JP3007046B2 - 難燃性ポリカーボネート樹脂組成物 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、難燃性ポリカーボ
ネート樹脂組成物及びそれを用いた光線反射板に関し、
さらに詳しくは、難燃性や耐衝撃性などの機械物性を損
なうことなく、高反射率性，遮光性，耐光性，成形性な
どを向上させた臭素化合物を含有しない難燃性ポリカー
ボネート樹脂組成物、及びこの組成物を成形してなる液
晶ディスプレイバックライト用などとして好適な光線反
射板に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】ポリカーボネート樹脂は、機械物性（特
に、耐衝撃特性），電気的特性，透明性などに優れてい
ることから、エンジニアリングプラスチックとして、Ｏ
Ａ機器や電気・電子機器分野，建築分野などの様々な分
野において幅広く利用されている。そして、これらの利
用分野の中で、特に液晶ディスプレイバックライト用反
射板の用途においては、高い反射率が要求されている。
このポリカーボネート樹脂は、各種熱可塑性樹脂の中で
は酸素指数が高く、一般的に自己消火性を有する樹脂で
あるが、ＯＡ機器や電気・電子機器分野、その他各種用
途における安全上の要求を満たすために、さらに難燃性
を高めた樹脂組成物が強く求められている。

【０００３】一方、近年、環境問題から、難燃剤のノン
ブロム（無臭素）化が要求されており、また、液晶ディ
スプレイバックライト用反射板の用途では、前記したよ
うに、高い反射率とともに、高い遮光性及び耐光性が要
求されている。さらに、テレビやパーソナルコンピュー
ター（パソコン）などの液晶ディスプレイが使用されて
いる製品の薄肉化に伴い、成形性に優れる材料が求めら
れている。これらの背景から、難燃性や耐衝撃性などの
機械物性を維持するとともに、高反射率性，遮光性，耐
光性，成形性などに優れる臭素化合物を含有しない難燃
性ポリカーボネート樹脂組成物が要望されている。ポリ
カーボネート樹脂の反射率を向上させた材料としては、
ポリカーボネート樹脂に酸化チタンを配合したものが知
られている（特公昭６３−２６１４０号公報など）。し
かしながら、従来の酸化チタンを配合した材料は、遮光
性が低く、透けの問題が生じ、輝度が低下するのを免れ
ない上、耐光性に劣り、かつ成形性が悪く、成形時に滞
留焼けが生じたり、シルバーが発生するなど、多くの欠
点を有していた。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】本発明は、このような
状況下で、難燃性や耐衝撃性などの機械物性を損なうこ
となく、高反射率性，遮光性，耐光性，成形性などを向
上させたノンブロム難燃性ポリカーボネート樹脂組成
物、及びこのものを用いた光線反射特性に優れる難燃性
光線反射板を提供することを目的とするものである。

【０００５】

【課題を解決するための手段】本発明者らは、前記目的
を達成するために鋭意研究を重ねた結果、比較的多量の
酸化チタンを含有するポリカーボネート樹脂に、さらに
特定の明度向上剤又はこの明度向上剤とハロゲン非含有
リン酸エステル化合物、及び場合により特定のオルガノ
ポリシロキサンやポリテトラフルオロエチレンをそれぞ
れ所定の割合で含有させたポリカーボネート樹脂組成
物、及びこの樹脂組成物を成形してなる光線反射板がそ
の目的に適合しうることを見出した。本発明は、かかる
知見に基づいて完成したものである。

【０００６】すなわち、本発明は、 （１）（Ａ）ポリカーボネート樹脂と（Ｂ）酸化チタン
粉末とを重量比７０：３０〜９０：１０の割合で含有
し、かつ上記（Ａ）成分と（Ｂ）成分との合計重量に基
づき、（Ｃ）４−（ベンゾオキサゾール−２−イル）−
４’−（５−メチルベンゾオキサゾール−２−イル）ス
チルベン又は４，４’−ビス（ベンゾオキサゾール−２
−イル）スチルベンを１〜１０００重量ｐｐｍ含有する
ことを特徴とする難燃性ポリカーボネート樹脂組成物、 （２）（Ａ）ポリカーボネート樹脂と（Ｂ）酸化チタン
粉末とを重量比７０：３０〜９０：１０の割合で含有
し、かつ上記（Ａ）成分と（Ｂ）成分との合計重量に基
づき、（Ｃ）４−（ベンゾオキサゾール−２−イル）−
４’−（５−メチルベンゾオキサゾール−２−イル）ス
チルベン又は４，４’−ビス（ベンゾオキサゾール−２
−イル）スチルベンを１〜１０００重量ｐｐｍ及び
（Ｄ）ハロゲン非含有リン酸エステル化合物をリン元素
として0.０５〜1.００重量％含有することを特徴とする
難燃性ポリカーボネート樹脂組成物、（３）（Ａ）成分
と（Ｂ）成分との合計重量に基づき、さらに（Ｅ）アル
コキシ基含有オルガノポリシロキサン0.０１〜５重量％
及び／又は（Ｆ）フィブリル形成能を有するポリテトラ
フルオロエチレン0.０１〜１重量％を含有する上記
（１），（２）の難燃性ポリカーボネート樹脂組成物、
及び （４）上記（１），（２），（３）の難燃性ポリカーボ
ネート樹脂組成物を成形してなる光線反射板、を提供す
るものである。

