JP2996155B2 - 高周波加熱装置 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、食品等を加熱する
高周波加熱装置に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】従来、被加熱物である食品をマイクロ波
で加熱する手法としてマグネトロンから発振するマイク
ロ波を加熱室内に放射し加熱する方法が一般的に用いら
れている。以下図９を用いて従来例を説明する。

【０００３】図９に示すようにマグネトロン１から発振
されるマイクロ波は導波管２に導かれ給電口３から加熱
室４の内部に放射される。加熱室４上部にはマイクロ波
を攪拌する金属羽根５が設置されており、加熱室４外部
に設置されたモータ６により回転駆動される。加熱室４
の内部には低損失の誘電体たとえば結晶化ガラスよりな
る載置台７が設置されており、載置台７の上に食品８を
載置してマイクロ波加熱をする。加熱室４の内部に攪拌
放射されたマイクロ波は、加熱室４壁面で何度も反射し
て食品８に到達する。

【０００４】加熱時に、加熱室４の壁面で何度も反射し
たマイクロ波は食品８の周囲からエネルギーを減衰させ
ながら食品８内部に浸透する。従って食品８の中央部や
厚い部分ではマイクロ波が弱くなってしまい、結果とし
て、食品８の中央や厚い部分の加熱が遅く、逆に端部や
薄い部分は加熱が早い。その結果、食品８の端部や薄い
部分が適温になった時はまだ中央部や厚い部分が十分加
熱されていなかったり、食品８の中央部や厚い部分が適
温となったときは食品８の端部や薄い部分が過熱になる
加熱むらという現象が生じていた。

【０００５】このような課題を解決するため、特開平６
−２１３４６１号公報に記載されているように、誘電体
を用いる方法が提案されている。この誘電体を用いる従
来の構成は図１０に示すように、加熱室４内に設置され
た誘電体よりなる載置台９には、載置される食品８の略
中央に対向する位置に肉厚部９ａを設ける構成としてい
る。マイクロ波は誘電体に引き寄せられる性質を有する
ので載置台９の肉厚部９ａ付近のマイクロ波が強くなり
食品８の肉厚部９ａ近傍がより強く加熱され、結果とし
て食品８の周囲と中央は共に強く加熱される。

【０００６】また別の加熱むらを解決する従来例として
実開平４−５１７９２号公報に記載されている例もあ
る。これは、図１１に示すように、マイクロ波を攪拌す
る金属羽根５のカバー１１に誘電体レンズ１２をつけ、
そのカバー１１を使用者が回転させ誘電体レンズ１２を
移動させることにより、マイクロ波を加熱室４中央に集
中させる状態と、マイクロ波を加熱室４内全体に拡散さ
せる状態を切り替える構成の提案である。

【０００７】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記従
来の特開平６−２１３４６１号公報に記載されている構
成では、食品８の中央を載置台９の肉厚部９ａと一致し
て置かねばならない手間があり、一致していない場合に
加熱むらは悪化する。また複数の食品８を加熱したい場
合は、すべての食品８の中央を載置台９の肉厚部９ａと
一致させることは困難である。また、加熱する食品８の
大きさが違うときや、食品８の中央以外も強く加熱した
い場合など、食品８の種類、量等の差異にあわせて載置
台９の肉厚部９ａの構成を設計しなければならない。ま
たそれに伴い、使用者は加熱する食品８の種類、量、な
どが異なるごとに載置台９を交換して使わなければなら
ず、かつ使用者は常に食品８を置く位置に気を使わねば
ならないと言う課題があった。

【０００８】また別の実開平４−５１７９２号公報に記
載されている従来例でも、食品８の中央を載置台９上の
マイクロ波が集中する位置と一致して置かねばならない
手間があり、一致していない場合に加熱むらは悪化す
る。また複数の食品８を加熱したい場合は、すべての食
品８の中央を載置台９の上においてマイクロ波が集中す
る位置と一致させることは困難である。つまり、この例
においても、食品８の種類、量、などの食品８の差異に
対応できるものではなかった。かつ使用者は加熱する食
品８にあわせて自ら誘電体レンズ１２を移動させる手間
が必要であり、食品８を置く位置にも気を使う必要があ
った。

