JP3106273B2

JP3106273B2 - 高周波加熱装置

Info

Publication number: JP3106273B2
Application number: JP05264434A
Authority: JP
Inventors: 浩二吉野; 隆柏本; 明阿波根
Original assignee: Panasonic Corp; Matsushita Electric Industrial Co Ltd
Current assignee: Panasonic Corp; Panasonic Holdings Corp
Priority date: 1993-10-22
Filing date: 1993-10-22
Publication date: 2000-11-06
Anticipated expiration: 2015-11-06
Also published as: JPH07122357A

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、食品などの被加熱物に
電磁波を与えて加熱する高周波加熱装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】従来の高周波加熱装置について図１６を
参照して説明する。図１６に示すように、被加熱物であ
る食品１を出し入れする加熱室２と電磁波放射部である
マグネトロン３と、電磁波を加熱室２に導く導波管４と
電磁波の放射を制御する制御部５とを有し、加熱室２と
導波管４とを開口部６で接続されている。なお、食品１
の加熱分布を良くするため食品１の置き台としてモータ
１１により駆動されるターンテーブル１７および回転を
スムーズに行うためのローラーリング１８を備えてい
る。

【０００３】上記構成において、電磁波放射部としての
マグネトロン３から出た電磁波は、導波管４を介して伝
送され、加熱室２内では加熱室２形状と開口部６の位置
で決まる定在波となって分布し、食品１は定在波の電界
成分と食品１の誘電損失に応じて発熱する。食品１の単
位体積当たり吸収される電力Ｐ［Ｗ／ｍ3 ］は、加えら
れる電界の強さＥ［Ｖ／ｍ］、周波数ｆ［Ｈｚ］、およ
び食品１の比誘電率εγ、誘電正接ｔａｎδにより

【０００４】

【数１】

【０００５】として表される。食品１の加熱分布は電磁
波の定在波分布によって決まるため、加熱分布のむらを
少くするために、食品１を乗せる置き台のターンテーブ
ル１７をモータ１１により回転運動させて同心円上の加
熱分布の均一化を図っている。

【０００６】また、他の均一化の手段として、加熱室２
内で金属板により電波を攪拌するスタラーや、導波管４
の出口自体の金属部を大きく回転させる回転導波管と呼
ばれるものもあったが、ターンテーブルタイプのものが
最も多く世に出ている。

【０００７】

【発明が解決しようとする課題】しかし、上記従来の構
成では、導波管４と加熱室２を接続して電磁波を加熱室
２内に入れる場合、開口部６の位置を最適な位置に選ば
ないと、狙った電界分布にならず、加熱分布も全く推定
できないという問題があった。

【０００８】特にターンテーブルタイプの多くは、開口
部６が天面上もしくは側面に位置して固定されており、
一度構成を決めれば加熱室２内の定在波分布が常に一定
であるように思えるが、実際は食品１の形状や誘電定数
により電磁波の吸収度合いが変わるなど、開口部６から
遠ざかるに従って定在波分布が乱れやすくなる。定在波
分布が乱れると、ますます狙った加熱分布にならない
上、大抵の高周波加熱装置においては、食品１の縁部が
熱くなり中央部特に底部がなかなか熱くならない。この
場合幾らターンテーブル１７を回転させても、回転中心
から見た半径方向の分布や上下方向の分布は改善されな
いので、根本的な解決法として食品の中央部特に底部が
強く加熱される分布を強制的に作らない限り、使用者に
とって極めて不満の残る仕上がり状態になる。

【０００９】一方、開口部６が底面中央にある場合は、
食品１の底面中央部が加熱されやすく、均一な加熱分布
を狙うには有効である。しかし、底面の開口部６が邪魔
になるためにターンテーブル１７などの攪拌手段を構成
することが難しい。

【００１０】また、スタラーの電磁波の攪拌や回転導波
管の開口部６の移動のように、電磁波分布を極端に変化
させるものでは、上記の問題に加えて、加熱室２内に定
在波が立ちにくく加熱室２とマグネトロン３とのマッチ
ング状態が悪くなり効率が落ちる課題を有していた。効
率が落ちると加熱時間が長くなり使用者の待ち時間が長
くなる問題や電力の無駄、マグネトロン３の熱ストレス
が増えることで信頼性が落ちるなど種々の問題を引き起
こす。