【０００７】

【発明の実施の形態】本発明の難燃性ポリカーボネート
樹脂組成物において、（Ａ）成分として用いられるポリ
カーボネート樹脂としては、種々のものが挙げられる
が、一般式（Ｉ）

【０００８】

【化１】

【０００９】で表される構造の繰り返し単位を有する重
合体が好適である。上記一般式（Ｉ）において、Ｘ¹ 及
びＸ² は、それぞれ炭素数１〜６の直鎖状，分岐状又は
環状のアルキル基を示し、具体例としては、メチル基，
エチル基，ｎ−プロピル基，イソプロピル基，ｎ−ブチ
ル基，イソブチル基，ｔｅｒｔ−ブチル基，ｎ−アミル
基，イソアミル基，ｎ−ヘキシル基，イソヘキシル基，
シクロペンチル基，シクロヘキシル基などが挙げられ
る。このＸ¹ 及びＸ² はたがいに同一であっても異なっ
ていてもよい。ａ及びｂは、それぞれＸ¹ 及びＸ² の置
換数を示し、０〜４の整数である。Ｘ¹ が複数ある場
合、複数のＸ¹ はたがいに同一でも異なっていてもよ
く、Ｘ² が複数ある場合、複数のＸ² はたがいに同一で
も異なっていてもよい。Ｙは単結合，炭素数１〜８のア
ルキレン基（例えばメチレン基，エチレン基，プロピレ
ン基，ブチレン基，ペンチリレン基，ヘキシレン基な
ど），炭素数２〜８のアルキリデン基（例えばエチリデ
ン基，イソプロピリデン基など），炭素数５〜１５のシ
クロアルキレン基（例えばシクロペンチレン基，シクロ
ヘキシレン基など），炭素数５〜１５のシクロアルキリ
デン基（例えばシクロペンチリデン基，シクロヘキシリ
デン基など），−Ｓ−，−ＳＯ−，−ＳＯ₂ −，−Ｏ
−，−ＣＯ−結合又は式（II-1）若しくは式（II-2）

【００１０】

【化２】

【００１１】で表される結合を示す。上記重合体は、通
常一般式（III)

【００１２】

【化３】

【００１３】（式中、Ｘ¹ ，Ｘ² ，ａ，ｂおよびＹは、
前記定義と同じである。）で表される二価フェノール
と、ホスゲンや炭酸エステル化合物等のカーボネート前
駆体とを反応させることによって容易に製造することが
できる。すなわち、例えば塩化メチレン等の溶媒中にお
いて、公知の酸受容体や分子量調節剤の存在下、二価フ
ェノールとホスゲン等のカーボネート前駆体との反応に
より、或いは溶媒の存在下又は不存在下、二価フェノー
ルと炭酸エステル化合物等のカーボネート前駆体とのエ
ステル交換反応などによって製造することができる。

【００１４】前記一般式（III)で表される二価フェノー
ルとしては様々なものが挙げられるが、特に２，２−ビ
ス（４−ヒドロキシフェニル）プロパン〔通称、ビスフ
ェノールＡ〕が好ましい。ビスフェノールＡ以外の二価
フェノールとしては、例えばビス（４−ヒドロキシフェ
ニル）メタン；１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニ
ル）エタン；１，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）
エタンなどのビス（４−ヒドロキシフェニル）アルカ
ン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）シクロヘ
キサン；１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）シク
ロデカンなどのビス（４−ヒドロキシフェニル）シクロ
アルカン、４，４’−ジヒドロキシジフェニル、ビス
（４−ヒドロキシフェニル）オキシド、ビス（４−ヒド
ロキシフェニル）スルフィド、ビス（４−ヒドロキシフ
ェニル）スルホン、ビス（４−ヒドロキシフェニル）ス
ルホキシド、ビス（４−ヒドロキシフェニル）エーテ
ル、ビス（４−ヒドロキシフェニル）ケトン等が挙げら
れる。この他、二価フェノールとしては、ハイドロキノ
ン等が挙げられる。これらの二価フェノールは、それぞ
れ単独で用いてもよく、二種以上を混合して用いてもよ
い。

