JP2999718B2 - 光機能性有機フィルムとそれを用いた表示装置 - Google Patents
光機能性有機フィルムとそれを用いた表示装置Info
- Publication number
- JP2999718B2 JP2999718B2 JP8169620A JP16962096A JP2999718B2 JP 2999718 B2 JP2999718 B2 JP 2999718B2 JP 8169620 A JP8169620 A JP 8169620A JP 16962096 A JP16962096 A JP 16962096A JP 2999718 B2 JP2999718 B2 JP 2999718B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- thin film
- film
- inorganic thin
- organic film
- metal
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Landscapes
- Overhead Projectors And Projection Screens (AREA)
- Laminated Bodies (AREA)
- Vessels, Lead-In Wires, Accessory Apparatuses For Cathode-Ray Tubes (AREA)
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、通常の有機フィル
ムに無機系薄膜をコーティングして作製した光機能性有
機フィルムとそれを用いた表示装置に関するものであ
る。
ムに無機系薄膜をコーティングして作製した光機能性有
機フィルムとそれを用いた表示装置に関するものであ
る。
【０００２】
【従来の技術】有機フィルム上に無機系薄膜をコーティ
ングし、該フィルムの光機能性を高めたものとしては、
透明導電フィルムが知られている（Ｎew Ｇlass， Ｖo
l．１３，Ｎo．３，Ｐ．２５（１９８９年）。こうした
フィルムの成膜方法としては、スパッタ法が知られてい
る。
ングし、該フィルムの光機能性を高めたものとしては、
透明導電フィルムが知られている（Ｎew Ｇlass， Ｖo
l．１３，Ｎo．３，Ｐ．２５（１９８９年）。こうした
フィルムの成膜方法としては、スパッタ法が知られてい
る。
【０００３】特開平６−１３９９６４号公報には、機能
性フィルム付き陰極線管が開示されている。これはフィ
ルム上に反射防止効果や波長選択吸収効果を持つ膜を形
成したものをＣＲＴ上に接着させたものである。これ
は、蒸着により多層薄膜をフィルム上に形成したもので
あるが、ゾル溶液をスプレー塗布により塗布する方法も
開示されている。
性フィルム付き陰極線管が開示されている。これはフィ
ルム上に反射防止効果や波長選択吸収効果を持つ膜を形
成したものをＣＲＴ上に接着させたものである。これ
は、蒸着により多層薄膜をフィルム上に形成したもので
あるが、ゾル溶液をスプレー塗布により塗布する方法も
開示されている。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】スパッタ法や蒸着によ
りフィルム上に無機膜を形成するものは、大掛かりな真
空装置が必要な上に、大面積のものの成膜には適さず、
また、成膜コストが高いなどの問題がある。スパッタ法
の場合は、アルゴンプラズマ中での成膜のため、アルゴ
ンプラズマによるフィルムの逆スパッタにより、フィル
ムが破壊されると云う問題もある。
りフィルム上に無機膜を形成するものは、大掛かりな真
空装置が必要な上に、大面積のものの成膜には適さず、
また、成膜コストが高いなどの問題がある。スパッタ法
の場合は、アルゴンプラズマ中での成膜のため、アルゴ
ンプラズマによるフィルムの逆スパッタにより、フィル
ムが破壊されると云う問題もある。
【０００５】他の成膜法としてはＣＶＤ法や真空蒸着法
が知られているが、成膜温度が高いためフィルム上への
無機膜の成膜は困難で、大面積のものには成膜が困難な
どの欠点がある。特に、有機フィルム上への成膜は、フ
ィルムの耐熱温度が低いため、通常の手法による成膜は
困難である。
が知られているが、成膜温度が高いためフィルム上への
