI value (thixotropic property) is 2.
6 (2) Apply this adhesive to a polyethylene film 12 coated with silicon using a roll coater,
For 30 minutes to obtain an adhesive film (FIG. 6 (a),
(b)). (3) This film was overlaid on an insulating plate (substrate 1), and the polyethylene film 12 was peeled off, and then heated and pressed to obtain an adhesive layer 2 (see FIGS. 6C and 6D). (4) A printed wiring board was obtained in the same manner as in Example 1 (FIG. 6).
reference).

【0062】(実施例7)(1) 実施例1の(1) 〜(6) と
同様の処理を施し(ただし、硬化剤を除く)、接着剤溶
液Aを調製した。 (2) イミダゾール系硬化剤5重量部をブチルセロソルブ
に溶解させ、接着剤溶液Bを作成した。 (3) 接着剤溶液Aと接着剤溶液Bを常温で1か月保存し
た後、両者を混合し、接着剤溶液を得た。特性は実施例
1と同じであった。 (4) この接着剤溶液を使用してプリント配線板を製造し
た。特性を評価したところ実施例1で得られたプリント
配線板と同様の結果を得た。
(Example 7) (1) An adhesive solution A was prepared by performing the same processes as in (1) to (6) of Example 1 (excluding the curing agent). (2) 5 parts by weight of an imidazole-based curing agent was dissolved in butyl cellosolve to prepare an adhesive solution B. (3) The adhesive solution A and the adhesive solution B were stored at room temperature for one month, and then mixed to obtain an adhesive solution. The characteristics were the same as in Example 1. (4) A printed wiring board was manufactured using this adhesive solution. When the characteristics were evaluated, the same results as those of the printed wiring board obtained in Example 1 were obtained.

【0063】(実施例8)(1) 本実施例は基本的には実
施例1と同様であるが、難燃性ノボラック型エポキシ樹
脂(日本火薬製)100 重量部とイミダゾール系硬化剤
(四国化成製)7重量部をブチルセロソルブアセテート
に溶解し、この組成物の固形分100 重量部に対して、実
施例1の(5) で作成した微粉末を、粒径0.5 μmのもの
を15重量部、粒径5.5 μmのものを30重量部の割合で混
合し、その後3本ロールで混練して、さらにブチルセロ
ソルブアセテートを添加し、固形分濃度75%の接着剤溶
液を作成した。この溶液の粘度は、回転数6rpm で5.2
Pa・s 、60rpm で2.5 Pa・s であり、そのSVI値(チ
キソトロピック性)は2.0 であった。 (2) この接着剤を用い、実施例1と同様にしてプリント
配線板を作成した。
Example 8 (1) This example is basically the same as Example 1, except that 100 parts by weight of a flame-retardant novolak epoxy resin (manufactured by Nippon Kayaku) and an imidazole-based curing agent (Shikoku) 7 parts by weight of a chemical compound (manufactured by Kasei Chemical Co., Ltd.) were dissolved in butyl cellosolve acetate, and 15 parts by weight of the fine powder prepared in (5) of Example 1 was added to 15 parts by weight based on 100 parts by weight of the solid content of the composition. A mixture having a particle size of 5.5 μm was mixed at a ratio of 30 parts by weight, and then kneaded with three rolls, and butyl cellosolve acetate was further added to prepare an adhesive solution having a solid content of 75%. The viscosity of this solution was 5.2 at 6 rpm.
Pa · s and 2.5 Pa · s at 60 rpm, and its SVI value (thixotropic property) was 2.0. (2) Using this adhesive, a printed wiring board was prepared in the same manner as in Example 1.