【００１５】炭酸エステルとしては、例えばジフェニル
カーボネート等のジアリールカーボネート、ジメチルカ
ーボネート，ジエチルカーボネート等のジアルキルカー
ボネートなどが挙げられる。前記二価フェノールとカー
ボネート前駆体とを反応させてポリカーボネートを製造
する際に、必要に応じて分子量調節剤を用いることがで
きる。この分子量調節剤については特に制限はなく、従
来ポリカーボネートの製造において慣用されているもの
を用いることができる。このようなものとしては、例え
ばフェノール，ｐ−クレゾール，ｐ−ｔｅｒｔ−ブチル
フェノール，ｐ−ｔｅｒｔ−オクチルフェノール，ｐ−
クミルフェノール，ノニルフェノールなどの一価フェノ
ールが挙げられる。

【００１６】この（Ａ）成分のポリカーボネート樹脂
は、前記の二価フェノールの一種を用いたホモポリマー
であってもよく、また二種以上を用いたコポリマーであ
ってもよい。更に、多官能性芳香族化合物を上記一価フ
ェノールと併用して得られる熱可塑性ランダム分岐ポリ
カーボネート樹脂であってもよい。また、数平均重合度
５以上からなるオルガノシロキサンブロックからなるポ
リカーボネート−ポリオルガノシロキサン共重合体であ
ってもよい。さらには、各種のポリカーボネート樹脂二
種以上からなる混合物であってもよい。

【００１７】本発明の組成物において、（Ａ）成分とし
て用いられるポリカーボネート樹脂は、機械的強度、特
にアイゾット衝撃強度及び成形性などの点から、粘度平
均分子量が１3,０００〜３0,０００の範囲にあるもの、
特に１5,０００〜２5,０００の範囲にあるものが好まし
い。このような特性を有するポリカーボネート樹脂は、
例えばタフロンＦＮ３０００Ａ、ＦＮ２５００Ａ、ＦＮ
２２００Ａ、ＦＮ１９００Ａ、ＦＮ１５００Ａ（商品
名，出光石油化学（株）製）のような芳香族ポリカーボ
ネート樹脂として市販されている。

【００１８】本発明の樹脂組成物において、（Ｂ）成分
として用いられる酸化チタン粉末は、本質的に低反射性
（高透明性）である（Ａ）成分のポリカーボネート樹脂
に低透明化，高白度化をもたらし、高反射性を付与する
とともに、該ポリカーボネート樹脂の難燃性を向上させ
る作用を有している。なお、ポリカーボネート樹脂に酸
化チタンを白色顔料として添加した組成物は、既に特公
昭６３−２６１４０号公報、特開平６−２００１４０号
公報、米国特許第５３９１６００号明細書等に開示され
ているが、該組成物を用いた反射板等の具体的用途につ
いては言及されていない。

【００１９】（Ｂ）成分としての酸化チタンは上述のよ
うに（Ａ）成分のポリカーボネート樹脂に低透明性、高
反射性を付与する目的から微粉末の形態で使用される
が、各種粒度の微粉末の酸化チタンは、塩素法または硫
酸法のいずれの方法によっても製造することができる。
本発明において使用される酸化チタンは、ルチル型およ
びアナターゼ型のいずれでもよいが、熱安定性、耐候性
等の点でルチル型が好ましい。またその微粉末粒子の形
状は特に限定されるものではなく、鱗片状，球状，不定
形等適宜選択使用できる。

【００２０】この（Ｂ）成分として使用される酸化チタ
ンは、アルミニウム及び／又は珪素の含水酸化物の他、
アミン化合物、ポリオール化合物等で表面処理したもの
が好ましい。この処理をすることによりポリカーボネー
ト樹脂組成物中での均一分散性及びその分散状態の安定
性が向上する他、更に後述の（Ｄ）成分の難燃剤との親
和性も向上して均一な組成物製造上好ましい。ここに言
うアルミニウムや珪素の含水酸化物，アミン化合物及び
ポリオール化合物としては、それぞれアルミナ含水物，
シリカ含水物，トリエタノールアミン及びトリメチロー
ルエタンなどを例示することができる。上記表面処理に
おける処理方法自体は特に限定されるものではなく、任
意の方法が適宜採られる。この処理により酸化チタン粒
子表面に付与される表面処理剤の量は特に限定されるも
のではないが、酸化チタンの光反射性、ポリカーボネー
ト樹脂組成物の成形性を考慮すれば酸化チタンに対し１
〜１５重量％程度が適当である。