無機膜の成膜は困難で、大面積のものには成膜が困難な
どの欠点がある。特に、有機フィルム上への成膜は、フ
ィルムの耐熱温度が低いため、通常の手法による成膜は
困難である。
【０００６】また、真空蒸着法には、フィルム表面を冷
却しながら成膜する方法もあるが、かなり特殊な付属装
置を必要とする。また、蒸着法により成膜した場合、膜
の構造が柱状構造となるため、膜の横方向に対する膜の
強度は非常に弱いものであった。
却しながら成膜する方法もあるが、かなり特殊な付属装
置を必要とする。また、蒸着法により成膜した場合、膜
の構造が柱状構造となるため、膜の横方向に対する膜の
強度は非常に弱いものであった。
【０００７】また、ゾル溶液をスプレー塗布し、ついで
熱処理して成膜するものもあるが、膜表面が凹凸になり
易いため、表示装置等の発光体では光の透過性能が悪化
し、有機フィルムでは熱処理温度を高くできないため
に、フィルムへの密着強度は極めて低いものであった。
熱処理して成膜するものもあるが、膜表面が凹凸になり
易いため、表示装置等の発光体では光の透過性能が悪化
し、有機フィルムでは熱処理温度を高くできないため
に、フィルムへの密着強度は極めて低いものであった。
【０００８】反射帯電防止膜を形成したＣＲＴが知られ
ているが、この膜はＣＲＴのフェースガラス面上に直接
成膜されたものが多く、反射帯電防止膜を形成した有機
フィルム等を設けたものではない。また、ＣＲＴのフェ
ースガラス面上にスピンコーティングあるいはスプレー
コーティングする方法は、膜形成に手数がかかり、生産
性が悪いと云う問題があった。
ているが、この膜はＣＲＴのフェースガラス面上に直接
成膜されたものが多く、反射帯電防止膜を形成した有機
フィルム等を設けたものではない。また、ＣＲＴのフェ
ースガラス面上にスピンコーティングあるいはスプレー
コーティングする方法は、膜形成に手数がかかり、生産
性が悪いと云う問題があった。
【０００９】本発明の目的は、上記の問題を解決するた
めになされたもので、高光機能性を発揮する無機薄膜
を、耐熱性が低い有機フィルム上に低温形成し、汎用性
の高い便利な光機能性有機フィルムを提供することにあ
る。
めになされたもので、高光機能性を発揮する無機薄膜
を、耐熱性が低い有機フィルム上に低温形成し、汎用性
の高い便利な光機能性有機フィルムを提供することにあ
る。
【００１０】本発明の他の目的は、上記光機能性有機フ
ィルムを用いた表示装置の提供にある。
ィルムを用いた表示装置の提供にある。
【００１１】
【課題を解決するための手段】有機フィルム上に機能性
無機膜を形成するためには、低温成膜技術の開発が最大
の問題となる。これを解決するため本発明者らは光照射
を利用したゾルゲル法による光機能性有機フィルムを開
発した。これは、光エネルギによりゾルゲル反応を促進
して、低温で無機薄膜を形成する手法である。これによ
って、耐熱性の低い有機フィルム上にも機能性無機薄膜
を形成することが可能となる。
無機膜を形成するためには、低温成膜技術の開発が最大
の問題となる。これを解決するため本発明者らは光照射
を利用したゾルゲル法による光機能性有機フィルムを開
発した。これは、光エネルギによりゾルゲル反応を促進
して、低温で無機薄膜を形成する手法である。これによ
って、耐熱性の低い有機フィルム上にも機能性無機薄膜
を形成することが可能となる。
【００１２】本発明の要旨は次のとおりである。
【００１３】〔１〕 有機フィルム上に、粒子径が５０
０Å以下の無機粒子と、金属がＩｎ，Ｓｎ，Ｚｎ，Ｔ
ｉ，Ｓｉから選ばれる金属アルコシドの少なくとも一種
を含むゾル溶液を塗布し、波長が２５４ｎｍおよび／ま
たは１８４ｎｍの紫外光照射により、前記金属アルコシ
ドのゾルゲル反応によって得られた無機薄膜が形成され
ていることを特徴とする光機能性有機フィルム。
０Å以下の無機粒子と、金属がＩｎ，Ｓｎ，Ｚｎ，Ｔ
ｉ，Ｓｉから選ばれる金属アルコシドの少なくとも一種
を含むゾル溶液を塗布し、波長が２５４ｎｍおよび／ま
たは１８４ｎｍの紫外光照射により、前記金属アルコシ
ドのゾルゲル反応によって得られた無機薄膜が形成され
ていることを特徴とする光機能性有機フィルム。
【００１４】
【００１５】〔２〕 有機フィルム上に無機薄膜が多層
に形成され、該無機薄膜は有機フィルム面側に高屈折率