【０００９】本発明は上記課題を解決するもので、食品
の形状、量、置く位置が異なっても加熱むらの無い高周
波加熱装置を提供することを目的とする。

【００１０】

【課題を解決するための手段】本発明は上記目的を達成
するために、被加熱物を内部に収容する加熱室と、前記
加熱室内にマイクロ波を放射するマイクロ波発振器と、
前記被加熱物を前記加熱室内にて載置する載置台と、前
記加熱室内に設置された電波集中体としての誘電体と、
前記誘電体を前記加熱室内にて移動させる移動手段と、
前記移動手段を駆動する駆動手段とを備えた構成とし
た。

【００１１】この構成により、マグネトロンから加熱室
内に放射されるマイクロ波は、加熱室内を移動する誘電
体に集中する。被加熱物の誘電体の近傍部分は集中した
マイクロ波のため、他の部分より強く加熱される。ま
た、誘電体は移動手段と駆動手段とによって、加熱室内
部において任意の位置に移動でき、加熱室内部の任意の
位置にマイクロ波を集中させることができる。よって、
加熱室内部においてマイクロ波の弱いところが無くな
る。従って、被加熱物の略中央や厚い部分にも強いマイ
クロ波が照射され、被加熱物全体が略均一に加熱され
る。

【００１２】

【発明の実施の形態】本発明は、被加熱物を内部に収容
する加熱室と、加熱室内にマイクロ波を発振するマイク
ロ波発振器と、被加熱物を加熱室内にて載置する載置台
と、加熱室内に設置された電波集中体としての誘電体
と、誘電体を加熱室内にて移動させる移動手段と、移動
手段を駆動する駆動手段とを備える構成としている。

【００１３】また載置台に載置した被加熱物を水平面上
で位置移動させる載置台の動作手段と、動作手段を駆動
する載置台駆動手段と、電波集中体としての誘電体を載
置台と平行面での１次元方向に移動させる移動手段と、
移動手段を駆動する駆動手段とを備える構成としてい
る。

【００１４】また載置台に載置した被加熱物を水平面上
で位置移動させる載置台の動作手段と、動作手段を駆動
する載置台駆動手段と、電波集中体としての誘電体を載
置台と平行面で２次元的に移動させる移動手段と、移動
手段を駆動する駆動手段とを備える構成としている。

【００１５】また被加熱物を内部に収容する加熱室と、
前記加熱室内にマイクロ波を放射するマイクロ波発振器
と、前記被加熱物を前記加熱室内にて載置する載置台
と、前記加熱室内に設置された電波集中体と、前記電波
集中体を前記加熱室内にて移動させる移動手段と、前記
移動手段を駆動する駆動手段とを備え、載置台に載置し
た被加熱物の水平面上での位置移動速度より載置台と平
行面で移動する電波集中体の移動速度を大きく制御する
制御部を備える構成としている。

【００１６】また被加熱物を内部に収容する加熱室と、
前記加熱室内にマイクロ波を放射するマイクロ波発振器
と、前記被加熱物を前記加熱室内にて載置する載置台
と、前記加熱室内に設置された電波集中体と、前記電波
集中体を前記加熱室内にて移動させる移動手段と、前記
移動手段を駆動する駆動手段とを備え、載置台の動作手
段の動作周期と電波集中体を移動させる移動手段の移動
周期とを非同期とする制御部を備える構成としている。

【００１７】本発明は、上記構成により以下のような作
用を有する。加熱室内に電波集中体として誘電体を設置
し、この誘電体を移動手段と駆動手段とにより加熱室内
を移動させる。マグネトロンから加熱室内に放射される
マイクロ波は、加熱室内を移動する誘電体に集中する。
被加熱物の誘電体の近傍部分は集中したマイクロ波のた
め、他の部分より強く加熱される。また、誘電体は移動
手段と駆動手段とによって、加熱室内部において任意の
位置に移動でき、加熱室内部の任意の位置にマイクロ波
を集中させることができる。よって、加熱室内部におい
てマイクロ波の弱いところが無くなる。従って、被加熱
物の略中央や厚い部分にも強いマイクロ波が照射され、
被加熱物全体が略均一に加熱される。