【0064】(実施例9)(1) 本実施例は基本的には実
施例4と同様であるが、オルトクレゾールノボラック型
エポキシ樹脂(日本火薬製)の50%アクリル化物100 重
量部、ジアリルテレフタレート15重量部、2−メチル−
1−〔4−(メチルチオ)フェニル〕−2−モルフォリ
ノプロパノン−1(チバ・ガイギー製)4重量部、イミ
ダゾール系硬化剤(四国化成製)4重量部、光開始剤
(チバ・ガイギー製)および中空メラミン樹脂微粉末
(ホーネンコーポレーション製:粒径2μm)50重量部
を混合した後、ブチルセロソルブを添加しながら、ホモ
ディスパー攪拌機で攪拌した。その後3本ローラーで混
練して固形分濃度70%の感光性接着剤溶液を作成した。
この溶液の粘度は、回転数6rpm で5.1 Pa・s 、60rpm
で2.6 Pa・s であり、そのSVI値は、2.0 であった。 (2) この接着剤を用い、実施例4と同様にして多層プリ
ント配線板を作成した。
Example 9 (1) This Example is basically the same as Example 4, except that 100 parts by weight of a 50% acrylate of ortho-cresol novolak type epoxy resin (manufactured by Nippon Kayaku), diallyl terephthalate 15 parts by weight, 2-methyl-
4 parts by weight of 1- [4- (methylthio) phenyl] -2-morpholinopropanone-1 (manufactured by Ciba-Geigy), 4 parts by weight of imidazole-based curing agent (manufactured by Shikoku Chemicals), photoinitiator (manufactured by Ciba-Geigy) After mixing 50 parts by weight of hollow melamine resin fine powder (made by Honen Corporation: particle size: 2 μm), the mixture was stirred with a homodisper stirrer while adding butyl cellosolve. Thereafter, the mixture was kneaded with three rollers to prepare a photosensitive adhesive solution having a solid content of 70%.
The viscosity of this solution was 5.1 Pa · s at 60 rpm and 60 rpm.
Was 2.6 Pa · s, and its SVI value was 2.0. (2) Using this adhesive, a multilayer printed wiring board was prepared in the same manner as in Example 4.

【0065】(実施例10)(1) グアナミン1モルに対し
てホルマリンを1.2 〜1.6 モルを混合し、PHを 6.5に調
整し、60℃で反応させて透明な樹脂液を得た。 (2) この樹脂液を乾燥した後、粗粉砕し、リン酸、可塑
剤とともにボールミルに入れ、硬化と同時に微粉砕を行
ってグアナミン樹脂微粉末を得た。 (3) 本実施例は、基本的には実施例1と同様であるが、
アミノ樹脂微粉末として、上記(1),(2) で得られたグア
ナミン樹脂微粉末を使用した。また、フェノールノボラ
ック型エポキシ樹脂100 重量部を使用し、ビスフェノー
ルA型エポキシ樹脂は使用しなかった。なお、本実施例
での接着剤溶液の粘度は、JIS−K7117に準じ、東京
計器製デジタル粘度計を用い、20℃、60秒間測定したと
ころ、6rpm で 5.0 Pa ・s であった。
Example 10 (1) 1 to 1 mol of guanamine was mixed with 1.2 to 1.6 mol of formalin, the pH was adjusted to 6.5, and the mixture was reacted at 60 ° C. to obtain a transparent resin solution. (2) After drying this resin solution, it was roughly pulverized, put into a ball mill together with phosphoric acid and a plasticizer, and finely pulverized simultaneously with curing to obtain a fine guanamine resin powder. (3) This embodiment is basically the same as the first embodiment,
The guanamine resin fine powder obtained in the above (1) and (2) was used as the amino resin fine powder. Also, 100 parts by weight of a phenol novolak type epoxy resin was used, and no bisphenol A type epoxy resin was used. The viscosity of the adhesive solution in this example was measured at 20 ° C. for 60 seconds using a digital viscometer manufactured by Tokyo Keiki according to JIS-K7117, and it was 5.0 Pa · s at 6 rpm.