の無機薄膜とその上に低屈折率の無機薄膜が積層され、
その少なくとも一層の無機薄膜が、粒子径が５００Å以
下の無機粒子と、金属がＩｎ，Ｓｎ，Ｚｎ，Ｔｉ，Ｓｉ
から選ばれる金属アルコシドの少なくとも一種を含むゾ
ル溶液を塗布し、波長が２５４ｎｍおよび／または１８
４ｎｍの紫外光照射により、前記金属アルコシドのゾル
ゲル反応によって得られた無機薄膜であることを特徴と
する光機能性有機フィルム。
に形成され、該無機薄膜は有機フィルム面側に高屈折率
の無機薄膜とその上に低屈折率の無機薄膜が積層され、
その少なくとも一層の無機薄膜が、粒子径が５００Å以
下の無機粒子と、金属がＩｎ，Ｓｎ，Ｚｎ，Ｔｉ，Ｓｉ
から選ばれる金属アルコシドの少なくとも一種を含むゾ
ル溶液を塗布し、波長が２５４ｎｍおよび／または１８
４ｎｍの紫外光照射により、前記金属アルコシドのゾル
ゲル反応によって得られた無機薄膜であることを特徴と
する光機能性有機フィルム。
【００１６】
【００１７】〔３〕 前記有機フィルムの無機薄膜形成
面がシランカップリング剤で処理された面上に前記無機
薄膜が形成されている前記の光機能性有機フィルム。
面がシランカップリング剤で処理された面上に前記無機
薄膜が形成されている前記の光機能性有機フィルム。
【００１８】〔４〕 出射光または反射光を変調するこ
とにより表示を行う表示装置において、前記表示装置の
表示パネルフェース面に、有機フィルム上に粒子径が５
００Å以下の無機粒子と、金属がＩｎ，Ｓｎ，Ｚｎ，Ｔ
ｉ，Ｓｉから選ばれる金属アルコシドの少なくとも一種
を含むゾル溶液を塗布し、波長が２５４ｎｍおよび／ま
たは１８４ｎｍの紫外光照射により、前記金属アルコシ
ドのゾルゲル反応によって得られた無機薄膜を有する光
機能性有機フィルムを設けたことを特徴とする表示装
置。
とにより表示を行う表示装置において、前記表示装置の
表示パネルフェース面に、有機フィルム上に粒子径が５
００Å以下の無機粒子と、金属がＩｎ，Ｓｎ，Ｚｎ，Ｔ
ｉ，Ｓｉから選ばれる金属アルコシドの少なくとも一種
を含むゾル溶液を塗布し、波長が２５４ｎｍおよび／ま
たは１８４ｎｍの紫外光照射により、前記金属アルコシ
ドのゾルゲル反応によって得られた無機薄膜を有する光
機能性有機フィルムを設けたことを特徴とする表示装
置。
【００１９】〔５〕 出射光または反射光を変調するこ
とにより表示を行う表示装置において、前記表示装置の
表示パネルフェース面に、表面に無機薄膜が多層に形成
された有機フィルムを有し、前記無機薄膜は有機フィル
ム面側に高屈折率の無機薄膜とその上に低屈折率の無機
薄膜が積層され、その少なくとも一層の無機薄膜が、粒
子径が５００Å以下の無機粒子と、金属がＩｎ，Ｓｎ，
Ｚｎ，Ｔｉ，Ｓｉから選ばれる金属アルコシドの少なく
とも一種を含むゾル溶液を塗布し、波長が２５４ｎｍお
よび／または１８４ｎｍの紫外光照射により、前記金属
アルコシドのゾルゲル反応によって得られた無機薄膜で
ある光機能性有機フィルムを設けたことを特徴とする表
示装置。
とにより表示を行う表示装置において、前記表示装置の
表示パネルフェース面に、表面に無機薄膜が多層に形成
された有機フィルムを有し、前記無機薄膜は有機フィル
ム面側に高屈折率の無機薄膜とその上に低屈折率の無機
薄膜が積層され、その少なくとも一層の無機薄膜が、粒
子径が５００Å以下の無機粒子と、金属がＩｎ，Ｓｎ，
Ｚｎ，Ｔｉ，Ｓｉから選ばれる金属アルコシドの少なく
とも一種を含むゾル溶液を塗布し、波長が２５４ｎｍお
よび／または１８４ｎｍの紫外光照射により、前記金属
アルコシドのゾルゲル反応によって得られた無機薄膜で
ある光機能性有機フィルムを設けたことを特徴とする表
示装置。
【００２０】〔６〕 前記表示装置の表示パネルフェー
ス面に形成した前記有機フィルムの無機薄膜形成面がシ
ランカップリング剤処理された面上に前記無機薄膜が形
成されている光機能性有機フィルムを設けた前記の表示
装置。
ス面に形成した前記有機フィルムの無機薄膜形成面がシ
ランカップリング剤処理された面上に前記無機薄膜が形
成されている光機能性有機フィルムを設けた前記の表示
装置。
【００２１】
【発明の実施の形態】ゾル溶液中に各種機能性の無機粒
子を分散させておけば、ゾルが光照射により無機薄膜に
変換される際に光機能性の無機粒子が固定される。これ
により光機能性を有する無機薄膜を有機フィルム上に形