【００１８】また、載置台駆動手段を駆動すると動作手
段を介して被加熱物を載せた載置台は水平動作し、載置
台上の被加熱物は水平面での位置移動ができ、駆動手段
を駆動すると移動手段を介して誘電体は載置台との平行
面にて１次元方向に移動し、両方の動きにより加熱室内
部の載置台上にはマイクロ波の弱いところが無くなる。
従って、被加熱物の略中央や厚い部分にも強いマイクロ
波が照射され、被加熱物全体が略均一に加熱される。

【００１９】また、載置台駆動手段を駆動すると動作手
段を介して被加熱物を載せた載置台は水平動作し、載置
台上の被加熱物は水平面での位置移動ができ、駆動手段
を駆動すると移動手段を介して誘電体は載置台との平行
面にて２次元的に移動し、両方の動きにより加熱室内部
の載置台上にはマイクロ波の弱いところが無くなる。従
って、被加熱物の略中央や厚い部分にも強いマイクロ波
が照射され、被加熱物全体が略均一に加熱される。

【００２０】また載置台に載置した被加熱物の水平面上
での位置移動速度より載置台と平行面で移動する電波集
中体の移動速度を大きくするので、載置台上における電
波集中体の移動軌跡の密度が高くなり、マイクロ波の集
中するところが載置台上の全体に均一に広がる。従っ
て、被加熱物の略中央や厚い部分にも強いマイクロ波が
照射され、被加熱物全体が略均一に加熱される。

【００２１】また載置台の動作手段の動作周期と電波集
中体を移動させる移動手段の移動周期とを非同期とする
ので、動作周期１回ごとに載置台上における電波集中体
の移動軌跡はずれて行き、マイクロ波の集中するところ
が載置台上の全体に均一に広がる。従って、被加熱物の
略中央や厚い部分にも強いマイクロ波が照射され、被加
熱物全体が略均一に加熱される。

【００２２】以下、本発明の実施の形態について図面を
参照して説明する。本発明の第１の実施の形態を図１を
参照して説明する。２０は被加熱物となる食品であり、
２１は食品２０を内部に収容する加熱室であり、２２は
加熱室２１内にマイクロ波を発振するマイクロ波発振器
であり、２３は食品２０を加熱室２１内にて載置する低
損失の誘電体たとえば結晶化ガラスからなる載置台であ
る。２４はマイクロ波発振器２２から発振されるマイク
ロ波を加熱室２１内に導く導波管であり、２５は加熱室
２１の底部に設けられ導波管２４から加熱室２１内部に
マイクロ波を放射する給電口である。２６は載置台２３
より下の部分に設けられた電波集中体となる誘電体であ
り、２７は載置台２３の中心位置を回転軸とする回転板
であり、２８は回転板２７上の偏心位置に回転軸を有す
る第２回転板であり、誘電体２６は第２回転板の偏心す
る位置に設けられており、回転板２７と第２回転板２８
は歯車またはベルトなどで連結され誘電体２６の移動手
段となっている。２９は回転板２７の駆動手段となるモ
ータである。

【００２３】上記構成において、図１に示されているよ
うな位置に誘電体２６と食品２０がある場合、誘電体２
６はマイクロ波を引き寄せる性質を有するため、誘電体
２６付近に給電口２５から放射されるマイクロ波が集中
し食品２０の誘電体２６近傍（ハッチング部分）がより
強く加熱される。モータ２９が動作すると回転板２７が
回転し、連動して第２回転板２８が回転し、誘電体２６
は載置台２３下の水平面上を広範囲に移動し、マイクロ
波が集中する位置を変える。従って、加熱室２１の任意
の位置にマイクロ波を集中させることができ、従来加熱
し難かった食品２０の中央部や厚い部分にも強いマイク
ロ波を照射させることができる。その結果、食品２０全
体が均一に加熱されることになる。また、食品２０が載
置台２３上のどこにあっても食品２０全体に強いマイク
ロ波を照射でき、食品２０の種類、量、置く位置によら
ず常に均一に加熱することができる。