【００１１】また、加熱室の加熱分布を均一にする手段
として特開昭５９−１０１７９１号公報に示すように、
導波管の開口部６を複数個設け、お互いの開口部６の位
相を調整することが知られている。

【００１２】本発明は上記課題を解決するもので、効率
的に加熱室内に電磁波を供給して、狙った電界分布を立
て、加熱分布を均一にするとともに、使用者にも加熱の
均一化の様子が分かる高周波加熱装置を実現することを
目的とする。

【００１３】

【課題を解決するための手段】本発明の高周波加熱装置
は上記目的を達成するため、被加熱物を出し入れする加
熱室と、電磁波を放射する電磁波放射部と、前記電磁波
放射部から放射される電磁波を前記加熱室内に導く導波
管と、前記電磁波放射部からの電磁波の放射を制御する
制御部とを有し、前記加熱室と前記導波管とを開口部で
接続し、前記開口部は前記導波管内の電界の弱い部分の
位置と前記加熱室内の電界の弱い部分の位置とで接続す
る構成とした。

【００１４】また、被加熱物を出し入れする加熱室と、
電磁波を放射する電磁波放射部と、前記電磁波放射部か
ら放射される電磁波を前記加熱室内に導く導波管と、前
記電磁波放射部からの電磁波の放射を制御する制御部と
を有し、前記加熱室と前記導波管とを開口部で接続し、
特に、前記開口部の中心を、前記電磁波放射部から見
て、前記加熱室底面の中央よりも遠く、かつ、前記中央
から加熱室内の定在波の波長の１／８以内の距離に配し
てなる構成とした。

【００１５】また、被加熱物を出し入れする加熱室と、
電磁波を放射する電磁波放射部と、前記電磁波放射部か
ら放射される電磁波を前記加熱室内に導く導波管と、前
記加熱室と前記導波管とを接続する開口部と、前記開口
部に近接する開口回転板と、前記開口回転板を回転駆動
する駆動部と、前記電磁波放射部からの電磁波の放射や
前記駆動部の動作を制御する制御部とを有し、前記開口
回転板は縁部が金属で電磁波を反射し中央部が低損失の
材料で電磁波を透過させる構成とし、前記開口回転板の
回転により前記開口部の面積あるいは前記開口部の位置
を見かけ上変化させる構成とした。

【００１６】また、被加熱物を出し入れする加熱室と、
前記加熱室内で被加熱物を載せて回転する食品載置回転
台と、電磁波を放射する電磁波放射部と、前記電磁波放
射部から放射される電磁波を前記加熱室内に導く導波管
と、前記加熱室と前記導波管とを接続する開口部と、前
記開口部に近接して回転する開口回転板と、前記食品載
置回転台と前記開口回転板を異なる回転速度で駆動する
駆動部と、前記電磁波放射部からの電磁波の放射や前記
駆動部の動作を制御する制御部とを有する構成とした。

【００１７】

【作用】本発明は上記した構成において、加熱室と導波
管とを接続する開口部を、導波管内の電界の弱い部分の
位置かつ加熱室内の電界の弱い部分の位置に設けるの
で、導波管から加熱室内に電磁波が入りやすく、定在波
として分布し、計算どうりの電界の強弱のモードを有す
る。

【００１８】また、開口部は、電磁波放射部から見て加
熱室底面の中央以遠の位置として中央ないし中央から加
熱室内の定在波の波長の１／８以内の距離の位置にある
ので、電磁波放射部側で電界が強くなり過ぎるというよ
うな放射の影響を削減できる。

【００１９】また、開口部に近接する開口回転板は、縁
部が金属で電磁波を反射し中央部が低損失の材料で電磁
波を透過させる構成であり、開口回転板の回転により開
口部の面積あるいは開口部の位置を見かけ上変化させる
ので、開口部付近の強電界の位置が変化する。

