JP2990409B2 - 処理装置 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】この発明は被処理体の表面に処理
液を供給して被処理体の表面を処理する処理装置に関す
るものである。

【０００２】

【従来の技術】一般に、半導体デバイスの製造工程にお
いて、例えば半導体ウエハ（以下にウエハという）等の
被処理体の表面をエッチングしてパターンを形成する際
には、マスキング層としてウエハ表面に処理液であるレ
ジスト液を塗布してレジスト膜を形成している。

【０００３】ウエハ表面に対するレジスト液の塗布は、
回転保持手段であるスピンチャックにて保持されて水平
回転するウエハの中心部にレジスト液を滴下させ、これ
を周縁部に向って拡散することによって行われる。

【０００４】従来、ウエハ等の被処理体を回転してレジ
スト液を塗布する処理装置として、ウエハを水平に保持
して高速回転するスピンチャック（回転保持手段）と、
ウエハ上に処理液例えばレジスト液を滴下するレジスト
供給ノズルと、スピンチャック及びウエハを包囲するよ
うに設けられ容器とを具備するものが知られている。こ
の処理装置において、レジスト供給ノズルからウエハ上
に滴下されたレジスト液は、スピンチャックの回転によ
りウエハ上に均一に塗布され、余分なレジスト液はウエ
ハの周辺方向に飛散されて容器の内壁面に付着される。
この容器に付着したレジスト液層を放置しておくと、次
第にレジストが積層し乾燥すると、衝撃などによって容
器から剥離してウエハを汚染してしまう。このため、容
器を定期的に取り外して洗浄除去するか、あるいは容器
自体に自動洗浄機構を具備させたものなどが使用されて
いる。

【０００５】しかし、容器を定期的に取り外して洗浄す
る方法では作業に多くの手間と時間かかるという問題が
あった。また、容器自体に自動洗浄機構を具備させるも
のにおいては、容器に洗浄液の連通路を設けると共に、
洗浄液の吐出孔を設ける必要があるため、構造が複雑と
なると共に、容器の加工や取付が難しいという問題があ
った。

【０００６】そこで、出願人は、上記問題を解決するた
めに、スピンチャックにて保持される載置部材に、洗浄
液の貯留部と、スピンチャックの回転により貯留部の洗
浄液を容器に向って吐出する吐出孔を設けて洗浄治具を
形成し、この洗浄治具をスピンチャックにて保持して回
転させることにより、容器の内壁面に付着したレジスト
液を洗浄除去する処理装置を出願した（特開平５−８２
４３５号公報参照）。この処理装置によれば、スピンチ
ャックを回転することにより、スピンチャックにて保持
された洗浄治具に供給された洗浄液は、スピンチャック
の回転に伴う遠心力により、洗浄治具の周縁部側の貯留
部に集められ、吐出孔から吐出飛散して容器の内壁面に
付着するレジスト液を洗浄除去することができる。

【０００７】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記従
来の処理装置は、スピンチャックの同一の載置面に例え
ば真空吸着等によってウエハと洗浄治具を同様に吸着保
持するため、洗浄治具の下面に付着したパーティクル等
がスピンチャックの載置面に付着して残り、その後にス
ピンチックにて保持されるウエハの裏面に付着される虞
れがある。ウエハの裏面にパーティクル等が付着する
と、レジスト塗布処理の後の露光処理において、ウエハ
の水平精度が低下し、いわゆるフォーカスエラーが生
じ、歩留まりの低下をきたすという問題があった。

【０００８】この問題は洗浄治具以外の例えばスピンチ
ャックの水平度を測定するための水平調整治具や処理装
置を搬入する前のスピンチャックの保持部の保護カバー
部材等の載置部材をスピンチャックの保持部に載置させ
るような場合についても生じる。

【０００９】この発明は上記事情に鑑みなされたもの
で、回転保持手段にて保持される被処理体以外の載置部
材による被処理体の保持面へのパーティクル等の付着に
よる汚染を防止し、歩留まりの向上を図れるようにした
処理装置を提供することを目的とするものである。