【００２１】本発明の組成物において、（Ｂ）成分とし
て用いられる上記酸化チタン粉末の粒子径については特
に制限はないが、前記効果を効率よく発揮するには、平
均粒子径0.１〜0.５μｍ程度のものが好適である。本発
明の組成物における前記（Ａ）成分のポリカーボネート
樹脂と（Ｂ）成分の酸化チタン粉末との含有割合は、重
量比７０：３０〜９０：１０の範囲で選ばれる。酸化チ
タン粉末の量が上記範囲より少ないと遮光性が不充分で
あり、かつ難燃性向上効果も充分に発揮されず、また上
記範囲より多いと成形性が悪くなり、成形品にシルバー
の発生が多くなる傾向がみられる。遮光性，難燃性及び
成形性などの面から、（Ａ）成分と（Ｂ）成分との特に
好ましい含有割合は、重量比７０：３０〜８５：１５の
範囲である。本発明の組成物においては、（Ｃ）成分と
して、スチルベンビスベンゾオキサゾール誘導体が用い
られる。このものは、ポリカーボネート樹脂組成物の耐
光性や耐熱性を損なうことなく、光線反射率を高める明
度向上剤としての作用を有している。このスチルベンビ
スベンゾオキサゾール誘導体の例としては、式（IV)

【００２２】

【化４】

【００２３】で表される４−（ベンゾオキサゾール−２
−イル）−４’−（５−メチルベンゾオキサゾール−２
−イル）スチルベンや、式（Ｖ）

【００２４】

【化５】

【００２５】で表される４，４’−ビス（ベンゾオキサ
ゾール−２−イル）スチルベンなどを挙げることができ
る。上記式（IV) で表される化合物としては、例えばホ
スタルックスＫＳ（ヘキスト社製，商品名）などが、ま
た式（Ｖ）で表される化合物としては、例えばイースト
ブライトＯＢ−１（商品名，イーストマンケミカル社
製）などが市販されている。本発明においては、（Ｃ）
成分のスチルベンビスベンゾオキサゾール誘導体は一種
用いてもよく、二種以上を組み合わせて用いてもよい。
また青及び紫の顔料の中から選ばれた少なくとも一種の
顔料を適当量混合して用いてもよい。スチルベンビスベ
ンゾオキサゾール誘導体と青や紫の顔料との混合物とし
ては、例えばホスタルックスＫＳ−Ｎ（商品名，ヘキス
ト社製），イーストブライトＯＢ−３（商品名，イース
トマンケミカル社製）などが市販されている。

【００２６】本発明の組成物におけるこの（Ｃ）成分の
スチルベンビスベンゾオキサゾール誘導体の含有量は、
前記（Ａ）成分のポリカーボネート樹脂と（Ｂ）成分の
酸化チタン粉末との合計重量に基づき、１〜１０００重
量ｐｐｍの範囲で選ばれる。この含有量が１重量ｐｐｍ
未満では光線反射率の向上効果が充分に発揮されないお
それがあり、また１０００重量ｐｐｍを超えるとその量
の割には効果の向上があまり認められず、むしろ経済的
に不利となる。光線反射率の向上効果及び経済性などの
面から、この（Ｃ）成分の好ましい含有量は、（Ａ）成
分と（Ｂ）成分との合計重量に基づき、１０〜５００重
量ｐｐｍの範囲である。本発明の組成物においては、難
燃性をさらに向上させる目的で、必要に応じ、（Ｄ）成
分として、ハロゲン非含有リン酸エステル化合物を含有
させることができる。このハロゲン非含有リン酸エステ
ル化合物は、（Ｂ）成分の酸化チタン粉末との相乗効果
により、優れた難燃性を付与するとともに、ポリカーボ
ネート樹脂組成物の熱成形性の安定化を向上させる作用
も有する。

【００２７】この（Ｄ）成分のハロゲン非含有リン酸エ
ステル化合物は、臭素などのハロゲン原子を含んでいな
いため、このものを含有する成形品を廃棄処理した場
合、環境汚染をもたらすおそれが少ない。このようなハ
ロゲン非含有リン酸エステル化合物としては、例えば一
般式（VI)

【００２８】

【化６】

【００２９】で表されるモノリン酸エステル又はポリリ
ン酸エステルを挙げることができる。上記一般式（VI)
において、Ｒ¹ 〜Ｒ⁴ は、それぞれ置換基を有していて
もよいアリール基を示し、それらはたがいに同一でも異
なっていてもよい。Ｘは置換基を有していてもよいアリ
ーレン基を示し、ｃ，ｄ，ｅ及びｆは、それぞれ０又は
１、ｐは０〜５の数を示す。このｐは、二種以上のリン
酸エステルを混合して用いる場合には、各リン酸エステ
ルのｐの平均値で表される。上記アリール基及びアリー
レン基における置換基としては、例えば炭素数１〜１０
のアルキル基，炭素数１〜１０のアルコキシ基，フェニ
ル基やトリル基などのアリール基などが挙げられる。こ
れらの置換基は１個導入されていてもよく、複数導入さ
れていてもよい。