【００２０】また、食品載置回転台と開口回転板を異な
る回転速度で駆動するので、より効率的に電磁波を攪拌
できる。

【００２１】

【実施例】（実施例１）以下、本発明の第１の実施例を図１〜図１０を参照して
説明する。なお、従来例で説明したものと同一構成部材
には同一番号を用いる。

【００２２】図１は、本発明の第１の実施例における高
周波加熱装置の断面図である。図１に示すように、高周
波加熱装置は被加熱物である食品１を出し入れする加熱
室２と、電磁波放射部であるマグネトロン３と、電磁波
を加熱室２に導く導波管４と、電磁波の放射を制御する
制御部５とを有し、加熱室２と導波管４とは開口部６で
接続されている。一方、食品１の加熱分布を良くするた
め、開口部６を覆うように開口回転板７があり、その構
造は金属からなる縁部８、低損失の電磁波透過材料から
なる中央部９と回転軸１０を有している。回転軸１０
は、導波管４を貫通し、駆動部であるモータ１１に接続
されて回転駆動されている。この回転に応じて、導波管
４から加熱室２内に入る見かけ上の電磁波の透過できる
開口部分の面積や位置が変化し、電界分布を変化させて
いる。

【００２３】また制御部５は、マグネトロン３の電磁波
の放射やモータ１１の動作を制御している。さらに食品
載置台１２は、中央部に透明な樹脂材料から成る透明部
分１３を有し、使用者１４は、ドア１５のパンチングな
どの可視部１６、透明な樹脂材料から成る透明部分１３
を通して、開口回転板７の動作の様子を見ることができ
るようになっている。

【００２４】上記構成においてその動作を説明すると、
マグネトロン３から出た電波は、導波管４を介して加熱
室２との接続部である開口部６を通り、加熱室２内の食
品１を加熱する。

【００２５】図２は高周波加熱装置の導波管と加熱室に
おける電磁波の電界分布図である。図２に示すように、
マグネトロン３の先端と開口部６の中心との距離Ｌｔ
は、導波管４内を左方向に向かって伝送する電磁波の波
長（管内波長）をλｇとして表すと、λｇ／４の奇数倍
の距離である。これは、電磁波が導波管４内を伝送する
ときに、導波管４の形状で決まる管内波長λｇに基づい
て強弱を繰り返しながら図２の左方向に進み、λｇ／４
の奇数倍の位置で必ず電界が弱くなる（導波管内の伝送
では磁界と電界の位相は一致し、磁界も弱くなる）ため
に選んでいるのである。ここではＬｔ＝（５／４）×λ
ｇとしている。また実線の矢印が強い電界の向きを示し
ており、電界および磁界の向きはλｇ／２ごとに逆向き
となるので、マグネトロン３の先端からλｇ／２離れる
ごとに矢印の向きが逆になっているが、それぞれが２．
４５ＧＨｚの周波数で反転を繰り返すものである。図２
では電界および磁界の弱いところで加熱室２の開口部６
と接続されているため、導波管４内の電界を乱すことな
く効率よく加熱室２内に電磁波が入る。

【００２６】ここで導波管４内を伝搬する管内波長λｇ
の定義は、図２に合わせて説明すると、導波管４の奥行
ａ、厚みをｂ、奥行方向の電磁波の強弱の山の数をｍ、
厚み方向の電磁波の強弱の山の数をｎ、真空での電磁波
の波長をλ≒１２２ｍｍとすれば、

【００２７】

【数２】

【００２８】となる。一般にｍ＝１、ｎ＝０が多く採用
され、このときは

【００２９】

【数３】

【００３０】となる。具体的な値としてａ＝８０ｍｍ、
ｂ＝４０ｍｍならλｇ≒１８８ｍｍ程度である（ただし
寸法はすべて板厚を含まない内寸とする。）。

【００３１】一方、このときの加熱室２内の電磁波は共
振状態を起こそうとするが、開口部６を挟み込むような
図２の矢印で示す逆向きの強電界が生じ、加熱室２内の
開口部６で電界が弱くなるような共振状態で安定する。
このとき最も効率よく加熱室２内に電磁波が入ることに
なる（ただし共振状態では、導波管内のような伝送状態
とは異なり、電界と磁界の位相は９０°ずれる。）。