【００１０】

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、請求項１記載の処理装置は、被処理体を保持して回
転する回転保持手段に、上記被処理体を載置する凸状載
置面を有する凹凸状の保持部を設けると共に、被処理体
を吸着するための吸引手段を設け、上記回転保持手段に
保持される載置部材の下面に、上記保持部の凸状載置面
と非接触な状態で保持部の凹部に係合する凹凸脚部を設
けると共に、この凹凸脚部に少なくとも上記吸引孔を囲
繞する環状凸部を設けたことを特徴とするものである。

【００１１】請求項２記載の処理装置は、被処理体を保
持して回転する回転保持手段に、上記被処理体を載置す
る凸状載置面を有する凹凸状の保持部を設け、上記回転
保持手段に保持される載置部材の下面に、上記保持部の
載置面と非接触な状態で保持部の凹部に係合する凹凸脚
部を設け、上記回転保持手段を取り囲む容器に、平面部
を設け、上記回転保持手段に保持される上記載置部材
と、上記容器の平面部に当接される測定治具によって回
転保持手段の凸状載置面と容器の平面部との平行度を測
定可能にしたことを特徴とするものである。

【００１２】請求項３記載の処理装置は、被処理体を保
持して回転する回転保持手段に、上記被処理体を載置す
る凸状載置面を有する凹凸状の保持部を設けると共に、
被処理体を吸着するための吸引手段に接続する吸引孔を
設け、上記回転保持手段に保持される載置部材の下面
に、上記保持部の載置面と非接触な状態で保持部の凹部
に係合する凹凸脚部を設けると共に、この凹凸脚部に上
記吸引孔内に嵌合する固定脚片を設けたことを特徴とす
るものである。

【００１３】請求項４記載の処理装置は、被処理体を保
持して回転する回転保持手段と、この回転保持手段に対
して上記被処理体の受け渡しを司る搬送手段とを具備す
る処理装置において、上記回転保持手段に、上記被処理
体を載置する凸状載置面を有する凹凸状の保持部を設
け、上記回転保持手段に保持される載置部材の下面に、
上記保持部の載置面と非接触な状態で保持部の凹部に係
合する凹凸脚部を設け、上記搬送手段に、上記載置部材
の少なくとも凹凸脚部の凸下面に非接触な状態で載置部
材を保持する保持部を設けたことを特徴とするものであ
る。

【００１４】この発明において、上記回転保持手段の保
持部は被処理体を載置する凸状載置面を有する凹凸状に
形成されるものであれば、その凹凸形状は任意のもので
よいが、好ましくは回転保持手段の保持部の載置面を有
する凸部の断面を台形状に形成する方がよい（請求項
５）。また、回転保持手段の保持部の載置面を有する凸
部の断面を台形状に形成し、載置部材の凹凸脚部に、上
記凸部の傾斜側壁に係合する凸脚部を設ける方が好まし
い（請求項６）。更には、回転保持手段の保持部の載置
面を有する凸部の断面を台形状に形成し、載置部材の凹
凸脚部に、上記凸部の傾斜側壁に係合する凸脚部を設け
ると共に、上記保持部の載置面から離隔する切欠を設け
る方が好ましい（請求項７）。

【００１５】

【作用】この発明の処理装置によれば、回転保持手段
に、被処理体を載置する凸状載置面を有する凹凸状の保
持部を設け、回転保持手段に保持される載置部材の下面
に、保持部の載置面と非接触な状態で保持部の凹部に係
合する凹凸脚部を設けることにより、被処理体と載置部
材とで、回転保持手段との接触面が異なるため、載置部
材の下面に付着するパーティクル等が回転保持手段の被
処理体保持部の載置面に付着するのを防止することがで
き、被処理体の裏面へのパーティクル等の付着を防止し
て歩留まりの向上を図ることができる。

【００１６】

【実施例】以下にこの発明の実施例を図面に基いて詳細
に説明する。ここでは、この発明の処理装置を半導体ウ
エハの塗布・現像処理システムに組み込まれて使用され
る現像装置に適用した場合について説明する。