【００２４】なお、電波集中体の構成としては、上記実
施の形態のような誘電体２６に限られるものではなく例
えば、尖塔部分を持つ金属体のようなものでも構成可能
である。

【００２５】また、この実施例では、導波管２４を用い
ているが、導波管２４を用いずにマイクロ波発振器２２
を直接加熱室２１に取り付けても得られる効果は同じで
ある。

【００２６】また、実施例において説明した構成におい
て給電口２５は加熱室２１下面にあり、誘電体２６は食
品２０が載置される載置台２３の下に設置する例を説明
してきたが、給電口２５の設置位置は必ずしも、このよ
うな構成のみに限定されるものではなく、加熱室２１上
部に給電口２５を設けて、誘電体２６を載置台２３の下
部に設置する構成においても上記のような効果を得るこ
とが出来る。

【００２７】また、誘電体２６を加熱室２１上部に設置
し食品２０の上面からマイクロ波を集中させて加熱する
ことも可能である。

【００２８】第２の実施の形態を図２から図３を参照し
て説明する。図２において２０は被加熱物となる食品で
あり、２１は食品２０を内部に収容する加熱室であり、
２２は加熱室２１内にマイクロ波を発振するマイクロ波
発振器であり、２３は食品２０を加熱室２１内にて載置
する低損失の誘電体たとえば結晶化ガラスからなる載置
台である。２４はマイクロ波発振器２２から発振される
マイクロ波を加熱室２１内に導く導波管であり、２５は
加熱室２１の底部に設けられ導波管２４から加熱室２１
内部にマイクロ波を放射する給電口である。３０は載置
台２３を載せて水平に回転するターンテーブルであり、
３１はターンテーブル３０を回転駆動するターンテーブ
ルモータである。２６は載置台２３より下の部分に設け
られた電波集中体となる誘電体であり、３２は誘電体２
６を端部に取りつけたラックギアであり、３３はラック
ギア３２に連結した歯車であり、３４は歯車３３を回転
するモータである。ターンテーブル３０、ラックギア３
２、歯車３３は低損失の誘電体たとえば四ふっ化エチレ
ンまたはポリプロピレンからなる。

【００２９】上記構成において、図３に示すようにモー
タ３４が動作すると歯車３３が回転し、歯車３３と連結
するラックギア３２は水平方向に１次元的に移動し、誘
電体２６は載置台２３の中央部から外周部へ向けて３０
０ａ、３００ｂ、３００ｃ、…、３００ｋのように移動
し、モータ３４が逆転すると外周部から中央部へ戻る。
誘電体２６はマイクロ波を引き寄せる性質を有するた
め、載置台２３上のマイクロ波が集中する位置も同様に
中央部と外周部との間を移動し、ターンテーブルモータ
３１が駆動しターンテーブル３０が回転する動作と組み
合わさり載置台２３上の水平面上を広範囲に移動する。
従って、載置台２３上全体にマイクロ波を照射させるこ
とができ、従来加熱され難かった食品２０の中央や厚い
部分にも強いマイクロ波が照射できるようになり、食品
２０を均一に加熱することができる。また、食品２０が
載置台２３上のどこにあっても食品２０全体に強いマイ
クロ波を照射でき、食品２０の種類、量、置く位置によ
らず常に均一に加熱することができる。