【００３２】図３は図２の高周波加熱装置の電界分布を
シミュレーションした斜視図で、共振状態において生じ
る電界を等電界強度線で示している（年輪状の模様の混
み入ったところほど電界が強いと考えれば良い）。

【００３３】共振状態は加熱室形状と開口部６の位置に
よって決まるが、この場合、加熱室の奥行き方向（Ｘ方
向）に３つ、幅方向（Ｙ方向）に４つ、高さ方向（Ｚ方
向）に１つの強電界が発生している。これは共振状態と
なったために加熱室２内に電磁波が定在波として分布す
ることによって起こる電界の強い部分であり、この強い
電界の部分の数をモードと呼ぶ。通常、加熱室２の形状
を３次元で表し、各方向の寸法をｘ、ｙ、ｚとすると
き、それぞれの方向に電界の強い部分がｍ、ｎ、ｐだけ
あれば、そのモードは（ｍｎｐ）であるという。本実施
例では、加熱室２の底面の奥行きｘと幅ｙの中心位置に
開口部６の中心位置を一致させていると同時に、開口部
６を挟み込むように強電界が発生するように（開口部６
で弱い電界部分となるように）構成しているので、奥行
きＸ方向には奇数のモード（ｍ；奇数）が立ちやすく、
かつ幅Ｙ方向には偶数のモード（ｎ；偶数）が立ちやす
くなると同時に、他のモードが立ちにくくなる。斜線部
の数（電界の強い部分）を教えるとＸ方向に３個（ｍ＝
３）、Ｙ方向に４個（ｎ＝４）、Ｚ方向に１個（ｐ＝
１）たっており、モード（３４１）だということが容易
に分かる。

【００３４】参考までに、食品１が加熱室２内に無く
て、加熱室２が直方体の場合は、加熱室２の寸法と開口
部６の位置により、立ちうるモードを求めることができ
る。加熱室２の寸法をｘ、ｙ、ｚとし、各方向に立つモ
ードの数は

【００３５】

【数４】

【００３６】を満たすｍ、ｎ、ｐの組合せとなる（ｘ、
ｙ、ｚはｍｍ単位、ｍ、ｎ、ｐは整数）。

【００３７】一方、食品１がある場合は、食品１の誘電
率による波長圧縮の影響などで（数４）からずれが生じ
る。しかし食品１があっても、開口部６付近では（数
４）を満たすモードが立とうとしており、開口部６から
離れた位置ではモードが乱されることが多いということ
が、実験的に分かってきている。よってλ≒１２２ｍｍ
でモード（３４１）を立てるための一例として、（数
４）をほぼ満たす寸法のｘ＝３００ｍｍ、ｙ＝３３０ｍ
ｍ、ｚ＝２１５ｍｍなどを選ぶことができる。

【００３８】また本実施例では、導波管４内の電界の弱
い部分の位置と加熱室２内の電界の弱い部分の位置とを
接続して開口部６としているので、計算通りのモードが
たっているが、接続の位置が変われば狙ったモードにな
らない。

【００３９】図４〜図６に加熱室２の寸法は図３と同じ
で、接続の位置の異なる例を示す。

【００４０】図４は導波管４の電界の強い部分の位置と
加熱室２の電界の弱い部分の位置を接続した例である。
（３４１）のモードは立たない。

【００４１】図５は導波管４の電界の弱い部分の位置と
加熱室２の電界の強い部分の位置を接続した例である。
（３４１）のモードは立たない。

【００４２】図６は導波管４の電界の強い部分の位置と
加熱室２の電界の強い部分の位置を接続した例である。
（３４１）のモードは立たない（ただし、この例は開口
部６が２ヶ所にあり、導波管４の方向が逆である）。

【００４３】以上のことから（数４）を満たすモードを
加熱室２内に立てる場合は、導波管４内の電界の弱い部
分の位置と加熱室２内の電界の弱い部分の位置とを接続
して開口部６を構成しなければならないと言える。