【００１７】半導体ウエハ（以下にウエハという）の処
理システムは、図１に示すように、被処理体としてのウ
エハＷを搬入・搬出するローダ部１、ウエハＷをブラシ
洗浄するブラシ洗浄装置２、ウエハＷを高圧ジェット水
で洗浄するジェット水洗浄装置３、ウエハＷの表面を疎
水化処理するアドヒージョン処理装置４、ウエハＷを所
定温度に冷却する冷却処理装置５、ウエハＷの表面にレ
ジストを塗布するこの発明に係るレジスト塗布装置６、
レジスト塗布の前後でウエハＷを加熱してプリベーク並
びにポストベークを行う加熱処理装置７、レジスト塗布
されたウエハＷ上の各チップに回路パターンを投影する
露光装置９、露光されたウエハＷを現像処理しかつ現像
後のレジストパターンをリンス処理する機能を備えた現
像処理装置８などを集合化して作業効率の向上を図って
いる。

【００１８】上記のように構成される処理システムの中
央部には、長手方向に沿ってウエハ搬送路１０が設けら
れ、このウエハ搬送路１０に各装置２〜８が正面を向け
て配置され、各装置２〜８との間でウエハＷの受け渡し
を行うウエハ搬送アーム１１を備えたウエハ搬送機構１
２がウエハ搬送路１０に沿って移動自在に設けられてい
る。そして、例えば、ローダ部１の図示省略のウエハカ
セット内に収納されている処理前のウエハＷを１枚取り
出して搬送し、順に、洗浄、アドヒージョン処理、冷却
し、レジスト塗布装置６によってレジストを塗布すると
共に、ウエハＷの周辺部のレジスト膜を除去した後、プ
リベーク、露光装置９による露光後に、現像処理、ポス
トベークを行い、処理後のウエハＷをローダ部１の図示
省略のウエハカセット内に搬送して収納するように構成
されている。

【００１９】この発明に係るレジスト塗布装置６（処理
装置）は、図２に示すように、ウエハＷ（図２に想像線
で示す）あるいはウエハＷ以外の載置部材としての洗浄
用治具２０を吸着保持して回転する回転保持手段である
スピンチャック３０と、このスピンチャック３０を取り
囲むように配設される容器４０とを具備してなる。

【００２０】上記スピンチャック３０は、回転軸３１を
介してスピンモータ３２が連結されると共に、昇降シリ
ンダ３３が連結されており、スピンモータ３２を制御す
ることによりスピンチャック３０を所望の回転数でで回
転制御され、昇降シリンダ３３の駆動により上下方向に
移動可能に構成されている。なお、スピンチャック３０
は、図示しない高さ調整機構を介して回転軸３１に対し
て水平調整可能に連結されている。

【００２１】また、スピンチャック３０には、ウエハＷ
を載置するための、凸状部の上端に形成された凸状載置
面３４ａを有する凹凸状の保持部３４が設けられてお
り、この保持部３４の中心部には、図示しない真空ポン
プに接続する吸引孔３５が設けられている。この場合、
保持部３４は、図３に示すように、吸引孔３５と同心状
の３条の凹凸部にて構成されており、外側の凸部３６ａ
は環状に形成され、その内側の２条の凸部３６ｂ，３６
ｃには直径方向にそれぞれ吸引のためのスリット３６ｄ
が設けられている。

【００２２】上記スピンチャック３０にて保持される洗
浄用治具２０は、スピンチャック３０上に載置される凹
凸脚部２１を有する基部２２と、この基部２２から外周
方向に向って延出され、その外周下部に略コ字状に設け
られる洗浄液Ｌの貯留部２３とで構成され、スピンチャ
ック３０の下部近傍位置に配置された洗浄液供給ノズル
５０から吐出されて貯留部２３に受け止められた例えば
シンナー等の洗浄液Ｌを、遠心力を利用して外周及び下
部に設けられた吐出孔２４ａ，２４ｂから容器４０の内
面に吐出させて容器４０の洗浄を行えるように構成され
ている。なお、洗浄用治具２０は必ずしもこのような構
造である必要はなく、例えば中空構造の円板状体内に貯
留部を設けた構造のものであってもよい。

【００２３】この場合、上記凹凸脚部２１は、図２及び
図３に示すように、スピンチャック３０の保持部３４の
ウエハＷ用の載置面３４ａに非接触な状態で保持部３４
の凹部３７の底面に気密に係合し得るように構成され、
また吸引孔３５と同心状の２条の凹凸条に形成されてお
り、少なくともその１つ例えば外側の凸脚部２５ａが吸
引孔３５を囲繞する環状凸部にて形成されている。な
お、内側の凸脚部２５ｂには吸引用のスリット２５ｄが
設けられている。したがって、洗浄用治具２０をスピン
チャック３０の保持部３４上に載置した状態で図示しな
い真空ポンプを駆動して吸引孔３５から吸引することに
より、外側の凸脚部２５ａの内方が真空雰囲気（負圧）
となって洗浄用治具２０を吸着保持することができる。