【0066】(実施例11)(1) 尿素、イソチオ尿素およ
びホルマリンを1:1:2のモル比で混合し、この混合
物を80℃で加熱処理し、共縮合させて尿素−チオ尿素共
縮合樹脂微粉末を得た。 (2) 本実施例は、基本的には実施例4と同様であるが、
アミノ樹脂微粉末として、上記(1) で得られた尿素−チ
オ尿素共縮合樹脂微粉末を使用した。また、フェノール
ノボラック型エポキシ樹脂100 重量部を使用し、ビスフ
ェノールA型エポキシ樹脂は使用しなかった。なお、本
実施例での接着剤溶液の粘度は、JIS−K7117に準
じ、東京計器製デジタル粘度計を用い、20℃、60秒間測
定したところ、6rpm で0.05 Pa ・s であった。
Example 11 (1) Urea, isothiourea and formalin were mixed at a molar ratio of 1: 1: 2, and this mixture was heated at 80 ° C. and co-condensed to form a urea-thiourea co-condensation. A resin fine powder was obtained. (2) This embodiment is basically the same as the fourth embodiment,
As the amino resin fine powder, the urea-thiourea co-condensation resin fine powder obtained in the above (1) was used. Also, 100 parts by weight of a phenol novolak type epoxy resin was used, and no bisphenol A type epoxy resin was used. The viscosity of the adhesive solution in this example was measured at 20 ° C. for 60 seconds using a digital viscometer manufactured by Tokyo Keiki according to JIS-K7117, and it was 0.05 Pa · s at 6 rpm.

【0067】(比較例)(1) 耐熱性樹脂微粉末として、
ジシアン系硬化剤で硬化させたエポキシ樹脂を使用した
以外は、実施例1と同様にしてプリント配線板を得た。
(Comparative Example) (1) As heat-resistant resin fine powder,
A printed wiring board was obtained in the same manner as in Example 1, except that an epoxy resin cured with a dicyanic curing agent was used.

【0068】[0068]

【表2】 [Table 2]

【0069】上述のようにして製造された配線板の無電
解めっき膜の密着性,耐薬品性,耐熱性,電気特性,硬
度および不純物の影響(耐マイグレーション性)を測定
したところ、表2に示す結果となった。
The adhesion, chemical resistance, heat resistance, electrical characteristics, hardness and the effect of impurities (migration resistance) of the electroless plating film of the wiring board manufactured as described above were measured. The results were as shown.

【0070】この表2から明らかなように、本発明例の
場合は、導体の高い密着強度が得られるだけでなく、導
体間の絶縁信頼性に優れており、高密度なプリント配線
板を製造する上で特に有利である。また、表面硬度が高
いためワイヤーボンディング性にも優れており、ベアチ
ップ実装用基板としても有利に使用することができる。
As is clear from Table 2, in the case of the present invention, not only high adhesion strength of conductors can be obtained, but also insulation reliability between conductors is excellent, and high-density printed wiring boards can be manufactured. It is particularly advantageous in doing so. In addition, since it has a high surface hardness, it has excellent wire bonding properties, and can be advantageously used as a bare chip mounting substrate.

【0071】次に、100 ℃の煮沸水に2時間浸漬するこ
とにより接着層の表面抵抗の変化を調べた結果、初期値
に比べて変化は生じなかった。さらに、本発明例では、
表面温度を300 ℃に保持したホットプレートに配線板の
表面を密着させて10分間加熱する耐熱性試験を行った後
にも異常は認められなかった。
Next, as a result of examining the change in the surface resistance of the adhesive layer by immersing it in boiling water at 100 ° C. for 2 hours, no change occurred as compared with the initial value. Furthermore, in the present invention example,
No abnormality was found even after a heat resistance test in which the surface of the wiring board was brought into close contact with a hot plate maintained at a surface temperature of 300 ° C. and heated for 10 minutes.