成することができる。
子を分散させておけば、ゾルが光照射により無機薄膜に
変換される際に光機能性の無機粒子が固定される。これ
により光機能性を有する無機薄膜を有機フィルム上に形
成することができる。
【００２２】また、無機粒子を分散したゾル溶液の代わ
りに分散させたい無機粒子の原料となる金属アルコキシ
ドのゾル溶液を用いることによっても、目的とする無機
薄膜を得ることもできる。この際、照射する光は通常の
金属アルコキシドの吸収波長領域である紫外線領域の光
が効果的である。
りに分散させたい無機粒子の原料となる金属アルコキシ
ドのゾル溶液を用いることによっても、目的とする無機
薄膜を得ることもできる。この際、照射する光は通常の
金属アルコキシドの吸収波長領域である紫外線領域の光
が効果的である。
【００２３】上記の紫外線により、ゾルゲル反応の基本
反応である加水分解反応及び縮合反応を効率的に進行さ
せることができ、目的とする無機薄膜を得ることができ
る。
反応である加水分解反応及び縮合反応を効率的に進行さ
せることができ、目的とする無機薄膜を得ることができ
る。
【００２４】上記無機薄膜の形成に使用する有機フィル
ムは、その表面をシランカップリング剤等で処理し、フ
ィルム表面に無機の中間介在層を形成しておくと、無機
薄膜の密着強度が向上し、実用の際に好適なものが得ら
れる。
ムは、その表面をシランカップリング剤等で処理し、フ
ィルム表面に無機の中間介在層を形成しておくと、無機
薄膜の密着強度が向上し、実用の際に好適なものが得ら
れる。
【００２５】上記無機薄膜の成膜方法は、従来のような
スパッタ法、ＣＶＤ法、真空蒸着法等の大掛かりな真空
設備を要しないため、極めて経済的な方法である。
スパッタ法、ＣＶＤ法、真空蒸着法等の大掛かりな真空
設備を要しないため、極めて経済的な方法である。
【００２６】前記無機粒子としてはＩｎ2Ｏ3，Ｓｎ
Ｏ2，ＺｎＯ，ＴｉＯ2，ＳｉＯ2の少なくとも一種を用
いることができる。該無機粒子の粒径は、５００Å以下
が望ましい。特に、Ｉｎ2Ｏ3，ＳｎＯ2，ＺｎＯは導電
性を有するので、帯電防止膜となる。
Ｏ2，ＺｎＯ，ＴｉＯ2，ＳｉＯ2の少なくとも一種を用
いることができる。該無機粒子の粒径は、５００Å以下
が望ましい。特に、Ｉｎ2Ｏ3，ＳｎＯ2，ＺｎＯは導電
性を有するので、帯電防止膜となる。
【００２７】本発明のフィルムは高屈折率／低屈折率の
積層膜とし、各層の膜厚と屈折率を制御することによ
り、それぞれの層での光の反射光をλ／４ずらすことで
光の干渉効果により反射光を減殺させることにより、反
射防止効果を発現させることができる。
積層膜とし、各層の膜厚と屈折率を制御することによ
り、それぞれの層での光の反射光をλ／４ずらすことで
光の干渉効果により反射光を減殺させることにより、反
射防止効果を発現させることができる。
【００２８】高屈折率層に導電性を有する無機粒子を用
いることにより、反射防止機能と帯電防止機能を併せ持
つ光機能性有機フィルムを得ることができる。
いることにより、反射防止機能と帯電防止機能を併せ持
つ光機能性有機フィルムを得ることができる。
【００２９】本発明の光機能性有機フィルムは、液晶、
ＣＲＴ等のフェース面上に適用することにより、反射防
止機能または反射帯電防止機能を形成することができ
る。
ＣＲＴ等のフェース面上に適用することにより、反射防
止機能または反射帯電防止機能を形成することができ
る。
【００３０】また、本発明の有機フィルム上に形成した
無機薄膜は、従来の蒸着やスパッタ法で形成した薄膜と
比較して、その構造が大きく異なる。即ち、蒸着やスパ
ッタ法で作製した薄膜は、膜の断面構造が柱状構造であ
り、膜の横方向に対する動きに対して、膜の強度が非常
に弱いものであった。本発明による無機薄膜は、超微粒
子（粒径５００Å以下）が分散されているゾル溶液を、
無機バインダとしてフィルム上に接着するため、無機薄
膜の断面構造は、微粒子の集合体が積層したものとな
る。このため膜の横方向や、粒子間の動きに対して余裕
度が高いため、その強度は極めて強いものとなり、膜の
可とう性もこれまでにない優れたものとなる。
無機薄膜は、従来の蒸着やスパッタ法で形成した薄膜と
比較して、その構造が大きく異なる。即ち、蒸着やスパ
ッタ法で作製した薄膜は、膜の断面構造が柱状構造であ