【００２４】上記のように、洗浄用治具２０にスピンチ
ャック３０の保持部３４の載置面３４ａに非接触な状態
で保持部３４の凹部３７に係合し得る凹凸脚部２１を設
けることにより、洗浄用治具２０をスピンチャック３０
の載置面３４ａに接触させることなく吸着保持すること
ができる。したがって、洗浄用治具２０の下面に付着す
るパーティクル等がスピンチャック３０のウエハＷ用の
載置面３４ａに付着し、ウエハＷを保持した際にパーテ
ィクル等がウエハＷに付着して汚染されるのを防止する
ことができる。

【００２５】上記説明では、洗浄用治具２０の凹凸脚部
２１をスピンチャック３０の保持部３４の凹部３７の底
面に係合させて洗浄用治具２０を保持する場合について
説明したが、このような載置形態においては凹凸脚部２
１の下面に付着したパーティクル等が保持部３４の凹部
３７に付着し、凹部３７に付着したパーティクル等が何
らかの要因で舞い上がって載置面３４ａに飛来して付着
する虞れがある。そのため、図４に示すように、保持部
３４の載置面３４ａを有する凸部３６ａ〜３６ｃの断面
を台形状に形成し、凹凸脚部２１の凸脚部２５ａ，２５
ｂの幅を狭くして凹部３７との接触面積を可及的に少な
くする方が好ましい。また、図５に示すように、スピン
チャック３０の保持部３４の載置面３４ａを有する凸部
３６ａ〜３６ｃの断面を台形状に形成し、洗浄用治具２
０の凹凸脚部２１に、保持部３４の凸部３６ａ〜３６ｃ
の傾斜側壁３８に係合する凸脚部２５ａ，２５ｂを設け
ることにより、凹凸脚部２１の下面と保持部３４の凹部
３７の底面とを非接触とすることができるので、更にパ
ーティクル等の付着を防止することができる点で望まし
い。また、係合により洗浄用治具２０の位置決めが確実
となり、更に、回転による位置ずれを無くすことも可能
となる。更には、図６に示すように洗浄用治具２０の凹
凸脚部２１の凸脚部２５ａ，２５ｂに、保持部３４の載
置面３４ａから離隔する切欠２６を設けることにより、
凹凸脚部２１に付着するパーティクル等が載置面３４ａ
へ付着するのを更に確実に防止することができる。

【００２６】一方、上記容器４０は、ウエハＷ又は洗浄
用治具２０より若干大きい口径の開口部４１を有する有
底筒状の外カップ４２と、この外カップ４２の底板４３
上に起立する筒状の内カップ４４とで構成されている。
この場合、底板４３はスピンチャック３０の半径方向外
方に向けて下降傾斜して形成されている。この底板４３
の最下位にはレジスト液等を排出するための排液口４５
が設けられており、この排液口４５に図示しない排液ポ
ンプ等を介設する排液管４６が接続されている。また、
底板４３には内側への排液の侵入を防止するための隔壁
４７が環状に立設されており、この隔壁４７の内側の底
板４３にはカップ内の排気を行うための排気口４８が設
けられ、この排気口４８に図示しない排気ポンプを介設
する排気管４９が接続されている。また、内カップ４４
は、底板４３から起立する環状壁４４ａの上端部から外
方に向って延びる外向きフランジ４４ｂを有しており、
外向きフランジ４４ｂに、ウエハＷ又は洗浄用治具２０
の下面に近接する水平片４４ｃと、水平片４４ｃの先端
から下方に向って下り勾配の傾斜片４４ｄを具備してな
る。

【００２７】次に、上記のように構成されるレジスト塗
布装置によるレジスト塗布処理及び容器４０の洗浄処理
について説明する。

【００２８】まず、ウエハ搬送アーム１１によって搬入
されたウエハＷをスピンチャック３０上に載置し、真空
ポンプ（図示せず）を駆動して吸引孔３５から吸引して
ウエハＷを吸着保持した後、ウエハＷ上面にレジスト供
給ノズル（図示せず）からレジスト液を滴下し、次にス
ピンモータ３２を駆動してスピンチャック３０及びウエ
ハＷを回転して、ウエハＷ表面にレジスト膜を形成す
る。このレジスト塗布処理を何回も繰り返すと、飛散し
たレジストが外カップ４２及び内カップ４４に積層して
付着する。