【0072】なお、無電解めっき膜の密着強度(ピール
強度),電気絶縁性,硬度および不純物の影響(耐マイ
グレーション特性)についての各試験方法を説明する。 (1) 無電解めっき膜の密着強度(ピール強度) JIS−C−6481 (2) 電気絶縁 プリント配線板に形成されているL/S=100 /100 μ
mのくし型パターンに直流電圧または周波数50Hzもしく
は60Hzで正弦波交流のせん頭電圧を用い、500Vを印加す
る。電圧の印加は約5秒間で規定電圧までに徐 に上昇
させ、1分間充電し、機械的損傷,フラッシュオーバー
よおび絶縁破壊(0.5mA 以上の電流を流した場合)など
の異常の有無を調べる。 (3) 硬度(バーコル硬度) 装置:形式A アルミ合金製基準片の指示値85〜87(硬質), 43〜48
(軟質) 機種:GYZJ934−1 調整:ガラス板を用い、100 ±1の指示値になるように
調整し、次にアルミ合金製の基準片を用い、基準片指示
値になるように調整する。 操作:硬さ試験機の圧子が試料面に対して垂直になるよ
うに押しつけ、最大値の指示値を読み取る。測定位置
は、試料端から3mm以上内側の平滑な面であること。
また、同じ試料で測定する場合は、規定によってできた
窪みから3mm以上離れていること。 測定:基板を150 ℃に加熱し、5分間保ち、硬度を測定
する。 (4) 不純物の影響(耐マイグレーション) 試験片:L/S=50/50μmのくし型が形成されたプリ
ント配線板 測定 :温度85±1℃,相対湿度85〜90%の恒温恒湿槽
の中に入れ、バイアス30Vをかけ放置する。1000hr後パ
ターン間にマイグレーションの有無を調べる。
Each test method for the adhesion strength (peel strength), electric insulation, hardness and influence of impurities (migration resistance) of the electroless plating film will be described. (1) Adhesion strength (peel strength) of electroless plating film JIS-C-6481 (2) Electrical insulation L / S = 100/100 μ formed on printed wiring board
A DC voltage or a sine-wave AC peak voltage at a frequency of 50 Hz or 60 Hz is applied to the comb pattern of m, and 500 V is applied. The voltage is gradually applied to the specified voltage in about 5 seconds, and the battery is charged for 1 minute to check for abnormalities such as mechanical damage, flashover and dielectric breakdown (when a current of 0.5 mA or more is applied). . (3) Hardness (Barcol hardness) Device: Type A Indicated value of aluminum alloy reference piece 85-87 (hard), 43-48
(Soft) Model: GYZJ934-1 Adjustment: Using a glass plate, adjust so as to have an indicated value of 100 ± 1, then use an aluminum alloy reference piece to adjust so as to be the indicated value of the reference piece. Operation: Press the indenter of the hardness tester so as to be perpendicular to the sample surface, and read the indicated value of the maximum value. The measurement position should be a smooth surface at least 3 mm inside from the sample end.
When measuring with the same sample, it must be at least 3 mm away from the pit defined by the regulations. Measurement: The substrate is heated to 150 ° C., kept for 5 minutes, and the hardness is measured. (4) Influence of impurities (migration resistance) Specimen: Printed wiring board with L / S = 50/50 μm comb-shaped Measurement: Temperature and humidity of 85 ± 1 ° C, 85-90% relative humidity And leave it with a bias of 30V. After 1000 hours, the presence or absence of migration between patterns is checked.

【0073】[0073]

【発明の効果】以上説明したように、本発明の配線板用
接着剤とこの接着剤を用いた配線板によれば、使用環境
に作用されることのない、耐薬品性,耐熱性,電気特性
および硬度に優れる接着剤とこれを用いたプリント配線
板の製造方法およびプリント配線板を安定して提供でき
る。
As described above, according to the adhesive for wiring boards of the present invention and the wiring board using this adhesive, chemical resistance, heat resistance and electric resistance which are not affected by the use environment. An adhesive excellent in characteristics and hardness, a method for manufacturing a printed wiring board using the same, and a printed wiring board can be stably provided.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明のプリント配線板の一実施例を示す製造
工程図である。
FIG. 1 is a manufacturing process diagram showing one embodiment of a printed wiring board of the present invention.

【図2】本発明のプリント配線板の一実施例を示す他の
製造工程図である。
FIG. 2 is another manufacturing process diagram showing one embodiment of the printed wiring board of the present invention.

【図3】本発明のプリント配線板の一実施例を示す他の
製造工程図である。
FIG. 3 is another manufacturing process drawing showing one embodiment of the printed wiring board of the present invention.