【００３０】第３の実施の形態を図４から図５を参照し
て説明する。図４において２０は被加熱物となる食品で
あり、２１は食品２０を内部に収容する加熱室であり、
２２は加熱室２１内にマイクロ波を発振するマイクロ波
発振器であり、２３は食品２０を加熱室２１内にて載置
する低損失の誘電体たとえば結晶化ガラスからなる載置
台である。２４はマイクロ波発振器２２から発振される
マイクロ波を加熱室２１内に導く導波管であり、２５は
加熱室２１の底部に設けられ導波管２４から加熱室２１
内部にマイクロ波を放射する給電口である。３０は載置
台２３を載せて水平に回転するターンテーブルであり、
３１はターンテーブル３０を回転駆動するターンテーブ
ルモータである。２６は載置台２３より下の部分に設け
られた電波集中体となる誘電体であり、３５は導電体２
６を端部に取りつけ回転するプレートであり、３６はプ
レート３５の回転軸であり、３７は回転軸３６に結合し
駆動するモータである。プレート３５の回転直径はター
ンテーブル３０の略半径の大きさであり、ターンテーブ
ル３０とプレート３５は低損失の誘電体たとえば四ふっ
化エチレンまたはポリプロピレンからなる。

【００３１】上記構成において、図５に示すようにモー
タ３７が駆動すると回転軸３６が回転し、回転軸３６に
連動してプレート３５は回転し、プレート３５の端部に
ある誘電体２６は載置台２３の中央部から外周部へ向け
て３０１ａ、３０１ｂ、３０１ｃ、…、３０１ｋのよう
に載置台２３と平行な水平面上を２次元的に移動し、プ
レート３５が１回転すると誘電体２６は外周部から中央
部へ戻る。誘電体２６はマイクロ波を引き寄せる性質を
有するため、載置台２３上のマイクロ波が集中する位置
も同様に中央部と外周部との間を移動し、ターンテーブ
ルモータ３１が駆動しターンテーブル３０が回転する動
作と組み合わさり載置台２３上の水平面上を広範囲に移
動する。従って、載置台２３上全体にマイクロ波を照射
させることができる。従って、従来加熱され難かった食
品２０の中央や厚い部分にも強いマイクロ波が照射でき
るようになり、食品２０を均一に加熱することができ
る。また、食品２０が載置台２３上のどこにあっても食
品２０全体に強いマイクロ波を照射でき、食品２０の種
類、量、置く位置によらず常に均一に加熱することがで
きる。

【００３２】第４の実施の形態を図６から図７を参照し
て説明する。主要な構成は第３の実施例と同様である。
図６において３８は制御部であり、ターンテーブルモー
タ３１と３７モータの回転制御を行うとともにマイクロ
波発振器２２の制御も行う。

【００３３】上記構成において、制御部３８の回転制御
によるターンテーブルモータ３１とモータ３７との駆動
速度の違いによる誘電体２６の動きを図７を用いて説明
する。図７は加熱室２１の平面断面図であり、図中の曲
線は電波集中体となる誘電体２６が載置台２３上に描く
軌跡４０を示している。誘電体２６は載置台２３の略中
央から外周部の間を移動するため、ターンテーブル３０
による載置台２３の回転にともない誘電体２６は載置台
２３上で図のような軌跡４０を描く。ここで、誘電体２
６の移動の周期を載置台２３の回転の周期より早く制御
し、載置台２３が１周する間に誘電体２６が複数回移動
するよう制御する。図７は載置台２３が１周する間に誘
電体２６が１０回移動するときの軌跡である。軌跡４０
は、誘電体２６の移動速度が速いほど接近し密度が高く
なる。従って、誘電体２６の移動周期が載置台２３の回
転周期より速いほど、加熱室２１内部の載置台２３の上
におけるマイクロ波の弱い部分が少なくなる。従って、
加熱室２１内の食品２０の略中央や厚い部分にも充分強
いマイクロ波が照射され、食品２０全体が略均一に加熱
できる。また、食品２０が載置台２３上のどこにあって
も食品２０全体に強いマイクロ波を照射でき、食品２０
の種類、量、置く位置によらず常に均一に加熱すること
ができる。なお、電波集中体の構成としては、上記実施
の形態のような誘電体２６に限られるものではなく例え
ば、尖塔部分を持つ金属体のようなものでも構成可能で
ある。