【００４４】図７は図２の高周波加熱装置のＡ−Ａ´線
における断面を上から見た構成図であり、食品１（形状
は、奥行１２０ｍｍ、幅１２０ｍｍ、高さ２５ｍｍ）を
開口部６の真上に２０ｍｍの隙間をあけて載置したもの
である。

【００４５】図８は、図７の食品１を電磁波で加熱した
場合の、食品１内での誘電損失のシミュレーション結果
の等損失線を示す。この結果からは、従来の高周波加熱
装置とは異なり、食品１の縁だけでなく中央が加熱され
て損失を発生すると考えられる。ただし、ややマグネト
ロン３側（図の上方）よりの方が加熱されているようで
ある。これは、図の上方がマグネトロン３に近いという
ことで、放射の影響ではないかと考えられる。

【００４６】図９は、図１のＢ−Ｂ´線における断面を
上から見た図である。図１で説明した通り、開口部６を
覆うように開口回転板７があり、その構造は金属からな
る縁部８、低損失の電磁波透過材料からなる中央部９と
回転軸１０を有している。回転軸１０は、導波管４を貫
通し、駆動部であるモータ１１に接続されて回転駆動さ
れている。この回転に応じて中央部９が移動し、導波管
４内の電磁波は中央部９を介してしか加熱室２内に入ら
ないため、導波管４から加熱室２内に入る見かけ上の電
磁波の透過できる開口部分（すなわち開口部６と中央部
９とが交わる部分）の面積や位置が変化し、電界分布を
変化させることになる。この電界の攪拌効果によって食
品１の加熱分布も均一化されるが、従来のスタラーや回
転導波管ほどダイナミックな変化でないため、効率が極
端に落ちたり、モードが逐一変化して制御できないとい
うような問題は起こらない。

【００４７】図１０は、図９の構成に食品１（形状は、
奥行１２０ｍｍ、幅１２０ｍｍ、高さ２５ｍｍを開口部
６の真上に２０ｍｍの隙間をあけて載置）を入れ、開口
回転板７を停止したまま電磁波で加熱した場合の、食品
１内での誘電損失のシミュレーション結果の等損失線を
示す。この結果からは、図８と比較すると左側が良く加
熱されている。よって開口回転板７を回転すれば、より
一層加熱の均一化が達成できると分かる。

【００４８】（実施例２）次に、本発明の第２の実施例について図１１を参照して
説明する。なお、第１の実施例と同一構成部材には同一
番号を付し説明を省略する。図１１は第２の実施例の高
周波加熱装置の導波管と加熱室の断面図である。図８で
述べた放射の影響を回避するために、本実施例では、開
口部６の中心をマグネトロン３より遠い側に構成してい
る。具体的にいえば、開口部６の中心を導波管４の電界
の弱い部分の中心からａ（０≦ａ≦導波管４内の波長λ
ｇ／８）だけずらし、また加熱室２の中央に電界の弱い
部分が生じるようにモードを選び、開口部６の中心を加
熱室２の電界の弱い部分の中央（加熱室２の中央に一
致）からβ（加熱室２内の波長λｇ／８）だけずらして
いる。このとき、α、βそれぞれのずらす量が波長の１
／８を越えると、開口部６の位置が電界の弱い部分では
なく電界の強い部分になってしまい、狙ったモードにな
らない点に注意を要する。

【００４９】（実施例３）次に、本発明の第３の実施例について図１２を参照して
説明する。なお第１の実施例と同一構成部材には同一番
号を付し説明を省略する。図１２は第３の実施例の高周
波加熱装置の断面図である。この場合、第１の実施例と
は異なり、モータ１１により回転軸１０が開口回転板７
を回転させるだけでなく、食品載置回転台としてのター
ンテーブル１７をも回転させる構成を有している。この
ときターンテーブル１７の回転をスムーズに行うために
ローラーリング１８を構成している。また、ターンテー
ブル１７および底板１９は透明な樹脂材料からなり、第
１の実施例の場合と同様に、使用者が開口回転板７の回
転動作を見ることができる。