【００３０】この一般式（VI) で表されるハロゲン非含
有リン酸エステル化合物の例としては、トリフェニルホ
スフェート，トリクレジルホスフェート，トリキシレニ
ルホスフェート，トリビフェニルホスフェートなどのモ
ノリン酸エステル、フェニル・レゾルシンポリホスフェ
ート，フェニル・ハイドロキノンポリホスフェート，フ
ェニル・クレジル・レゾルシンポリホスフェート，フェ
ニル・クレジルハイドロキノンポリホスフェート，テト
ラフェニル・レゾルシンジホスフェート，テトラフェニ
ル・ハイドロキノンジホスフェート，フェニル・トリク
レジル・レゾルシンジホスフェート，フェニル・トリク
レジル・ハイドロキノンジホスフェート，テトラビフェ
ニル・レゾルシンジホスフェート，テトラビフェニル・
ハイドロキノンジホスフェートなどのポリリン酸エステ
ルが挙げられる。これらの中で、ポリカーボネート樹脂
組成物の熱成形時における金型付着及び汚染性を抑制す
る点から、ポリリン酸エステルが好適である。また、こ
れらのモノリン酸エステルやポリリン酸エステルは単独
で用いてもよく、二種以上を組み合わせて用いてもよ
い。

【００３１】本発明の組成物においては、必要に応じて
用いられるこの（Ｄ）成分のハロゲン非含有リン酸エス
テル化合物は、前記（Ａ）成分のポリカーボネート樹脂
と（Ｂ）成分の酸化チタン粉末との合計重量に基づき、
リン元素として0.０５〜1.００重量％の割合で含有され
る。このリン元素の含有量が0.０５重量％未満では難燃
化の向上効果及び酸化チタンに対する相乗効果が充分に
発揮されないおそれがあり、また、1.００重量％を超え
るとその量の割には上記効果の向上はあまり認められ
ず、むしろ経済的に不利となる上、成形品の耐熱性が低
下する傾向がみられる。難燃化の向上効果，成形品の耐
熱性，経済性などの点から、リン元素の特に好ましい含
有量は、（Ａ）成分と（Ｂ）成分との合計重量に基づ
き、0.１〜0.５重量％の範囲である。本発明の組成物に
おいては、熱成形性の安定化、特に成形品表面の平滑性
を阻害しやすい（Ｂ）成分の酸化チタンの特性改善のた
めに、必要に応じて、（Ｅ）成分としてアルコキシ基含
有オルガノポリシロキサン（以下、オルガノポリシロキ
サンという）を含有させてもよい。

【００３２】このオルガノポリシロキサンとしては、種
々のものがあり、具体的には、アルコキシ基が直接又は
二価炭化水素基を介してケイ素原子に結合したオルガノ
キシシリル基を含有し、直鎖状，環状，網状及び一部分
岐を有する直鎖状のオルガノポリシロキサンが挙げられ
る。特に直鎖状オルガノポリシロキサンが好ましい。こ
のようなアルコキシ基が直接又は二価炭化水素基を介し
てケイ素原子に結合したオルガノキシシリル基を含有す
るオルガノポリシロキサンとしては、例えば一般式（VI
I)

【００３３】

【化７】

【００３４】〔式中、Ｒ¹ は一価炭化水素基を示し、Ａ
は一価炭化水素基、アルコキシ基（−ＯＲ⁴)又は一般式
(VIII) −Ｒ² ＳｉＲ³ _X （ＯＲ⁴)_(3-X) ・・・(VIII) （式中、Ｒ² は二価炭化水素基を示し、Ｒ³ 及びＲ⁴ は
一価炭化水素基を示す。又、Ｘは０〜２の整数であ
る。）で示されるオルガノキシシリル基含有一価炭化水
素基を示す。但し、一分子中のＡのうち、少なくとも１
個はアルコキシ基又はオルガノキシシリル基含有一価炭
化水素基である。また、ｍは１〜３００の整数であり、
ｎは０〜３００の整数であり、かつｍ＋ｎは１〜３００
の整数である。〕で表される直鎖状オルガノポリシロキ
サンを挙げることができる。