【００２９】そこで、スピンチャック３０上に洗浄用治
具２０を手動により、又は、ウエハ搬送アーム１１によ
り自動的に搬送して載置し、真空ポンプ（図示せず）を
駆動して吸引孔３５から吸引して洗浄用治具２０を吸着
保持する。この際、洗浄用治具２０の凹凸脚部２１はス
ピンチャック３０の保持部３４のウエハＷ用の載置面３
４ａに接触することなく吸着保持されるので、洗浄用治
具２０の下面に付着するパーティクル等がスピンチャッ
ク３０の保持部３４の載置面３４ａに付着する虞れがな
い。したがって、スピンチャック３０でウエハＷを保持
してもウエハＷ裏面にこのパーティクルが付着すること
はない。

【００３０】このようにスピンチャック３０上に洗浄用
治具２０を吸着保持した状態でスピンモータ３２を駆動
して洗浄用治具２０を回転すると共に、洗浄液供給ノズ
ル（図示せず）から洗浄液を吐出して洗浄用治具２０の
貯留部２３内に洗浄液Ｌを導入し、遠心力により吐出孔
２４ａ，２４ｂから容器４０すなわち外カップ４２の内
面及び内カップ４４の上面に洗浄液Ｌを供給して外カッ
プ４２及び内カップ４４の洗浄を行う。

【００３１】上記実施例では、載置部材が洗浄用治具で
ある場合にいて説明したが、載置部材としては洗浄用治
具２０の他に、ウエハＷ以外のスピンチャック３０上に
保持される部材例えばウエハＷの水平度を調整する水平
調整用治具あるいはレジスト塗布装置６を搬入する場合
や設置する場合にスピンチャック３０の保持部３４を塵
埃等から保護するためにスピンチャック３０の保持部３
４に載置される保護カバー部材等にも適用できる。

【００３２】例えば、載置部材が水平調整用治具６０の
場合には、図７に示すように、平板状に形成された水平
調整用治具６０の下面に、上記実施例と同様な凹凸脚部
２１を形成し、上記容器４０の内カップ４４の水平片４
４ｃの上面に、スピンチャック３０の保持部３４の載置
面３４ａと平行な平面を有するように形成された平面部
４４ｅを設ける。そして、スピンチャック３０の保持部
３４に保持される水平調整用治具６０と、容器４０の平
面部４４ｅに当接される測定治具７０（物差）によって
スピンチャック３０の載置面３４ａと平面部４４ｅとの
平行度、平面部４４ｅが水平になるように配置されてお
れば水平度を測定することができる。この場合、水平調
整用治具６０の対向する側の２箇所において、上述のよ
うに容器４０の平面部４４ｅに測定治具７０を当接して
平面部４４ｅから水平調整用治具６０の上面までの距離
を測定し、対向する２箇所の測定距離の差に応じてスピ
ンチャック３０の傾きを調整するか、あるいは容器４０
の傾きを調整して、ウエハＷの水平度を調整することが
できる。

【００３３】なお、図７に示す実施例において、その他
の部分は上記図２に示した実施例と同じであるので、同
一部分には同一符号を付して、その説明は省略する。

【００３４】また、載置部材が保護カバー部材８０であ
る場合には、保護カバー部材８０の下面に上記実施例と
同様な凹凸脚部２１を設けると共に、この凹凸脚部２１
に上記スピンチャック３０に設けられた吸引孔３５内に
嵌合する固定脚片８１を設けることにより、真空ポンプ
による吸引を行わずに保護カバー部材８０をスピンチャ
ック３０の保持部に手動又はウエハ搬送アーム１１によ
り自動的に搬送し載置固定することができる。したがっ
て、レジスト塗布装置を搬入する場合や新規場所への設
置時に塵埃等がスピンチャック３０の保持部３４に付着
するのを防止することができる。なお、保護カバー部材
８０の外周縁に環状垂下片８２を設けることにより、ス
ピンチャック３０の保持部３４への塵埃等の侵入を更に
確実に防止することができる。