【図4】本発明のプリント配線板の一実施例を示す他の
製造工程図である。
FIG. 4 is another manufacturing process diagram showing one embodiment of the printed wiring board of the present invention.

【図5】本発明のプリント配線板の一実施例を示す他の
製造工程図である。
FIG. 5 is another manufacturing process drawing showing one embodiment of the printed wiring board of the present invention.

【図6】本発明のプリント配線板の一実施例を示す他の
製造工程図である。
FIG. 6 is another manufacturing process drawing showing one embodiment of the printed wiring board of the present invention.

【図7】プリント配線板のマイグレーション反応を示す
説明図である。
FIG. 7 is an explanatory diagram showing a migration reaction of a printed wiring board.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 基板(配線板) 2 接着剤層(絶縁層) 3 めっきレジスト 4,6,8,10 配線層(めっき層,導体層) 5 スルーホール用孔 7 バイアホール用開口 11 プリプレグ 12 ポリエチレンフィルム DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Substrate (wiring board) 2 Adhesive layer (insulating layer) 3 Plating resist 4,6,8,10 Wiring layer (plating layer, conductor layer) 5 Through hole hole 7 Via hole opening 11 Prepreg 12 Polyethylene film

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) H05K 3/10 - 3/38 C09J 161/20 - 161/32 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page (58) Field surveyed (Int.Cl. 7 , DB name) H05K 3/10-3/38 C09J 161/20-161/32