【００３５】ここで、一般式（VII)において、Ｒ¹ で示
される一価炭化水素基としては、具体的には、メチル
基，エチル基，プロピル基，ブチル基，ペンチル基，ヘ
キシル基等のアルキル基、ビニル基，アリル基，ブテニ
ル基，ペンテニル基，ヘキセニル基等のアルケニル基、
フェニル基，トリル基，キシリル基等のアリール基、ベ
ンジル基，フェネチル基等のアラルキル基が例示され
る。そして、Ａで示される一価炭化水素基の具体例は、
上記Ｒ¹ の場合と同じである。一方、一般式(VIII)にお
いて、Ｒ² で示される二価炭化水素基としては、具体的
には、メチレン基，エチレン基，プロピレン基，ブチレ
ン基等のアルキレン基が例示される。また、Ｒ³ 及びＲ
⁴ で示される一価炭化水素基は、上記と同じであり、オ
ルガノキシシリル基含有一価炭化水素基としては、具体
的には、トリメトキシシリルエチレン基，トリエトキシ
シリルエチレン基，ジメトキシフェノキシシリルフロピ
レン基，トリメトキシシリルプロピレン基，トリメトキ
シシリルブチレン基，メチルジメトキシシリルプロピレ
ン基，ジメチルメトキシシリルプロピレン基等が例示さ
れる。

【００３６】この（Ｅ）成分のオルガノポリシロキサン
は一種用いてもよく、二種以上を組み合わせて用いても
よい。本発明の組成物において、必要に応じて用いられ
るこの（Ｅ）成分のオルガノポリシロキサンの含有量は
特に制限はないが、前記（Ａ）成分のポリカーボネート
樹脂と（Ｂ）成分の酸化チタン粉末との合計重量に基づ
き、0.０１〜５重量％の範囲が有利である。この量が0.
０１重量％未満では酸化チタンの特性改善効果が充分に
発揮されないおそれがあり、５重量％を超えるとその量
の割には効果の向上はあまり認められず、むしろ経済的
に不利となる上、成形品の耐衝撃強度などの機械物性が
低下する傾向がみられる。

【００３７】本発明の組成物においては、特に高い難燃
性が要求される場合には、必要に応じて、（Ｆ）成分と
して、フィブリル形成能を有するポリテトラフルオロエ
チレンをドロッピング防止剤（着火樹脂の滴下防止剤）
として含有させることができる。ここにフィブリル形成
能とは、混練や射出成形において可塑化の剪断応力を受
けた際にフィブリル化（繊維化）する性能を言い、高い
難燃性を得る上で効果的である。上記のようなフィブリ
ル形成能を有するポリテトラフルオロエチレン（ＰＴＦ
Ｅ）は、例えばテトラフルオロエチレンを水性溶媒中で
ナトリウム、カリウムまたはアンモニウム−オキシジス
ルフィドの存在下に、１〜１００ｐｓｉ程度の圧力下、
温度０〜２００℃程度、好ましくは２０〜１００℃で重
合させることにより得られる。

【００３８】このようにして得られたフィブリル形成能
を有するＰＴＦＥの種類には特に限定されるものではな
いが、例えばＡＳＴＭ規格においてタイプ３に分類され
るものが好適である。具体的商品としてはテフロン６−
Ｊ（商品名，三井・デュポンフロロケミカル社製）、ポ
リフロンＴＦＥ Ｄ−１，ポリフロンＴＦＥ Ｆ−１０
４（商品名，ダイキン工業社製）等が挙げられる。該タ
イプ３に分類されるもの以外では、例えばアルゴフロン
Ｆ５（商品名，モンテフルオス社製）、ポリフロンＭＰ
Ａ ＦＡ−１００およびポリフロンＴＦＥ Ｆ２０１
（商品名，ダイキン工業社製）等が挙げられる。この
（Ｆ）成分のフィブリル形成能を有するポリテトラフル
オロエチレンは一種用いてもよく、二種以上を組み合わ
せて用いてもよい。

【００３９】本発明の組成物において、必要に応じて用
いられるこの（Ｆ）成分のフィブリル形成能を有するポ
リテトラフルオロエチレンの含有量は特に制限はない
が、前記（Ａ）成分のポリカーボネート樹脂と（Ｂ）成
分の酸化チタン粉末との合計重量に基づき、0.０１〜１
重量％の範囲が有利である。この量が0.０１重量％未満
ではドロッピング防止効果が充分に発揮されないおそれ
があり、１重量％を超えるとその量の割には効果の向上
はあまり認められず、むしろ経済的に不利となる。