【００３５】上記載置部材としての洗浄用治具２０と水
平調整用治具６０は、ロットの初めやレジスト塗布処理
が所定回数実行された後などにウエハ搬送アーム１１に
よってスピンチャック３０の保持部３４に載置されて使
用される。このときには、アライメントステージ７冷却
処理装置５などの上方に設けた待機ステーション（図示
せず）に待機させておいた洗浄用治具２０あるいは水平
調整用治具６０を搬送手段であるウエハ搬送アーム１１
で保持してスピンチャック３０上に載置する。

【００３６】この場合、ウエハ搬送アーム１１を、図９
及び図１０に示すように、ウエハＷ、洗浄用治具２０及
び水平調整用治具６０の外径寸法より若干大きな寸法の
内径を有する馬蹄形状のアーム本体１１ａと、このアー
ム本体１１ａの内周面に適宜間隔をおいた複数箇所（こ
こでは３箇所の場合を示す）に設けられ、洗浄用治具２
０あるいは水平調整用治具６０の少なくとも凹凸脚部２
１の凸下面に非接触な状態でこれら洗浄用治具２０ある
いは水平調整用治具６０を保持する保持爪１１ｂ（保持
部）とで構成する。

【００３７】このようにウエハ搬送アーム１１に、洗浄
用治具２０あるいは水平調整用治具６０の少なくとも凹
凸脚部２１の凸下面に非接触な状態で洗浄用治具２０等
を保持する保持爪１１ｂを設けることにより、ウエハ搬
送アーム１１によって洗浄用治具２０等を搬送する際、
スピンチャック３０の保持部３４に載置される凹凸脚部
２１とウエハ搬送アーム１１とが接触することがなく、
ウエハ搬送アーム１１の接触により生ずるごみ等が凹凸
脚部２１に付着し、その後スピンチャック３０の保持部
３４すなわち載置面３４ａに付着するのを防止すること
ができる。

【００３８】なお、上記実施例では、この発明の処理装
置が半導体ウエハのレジスト塗布・現像処理システムに
適用されるレジスト塗布装置の場合について説明した
が、必ずしもレジスト塗布装置である必要はなく、被処
理体を回転して保持する回転保持手段上に被処理体以外
の載置部材を保持するものであれば、例えば現像処理あ
るいは適宜処理液を被処理体に塗布する装置にも適用で
きる。また、半導体ウエハ以外のＬＣＤ基板、ＣＤ等の
被処理体の処理装置にも適用できるものである。また、
被処理体を吸着するための吸引手段としては、上記説明
の真空吸引の他に、静電式吸着（静電チャック）を使用
してもよい。

【００３９】

【発明の効果】以上に説明したように、この発明によれ
ば、回転保持手段に、被処理体を載置する凸状載置面を
有する凹凸状の保持部を設け、回転保持手段に保持され
る載置部材の下面に、保持部の載置面と非接触な状態で
保持部の凹部に係合する凹凸脚部を設けるので、載置部
材の下面に付着するパーティクル等が回転保持手段の被
処理体保持部の載置面に付着するのを防止することがで
き、被処理体の裏面へのパーティクル等の付着による汚
染を防止して歩留まりの向上を図ることができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】この発明の処理装置を適用した半導体ウエハの
塗布・現像処理システムの斜視図である。

【図２】この発明の処理装置の一例を示す断面図であ
る。

【図３】この発明における回転保持手段と載置部材を示
す分解斜視図である。

【図４】この発明における回転保持手段と載置部材の係
合状態の別の実施例を示す拡大断面図である。

【図５】この発明における回転保持手段と載置部材の係
合状態の更に別の実施例を示す拡大断面図である。

【図６】この発明における回転保持手段と載置部材の係
合状態の更に別の実施例を示す拡大断面図である。

【図７】この発明の処理装置の別の実施例を示す断面図
である。

【図８】この発明の処理装置の更に別の実施例を示す要
部断面図である。

【図９】この発明における搬送手段による載置部材の保
持状態を示す斜視図である。

【図１０】図９のＡ−Ａ線に沿う断面図である。

【符号の説明】

１１ ウエハ搬送アーム（搬送手段） １１ｂ 保持爪（保持部） ２０ 洗浄用治具（載置部材） ２１ 凹凸脚部 ２５ａ，２５ｂ 凸脚部 ２６ 切欠 ３０ スピンチャック（回転保持手段） ３４ 保持部 ３４ａ 載置面 ３５ 吸引孔 ３６ａ〜３６ｃ 凸部 ３７ 凹部 ３８ 傾斜壁 ４０ 容器 ４４ｅ 平面部 ６０ 水平調整用治具（載置部材） ７０ 測定治具（物差） ８０ 保護カバー部材（載置部材） ８１ 固定脚片