【００３４】第５の実施の形態を図８を参照して説明す
る。構成は第４の実施例と同様であり、制御部３８の非
同期制御によるターンテーブルモータ３１とモータ３７
との駆動周期のずれによる誘電体２６の動きを図８を用
いて説明する。図８は加熱室の平面断面図であり、図中
の曲線は電波集中体となる誘電体２６が載置台２３上に
描く軌跡５５を示している。誘電体２６は載置台２３の
略中央から外周部の間を移動するため、ターンテーブル
３０による載置台２３の回転にともない誘電体２６は載
置台２３上で図のような軌跡５５を描く。ここで、誘電
体２６が移動する周期を、載置台２３の回転の周期と非
同期となるよう制御すると、載置台２３の移動一周期ご
とに誘電体２６の軌跡５５がずれてゆく。図８は載置台
２３が１周する間に誘電体が４．１回移動するときの軌
跡５５であり、また載置台２３が３周する間の軌跡５５
を示している。載置台２３が１周する度に５５ａ、５５
ｂ、５５ｃの様に軌跡５５がずれてゆく。食品２０が加
熱終了するまでに載置台２３は充分回転するので誘電体
２６の軌跡５５は載置台２３の全体におよぶ。よって、
加熱室２１内部の載置台２３の上おけるマイクロ波の弱
い部分が無くなる。従って、加熱室２１内の食品２０の
略中央や厚い部分にも充分強いマイクロ波が照射され、
食品２０全体が略均一に加熱できる。また、食品２０が
載置台２３上のどこにあっても食品２０全体に強いマイ
クロ波を照射でき、食品２０の種類、量、置く位置によ
らず常に均一に加熱することができる。なお、電波集中
体の構成としては、上記実施の形態のような誘電体２６
に限られるものではなく例えば、尖塔部分を持つ金属体
のようなものでも構成可能である。

【００３５】

【発明の効果】以上説明したように本発明の高周波加熱
装置によれば次のような効果が得られる。 １）電波集中体としての誘電体を加熱室内を移動させる
ため、誘電体によりマイクロ波が集中する部分を加熱室
内の任意の位置に移動でき、被加熱物全体にマイクロ波
を集中して照射し強い加熱ができ、被加熱物の種類、
量、置く場所の違いによらず被加熱物全体を均一に加熱
できる。 ２）載置台が水平面上を２次元的に動作し、載置台上の
被加熱物は水平面での位置移動ができ、電波集中体とし
ての誘電体は載置台との平行面にて１次元方向に移動
し、両方の動きにより載置台上全体にマイクロ波の集中
照射が行き渡り、被加熱物の種類、量、置く場所の違い
によらず被加熱物全体を均一に加熱できる。 ３）載置台が水平面上を２次元的に動作し、載置台上の
被加熱物は水平面での位置移動ができ、電波集中体とし
ての誘電体は載置台との平行面にて２次元的に移動し、
両方の動きにより載置台上全体にマイクロ波の集中照射
が行き渡り、被加熱物の種類、量、置く場所の違いによ
らず被加熱物全体を均一に加熱できる。 ４）載置台が加熱物の水平面上での位置移動速度より載
置台と平行面で移動する電波集中体の移動速度を大きく
するので、載置台上における電波集中体の移動軌跡の密
度が高くなり、マイクロ波の集中するところが載置台上
の全体に均一に広がり、被加熱物の種類、量、置く場所
の違いによらず被加熱物全体を均一に加熱できる。 ５）載置台の動作手段の動作周期と電波集中体を移動さ
せる移動手段の移動周期とを非同期とするので、動作周
期１回ごとに載置台上における電波集中体の移動軌跡は
ずれて行き、軌跡が重ならずマイクロ波の集中するとこ
ろが載置台上の全体に均一に広がり、被加熱物の種類、
量、置く場所の違いによらず被加熱物全体を均一に加熱
できる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の第１の実施の形態における高周波加熱
装置の側面断面図