【００４０】本発明の難燃性ポリカーボネート樹脂組成
物には、本発明の目的が損なわれない範囲で、所望によ
り各種添加剤、例えば酸化防止剤，滑剤（離型剤），他
の無機充填剤などを適宜含有させてもよい。本発明の難
燃性ポリカーボネート樹脂組成物は、例えば前記（Ａ）
成分，（Ｂ）成分，（Ｃ）成分及び必要に応じて用いら
れる（Ｄ）成分，（Ｅ）成分，（Ｆ）成分，各種添加剤
を配合し、混練することにより調製することができる。
該配合及び混練方法としては、通常の樹脂組成物に適用
される方法がそのまま適用でき、リボンブレンダー、ヘ
ンシェルミキサー、バンバリーミキサー、ドラムタンブ
ラー、単軸または２以上の多軸スクリュー押出機、コニ
ーダ等を用いる方法が好適である。なお、混練温度は特
に限定されないが、通常２４０〜３４０℃の範囲から好
適に選ばれる。

【００４１】このようにして得られた樹脂組成物を、通
常の成形方法、例えば射出成形法や圧縮成形法などを用
いて平面板又は曲面板に成形することにより、本発明の
光線反射板が得られる。この光線反射板は、例えば照明
装置用や液晶ディスプレイバックライト用などに好まし
く用いられるが、特に液晶ディスプレイバックライト用
反射板として好適である。本発明の光線反射板は、材料
に臭素化合物を含有していないため、耐光性に優れ、長
期間利用しても反射率の低下が少なく、良好な特性を示
す等、従来にない優れた特性を備えたものである。

【００４２】

【実施例】次に本発明を実施例によりさらに詳細に説明
するが、本発明は、これらの例によってなんら限定され
るものではない。なお、実施例及び比較例で用いた材料
の種類は下記のとおりである。 （Ａ）ポリカーボネート（ＰＣ樹脂） タフロンＦＮ１９００Ａ〔商品名，出光石油化学（株）
製，ビスフェノールＡ型のポリカーボネート，粘度平均
分子量１９００〕：１９００Ａと略記 （Ｂ）酸化チタン粉末 タイペークＣＲ６３〔商品名，石原産業（株）製〕：Ｃ
Ｒ６３と略記 （Ｃ）明度向上剤 ホスタルックスＫＳ−Ｎ（商品名，ヘキスト社製）：Ｋ
Ｓ−Ｎと略記 （Ｄ）ハロゲン非含有リン酸エステル アデカスタブＰＦＲ〔商品名，旭電化工業（株）製，フ
ェニル・レゾルシンポリホスフェート，リン含有量１0.
８重量％）〕：ＰＦＲと略記 （Ｅ）オルガノポリシロキサン メトキシ変性シリコーンＢＹ１６−１６０（商品名，東
レ・ダウコーニング・シリコーン社製）：シリコーンＢ
Ｙ１６−１６０と略記 （Ｆ）フィブリル形成性ポリテトラフルオロエチレン ＰＴＦＥ ＦＡ−１００〔商品名，ダイキン工業（株）
製〕：テフロンＦＡ−１００と略記

【００４３】また、ポリカーボネート樹脂組成物の性能
は、下記の要領に従って評価した。 （ａ）反射率：3.２×2.5 ×0.１ｃｍの角板を２８０℃
で成形し、試料とした。ＬＣＭ分光光度計ＭＳ２０２０
プラス〔マクベス（Macbeth)社製〕によるＹ値で評価し
た。 （ｂ）難燃性ＵＬ９４：厚み３ｍｍ及び1.５ｍｍの各試
料について、ＵＬ９４に準じて垂直燃焼試験を実施し
た。 （ｃ）透過率：日本電色工業株式会社製 ＳＺシグマ９
０を使用し、ＪＩＳ Ｋ７１０５に準拠して測定した。 （ｄ）耐光性：キセノンアーク（ATLAS ELECTRIC社製，
Ｃｉ６５，6.５ｋＷ）を使用し、ブラックパネル６３℃
とし、雨なし、６００時間の条件でΔＥの値により評価
した。 （ｅ）滞留熱安定性測定：成形機（東芝社製，ＩＳ−２
５Ｅ）を使用し、設定温度３００℃，滞留時間２０分に
て評価した。結果の表示方法は次の通り。 Ｓ・・シルバーあり，○・・変化なし

【００４４】実施例１〜４及び比較例１〜４ 第１表に及び第２表に示す種類と量の各成分を、５０ｍ
ｍφ単軸押出機により、シリンダー温度２８０℃、スク
リュー回転数１００ｒｐｍで溶融混練し、押出してペレ
ット化し、樹脂組成物を調製した。得られたペレットを
１２０℃で５時間乾燥処理したのち、射出成形して、物
性測定用の試験片を作製した。樹脂組成物の性能評価結
果を第１表及び第２表に示す。