Claims (8)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】 酸あるいは酸化剤に対して可溶性である
硬化処理済の耐熱性樹脂微粉末を、硬化処理が施された
場合には酸あるいは酸化剤に対して難溶性となる特性を
示す未硬化の耐熱性樹脂マトリックス中に分散させてな
る接着剤において、前記耐熱性樹脂微粉末としてアミノ
樹脂微粉末を用いることを特徴とする配線板用接着剤。
1. A cured heat-resistant resin fine powder which is soluble in an acid or an oxidizing agent, and which is hardly soluble in an acid or an oxidizing agent when cured. An adhesive for wiring boards, wherein an amino resin fine powder is used as the heat resistant resin fine powder in an adhesive dispersed in a cured heat resistant resin matrix.
【請求項2】 アミノ樹脂微粉末は、メラミン樹脂,尿
素樹脂およびグアナミン樹脂のうちから選ばれるいずれ
か1種または2種以上の樹脂微粉末である請求項1に記
載の接着剤。
2. The adhesive according to claim 1, wherein the amino resin fine powder is one or more resin fine powders selected from melamine resin, urea resin and guanamine resin.
【請求項3】 耐熱性樹脂マトリックスは、未硬化の多
官能性エポキシ樹脂または未硬化の2官能性エポキシ樹
脂のいずれかである熱硬化性耐熱樹脂と、イミダゾール
系硬化剤の混合物である請求項1に記載の接着剤。
3. The heat-resistant resin matrix is a mixture of a thermosetting heat-resistant resin, which is either an uncured polyfunctional epoxy resin or an uncured bifunctional epoxy resin, and an imidazole-based curing agent. 2. The adhesive according to 1.
【請求項4】 耐熱性樹脂マトリックスは、固形分で、
20〜100 wt%の未硬化の多官能性エポキシ樹脂と80〜0
wt%の未硬化の2官能性エポキシ樹脂とからなる熱硬化
性耐熱樹脂と、固形分で、2〜10wt%のイミダゾール系
硬化剤とで構成し、アミノ樹脂微粉末を、この耐熱性樹
脂マトリックス中に、それの固形分100 重量部に対して
10〜100 重量部分散混合したことを特徴とする請求項3
に記載の接着剤。
4. The heat-resistant resin matrix has a solid content,
20-100 wt% of uncured polyfunctional epoxy resin and 80-0 wt%
A thermosetting heat-resistant resin composed of wt% of an uncured bifunctional epoxy resin and an imidazole-based curing agent having a solid content of 2 to 10% by weight. Inside, for 100 parts by weight of its solids content
4. The composition according to claim 3, wherein 10 to 100 parts by weight are dispersed and mixed.
The adhesive according to item 1.
【請求項5】 耐熱性樹脂マトリックスは、未硬化の多
官能性エポキシ樹脂,未硬化の多官能性のアクリル基を
有する樹脂および未硬化の多官能性アクリル樹脂から選
ばれる少なくとも1種の感光性耐熱樹脂、もしくは、こ
れらの樹脂と未硬化の2官能性エポキシ樹脂および未硬
化の2官能性アクリル樹脂から選ばれる少なくとも1種
の感光性耐熱樹脂との混合樹脂である請求項1に記載の
接着剤。
5. The heat-resistant resin matrix is at least one photosensitive material selected from an uncured polyfunctional epoxy resin, an uncured polyfunctional acrylic group-containing resin, and an uncured polyfunctional acrylic resin. The adhesive according to claim 1, wherein the adhesive is a heat-resistant resin or a mixed resin of these resins and at least one photosensitive heat-resistant resin selected from an uncured bifunctional epoxy resin and an uncured bifunctional acrylic resin. Agent.
【請求項6】 耐熱性樹脂マトリックスは、固形分で、
20〜100 wt%の未硬化の多官能性エポキシ樹脂,未硬化
の多官能性のアクリル基を有する樹脂および未硬化の多
官能性アクリル樹脂から選ばれる少なくとも1種の感光
性耐熱樹脂と、固形分で、80〜0wt%の未硬化の2官能
性エポキシ樹脂および未硬化の2官能性アクリル樹脂か
ら選ばれる少なくとも1種の感光性耐熱樹脂との混合樹
脂で構成し、アミノ樹脂微粉末を、この耐熱性樹脂マト
リックス中に、それの固形分100 重量部に対して、10〜
100 重量部分散混合したことを特徴とする請求項5に記
載の接着剤。
6. The heat-resistant resin matrix has a solid content,
20 to 100% by weight of at least one photosensitive heat-resistant resin selected from an uncured polyfunctional epoxy resin, an uncured polyfunctional resin having an acrylic group, and an uncured polyfunctional acrylic resin; In minutes, a resin mixture of at least one photosensitive heat-resistant resin selected from an uncured bifunctional epoxy resin and an uncured bifunctional acrylic resin in an amount of 80 to 0% by weight; In this heat-resistant resin matrix, 10 to 10 parts by weight of the solid content thereof
The adhesive according to claim 5, wherein 100 parts by weight of the adhesive are dispersed and mixed.
【請求項7】 請求項1〜6のいずれか1つに記載され
た接着剤の層を基板上に設けて硬化したのち、その接着
剤層の表面を酸あるいは酸化剤で粗化し、その後、無電
解めっきを施すことを特徴とするプリント配線板の製造
方法。
7. After providing the adhesive layer according to any one of claims 1 to 6 on a substrate and curing, the surface of the adhesive layer is roughened with an acid or an oxidizing agent. A method for manufacturing a printed wiring board, comprising performing electroless plating.
【請求項8】 少なくとも一方の基板表面に接着剤層を
設けて、その上に導体回路を形成してなるプリント配線
板において、酸あるいは酸化剤に対して可溶性である硬
化処理済の耐熱性樹脂微粉末を、硬化処理されて酸ある
いは酸化剤に対して難溶性である特性を示す耐熱性樹脂
マトリックス中に分散させてなる接着剤の、前記耐熱性
樹脂微粉末としてアミノ樹脂微粉末を用いたことを特徴
とするプリント配線板。
8. A printed wiring board having an adhesive layer provided on at least one substrate surface and a conductive circuit formed thereon, wherein a cured heat-resistant resin soluble in acid or oxidizing agent is provided. An amino resin fine powder was used as the heat-resistant resin fine powder of the adhesive obtained by dispersing the fine powder in a heat-resistant resin matrix which is cured and hardly soluble in an acid or an oxidizing agent. A printed wiring board, characterized in that:
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