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 平６−91463（ＪＰ，Ａ) 特開 平３−286549（ＪＰ，Ａ) 特開 昭62−188236（ＪＰ，Ａ) 特開 平６−216018（ＪＰ，Ａ) 特開 平７−106399（ＪＰ，Ａ) 特開 平１−319965（ＪＰ，Ａ) 特開 平３−228348（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.⁶，ＤＢ名) B23Q 3/08 G03F 7/16 H01L 21/027 H01L 21/306 H01L 21/68

Claims (7)

(57)【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 被処理体を保持して回転する回転保持手
   段に、上記被処理体を載置する凸状載置面を有する凹凸
   状の保持部を設けると共に、被処理体を吸着するための
   吸引手段を設け、 上記回転保持手段に保持される載置部材の下面に、上記
   保持部の凸状載置面と非接触な状態で保持部の凹部に係
   合する凹凸脚部を設けると共に、この凹凸脚部に少なく
   とも上記吸引孔を囲繞する環状凸部を設けたことを特徴
   とする処理装置。
2. 【請求項２】 被処理体を保持して回転する回転保持手
   段に、上記被処理体を載置する凸状載置面を有する凹凸
   状の保持部を設け、 上記回転保持手段に保持される載置部材の下面に、上記
   保持部の載置面と非接触な状態で保持部の凹部に係合す
   る凹凸脚部を設け、 上記回転保持手段を取り囲む容器に、平面部を設け、 上記回転保持手段に保持される上記載置部材と、上記容
   器の平面部に当接される測定治具によって回転保持手段
   の凸状載置面と容器の平面部との平行度を測定可能にし
   たことを特徴とする処理装置。
3. 【請求項３】 被処理体を保持して回転する回転保持手
   段に、上記被処理体を載置する凸状載置面を有する凹凸
   状の保持部を設けると共に、被処理体を吸着するための
   吸引手段に接続する吸引孔を設け、 上記回転保持手段に保持される載置部材の下面に、上記
   保持部の載置面と非接触な状態で保持部の凹部に係合す
   る凹凸脚部を設けると共に、この凹凸脚部に上記吸引孔
   内に嵌合する固定脚片を設けたことを特徴とする処理装
   置。
4. 【請求項４】 被処理体を保持して回転する回転保持手
   段と、この回転保持手段に対して上記被処理体の受け渡
   しを司る搬送手段とを具備する処理装置において、 上記回転保持手段に、上記被処理体を載置する凸状載置
   面を有する凹凸状の保持部を設け、 上記回転保持手段に保持される載置部材の下面に、上記
   保持部の載置面と非接触な状態で保持部の凹部に係合す
   る凹凸脚部を設け、 上記搬送手段に、上記載置部材の少なくとも凹凸脚部の
   凸下面に非接触な状態で載置部材を保持する保持部を設
   けたことを特徴とする処理装置。
5. 【請求項５】 回転保持手段の保持部の載置面を有する
   凸部の断面を台形状に形成したことを特徴とする請求項
   １ないし４のいずれかに記載の処理装置。
6. 【請求項６】 回転保持手段の保持部の載置面を有する
   凸部の断面を台形状に形成し、載置部材の凹凸脚部に、
   上記凸部の傾斜側壁に係合する凸脚部を設けたことを特
   徴とする請求項１ないし４のいずれかに記載の処理装
   置。
7. 【請求項７】 回転保持手段の保持部の載置面を有する
   凸部の断面を台形状に形成し、載置部材の凹凸脚部に、
   上記凸部の傾斜側壁に係合する凸脚部を設けると共に、
   上記保持部の載置面から離隔する切欠を設けたことを特
   徴とする請求項１ないし４のいずれかに記載の処理装
   置。