【００５０】（実施例４）次に、本発明の第４の実施例について図１３を参照して
説明する。なお、第１、第３の実施例と同一構成部材に
は同一番号を付し説明を省略する。図１３は第４の実施
例の高周波加熱装置の断面図である。この場合、第１、
第３の実施例とは異なり、回転軸１０は、導波管４の外
部の加熱室底面２０を貫通している。さらに、モータ１
１により、第１の歯車２１を介して開口回転板７の縁部
８に回転力を伝え、第２の歯車２２を介してターンテー
ブル１７の底部２３に回転力を伝えるので、第１の歯車
２１、縁部８、第２の歯車２２、底部２３の歯数の比率
により回転速度が自在に選べる。よって開口回転板７と
ターンテーブル１７の回転速度を異なる速度にして、よ
り一層の攪拌効果により加熱の均一化を狙っている。ま
た、ターンテーブル１７および底板１９は透明な樹脂材
料からなり、第１、第３の実施例の場合と同様に、使用
者が開口回転板７の回転動作を見ることができる。

【００５１】（実施例５）次に、本発明の第５の実施例について図１４および図１
５を参照して説明する。なお、第１、第３の実施例と同
一構成部材には同一番号を付し説明を省略する。図１４
は第５の実施例の高周波加熱装置の断面図である。この
場合、前述した各実施例とは異なり、駆動部２４が導波
管４の先端部２５を動かし開口部６自体を動作させる構
成を有している。加熱室２の底面開口２６が大きく開い
ており、それを覆いながら開口部６と折り返し部２７が
動作する。また、底板１９は透明な樹脂材料からなり、
第１、第３、第４の実施例の場合と同様に、使用者が開
口部６の動作を見ることができる。

【００５２】図１５は、図１４の高周波加熱装置のＣ−
Ｃ´線における断面を上から見た図であり、導波管４の
先端部２５が実矢線２８のような動作により、開口部６
と折り返し部２７が加熱室２の底面開口２６上を動作す
るものである。

【００５３】

【発明の効果】以上の説明から明らかなように本発明の
高周波加熱装置は加熱室と導波管とを接続する開口部
を、導波管内の電界の弱い部分の位置かつ加熱室内の電
界の弱い部分の位置に設けるので、導波管内の電界分布
と加熱室内の電界分布のそれぞれを乱すことなく、最も
効率的に加熱室内に電磁波を供給できる。また、同様に
導波管内の電界分布と加熱室内の電界分布のそれぞれを
乱すことがないので、計算通りの電界の強弱の分布が実
現できて、意図した加熱分布が達成できる。

【００５４】また、開口部が電磁波放射部から見て加熱
室底面の中央以遠にあるので、電磁波放射部側で電界が
強くなり過ぎるというような放射の影響を補正できて、
より均一な加熱分布が実現できる。

【００５５】また、開口部に近接する開口回転板は縁部
が金属で電磁波を反射し中央部が低損失の材料で電磁波
を透過させるので、導波管内の電磁波は、開口回転板の
中央部の低損失の材料を透過してのみ加熱室内に入り、
開口回転板の回転により開口部の面積あるいは開口部の
位置が見かけ上変化して、電界分布を攪拌する効果があ
り、加熱分布を均一化することができる。

【００５６】また、食品載置回転台と開口回転板を異な
る回転速度で駆動するため、食品と開口部との位置関係
が逐次変化するので、より一層の均一な加熱分布が実現
できる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の第１の実施例における高周波加熱装置
の側断面図