【００４５】

【表１】

【００４６】

【表２】

【００４７】第１表及び第２表から分かるように、実施
例１〜３は、いずれも明度向上剤及びホスフェートを含
有したものであって、高い反射率及び高い難燃性（ＵＬ
９４Ｖ−０）が達成されている。また、酸化チタンの含
有量が増加するに伴い、透過率が低下しており、高い遮
光性を示している。実施例４は明度向上剤を含有してい
るが、ホスフェートは含有していないため、難燃性はＵ
Ｌ９４ Ｖ−２であるが、反射率は９7.０と高い。これ
に対し、比較例１は明度向上剤を含有していないため、
反射率が低い。また、比較例２は酸化チタンの含有量が
多すぎ、かつ明度向上剤を含有していないため、反射率
が低い上、成形品にシルバーの発生が認められる。比較
例３は酸化チタンの含有量が少なすぎるため、透過率が
1.３％と高く、光線反射板として使用する際、透けの問
題が生じ、遮光性が不充分である。比較例４は明度向上
剤及びホスフェートの両方を含有しているが、酸化チタ
ンの含有量が多すぎるため、高い反射率及び難燃性を有
するものの、成形品にシルバーの発生が認められる。

【００４８】

【発明の効果】本発明の難燃性ポリカーボネート樹脂組
成物は、難燃性や耐衝撃性などの機械物性を損なうこと
なく、高反射率性，遮光性，耐光性，成形性などを向上
させたものであって、光線反射板などの素材として好適
に用いられる。この樹脂組成物を成形して得られた本発
明の光線反射板は、臭素化合物を含有していないため、
耐光性に優れ、長期間使用しても反射率の低下が少な
く、照明装置用光線反射板や液晶ディスプレイバックラ
イト用反射板などとして有用である。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁷ 識別記号 ＦＩ Ｇ０２Ｆ 1/1335 ５２０ Ｇ０２Ｆ 1/1335 ５２０ //(Ｃ０８Ｌ 69/00 83:06 27:18） (58)調査した分野(Int.Cl.⁷，ＤＢ名) C08L 69/00 C08K 3/00 - 13/08 C08L 27/00 - 27/24 C08L 83/00 - 83/16

Claims (7)

(57)【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】（Ａ）ポリカーボネート樹脂と（Ｂ）酸化
   チタン粉末とを重量比７０：３０〜９０：１０の割合で
   含有し、かつ上記（Ａ）成分と（Ｂ）成分との合計重量
   に基づき、（Ｃ）４−（ベンゾオキサゾール−２−イ
   ル）−４’−（５−メチルベンゾオキサゾール−２−イ
   ル）スチルベン又は４，４’−ビス（ベンゾオキサゾー
   ル−２−イル）スチルベンを１〜１０００重量ｐｐｍ含
   有することを特徴とする難燃性ポリカーボネート樹脂組
   成物。
2. 【請求項２】（Ａ）ポリカーボネート樹脂と（Ｂ）酸化
   チタン粉末とを重量比７０：３０〜９０：１０の割合で
   含有し、かつ上記（Ａ）成分と（Ｂ）成分との合計重量
   に基づき、（Ｃ）４−（ベンゾオキサゾール−２−イ
   ル）−４’−（５−メチルベンゾオキサゾール−２−イ
   ル）スチルベン又は４，４’−ビス（ベンゾオキサゾー
   ル−２−イル）スチルベンを１〜１０００重量ｐｐｍ及
   び（Ｄ）ハロゲン非含有リン酸エステル化合物をリン元
   素として0.０５〜1.００重量％含有することを特徴とす
   る難燃性ポリカーボネート樹脂組成物。
3. 【請求項３】（Ａ）成分と（Ｂ）成分との合計重量に基
   づき、さらに（Ｅ）アルコキシ基含有オルガノポリシロ
   キサン0.０１〜５重量％を含有する請求項１又は２記載
   の難燃性ポリカーボネート樹脂組成物。
4. 【請求項４】（Ｅ）成分のアルコキシ基含有オルガノポ
   リシロキサンが、二価炭化水素基を介してケイ素原子に
   結合したオルガノキシシリル基を含有するオルガノポリ
   シロキサンである請求項３記載の難燃性ポリカーボネー
   ト樹脂組成物。
5. 【請求項５】（Ａ）成分と（Ｂ）成分との合計重量に基
   づき、さらに（Ｆ）フィブリル形成能を有するポリテト
   ラフルオロエチレン0.０１〜１重量％を含有する請求項
   １〜４のいずれかに記載の難燃性ポリカーボネート樹脂
   組成物。
6. 【請求項６】請求項１〜５のいずれかに記載の難燃性ポ
   リカーボネート樹脂組成物を成形してなる光線反射板。
7. 【請求項７】液晶ディスプレイバックライト用反射板で
   ある請求項６記載の光線反射板。