り、膜の横方向に対する動きに対して、膜の強度が非常
に弱いものであった。本発明による無機薄膜は、超微粒
子（粒径５００Å以下）が分散されているゾル溶液を、
無機バインダとしてフィルム上に接着するため、無機薄
膜の断面構造は、微粒子の集合体が積層したものとな
る。このため膜の横方向や、粒子間の動きに対して余裕
度が高いため、その強度は極めて強いものとなり、膜の
可とう性もこれまでにない優れたものとなる。
【００３１】有機フィルムの素材としては、ポリエチレ
ンテレフタレート（ＰＥＴ）が好ましいが、トリアセチ
ルセルロース（ＴＡＣ）等の他の材料も目的に応じて用
いることが可能である。
ンテレフタレート（ＰＥＴ）が好ましいが、トリアセチ
ルセルロース（ＴＡＣ）等の他の材料も目的に応じて用
いることが可能である。
【００３２】高い光機能性を備えた本発明の有機フィル
ムは、接着剤で表示装置のフェース面に接着して用い
る。その際の接着剤としては、酢酸ビニル系、アクリル
系、ホットメルト系、ユリア樹脂系、フェノール樹脂
系、エポキシ樹脂系、ポリウレタン樹脂系、ホットメル
ト樹脂系など目的に応じて市販の透明な接着剤であれば
使用することができる。
ムは、接着剤で表示装置のフェース面に接着して用い
る。その際の接着剤としては、酢酸ビニル系、アクリル
系、ホットメルト系、ユリア樹脂系、フェノール樹脂
系、エポキシ樹脂系、ポリウレタン樹脂系、ホットメル
ト樹脂系など目的に応じて市販の透明な接着剤であれば
使用することができる。
【００３３】
【実施例】本発明を実施例に基づき具体的に説明する。
【００３４】〔実施例１〕テトラエトキシシラン、水、
エタノール、硝酸をモル比で１：１２：４５：０．２５
の割合で混合してＳｉＯ2ゾル溶液とした。この溶液１
００ｍｌにＳｎを２重量％含有したＩＴＯ（Ｉndim Ｔi
n Ｏxide）超微粒子（粒径５０〜３００Å）を酸性度を
調節しながら分散し７重量％の分散ゾル溶液とした。
エタノール、硝酸をモル比で１：１２：４５：０．２５
の割合で混合してＳｉＯ2ゾル溶液とした。この溶液１
００ｍｌにＳｎを２重量％含有したＩＴＯ（Ｉndim Ｔi
n Ｏxide）超微粒子（粒径５０〜３００Å）を酸性度を
調節しながら分散し７重量％の分散ゾル溶液とした。
【００３５】このＩＴＯ分散ゾル溶液をＰＥＴフィルム
（フィルムの適用面をシランカップリング剤で処理し厚
さ３００Åのシリカ層を形成）上に浸潰法により成膜
し、５０℃で２分間乾燥した。
（フィルムの適用面をシランカップリング剤で処理し厚
さ３００Åのシリカ層を形成）上に浸潰法により成膜
し、５０℃で２分間乾燥した。
【００３６】次いで、このフィルム上にテトラエトキシ
シランを原料として合成した１重量％ＳｉＯ2ゾル溶液
を同様に浸潰法により成膜して、５０℃で２分間乾燥し
た。
シランを原料として合成した１重量％ＳｉＯ2ゾル溶液
を同様に浸潰法により成膜して、５０℃で２分間乾燥し
た。
【００３７】次に、２５４ｎｍ，１８４ｎｍの紫外線を
３分間を照射した。この光照射の際の基板フィルムの温
度は５０℃とした。この膜の表面抵抗は５×１０6Ω／
□であった。また表面反射率は０.３５％（５７０ｎ
ｍ）であった。
３分間を照射した。この光照射の際の基板フィルムの温
度は５０℃とした。この膜の表面抵抗は５×１０6Ω／
□であった。また表面反射率は０.３５％（５７０ｎ
ｍ）であった。
【００３８】この膜の断面構造を浸透型電子顕微鏡（Ｔ
ＥＭ）で観察した。ＴＥＭ観察用試料の作製はＦＩＢ
（Ｆocused Ｉon Ｂeam）加工で作製した。
ＥＭ）で観察した。ＴＥＭ観察用試料の作製はＦＩＢ
（Ｆocused Ｉon Ｂeam）加工で作製した。
【００３９】この膜の断面の模式構造図を図１に示す。
図中において、１は有機フィルム、２はシランカップリ
ング層、３は無機粒子（Ｉｎ2Ｏ3）、４はシリカ層であ
る。有機フィルム１上に１０００Å及び８００Åの膜厚
でＩＴＯ及びＳｉＯ2が均一に形成されていることが観
察された。
図中において、１は有機フィルム、２はシランカップリ
ング層、３は無機粒子（Ｉｎ2Ｏ3）、４はシリカ層であ
る。有機フィルム１上に１０００Å及び８００Åの膜厚
でＩＴＯ及びＳｉＯ2が均一に形成されていることが観
察された。
【００４０】また、ＩＴＯ膜中には粒径が５０〜３００