【図２】同、導波管と加熱室における電磁波の電界分布
図

【図３】同、導波管と加熱室における電磁波の電界分布
をシミュレーションした斜視図

【図４】同、図３と接続の位置の異なる場合の電界分布
をシミュレーションした斜視図

【図５】同、図３と接続の位置の異なる場合の電界分布
をシミュレーションした斜視図

【図６】同、図３と接続の位置の異なる場合の電界分布
をシミュレーションした斜視図

【図７】同、図２のＡ−Ａ´線における断面図

【図８】同、食品内での誘導損失のシミュレーション結
果の等損失線図

【図９】同、図１のＢ−Ｂ´線における断面図

【図１０】同、食品内での誘導損失のシミュレーション
結果の等損失線図

【図１１】本発明の第２の実施例における高周波加熱装
置の側断面図

【図１２】本発明の第３の実施例における高周波加熱装
置の側断面図

【図１３】本発明の第４の実施例における高周波加熱装
置の側断面図

【図１４】本発明の第５の実施例における高周波加熱装
置の側断面図

【図１５】同、図１４のＣ−Ｃ´線における断面図

【図１６】従来の高周波加熱装置の側断面図

【符号の説明】

１食品（被加熱物）２加熱室３マグネトロン（電磁波放射部）４導波管５制御部６開口部７開口回転板８縁部９中央部１０回転軸１１モータ（駆動部）１２食品載置台１３透明部分１４使用者

フロントページの続き (56)参考文献特開昭62−246288（ＪＰ，Ａ) 特開昭61−294795（ＪＰ，Ａ) 特開昭60−10584（ＪＰ，Ａ) 特開昭52−24348（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.⁷，ＤＢ名) H05B 6/64 H05B 6/70 - 6/74

Claims

(57)【特許請求の範囲】

【請求項１】被加熱物を出し入れする加熱室と、電磁波
を放射する電磁波放射部と、前記電磁波放射部から放射
される電磁波を前記加熱室内に導く導波管と、前記電磁
波放射部からの電磁波の放射を制御する制御部とを有
し、前記加熱室と前記導波管とを開口部で接続し、前記
開口部は、前記導波管内の電界の弱い部分の位置と前記
加熱室内の電界の弱い部分の位置とで接続した高周波加
熱装置。
【請求項２】開口部は、電磁波放射部から見て、導波管
内の電界の弱い部分の中央以遠の位置として電界の弱い
部分の中央ないし電界の弱い部分の中央から管内波長の
１／８以内の距離の位置とした請求項１記載の高周波加
熱装置。
【請求項３】開口部は、電磁波放射部から見て、加熱室
内の電界の弱い部分の中央以遠の位置として電界の弱い
部分の中央ないし電界の弱い部分の中央から加熱室内の
定在波の波長の１／８以内の距離の位置とした請求項１
記載の高周波加熱装置。
【請求項４】被加熱物を出し入れする加熱室と、電磁波
を放射する電磁波放射部と、前記電磁波放射部から放射
される電磁波を前記加熱室内に導く導波管と、前記電磁
波放射部からの電磁波の放射を制御する制御部とを有
し、前記加熱室と前記導波管とを開口部で接続し、前記
開口部の中心を、前記電磁波放射部から見て、前記加熱
室底面の中央よりも遠く、かつ、前記中央から加熱室内
の定在波の波長の１／８以内の距離に配してなる請求項
１記載の高周波加熱装置。
【請求項５】被加熱物を出し入れする加熱室と、電磁波
を放射する電磁波放射部と、前記電磁波放射部から放射
される電磁波を前記加熱室内に導く導波管と、前記加熱
室と前記導波管とを接続する開口部と、前記開口部に近
接する開口回転板と、前記開口回転板を回転駆動する駆
動部と、前記電磁波放射部からの電磁波の放射や前記駆
動部の動作を制御する制御部とを有し、前記開口回転板
は、縁部が金属で電磁波を反射し中央部が低損失の材料
で電磁波を透過させ、前記開口回転板の回転により前記
開口部の面積あるいは前記開口部の位置を見かけ上変化
させた高周波加熱装置。
【請求項６】被加熱物を出し入れする加熱室と、前記加
熱室内で被加熱物を載せて回転する食品載置回転台と、
電磁波を放射する電磁波放射部と、前記電磁波放射部か
ら放射される電磁波を前記加熱室内に導く導波管と、前
記加熱室と前記導波管とを接続する開口部と、前記開口
部に近接して回転する開口回転板と、前記食品載置回転
台と前記開口回転板を異なる回転速度で駆動する駆動部
と、前記電磁波放射部からの電磁波の放射や前記駆動部
の動作を制御する制御部とを有する高周波加熱装置。