【図２】本発明第２の実施の形態の高周波加熱装置の側
面断面図

【図３】同実施例の平面断面図

【図４】本発明第３の実施の形態の高周波加熱装置の側
面断面図

【図５】同実施例の平面断面図

【図６】本発明第４の実施の形態の高周波加熱装置の側
面断面図

【図７】同電波集中体の軌跡を示す図

【図８】本発明第５の実施の形態の電波集中体の軌跡を
示す図

【図９】従来の高周波加熱装置の側面断面図

【図１０】従来例の他の高周波加熱装置の側面断面図

【図１１】従来例の他の高周波加熱装置の側面断面図

【符号の説明】

２０ 食品（被加熱物） ２１ 加熱室 ２２ マイクロ波発振器 ２３ 載置台 ２６ 誘電体（電波集中体） ２７ 回転板（移動手段） ２８ 第２回転板（移動手段） ２９ モータ（駆動手段） ３０ ターンテーブル（移動手段） ３１ ターンテーブルモータ（載置台駆動手段） ３２ ラックギア（移動手段） ３３ 歯車（移動手段） ３４ モータ（駆動手段） ３５ プレート（移動手段） ３６ 回転軸（移動手段） ３７ モータ（駆動手段） ３８ 制御部

フロントページの続き (56)参考文献 特開 昭63−184281（ＪＰ，Ａ) 特開 平４−188592（ＪＰ，Ａ) 特開 平６−213462（ＪＰ，Ａ) 特開 昭60−3597（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.⁶，ＤＢ名) F24C 7/02 511 H05B 6/74

Claims (5)

(57)【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】被加熱物を内部に収容する加熱室と、前記
   加熱室内にマイクロ波を放射するマイクロ波発振器と、
   前記被加熱物を前記加熱室内にて載置する載置台と、前
   記加熱室内に設置された電波集中体としての誘電体と、
   前記誘電体を前記加熱室内にて移動させる移動手段と、
   前記移動手段を駆動する駆動手段とを備えた高周波加熱
   装置。
2. 【請求項２】載置台に載置した被加熱物を水平面上で位
   置移動させる載置台の動作手段と、前記動作手段を駆動
   する載置台駆動手段と、電波集中体としての誘電体を前
   記載置台と平行面での１次元方向に移動させる移動手段
   と、前記移動手段を駆動する駆動手段とを備えた請求項
   １記載の高周波加熱装置。
3. 【請求項３】載置台に載置した被加熱物を水平面上で位
   置移動させる載置台の動作手段と、前記動作手段を駆動
   する載置台駆動手段と、電波集中体としての誘電体を前
   記載置台と平行面で２次元的に移動させる移動手段と、
   前記移動手段を駆動する駆動手段とを備えた請求項１記
   載の高周波加熱装置。
4. 【請求項４】被加熱物を内部に収容する加熱室と、前記
   加熱室内にマイクロ波を放射するマイクロ波発振器と、
   前記被加熱物を前記加熱室内にて載置する載置台と、前
   記加熱室内に設置された電波集中体と、前記電波集中体
   を前記加熱室内にて移動させる移動手段と、前記移動手
   段を駆動する駆動手段とを備え、前記載置台に載置した
   前記被加熱物の水平面上での位置移動速度より前記載置
   台と平行面で移動する前記電波集中体の移動速度を大き
   く制御する制御部とを備えた高周波加熱装置。
5. 【請求項５】被加熱物を内部に収容する加熱室と、前記
   加熱室内にマイクロ波を放射するマイクロ波発振器と、
   前記被加熱物を前記加熱室内にて載置する載置台と、前
   記加熱室内に設置された電波集中体と、、前記電波集中
   体を前記加熱室内にて移動させる移動手段と、前記移動
   手段を駆動する駆動手段とを備え、前記載置台の動作手
   段の動作周期と前記電波集中体を移動させる前記移動手
   段の移動周期とを非同期とする制御部を備えた高周波加
   熱装置。