Åの粒子が観察された。この粒径は可視光波長よりもは
るかに小さいので薄膜は透明となる。ＩＴＯ及びＳｉＯ
2の屈折率はそれぞれ１.７０及び１.４２であった。こ
のため、液晶やＣＲＴのフェースプレート表面にこの反
射帯電防止膜を設けても、透過光または蛍光体の光を散
乱することがない。また、液晶やＣＲＴの表面反射を防
止し、かつ、静電気などの帯電も防止することができ
た。
Åの粒子が観察された。この粒径は可視光波長よりもは
るかに小さいので薄膜は透明となる。ＩＴＯ及びＳｉＯ
2の屈折率はそれぞれ１.７０及び１.４２であった。こ
のため、液晶やＣＲＴのフェースプレート表面にこの反
射帯電防止膜を設けても、透過光または蛍光体の光を散
乱することがない。また、液晶やＣＲＴの表面反射を防
止し、かつ、静電気などの帯電も防止することができ
た。
【００４１】ＩＴＯの代わりにＳｎＯ2（Ｓｂ含有），
ＺｎＯ（Ａｌ含有）を使用しても同様な帯電防止効果と
反射防止効果を有するフィルムが得られた。
ＺｎＯ（Ａｌ含有）を使用しても同様な帯電防止効果と
反射防止効果を有するフィルムが得られた。
【００４２】〔実施例２〕実施例１で作製した反射帯電
防止機能を有する有機フィルムを、ＣＲＴ（１７インチ
ブラウン管）のフェースプレート表面に接着した。
防止機能を有する有機フィルムを、ＣＲＴ（１７インチ
ブラウン管）のフェースプレート表面に接着した。
【００４３】この表面に反射帯電防止膜を形成したＣＲ
Ｔは、外光のフェースプレート表面での反射が抑えられ
るため、視認性が極めて向上した。また、帯電防止機能
により、静電気が除去できるため、ＣＲＴフェースプレ
ート表面への塵埃の付着が少なく、かつ、人が触れても
電気的ショックを受けることがなかった。
Ｔは、外光のフェースプレート表面での反射が抑えられ
るため、視認性が極めて向上した。また、帯電防止機能
により、静電気が除去できるため、ＣＲＴフェースプレ
ート表面への塵埃の付着が少なく、かつ、人が触れても
電気的ショックを受けることがなかった。
【００４４】〔実施例３〕実施例１で作製した反射帯電
防止機能を有する有機フィルムを、液晶表示装置の表示
面の偏光膜の上に接着した。
防止機能を有する有機フィルムを、液晶表示装置の表示
面の偏光膜の上に接着した。
【００４５】この液晶表示装置は、フェースプレート表
面での外光の反射が抑えられるため、視認性が極めて向
上した。
面での外光の反射が抑えられるため、視認性が極めて向
上した。
【００４６】
【発明の効果】本発明の光機能性有機フィルムは、従来
の蒸着法やプラズマ法に比べて、比較的低温で無機薄膜
を形成することができるので、ベースとなる有機フィル
ムを変質，変形することがなく、高価な真空設備を必要
としない。
の蒸着法やプラズマ法に比べて、比較的低温で無機薄膜
を形成することができるので、ベースとなる有機フィル
ムを変質，変形することがなく、高価な真空設備を必要
としない。
【００４７】また、無機薄膜に含まれる無機粒子として
導電性粒子を選択すれば、反射，帯電防止機能を有する
光機能性有機フィルムを提供できる。該フィルムをフェ
ースプレート表面に設けたＣＲＴや液晶表示装置等の表
示装置は、反射，帯電防止機能が優れている。
導電性粒子を選択すれば、反射，帯電防止機能を有する
光機能性有機フィルムを提供できる。該フィルムをフェ
ースプレート表面に設けたＣＲＴや液晶表示装置等の表
示装置は、反射，帯電防止機能が優れている。
【図１】本発明の光機能性有機フィルムのＴＥＭの模式
断面図である。
断面図である。
１…有機フィルム、２…シランカップリング層、３…無
機粒子（Ｉｎ2Ｏ3）、４…シリカ（ＳｉＯ2）層。
機粒子（Ｉｎ2Ｏ3）、４…シリカ（ＳｉＯ2）層。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 高橋 研 茨城県日立市大みか町七丁目１番１号 株式会社日立製作所 日立研究所内 (56)参考文献 特開 平７−20451（ＪＰ，Ａ) 特開 平６−297629（ＪＰ，Ａ) 特開 平６−212125（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) B32B 1/00 - 35/00 G02B 1/10 H01J 29/88
Claims (6)
- 【請求項１】 有機フィルム上に、粒子径が５００Å以
