JP2000179864A - 高周波加熱装置 - Google Patents
高周波加熱装置Info
- Publication number
- JP2000179864A JP2000179864A JP10357128A JP35712898A JP2000179864A JP 2000179864 A JP2000179864 A JP 2000179864A JP 10357128 A JP10357128 A JP 10357128A JP 35712898 A JP35712898 A JP 35712898A JP 2000179864 A JP2000179864 A JP 2000179864A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- heated
- heating chamber
- mounting table
- microwaves
- supply port
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Landscapes
- Constitution Of High-Frequency Heating (AREA)
- Electric Ovens (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 マグネトロンから放射されるマイクロ波を被
加熱物の下部に照射し、加熱ムラなどを少なくするよう
に加熱調理する高周波加熱装置を得る。 【解決手段】 加熱室１の底部中央に開口部を形成し、
この開口部に連通して横置き状に導波管６を設ける。そ
して、導波管６内であって底部中央の開口部近傍にリン
グ状の回転板１０を配設する。さらに、この回転板１０
を回転駆動させるモータ５を加熱室１の外部に設ける。
加熱物の下部に照射し、加熱ムラなどを少なくするよう
に加熱調理する高周波加熱装置を得る。 【解決手段】 加熱室１の底部中央に開口部を形成し、
この開口部に連通して横置き状に導波管６を設ける。そ
して、導波管６内であって底部中央の開口部近傍にリン
グ状の回転板１０を配設する。さらに、この回転板１０
を回転駆動させるモータ５を加熱室１の外部に設ける。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】この発明は、マグネトロンか
ら放射されるマイクロ波を被加熱物に照射して加熱調理
する高周波加熱装置に関するものである。
ら放射されるマイクロ波を被加熱物に照射して加熱調理
する高周波加熱装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】図９は、従来例である一般的な高周波加
熱装置を示す正断面図である。図９において、１は被加
熱物２を収容する加熱室、３は加熱室１の下部に配設さ
れて被加熱物２を載置する円板状の載置台、４はこの載
置台３を支持する金属製の円状の回転板、５は加熱室１
外に設けられて円状の回転板４を回転させるモータであ
る。６は加熱室１の外側壁部に配置してマグネトロン７
で放射するマイクロ波をマグネトロン保護部材８を介し
て加熱室１に伝送する導波管である。
熱装置を示す正断面図である。図９において、１は被加
熱物２を収容する加熱室、３は加熱室１の下部に配設さ
れて被加熱物２を載置する円板状の載置台、４はこの載
置台３を支持する金属製の円状の回転板、５は加熱室１
外に設けられて円状の回転板４を回転させるモータであ
る。６は加熱室１の外側壁部に配置してマグネトロン７
で放射するマイクロ波をマグネトロン保護部材８を介し
て加熱室１に伝送する導波管である。
【０００３】次に、従来の高周波加熱装置の動作につい
て説明する。図９において、マグネトロン７で放射され
るマイクロ波は導波管６からマグネトロン保護部材８を
経て加熱室１に伝送していく。そして、加熱室１に伝送
されたマイクロ波はこの壁面への入射と反射とを繰り返
しながら被加熱物２に照射することにより、被加熱物２
が加熱調理される。このとき、モータ５は回転駆動する
ことによって被加熱物２が回転することになる。
て説明する。図９において、マグネトロン７で放射され
るマイクロ波は導波管６からマグネトロン保護部材８を
経て加熱室１に伝送していく。そして、加熱室１に伝送
されたマイクロ波はこの壁面への入射と反射とを繰り返
しながら被加熱物２に照射することにより、被加熱物２
が加熱調理される。このとき、モータ５は回転駆動する
ことによって被加熱物２が回転することになる。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】従来の高周波加熱装置
において、前述のようにマイクロ波は被加熱物に直接入
射することが少なく、加熱室の側壁面に対して入射と反
射とを繰り返しながら被加熱物に照射される。しかし、
マイクロ波のエネルギーは加熱室の側壁面に入射した時
点で減衰する。このため、加熱室の側壁面での反射回数
が増えるとマイクロ波のエネルギーロスが大きくなると
いうことになる。したがって、被加熱物の加熱効率低下
や加熱ムラを生じ易いという問題点があった。
において、前述のようにマイクロ波は被加熱物に直接入
射することが少なく、加熱室の側壁面に対して入射と反
射とを繰り返しながら被加熱物に照射される。しかし、
マイクロ波のエネルギーは加熱室の側壁面に入射した時
点で減衰する。このため、加熱室の側壁面での反射回数
が増えるとマイクロ波のエネルギーロスが大きくなると
いうことになる。したがって、被加熱物の加熱効率低下
や加熱ムラを生じ易いという問題点があった。
【０００５】また、マイクロ波は前述の伝送経路のため
に被加熱物の概中央下部の領域へ集中的に照射されにく
い。したがって、例えば縦長状の容器内に日本酒やミル
クなどを入れて加熱調理した場合に、十分に加熱するま
での経過時間が比較的長く、かつ加熱ムラを生じるとい
う問題点があった。
に被加熱物の概中央下部の領域へ集中的に照射されにく
い。したがって、例えば縦長状の容器内に日本酒やミル
クなどを入れて加熱調理した場合に、十分に加熱するま
での経過時間が比較的長く、かつ加熱ムラを生じるとい
う問題点があった。
【０００６】さらに、加熱室の高さが比較的低く、かつ
加熱室の底部より上方側に載置台や回転板を配設するの
で有効容積が小さくなり、これによって高さがある容器
例えば２合徳利などが収容できないという問題点があっ
た。
加熱室の底部より上方側に載置台や回転板を配設するの
で有効容積が小さくなり、これによって高さがある容器
例えば２合徳利などが収容できないという問題点があっ
た。
【０００７】この発明は、このような問題点を解決する
ためになされたもので導波管の配置、載置台および回転
板の形状・設置場所を工夫して被加熱物の概中央下部の
領域にマイクロ波を集中的に照射させ、被加熱物の加熱
不足や加熱ムラを解消し、さらに加熱室の有効容積を大
きくした高周波加熱装置を提供することを目的としてい
る。
ためになされたもので導波管の配置、載置台および回転
板の形状・設置場所を工夫して被加熱物の概中央下部の
領域にマイクロ波を集中的に照射させ、被加熱物の加熱
不足や加熱ムラを解消し、さらに加熱室の有効容積を大
きくした高周波加熱装置を提供することを目的としてい
る。
【０００８】
【課題を解決するための手段】この発明に係わる高周波
加熱装置は、被加熱物を収容する加熱室を設け、加熱室
の底部中央に給電口を設け、給電口に接続されかつ加熱
室底部に沿って平行に導波管を設け、導波管内であって
給電口を臨む位置に回転体を配設し、この回転体をマイ
クロ波の１波長にほぼ等しい内径を有する複数の環状板
を上下に所定間隔を置いて配置するようにした。
加熱装置は、被加熱物を収容する加熱室を設け、加熱室
の底部中央に給電口を設け、給電口に接続されかつ加熱
室底部に沿って平行に導波管を設け、導波管内であって
給電口を臨む位置に回転体を配設し、この回転体をマイ
クロ波の１波長にほぼ等しい内径を有する複数の環状板
を上下に所定間隔を置いて配置するようにした。
【０００９】また、回転体を着脱自在に配設するように
した。
した。
【００１０】また、回転体に被加熱物を載せる皿を着脱
自在に載置するようにした。
自在に載置するようにした。
【００１１】また、被加熱物を収容する加熱室を設け、
加熱室の底部中央に給電口を設け、給電口に接続されか
つ加熱室底部に沿って平行に導波管を設け、導波管の給
電口を臨む位置に回転体を設け、加熱室内に配設され中
央部に給電口を介して回転体上に載置される凹部を形成
した載置台を具備するようにした。
加熱室の底部中央に給電口を設け、給電口に接続されか
つ加熱室底部に沿って平行に導波管を設け、導波管の給
電口を臨む位置に回転体を設け、加熱室内に配設され中
央部に給電口を介して回転体上に載置される凹部を形成
した載置台を具備するようにした。
【００１２】また、回転体の外径および載置台凹部の内
径をマイクロ波の１波長にほぼ等しく形成するようにし
た。
径をマイクロ波の１波長にほぼ等しく形成するようにし
た。
【００１３】また、載置台凹部の内壁面に複数の金属片
を取り付けるようにした。
を取り付けるようにした。
【００１４】また、載置台に被加熱物を載せる皿を着脱
自在に載置するようにした。
自在に載置するようにした。
【００１５】
【発明の実施の形態】実施の形態１．図１は、この発明
による高周波加熱装置の実施の形態を説明する正断面図
である。図１において、従来例と同一の符号は同一又は
相当部分を示す。図１において、９は加熱室１の底部中
央に形成される開口部であり、この開口部９に連通して
横置き状に導波管６が設けられる。ここで、例えば導波
管６の幅を６０乃至８０ｍｍ（マイクロ波の波長の１／
２相当の範囲）、高さを約３５ｍｍに設定し、さらにマ
イクロ波の出口部内径（図１中のＡ）を約１６０ｍｍに
設定する。そして、導波管６のマイクロ波出口部の空間
にモータ５の回転駆動で回転するリング状の回転板１０
を配設し、このリング状の回転板１０の上に円板状の載
置台３を載せる。さらに、この載置台３の上に被加熱物
２が置かれたガラスの皿１１を載せておく。
による高周波加熱装置の実施の形態を説明する正断面図
である。図１において、従来例と同一の符号は同一又は
相当部分を示す。図１において、９は加熱室１の底部中
央に形成される開口部であり、この開口部９に連通して
横置き状に導波管６が設けられる。ここで、例えば導波
管６の幅を６０乃至８０ｍｍ（マイクロ波の波長の１／
２相当の範囲）、高さを約３５ｍｍに設定し、さらにマ
イクロ波の出口部内径（図１中のＡ）を約１６０ｍｍに
設定する。そして、導波管６のマイクロ波出口部の空間
にモータ５の回転駆動で回転するリング状の回転板１０
を配設し、このリング状の回転板１０の上に円板状の載
置台３を載せる。さらに、この載置台３の上に被加熱物
２が置かれたガラスの皿１１を載せておく。
【００１６】リング状の回転板１０の具体的な構成は図
２に示すように、リング状の第１の回転板１０ａの複数
箇所に支持棒１０ｂの一端を取り付け、支持棒１０ｂの
他端にはリング状の第２の回転板１０ｃを取り付ける。
この第２の回転板１０ｃの内周部に十字状の支持板１０
ｄを設け、支持板１０ｄの中心部にモータ５の軸孔を形
成させる。ここで、リング状の第１の回転板１０ａおよ
び第２の回転板１０ｃの外側直径を約１４０ｍｍ、内側
直径を約１２０ｍｍに設定する。
２に示すように、リング状の第１の回転板１０ａの複数
箇所に支持棒１０ｂの一端を取り付け、支持棒１０ｂの
他端にはリング状の第２の回転板１０ｃを取り付ける。
この第２の回転板１０ｃの内周部に十字状の支持板１０
ｄを設け、支持板１０ｄの中心部にモータ５の軸孔を形
成させる。ここで、リング状の第１の回転板１０ａおよ
び第２の回転板１０ｃの外側直径を約１４０ｍｍ、内側
直径を約１２０ｍｍに設定する。
【００１７】次に、この発明の高周波加熱装置の動作に
ついて、図１と図２を併用して説明する。 図１と図２
において、加熱装置を運転開始させるとマグネトロン７
から放射されるマイクロ波は導波管６の所定箇所に配置
するマグネトロン保護部材８を通過していく。そして、
このマイクロ波は第１の回転板１０ａと第２の回転板１
０ｃとの間や第２の回転板１０ｃの下部を進行して加熱
室１の底部に形成する開口部９から円板状の載置台３を
経て、さらにガラスの皿１１を通過していく。ここで、
円板状の載置台３はマイクロ波を通過させる特性をもつ
例えばセラミック、硝子などの低誘電率タイプのものを
採用する。
ついて、図１と図２を併用して説明する。 図１と図２
において、加熱装置を運転開始させるとマグネトロン７
から放射されるマイクロ波は導波管６の所定箇所に配置
するマグネトロン保護部材８を通過していく。そして、
このマイクロ波は第１の回転板１０ａと第２の回転板１
０ｃとの間や第２の回転板１０ｃの下部を進行して加熱
室１の底部に形成する開口部９から円板状の載置台３を
経て、さらにガラスの皿１１を通過していく。ここで、
円板状の載置台３はマイクロ波を通過させる特性をもつ
例えばセラミック、硝子などの低誘電率タイプのものを
採用する。
【００１８】これによって、マイクロ波がリング状の回
転板１０と一体となって回転する被加熱物２の概中央下
部の領域へ集中的に照射することにより、この領域で発
生した熱が被加熱物２の全体部に移動して均一な温度と
なる。したがって、被加熱物２の加熱ムラが少なく、か
つこの物が加熱されるまでの経過時間は短くなる。
転板１０と一体となって回転する被加熱物２の概中央下
部の領域へ集中的に照射することにより、この領域で発
生した熱が被加熱物２の全体部に移動して均一な温度と
なる。したがって、被加熱物２の加熱ムラが少なく、か
つこの物が加熱されるまでの経過時間は短くなる。
【００１９】また、高さがある容器内の被加熱物２例え
ば２合徳利内の日本酒あるいはグラス内のミルクを加熱
調理する場合は、円板状の載置台３およびガラスの皿１
１を取り除き、内側直径が約１２０ｍｍに設定されたリ
ング状の回転板１０の中にこの容器を収容させる。次
に、加熱装置を運転開始させるとマグネトロン保護部材
８を通過したマイクロ波が、リング状の回転板１０と一
体となって回転する被加熱物２の下部へ直接的かつ集中
的に照射される。これにより、導波管６の側壁面へのマ
イクロ波の入射／反射回数が極端に少なくできるので、
高いエネルギーをもつマイクロ波が被加熱物に照射され
る状態となる。こうした構成により、縦長状の例えば２
合徳利内の日本酒やグラス内のミルクなどにあっては、
被加熱部の下部を加熱すれば対流作用で加熱ムラが少な
く、かつ加熱調理時間が短くなる。
ば２合徳利内の日本酒あるいはグラス内のミルクを加熱
調理する場合は、円板状の載置台３およびガラスの皿１
１を取り除き、内側直径が約１２０ｍｍに設定されたリ
ング状の回転板１０の中にこの容器を収容させる。次
に、加熱装置を運転開始させるとマグネトロン保護部材
８を通過したマイクロ波が、リング状の回転板１０と一
体となって回転する被加熱物２の下部へ直接的かつ集中
的に照射される。これにより、導波管６の側壁面へのマ
イクロ波の入射／反射回数が極端に少なくできるので、
高いエネルギーをもつマイクロ波が被加熱物に照射され
る状態となる。こうした構成により、縦長状の例えば２
合徳利内の日本酒やグラス内のミルクなどにあっては、
被加熱部の下部を加熱すれば対流作用で加熱ムラが少な
く、かつ加熱調理時間が短くなる。
【００２０】以上のように、容積が大きい被加熱物２又
は高さがある容器内の被加熱物２を加熱調理する場合
に、導波管６の一部の空間を適宜有効利用する／しない
などして、有効容積を調整しながら均一に加熱調理する
ことができる。
は高さがある容器内の被加熱物２を加熱調理する場合
に、導波管６の一部の空間を適宜有効利用する／しない
などして、有効容積を調整しながら均一に加熱調理する
ことができる。
【００２１】実施の形態２．図３は、この発明による高
周波加熱装置の他の実施の形態を説明する正断面図であ
る。図３において、従来例または実施の形態１と同一の
符号は同一又は相当部分を示す。１２は円板状の載置台
３の中央箇所に凹部が形成される凹状の載置台であり、
この凹部を導波管６のマイクロ波出口部の空間下部に配
設される円状の回転板４の上に載るように配置させる。
そして、被加熱物２が載っているガラスの皿１１を凹状
の載置台１２の凹部を塞ぐ状態で置く。ここで、凹状の
載置台１２は実施の形態１と同様に例えばセラミック、
硝子などの低誘電率タイプのものを採用する。
周波加熱装置の他の実施の形態を説明する正断面図であ
る。図３において、従来例または実施の形態１と同一の
符号は同一又は相当部分を示す。１２は円板状の載置台
３の中央箇所に凹部が形成される凹状の載置台であり、
この凹部を導波管６のマイクロ波出口部の空間下部に配
設される円状の回転板４の上に載るように配置させる。
そして、被加熱物２が載っているガラスの皿１１を凹状
の載置台１２の凹部を塞ぐ状態で置く。ここで、凹状の
載置台１２は実施の形態１と同様に例えばセラミック、
硝子などの低誘電率タイプのものを採用する。
【００２２】次に、加熱装置を運転開始させるとマグネ
トロンより放射されるマイクロ波がマグネトロン保護部
材８から凹状の載置台１２の側壁部を通過していく。そ
して、このマイクロ波が円状の回転板４と一体となって
回転する被加熱物２の概中央下部の領域へ集中的に照射
される。これにより、前述と同様に被加熱物２の加熱ム
ラの解消や加熱時間の短縮化が得られる。
トロンより放射されるマイクロ波がマグネトロン保護部
材８から凹状の載置台１２の側壁部を通過していく。そ
して、このマイクロ波が円状の回転板４と一体となって
回転する被加熱物２の概中央下部の領域へ集中的に照射
される。これにより、前述と同様に被加熱物２の加熱ム
ラの解消や加熱時間の短縮化が得られる。
【００２３】また、高さがある容器内の被加熱物２例え
ば２合徳利内の日本酒あるいはグラス内のミルクを加熱
調理する場合は、ガラスの皿１１を取り除いて凹状の載
置台１２の凹部内に前述の容器を収容させる。これによ
り、マイクロ波が凹状の載置台１２の側壁部を通過して
円状の回転板４と一体となって回転する被加熱物２の下
部へ直接的かつ集中的に照射される。こうした構成によ
り、実施の形態１と同様に被加熱物の加熱ムラが少な
く、かつ加熱調理時間が短くなる。
ば２合徳利内の日本酒あるいはグラス内のミルクを加熱
調理する場合は、ガラスの皿１１を取り除いて凹状の載
置台１２の凹部内に前述の容器を収容させる。これによ
り、マイクロ波が凹状の載置台１２の側壁部を通過して
円状の回転板４と一体となって回転する被加熱物２の下
部へ直接的かつ集中的に照射される。こうした構成によ
り、実施の形態１と同様に被加熱物の加熱ムラが少な
く、かつ加熱調理時間が短くなる。
【００２４】また、凹状の載置台１２の凹部の中央箇所
に孔を形成し、この孔部にモータ５の回転軸を嵌め込む
ようにしても良い。これにより、円状の回転板４を使用
せずに被加熱物２を加熱調理できる。このことは、実施
の形態３についても同様である。
に孔を形成し、この孔部にモータ５の回転軸を嵌め込む
ようにしても良い。これにより、円状の回転板４を使用
せずに被加熱物２を加熱調理できる。このことは、実施
の形態３についても同様である。
【００２５】また、高さがある容器内の被加熱物２を加
熱調理する場合は、図４に示すようにガラスの皿１１の
他に凹状の載置台１２を取り除き、前述の容器を円状の
回転板４の上に直接置いて加熱調理しても良い。これに
よって、前述と同様の効果を得ることができる。
熱調理する場合は、図４に示すようにガラスの皿１１の
他に凹状の載置台１２を取り除き、前述の容器を円状の
回転板４の上に直接置いて加熱調理しても良い。これに
よって、前述と同様の効果を得ることができる。
【００２６】実施の形態３．図５は、この発明による高
周波加熱装置のさらに他の実施の形態を説明する正断面
図である。図５において、従来例または実施の形態１，
２と同一の符号は同一又は相当部分を示す。１３は実施
の形態２で述べた凹状の載置台１２の凹部の内側壁面に
固着する２枚の金属片である。また、図６の（ａ），
（ｂ）は凹状の載置台１２の凹部の平断面図を示すもの
であり、この内側壁面（図６中のＡ）の対向する位置に
２枚の金属片１３が固着される。なお、図６の（ａ）は
凹状の載置台１２が所定速度で一方向に回転し、ある方
向から進行するマイクロ波が凹状の載置台１２の側壁部
を通過して２枚の金属片１３に向かっていく状態を示
す。また、図６の（ｂ）は凹状の載置台１２が一方向に
回転し、ある方向から進行するマイクロ波が凹状の載置
台１２の側壁部を通過して２枚の金属片１３で反射され
る状態を示す。
周波加熱装置のさらに他の実施の形態を説明する正断面
図である。図５において、従来例または実施の形態１，
２と同一の符号は同一又は相当部分を示す。１３は実施
の形態２で述べた凹状の載置台１２の凹部の内側壁面に
固着する２枚の金属片である。また、図６の（ａ），
（ｂ）は凹状の載置台１２の凹部の平断面図を示すもの
であり、この内側壁面（図６中のＡ）の対向する位置に
２枚の金属片１３が固着される。なお、図６の（ａ）は
凹状の載置台１２が所定速度で一方向に回転し、ある方
向から進行するマイクロ波が凹状の載置台１２の側壁部
を通過して２枚の金属片１３に向かっていく状態を示
す。また、図６の（ｂ）は凹状の載置台１２が一方向に
回転し、ある方向から進行するマイクロ波が凹状の載置
台１２の側壁部を通過して２枚の金属片１３で反射され
る状態を示す。
【００２７】次に、この発明の高周波加熱装置の動作に
ついて、図５を併用して説明する。図５において、マグ
ネトロン７より放射されるマイクロ波がマグネトロン保
護部材８から凹状の載置台１２の側壁部を通過して２枚
の金属片１３に向かう（図６のａの状態）。ここで、凹
部内の複数の金属片１３によるアンテナ作用即ち電磁波
集合作用で図７に示すようなマイクロ波の電界強度分布
特性を示す。
ついて、図５を併用して説明する。図５において、マグ
ネトロン７より放射されるマイクロ波がマグネトロン保
護部材８から凹状の載置台１２の側壁部を通過して２枚
の金属片１３に向かう（図６のａの状態）。ここで、凹
部内の複数の金属片１３によるアンテナ作用即ち電磁波
集合作用で図７に示すようなマイクロ波の電界強度分布
特性を示す。
【００２８】図７において、凹部内の２枚の金属片１３
が存在する箇所は、マイクロ波の電界強度が非常に高く
Ｅｐ（ＫＶ／ｍ）を示している。そして、各々の金属片
１３から遠ざかるに伴なってマイクロ波の電界強度は徐
々に低下していることが分かる（図７中のＡ，Ｂパター
ン）。しかし、実際上は各々の金属片１３の電界強度が
合成されたＣパターンが形成すると推測する。このた
め、凹部内の電界強度の大きさにムラがなく、Ｅｐをほ
ぼ一定維持することができる。
が存在する箇所は、マイクロ波の電界強度が非常に高く
Ｅｐ（ＫＶ／ｍ）を示している。そして、各々の金属片
１３から遠ざかるに伴なってマイクロ波の電界強度は徐
々に低下していることが分かる（図７中のＡ，Ｂパター
ン）。しかし、実際上は各々の金属片１３の電界強度が
合成されたＣパターンが形成すると推測する。このた
め、凹部内の電界強度の大きさにムラがなく、Ｅｐをほ
ぼ一定維持することができる。
【００２９】こうした構成により、円状の回転板４と一
体となって回転するガラスの皿１１の上に載る被加熱物
２の概中央下部の領域に、電界強度Ｅｐ（ＫＶ／ｍ）を
もつマイクロ波を集中的に照射させることができる。ま
た、高さがある容器内の被加熱物２例えば２合徳利内の
日本酒あるいはグラス内のミルクを加熱調理する場合
は、ガラスの皿１１を取り除いて凹状の載置台１２の凹
部内にこの容器を収容させる。これにより、電界強度Ｅ
Ｐ（ＫＶ／ｍ）をもつマイクロ波が円状の回転板４と一
体となって回転する前述の容器の下部へ直接的かつ集中
的に照射される。したがって、被加熱物２の加熱ムラが
非常に少なく、かつ加熱調理の時間が一層短くなる。
体となって回転するガラスの皿１１の上に載る被加熱物
２の概中央下部の領域に、電界強度Ｅｐ（ＫＶ／ｍ）を
もつマイクロ波を集中的に照射させることができる。ま
た、高さがある容器内の被加熱物２例えば２合徳利内の
日本酒あるいはグラス内のミルクを加熱調理する場合
は、ガラスの皿１１を取り除いて凹状の載置台１２の凹
部内にこの容器を収容させる。これにより、電界強度Ｅ
Ｐ（ＫＶ／ｍ）をもつマイクロ波が円状の回転板４と一
体となって回転する前述の容器の下部へ直接的かつ集中
的に照射される。したがって、被加熱物２の加熱ムラが
非常に少なく、かつ加熱調理の時間が一層短くなる。
【００３０】また、図８に示すように実施の形態１乃至
実施の形態３で述べた加熱室１の底部中央に形成する開
口部９の近傍の導波管６内に設けられた円状の回転板
４、リング状の回転板１０、凹状の載置台１２、さらに
これらを回転駆動させるモータ５を取り除く。そして、
導波管６内に液状の被加熱物２が入っている高さのある
容器を直接収容させても良い。これによって、静止状態
のこの容器の下部にマイクロ波が集中的に照射されるた
め、対流作用で加熱ムラが殆どなく、かつ加熱調理時間
を短くできるという効果が得られる。
実施の形態３で述べた加熱室１の底部中央に形成する開
口部９の近傍の導波管６内に設けられた円状の回転板
４、リング状の回転板１０、凹状の載置台１２、さらに
これらを回転駆動させるモータ５を取り除く。そして、
導波管６内に液状の被加熱物２が入っている高さのある
容器を直接収容させても良い。これによって、静止状態
のこの容器の下部にマイクロ波が集中的に照射されるた
め、対流作用で加熱ムラが殆どなく、かつ加熱調理時間
を短くできるという効果が得られる。
【００３１】
【発明の効果】この発明は、以上説明したように構成さ
れているので、以下に記載されるような効果を奏する。
れているので、以下に記載されるような効果を奏する。
【００３２】この発明に係わる高周波加熱装置は、被加
熱物を収容する加熱室を設け、加熱室の底部中央に給電
口を設け、給電口に接続されかつ加熱室底部に沿って平
行に導波管を設け、導波管内であって給電口を臨む位置
に回転体を配設し、この回転体をマイクロ波の１波長に
ほぼ等しい内径を有する複数の環状板を上下に所定間隔
を置いて配置するようにしたので、マグネトロンから放
射されるマイクロ波が上下の環状板の間などを通過し
て、この環状板と一体となって回転する平板状の載置台
の上に載る被加熱物の概中央下部の領域に照射される。
また、高さがある容器を上下の環状板の中に収容させ、
この環状板と一体となって回転する容器内の被加熱物の
下部にマイクロ波を集中的に照射させることが可能であ
る。したがって、加熱室の有効容積を拡大させると共
に、被加熱物の加熱ムラが少なく、かつ加熱調理の時間
が短くなるという効果を期待できる。
熱物を収容する加熱室を設け、加熱室の底部中央に給電
口を設け、給電口に接続されかつ加熱室底部に沿って平
行に導波管を設け、導波管内であって給電口を臨む位置
に回転体を配設し、この回転体をマイクロ波の１波長に
ほぼ等しい内径を有する複数の環状板を上下に所定間隔
を置いて配置するようにしたので、マグネトロンから放
射されるマイクロ波が上下の環状板の間などを通過し
て、この環状板と一体となって回転する平板状の載置台
の上に載る被加熱物の概中央下部の領域に照射される。
また、高さがある容器を上下の環状板の中に収容させ、
この環状板と一体となって回転する容器内の被加熱物の
下部にマイクロ波を集中的に照射させることが可能であ
る。したがって、加熱室の有効容積を拡大させると共
に、被加熱物の加熱ムラが少なく、かつ加熱調理の時間
が短くなるという効果を期待できる。
【００３３】また、回転体を着脱自在に配設するように
したので、加熱室の底部中央に形成する開口部近傍の導
波管内に液状の被加熱物が入っている高さのある縦長状
の容器を容易に収容させ、即ち有効スペースの拡大化が
実現できる。そして、回転駆動部品であるモータが不要
であるために部品コストを削減できるという効果を期待
できる。
したので、加熱室の底部中央に形成する開口部近傍の導
波管内に液状の被加熱物が入っている高さのある縦長状
の容器を容易に収容させ、即ち有効スペースの拡大化が
実現できる。そして、回転駆動部品であるモータが不要
であるために部品コストを削減できるという効果を期待
できる。
【００３４】また、回転体に被加熱物を載せる皿を着脱
自在に載置するようにしたので、容積が大きい被加熱物
の場合は皿を使用して加熱調理を行い、容積が小さい被
加熱物の場合は皿なしの状態で加熱調理を行うという、
加熱室内の有効容積を自由自在に調整して加熱ムラを少
なくするという効果を期待できる。
自在に載置するようにしたので、容積が大きい被加熱物
の場合は皿を使用して加熱調理を行い、容積が小さい被
加熱物の場合は皿なしの状態で加熱調理を行うという、
加熱室内の有効容積を自由自在に調整して加熱ムラを少
なくするという効果を期待できる。
【００３５】また、被加熱物を収容する加熱室を設け、
加熱室の底部中央に給電口を設け、給電口に接続されか
つ加熱室底部に沿って平行に導波管を設け、導波管の給
電口を臨む位置に回転体を設け、加熱室内に配設され中
央部に給電口を介して回転体上に載置される凹部を形成
した載置台を具備するようにしたので、マグネトロンか
ら放射されるマイクロ波が載置台と一体となって回転す
る容積の大きい被加熱物の概中央下部の領域に照射され
る。さらに、高さがある容器を載置台の凹部内に収容さ
せ、この載置台と一体となって回転する容器内の被加熱
物の下部にマイクロ波を集中的に照射させることが可能
である。したがって、加熱室の有効容積を自由自在に調
整して被加熱物をムラなく加熱し、かつ加熱調理の時間
が短くなるという効果を期待できる。
加熱室の底部中央に給電口を設け、給電口に接続されか
つ加熱室底部に沿って平行に導波管を設け、導波管の給
電口を臨む位置に回転体を設け、加熱室内に配設され中
央部に給電口を介して回転体上に載置される凹部を形成
した載置台を具備するようにしたので、マグネトロンか
ら放射されるマイクロ波が載置台と一体となって回転す
る容積の大きい被加熱物の概中央下部の領域に照射され
る。さらに、高さがある容器を載置台の凹部内に収容さ
せ、この載置台と一体となって回転する容器内の被加熱
物の下部にマイクロ波を集中的に照射させることが可能
である。したがって、加熱室の有効容積を自由自在に調
整して被加熱物をムラなく加熱し、かつ加熱調理の時間
が短くなるという効果を期待できる。
【００３６】また、回転体の外径および載置台凹部の内
径をマイクロ波の１波長にほぼ等しく形成するようにし
たので、前述の凹部内に高さがある容器を容易に収容さ
せ、回転しながら液状の被加熱物を加熱調理することが
期待できる。
径をマイクロ波の１波長にほぼ等しく形成するようにし
たので、前述の凹部内に高さがある容器を容易に収容さ
せ、回転しながら液状の被加熱物を加熱調理することが
期待できる。
【００３７】また、載置台凹部の内壁面に複数の金属片
を取り付けるようにしたので、アンテナ作用即ち電磁波
集合作用によってマイクロ波が金属片の方に向かってい
く。これにより、前述の凹部内におけるマイクロ波のエ
ネルギー即ち電界強度の大きさにムラがなく、このマイ
クロ波が被加熱物へ集中的に照射される状態となる。し
たがって、被加熱物の加熱ムラをより一層解消できると
いう効果を期待できる。
を取り付けるようにしたので、アンテナ作用即ち電磁波
集合作用によってマイクロ波が金属片の方に向かってい
く。これにより、前述の凹部内におけるマイクロ波のエ
ネルギー即ち電界強度の大きさにムラがなく、このマイ
クロ波が被加熱物へ集中的に照射される状態となる。し
たがって、被加熱物の加熱ムラをより一層解消できると
いう効果を期待できる。
【００３８】また、載置台に被加熱物を載せる皿を着脱
自在に載置するようにしたので、載置台と一体となって
回転する容積の大きい被加熱物や高さがある容器内の被
加熱物の概中央下部にマイクロ波を集中的に照射させる
ことが可能である。したがって、加熱室の有効容積を自
由自在に調整して被加熱物をムラなく加熱し、かつ加熱
調理の時間が短くなるという効果を期待できる。
自在に載置するようにしたので、載置台と一体となって
回転する容積の大きい被加熱物や高さがある容器内の被
加熱物の概中央下部にマイクロ波を集中的に照射させる
ことが可能である。したがって、加熱室の有効容積を自
由自在に調整して被加熱物をムラなく加熱し、かつ加熱
調理の時間が短くなるという効果を期待できる。
【図１】 実施の形態１における高周波加熱装置の正断
面図である。
面図である。
【図２】 実施の形態１に係るリング状回転板の拡大斜
視図である。
視図である。
【図３】 実施の形態２における高周波加熱装置の正断
面図である。
面図である。
【図４】 実施の形態２における他の高周波加熱装置の
正断面図である。
正断面図である。
【図５】 実施の形態３における高周波加熱装置の正断
面図である。
面図である。
【図６】 実施の形態３に係る凹状載置台の拡大斜視図
である。
である。
【図７】 実施の形態３に係る凹状載置台の凹部内の
マイクロ波電界強度の分布特性図である。
マイクロ波電界強度の分布特性図である。
【図８】 実施の形態１乃至実施の形態３における高周
波加熱装置の正断面図である。
波加熱装置の正断面図である。
【図９】 従来の高周波加熱装置の正断面図である。
１ 加熱室、２ 被加熱物、３ 平板状の載置台、４ 金
属製の円状の回転板、５ モータ、６ 導波管、 ７ マ
グネトロン、８ マグネトロン保護部材、 ９ 開口部、
１０ リング状の回転板、１１ 皿、１２ 凹状の載置
台、１３ 金属片。
属製の円状の回転板、５ モータ、６ 導波管、 ７ マ
グネトロン、８ マグネトロン保護部材、 ９ 開口部、
１０ リング状の回転板、１１ 皿、１２ 凹状の載置
台、１３ 金属片。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 長田 正史 東京都千代田区丸の内二丁目２番３号 三 菱電機株式会社内 (72)発明者 宮前 哲也 埼玉県大里郡花園町大字小前田1728番地１ 三菱電機ホーム機器株式会社内 Ｆターム(参考） 3K090 AA01 AB02 BA01 BB03 CA01 DA04 MA03 3L086 AA04 BA08 BB05 BB13 BF07 BF08 DA06 DA07 DA12 DA19
Claims (7)
- 【請求項１】 被加熱物を収容する加熱室と、この加熱
室の底部中央に設けられた給電口と、この給電口に接続
されかつ加熱室底部に沿って平行に設けられた導波管
と、この導波管内であって給電口を臨む位置に配設され
た回転体とを具備し、この回転体はマイクロ波の１波長
にほぼ等しい内径を有する複数の環状板を上下に所定間
隔を置いて配置してなることを特徴とする高周波加熱装
置。 - 【請求項２】 前記回転体を着脱自在に配設したことを
特徴とする請求項１記載の高周波加熱装置。 - 【請求項３】 前記回転体に被加熱物を載せる皿を着脱
自在に載置したことを特徴とする請求項１記載の高周波
加熱装置。 - 【請求項４】 被加熱物を収容する加熱室と、この加熱
室の底部中央に設けられた給電口と、この給電口に接続
されかつ加熱室底部に沿って平行に設けられた導波管
と、この導波管の給電口を臨む位置に配設された回転体
と、加熱室内に配設され中央部に給電口を介して前記回
転体上に載置される凹部を形成した載置台とを具備した
ことを特徴とする高周波加熱装置。 - 【請求項５】 前記回転体の外径および載置台凹部の内
径をマイクロ波の１波長にほぼ等しく形成したことを特
徴とする請求項４記載の高周波加熱装置。 - 【請求項６】 前記載置台凹部の内壁面に複数の金属片
を取り付けたことを特徴とする請求項４または請求項５
記載の高周波加熱装置。 - 【請求項７】 前記載置台に被加熱物を載せる皿を着脱
自在に載置したことを特徴とする請求項４乃至請求項６
の何れかに記載の高周波加熱装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP35712898A JP3623676B2 (ja) | 1998-12-16 | 1998-12-16 | 高周波加熱装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP35712898A JP3623676B2 (ja) | 1998-12-16 | 1998-12-16 | 高周波加熱装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000179864A true JP2000179864A (ja) | 2000-06-27 |
| JP3623676B2 JP3623676B2 (ja) | 2005-02-23 |
Family
ID=18452529
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP35712898A Expired - Fee Related JP3623676B2 (ja) | 1998-12-16 | 1998-12-16 | 高周波加熱装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3623676B2 (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007026980A (ja) * | 2005-07-20 | 2007-02-01 | Hitachi Display Devices Ltd | マイクロ波加熱装置 |
| KR100901383B1 (ko) | 2007-01-30 | 2009-06-05 | 엘지전자 주식회사 | 도파관 및 이를 구비한 무전극 조명장치 |
| WO2009125898A1 (en) * | 2008-04-10 | 2009-10-15 | Sung-Youl Kim | Plasma lamp comprising protective layer and manufacturing method thereof |
| KR100937909B1 (ko) | 2007-05-04 | 2010-01-21 | 김성열 | 보호층을 가진 플라즈마 램프 및 그의 제조 방법 |
-
1998
- 1998-12-16 JP JP35712898A patent/JP3623676B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007026980A (ja) * | 2005-07-20 | 2007-02-01 | Hitachi Display Devices Ltd | マイクロ波加熱装置 |
| KR100901383B1 (ko) | 2007-01-30 | 2009-06-05 | 엘지전자 주식회사 | 도파관 및 이를 구비한 무전극 조명장치 |
| KR100937909B1 (ko) | 2007-05-04 | 2010-01-21 | 김성열 | 보호층을 가진 플라즈마 램프 및 그의 제조 방법 |
| WO2009125898A1 (en) * | 2008-04-10 | 2009-10-15 | Sung-Youl Kim | Plasma lamp comprising protective layer and manufacturing method thereof |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3623676B2 (ja) | 2005-02-23 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| EP0091779B1 (en) | Microwave heater | |
| JPH10185207A (ja) | マイクロ波の拡散手段を具える電子レンジ | |
| CA1081795A (en) | Microwave oven with a rotary table | |
| JPS62177890A (ja) | マイクロ波オーブン | |
| JP2000179864A (ja) | 高周波加熱装置 | |
| KR100208693B1 (ko) | 개선된 구조를 갖는 전자렌지용 도파관 | |
| JP2004071216A (ja) | 高周波加熱装置 | |
| JPH11121160A (ja) | 高周波加熱装置 | |
| JP3755995B2 (ja) | 高周波加熱装置 | |
| JP3246095B2 (ja) | 高周波加熱装置 | |
| JP3619044B2 (ja) | 高周波加熱装置 | |
| JP2007042333A (ja) | 高周波加熱装置 | |
| KR200153686Y1 (ko) | 전자렌지의 조리접시 받침판 | |
| JP3910115B2 (ja) | 高周波加熱装置 | |
| KR0182535B1 (ko) | 전자렌지의 전자파산란장치 | |
| KR950009707Y1 (ko) | 전자레인지의 스티러/컨벡션 겸용장치 | |
| JP2002015856A (ja) | 高周波加熱装置 | |
| JP3517825B2 (ja) | 高周波加熱装置 | |
| JP3910116B2 (ja) | 高周波加熱装置 | |
| KR100288832B1 (ko) | 전자레인지 | |
| KR840002418Y1 (ko) | 고주파 가열장치 | |
| JP2996155B2 (ja) | 高周波加熱装置 | |
| JPS6115587Y2 (ja) | ||
| JPH06213462A (ja) | 高周波加熱装置 | |
| WO2019087418A1 (ja) | 加熱調理器 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20040720 |
|
| RD01 | Notification of change of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7421 Effective date: 20040805 |
|
| A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20040915 |
|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20041116 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20041125 |
|
| R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20071203 Year of fee payment: 3 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20081203 Year of fee payment: 4 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20091203 Year of fee payment: 5 |
|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |