JP2002015856A - 高周波加熱装置 - Google Patents
高周波加熱装置Info
- Publication number
- JP2002015856A JP2002015856A JP2000201453A JP2000201453A JP2002015856A JP 2002015856 A JP2002015856 A JP 2002015856A JP 2000201453 A JP2000201453 A JP 2000201453A JP 2000201453 A JP2000201453 A JP 2000201453A JP 2002015856 A JP2002015856 A JP 2002015856A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- electric field
- heating
- heating chamber
- waveguide
- frequency
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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- Constitution Of High-Frequency Heating (AREA)
- Electric Ovens (AREA)
- Control Of High-Frequency Heating Circuits (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 受け皿に置かれた被加熱物の大きさや形状が
異なっても、加熱効率を向上させるとともに、加熱むら
を改善して、加熱調理ができるようにすること。 【解決手段】 高周波エネルギーを発生するマグネトロ
ン１と、高周波エネルギーを加熱室２に導く導波管４
と、加熱室２の上面中央部付近に略円柱状から成る電界
分布調節部７を備え、その電界分布調節部７の空間内
に、回転自在な電界調節板７ａを設ける。
異なっても、加熱効率を向上させるとともに、加熱むら
を改善して、加熱調理ができるようにすること。 【解決手段】 高周波エネルギーを発生するマグネトロ
ン１と、高周波エネルギーを加熱室２に導く導波管４
と、加熱室２の上面中央部付近に略円柱状から成る電界
分布調節部７を備え、その電界分布調節部７の空間内
に、回転自在な電界調節板７ａを設ける。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、被加熱物を高周波
エネルギーで加熱する際に、大形被加熱物から小形被加
熱物まで、加熱効率の向上を容易にするとともに、大き
さや形状の異なる被加熱物でも、加熱むらを改善して加
熱することのできる高周波加熱装置の構成に関するもの
である。
エネルギーで加熱する際に、大形被加熱物から小形被加
熱物まで、加熱効率の向上を容易にするとともに、大き
さや形状の異なる被加熱物でも、加熱むらを改善して加
熱することのできる高周波加熱装置の構成に関するもの
である。
【０００２】
【従来の技術】従来、高周波加熱装置において、マグネ
トロンから発生する高周波エネルギーを、加熱室に導く
導波管内に突き出したマグネトロン出力アンテナと、導
波管先端との間に高周波放射口を設け、その大きさや個
数等を変えて、放射パターンを調節する手段として、特
公昭６４−８９１６号公報、特開平０８−１２４６７０
号公報のようなものがある。
トロンから発生する高周波エネルギーを、加熱室に導く
導波管内に突き出したマグネトロン出力アンテナと、導
波管先端との間に高周波放射口を設け、その大きさや個
数等を変えて、放射パターンを調節する手段として、特
公昭６４−８９１６号公報、特開平０８−１２４６７０
号公報のようなものがある。
【０００３】特公昭６４−８９１６号公報は、高周波発
振器（マグネトロン）と加熱室とを連結する導波管内に
突出した高周波発振器の出力アンテナと、導波管先端と
の間に２個のスロットを設け、これらスロット及びスロ
ット間の仕切部の合計寸法を使用波長（自由空間波長）
の１／２〜５／４に調整するというものである。
振器（マグネトロン）と加熱室とを連結する導波管内に
突出した高周波発振器の出力アンテナと、導波管先端と
の間に２個のスロットを設け、これらスロット及びスロ
ット間の仕切部の合計寸法を使用波長（自由空間波長）
の１／２〜５／４に調整するというものである。
【０００４】また、特開平０８−１２４６７０号公報
は，導波管と加熱室の結合部に２個のスロットを設け、
このスロットを両者共に導波管先端から管内波長の１／
４の位置を通り、かつ導波管軸に対してほぼ平行になる
ように形成したものである。
は，導波管と加熱室の結合部に２個のスロットを設け、
このスロットを両者共に導波管先端から管内波長の１／
４の位置を通り、かつ導波管軸に対してほぼ平行になる
ように形成したものである。
【０００５】これら２つの公報はいずれも、導波管内の
基本伝送モードTE10の電磁界パターンを考慮し、その磁
界に直交する表面電流が導波管と、加熱室との結合部
（連結面）に流れ、この電流を切るようにスロットを設
け、効率よく加熱室内に高周波を放射しようとするもの
であった。
基本伝送モードTE10の電磁界パターンを考慮し、その磁
界に直交する表面電流が導波管と、加熱室との結合部
（連結面）に流れ、この電流を切るようにスロットを設
け、効率よく加熱室内に高周波を放射しようとするもの
であった。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】上記従来の技術にあっ
ては、特公昭６４−８９１６号公報のように、２個のス
ロットは導波管軸に対して垂直で、互いに管内波長の１
／２の距離に設けるか、あるいは、特開平０８−１２４
６７０号公報のように導波管軸に対してほぼ平行で、か
つ、導波管側面に沿った位置に、互いに対向して設ける
必要があるため、スロット配置上の制約が多く、加熱室
内の定在波分布を根本的に変えて、加熱効率を向上させ
たり、加熱むらを改善することは困難であるという問題
点があった。
ては、特公昭６４−８９１６号公報のように、２個のス
ロットは導波管軸に対して垂直で、互いに管内波長の１
／２の距離に設けるか、あるいは、特開平０８−１２４
６７０号公報のように導波管軸に対してほぼ平行で、か
つ、導波管側面に沿った位置に、互いに対向して設ける
必要があるため、スロット配置上の制約が多く、加熱室
内の定在波分布を根本的に変えて、加熱効率を向上させ
たり、加熱むらを改善することは困難であるという問題
点があった。
【０００７】
【課題を解決するための手段】上記の問題点を解決する
手段として、本発明は、マグネトロンから発生する高周
波エネルギーを加熱室に導く導波管と、加熱室の上面中
央部付近に略円柱状から成る電界分布調節部を備え、そ
の電界分布調節部の空間内に、回転自在な電界調節板を
設けることにより、被加熱物の大きさや形状が変わって
も、電界分布調節部の電界強度分布を変化させて、高周
波エネルギーの放射パターンを制御して、被加熱物の加
熱効率を向上させるとともに、加熱むらも改善すること
ができるようにしたものである。
手段として、本発明は、マグネトロンから発生する高周
波エネルギーを加熱室に導く導波管と、加熱室の上面中
央部付近に略円柱状から成る電界分布調節部を備え、そ
の電界分布調節部の空間内に、回転自在な電界調節板を
設けることにより、被加熱物の大きさや形状が変わって
も、電界分布調節部の電界強度分布を変化させて、高周
波エネルギーの放射パターンを制御して、被加熱物の加
熱効率を向上させるとともに、加熱むらも改善すること
ができるようにしたものである。
【０００８】
【発明の実施の形態】本発明は、被加熱物を加熱する加
熱室と、高周波エネルギーを発生するマグネトロンと、
マグネトロンから発生する高周波エネルギーを加熱室に
導く導波管を備え、加熱室の上面中央部付近に略円柱状
から成る電界分布調節部と、その空間内に回転自在な電
界調節板を設けたものである。
熱室と、高周波エネルギーを発生するマグネトロンと、
マグネトロンから発生する高周波エネルギーを加熱室に
導く導波管を備え、加熱室の上面中央部付近に略円柱状
から成る電界分布調節部と、その空間内に回転自在な電
界調節板を設けたものである。
【０００９】
【実施例】本発明の一実施例を図１〜５により説明す
る。
る。
【００１０】図１は本発明の一実施例を示す高周波加熱
装置の側面断面図で、図２は図１の矢印Ｑ方向から見た
高周波加熱装置の上部を示す図で、１は高周波エネルギ
ーを発生するマグネトロンである。２は被加熱物であ
る。３は被加熱物を加熱する加熱室である。４は加熱室
３の後方外側に取り付けられた導波管で、前記マグネト
ロン１はこの導波管４に取り付けられている。１ａは導
波管４内に突出した同軸結合しているマグネトロン出力
アンテナである。５はマグネトロン出力アンテナ１ａか
ら発生した高周波エネルギーを加熱室３に放射する高周
波放射口である。６は加熱室３の上面に設けたられた凸
面である。７は加熱室３の上面の凸面６の中央部付近に
おいて、外部に突き出すように設けられた、略円柱状か
ら成る電界分布調節部である。７ａは電界分布調節部７
の空間内に設けられていて、回転することにより、電界
強度分布を変化させる平板状の電界調節板である。８は
凸面６の外側上面の電界分布調節部７の近傍に設置され
ている調節板モータである。９は調節板モータ８の回転
を電界調節板７ａに伝える調節板回転軸である。１０は
被加熱物２を置く受け皿である。１１は受け皿１０を回
転させるターンテーブルである。１２はターンテーブル
１１を回転させるターンテーブルモータである。１３は
オーブン料理やグリル料理をするためのヒータである。
１４は電界強度分布の状態を観察する基準となる観察面
である。
装置の側面断面図で、図２は図１の矢印Ｑ方向から見た
高周波加熱装置の上部を示す図で、１は高周波エネルギ
ーを発生するマグネトロンである。２は被加熱物であ
る。３は被加熱物を加熱する加熱室である。４は加熱室
３の後方外側に取り付けられた導波管で、前記マグネト
ロン１はこの導波管４に取り付けられている。１ａは導
波管４内に突出した同軸結合しているマグネトロン出力
アンテナである。５はマグネトロン出力アンテナ１ａか
ら発生した高周波エネルギーを加熱室３に放射する高周
波放射口である。６は加熱室３の上面に設けたられた凸
面である。７は加熱室３の上面の凸面６の中央部付近に
おいて、外部に突き出すように設けられた、略円柱状か
ら成る電界分布調節部である。７ａは電界分布調節部７
の空間内に設けられていて、回転することにより、電界
強度分布を変化させる平板状の電界調節板である。８は
凸面６の外側上面の電界分布調節部７の近傍に設置され
ている調節板モータである。９は調節板モータ８の回転
を電界調節板７ａに伝える調節板回転軸である。１０は
被加熱物２を置く受け皿である。１１は受け皿１０を回
転させるターンテーブルである。１２はターンテーブル
１１を回転させるターンテーブルモータである。１３は
オーブン料理やグリル料理をするためのヒータである。
１４は電界強度分布の状態を観察する基準となる観察面
である。
【００１１】なお、本文の事例において電界分布調節部
７の形状は円柱状で説明したが、形状として、円錐台、
楕円柱などのような形状でもよく、これらを総称して略
円柱状という。
７の形状は円柱状で説明したが、形状として、円錐台、
楕円柱などのような形状でもよく、これらを総称して略
円柱状という。
【００１２】次に本実施例の作用について説明する。
【００１３】図１および図２は、電界調節板７ａが、図
に示すように受け皿１０に対して、垂直の状態の時、凸
面６の高さＡ、電界分布調節部７の円柱部の高さＢ、半
径Ｒとした場合、各部の寸法をあらかじめ最良の状態に
設定して、被加熱物２が一番多く置かれる受け皿１０上
の中央部空間の電界強度を大きくして、被加熱物２の加
熱効率の向上をはかるようにしている。
に示すように受け皿１０に対して、垂直の状態の時、凸
面６の高さＡ、電界分布調節部７の円柱部の高さＢ、半
径Ｒとした場合、各部の寸法をあらかじめ最良の状態に
設定して、被加熱物２が一番多く置かれる受け皿１０上
の中央部空間の電界強度を大きくして、被加熱物２の加
熱効率の向上をはかるようにしている。
【００１４】図４は図１および図２において、Ａ＝５ｍ
ｍ、Ｂ＝１５ｍｍ、Ｒ＝３５ｍｍにして、被加熱物２を
受け皿１０の直径２００ｍｍ以内に置き、受け皿１０を
回転させたとき、受皿１０の上面からの高さＣ＝１５ｍ
ｍにおける観察面１４内の電界強度分布を示したもので
ある。
ｍ、Ｂ＝１５ｍｍ、Ｒ＝３５ｍｍにして、被加熱物２を
受け皿１０の直径２００ｍｍ以内に置き、受け皿１０を
回転させたとき、受皿１０の上面からの高さＣ＝１５ｍ
ｍにおける観察面１４内の電界強度分布を示したもので
ある。
【００１５】この図４により、同心円状になっている電
界強度分布で、中央の電界強度が高くなっているが、高
くなるほど、小形被加熱物の加熱効率が、向上している
ことを示している。
界強度分布で、中央の電界強度が高くなっているが、高
くなるほど、小形被加熱物の加熱効率が、向上している
ことを示している。
【００１６】なお、前記図において、電界強度分布が同
心円状となっているのは、受け皿１０が回転しているこ
とを示している。
心円状となっているのは、受け皿１０が回転しているこ
とを示している。
【００１７】次に図３は、電界調節板７ａが受け皿１０
に対し、水平になった状態を示している。この状態にお
いてＡ＝５ｍｍ、Ｂ＝１５ｍｍ、Ｒ＝３５ｍｍにして、
被加熱物２を受け皿１０の直径２００ｍｍ以内に置き、
受け皿１０を回転させたとき、受皿１０の上面からの高
さＣ＝１５ｍｍにおける観察面１４内の電界強度分布を
示したものが図５である。
に対し、水平になった状態を示している。この状態にお
いてＡ＝５ｍｍ、Ｂ＝１５ｍｍ、Ｒ＝３５ｍｍにして、
被加熱物２を受け皿１０の直径２００ｍｍ以内に置き、
受け皿１０を回転させたとき、受皿１０の上面からの高
さＣ＝１５ｍｍにおける観察面１４内の電界強度分布を
示したものが図５である。
【００１８】図５においては、電界強度分布が同心円状
に、ほぼ均一になっている。このことは、平面状の被加
熱物の加熱むらが少ない加熱調理ができることを表して
いる。
に、ほぼ均一になっている。このことは、平面状の被加
熱物の加熱むらが少ない加熱調理ができることを表して
いる。
【００１９】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
被加熱物を加熱する加熱室と、高周波エネルギーを発生
するマグネトロンと、マグネトロンから発生する高周波
エネルギーを加熱室に導く導波管と、加熱室の上面中央
部付近に略円柱状から成る電界分布調節部を備え、その
電界分布調節部の空間内に、回転自在な電界調節板を備
えることにより、被加熱物の大きさや形状が変わって
も、電界分布調節部の空間内の電界調節板の回転で、電
界強度分布を変化させることにより、高周波エネルギー
の放射パターンを制御して、加熱効率を向上させるとと
もに、加熱むらも改善することができるようにしたもの
である。
被加熱物を加熱する加熱室と、高周波エネルギーを発生
するマグネトロンと、マグネトロンから発生する高周波
エネルギーを加熱室に導く導波管と、加熱室の上面中央
部付近に略円柱状から成る電界分布調節部を備え、その
電界分布調節部の空間内に、回転自在な電界調節板を備
えることにより、被加熱物の大きさや形状が変わって
も、電界分布調節部の空間内の電界調節板の回転で、電
界強度分布を変化させることにより、高周波エネルギー
の放射パターンを制御して、加熱効率を向上させるとと
もに、加熱むらも改善することができるようにしたもの
である。
【００２０】また、電界調節板を電界分布調節部の空間
内に設けることにより、加熱室のスペースを狭めること
なく、有効に利用できるとともに、オーブン料理、グリ
ル料理のとき、ヒータの熱が電界調節板に、さえぎられ
なく有効に被加熱物を加熱できる。
内に設けることにより、加熱室のスペースを狭めること
なく、有効に利用できるとともに、オーブン料理、グリ
ル料理のとき、ヒータの熱が電界調節板に、さえぎられ
なく有効に被加熱物を加熱できる。
【図１】本発明の一実施例における高周波加熱装置の側
面断面図である。
面断面図である。
【図２】図１の矢印Ｑ方向から見た高周波加熱装置の上
部を示す図で、電界調節板が受け皿に対し、垂直になっ
ている図である。
部を示す図で、電界調節板が受け皿に対し、垂直になっ
ている図である。
【図３】図１の矢印Ｑ方向から見た高周波加熱装置の上
部を示す図で、電界調節板が受け皿に対し、水平になっ
た図である。
部を示す図で、電界調節板が受け皿に対し、水平になっ
た図である。
【図４】図２において、電界調節板が受け皿に対し垂直
状態になった時の、観察面１４内の電界分布図である。
状態になった時の、観察面１４内の電界分布図である。
【図５】図３において、電界調節板が受け皿に対し水平
状態になった時の、観察面１４内の電界分布図である。
状態になった時の、観察面１４内の電界分布図である。
１ マグネトロン １ａ マグネトロン出力アンテナ ２ 被加熱物 ３ 加熱室 ４ 導波管 ５ 高周波放射口 ６ 凸面 ７ 電界分布調節部 ８ 調節板モータ ９ 調節板回転軸 １０ 受け皿 １１ ターンテーブル １２ ターンテーブルモータ １３ ヒータ １４ 観察面
フロントページの続き Ｆターム(参考） 3K086 AA01 AA08 BA08 CB12 CB15 CC01 CC06 CD02 FA08 3K090 AA01 AA02 AB02 BA01 BB01 BB15 CA01 DA18 DA19 EB03 EB10 EB29 3L086 AA04 BB01 BB05 BF07 DA06 DA12
Claims (1)
- 【請求項１】 被加熱物（２）を加熱する加熱室（３）
と、高周波エネルギーを発生するマグネトロン（１）
と、マグネトロン（１）の高周波エネルギーを加熱室
（３）に導く導波管（４）を備えた高周波加熱装置にお
いて、加熱室（３）の上面中央部付近に略円柱状から成
る電界分布調節部（７）を設け、この電界分布調節部
（７）の空間内に、調節板モータ（８）の調節板回転軸
（９）を介して回転する電界調節板（７a）を設けたこ
とを特徴とする高周波加熱装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000201453A JP2002015856A (ja) | 2000-06-29 | 2000-06-29 | 高周波加熱装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000201453A JP2002015856A (ja) | 2000-06-29 | 2000-06-29 | 高周波加熱装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2002015856A true JP2002015856A (ja) | 2002-01-18 |
Family
ID=18699143
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2000201453A Pending JP2002015856A (ja) | 2000-06-29 | 2000-06-29 | 高周波加熱装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2002015856A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR20130120840A (ko) * | 2012-04-26 | 2013-11-05 | 엘지전자 주식회사 | 마이크로파를 이용한 조리기기 |
-
2000
- 2000-06-29 JP JP2000201453A patent/JP2002015856A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR20130120840A (ko) * | 2012-04-26 | 2013-11-05 | 엘지전자 주식회사 | 마이크로파를 이용한 조리기기 |
| KR101885654B1 (ko) * | 2012-04-26 | 2018-08-06 | 엘지전자 주식회사 | 마이크로파를 이용한 조리기기 |
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