下の無機粒子と、金属がＩｎ，Ｓｎ，Ｚｎ，Ｔｉ，Ｓｉ
から選ばれる金属アルコシドの少なくとも一種を含むゾ
ル溶液を塗布し、波長が２５４ｎｍおよび／または１８
４ｎｍの紫外光照射により、前記金属アルコシドのゾル
ゲル反応によって得られた無機薄膜が形成されているこ
とを特徴とする光機能性有機フィルム。 - 【請求項２】 有機フィルム上に無機薄膜が多層に形成
され、該無機薄膜は有機フィルム面側に高屈折率の無機
薄膜とその上に低屈折率の無機薄膜が積層され、その少
なくとも一層の無機薄膜が、粒子径が５００Å以下の無
機粒子と、金属がＩｎ，Ｓｎ，Ｚｎ，Ｔｉ，Ｓｉから選
ばれる金属アルコシドの少なくとも一種を含むゾル溶液
を塗布し、波長が２５４ｎｍおよび／または１８４ｎｍ
の紫外光照射により、前記金属アルコシドのゾルゲル反
応によって得られた無機薄膜であることを特徴とする光
機能性有機フィルム。 - 【請求項３】 前記有機フィルムの無機薄膜形成面がシ
ランカップリング剤で処理された面上に前記無機薄膜が
形成されている請求項１または２に記載の光機能性有機
フィルム。 - 【請求項４】 出射光または反射光を変調することによ
り表示を行う表示装置において、 前記表示装置の表示パネルフェース面に、有機フィルム
上に粒子径が５００Å以下の無機粒子と、金属がＩｎ，
Ｓｎ，Ｚｎ，Ｔｉ，Ｓｉから選ばれる金属アルコシドの
少なくとも一種を含むゾル溶液を塗布し、波長が２５４
ｎｍおよび／または１８４ｎｍの紫外光照射により、前
記金属アルコシドのゾルゲル反応によって得られた無機
薄膜を有する光機能性有機フィルムを設けたことを特徴
とする表示装置。 - 【請求項５】 出射光または反射光を変調することによ
り表示を行う表示装置において、 前記表示装置の表示パネルフェース面に、表面に無機薄
膜が多層に形成された有機フィルムを有し、前記無機薄
膜は有機フィルム面側に高屈折率の無機薄膜とその上に
低屈折率の無機薄膜が積層され、その少なくとも一層の
無機薄膜が、粒子径が５００Å以下の無機粒子と、金属
がＩｎ，Ｓｎ，Ｚｎ，Ｔｉ，Ｓｉから選ばれる金属アル
コシドの少なくとも一種を含むゾル溶液を塗布し、波長
が２５４ｎｍおよび／または１８４ｎｍの紫外光照射に
より、前記金属アルコシドのゾルゲル反応によって得ら
れた無機薄膜である光機能性有機フィルムを設けたこと
を特徴とする表示装置。 - 【請求項６】 前記表示装置の表示パネルフェース面に
形成した前記有機フィルムの無機薄膜形成面がシランカ
ップリング剤処理された面上に前記無機薄膜が形成され
ている光機能性有機フィルムを設けた請求項４または５
に記載の表示装置。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8169620A JP2999718B2 (ja) | 1996-06-28 | 1996-06-28 | 光機能性有機フィルムとそれを用いた表示装置 |
| US08/880,655 US5935717A (en) | 1996-06-28 | 1997-06-23 | Functional film having inorganic thin on surface of organic film article using the same and process for producing the same |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8169620A JP2999718B2 (ja) | 1996-06-28 | 1996-06-28 | 光機能性有機フィルムとそれを用いた表示装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH1016119A JPH1016119A (ja) | 1998-01-20 |
| JP2999718B2 true JP2999718B2 (ja) | 2000-01-17 |
Family
ID=15889883
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8169620A Expired - Fee Related JP2999718B2 (ja) | 1996-06-28 | 1996-06-28 | 光機能性有機フィルムとそれを用いた表示装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2999718B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2003050612A1 (en) | 2001-12-13 | 2003-06-19 | Sony Corporation | Screen and method for manufacturing the same and image display system |
-
1996
- 1996-06-28 JP JP8169620A patent/JP2999718B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH1016119A (ja) | 1998-01-20 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP3898357B2 (ja) | プラズマディスプレイパネル用フィルター | |
| JP4096277B2 (ja) | 日射遮蔽材料、日射遮蔽膜用塗布液、及び、日射遮蔽膜 | |
| JP4400458B2 (ja) | 反射防止フィルム | |
| JP2000169765A (ja) | 日射遮蔽膜用塗布液及びこれを用いた日射遮蔽膜 | |
| JP2001249221A (ja) | 透明積層体とその製造方法およびプラズマデイスプレイパネル用フイルタ | |
| US5935717A (en) | Functional film having inorganic thin on surface of organic film article using the same and process for producing the same | |
| JP4163268B2 (ja) | プラズマデイスプレイパネル用フイルタとこれを用いたプラズマデイスプレイ表示装置 | |
| JP2999718B2 (ja) | 光機能性有機フィルムとそれを用いた表示装置 | |
| JPH10335885A (ja) | 透明性を有する電磁波シールド材料及び該電磁波シールド材料を用いたディスプレイ | |
| JP2002190692A (ja) | 電磁波シールドシートおよびそれを用いた電磁波シールド製品ならびにそれらの製造方法 | |
| JP4175424B2 (ja) | 電磁波シールド性と透明性、非視認性および反り特性の良好な電磁波シールド材料及び該電磁波シールド材料を用いたディスプレイ | |
| JPH07159603A (ja) | 反射防止フィルム及びその製造方法 | |
| JPH0637361Y2 (ja) | 除電性を有する多層反射防止光透過板 | |
| JP3681280B2 (ja) | ディスプレイ用光学フィルター | |
| JP2000105312A (ja) | プラズマディスプレイパネル用フィルター | |
| JP2000117919A (ja) | 高透明熱線反射フィルム | |
| JP2004258308A (ja) | 反射防止フィルム | |
| JPH06130204A (ja) | 導電性を有する多層反射防止光透過板の製造方法 | |
| JP2582859B2 (ja) | 静電気、電磁波シールド材 | |
| Ohishi | Preparation and properties of anti-reflection/anti-static thin films formed on organic film by photo-assisted sol–gel method | |
| JPH10309778A (ja) | 積層体 | |
| WO2022230811A1 (ja) | フィルムヒータ、及び、ヒータ付きガラス | |
| CN1307688A (zh) | 具有抗反射导电涂层的玻璃制品及使用它的阴极射线管 | |
| JPH11352314A (ja) | 高透明熱線反射フィルム | |
| JP2647720B2 (ja) | 透明導電性積層体 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |