JP2985169B2 - 蒸気洗浄剤及び蒸気洗浄方法 - Google Patents
蒸気洗浄剤及び蒸気洗浄方法Info
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- C11D7/266—Esters or carbonates
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- Cleaning And De-Greasing Of Metallic Materials By Chemical Methods (AREA)
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】この出願の第１の発明は、炭酸ジ
メチルを主成分とする蒸気洗浄剤に係わるものであり、
また、第２の発明は、前記蒸気洗浄剤を用いて炭酸ジメ
チルの蒸気を発生させて、その蒸気と処理対象物品（洗
浄すべき物品）とを接触させて、処理対象物品の表面に
付着している有機汚染物（又は水）を蒸気洗浄により除
去する蒸気洗浄方法に係るものである。
メチルを主成分とする蒸気洗浄剤に係わるものであり、
また、第２の発明は、前記蒸気洗浄剤を用いて炭酸ジメ
チルの蒸気を発生させて、その蒸気と処理対象物品（洗
浄すべき物品）とを接触させて、処理対象物品の表面に
付着している有機汚染物（又は水）を蒸気洗浄により除
去する蒸気洗浄方法に係るものである。
【０００２】本発明における蒸気洗浄方法では、炭酸ジ
メチル（ジメチルカーボネート）を主成分とする蒸気洗
浄剤を用いているので、その蒸気洗浄に用いられる炭酸
ジメチルの蒸気自体が極めて安全であって環境汚染をす
ることがないと共に、該蒸気洗浄剤の液から炭酸ジメチ
ルの蒸気を少ないエネルギーで発生させることができる
ので極めて省エネルギーで物品の蒸気洗浄を行なうこと
ができる。
メチル（ジメチルカーボネート）を主成分とする蒸気洗
浄剤を用いているので、その蒸気洗浄に用いられる炭酸
ジメチルの蒸気自体が極めて安全であって環境汚染をす
ることがないと共に、該蒸気洗浄剤の液から炭酸ジメチ
ルの蒸気を少ないエネルギーで発生させることができる
ので極めて省エネルギーで物品の蒸気洗浄を行なうこと
ができる。
【０００３】
【従来技術の説明】従来は、洗浄剤として有機ハロゲン
系溶剤（例えば、フロン、トリクロルエタン、トリクロ
ルエチレン、ジクロルエタンなど）が、種々の分野で幅
広く使用されていたが、近年、それらの有機ハロゲン系
化合物がオゾン層を破壊するとして、それらの生産・使
用が中止されつつあり、その代替洗浄剤として、水と洗
剤、シンナー等の炭化水素、代替フロンなどが種々提案
されている。しかし、それらの代替洗浄剤は、依然とし
てオゾン層をいくらか破壊することがあったり、引火性
等が高く安全性に問題があったり、特別の排水処理施設
が必要であったりなどの種々の問題がそれぞれあり、特
に蒸気洗浄剤としては必ずしも満足すべきものではなか
った。
系溶剤（例えば、フロン、トリクロルエタン、トリクロ
ルエチレン、ジクロルエタンなど）が、種々の分野で幅
広く使用されていたが、近年、それらの有機ハロゲン系
化合物がオゾン層を破壊するとして、それらの生産・使
用が中止されつつあり、その代替洗浄剤として、水と洗
剤、シンナー等の炭化水素、代替フロンなどが種々提案
されている。しかし、それらの代替洗浄剤は、依然とし
てオゾン層をいくらか破壊することがあったり、引火性
等が高く安全性に問題があったり、特別の排水処理施設
が必要であったりなどの種々の問題がそれぞれあり、特
に蒸気洗浄剤としては必ずしも満足すべきものではなか
った。
【０００４】また、レンズ、プリズムなどの精密光学部
品の製造工程、液晶基板、プリント配線板基板、半導体
ウェハー、電子部品などの精密電子部品の製造工程にお
いて、物品の表面に付着した種々の有機汚染物（又は水
分）を除去するために、種々の手段が採用されており、
特に、エタノール、イソプロピルアルコール、ブタノー
ルなどの低級アルコール類を蒸気洗浄剤として用いる蒸
気洗浄法（又は蒸気乾燥法）が有効な手段として知られ
ている。（例えば、特開昭５６−１６８０７２号公報、
特開昭５８−２００５４０号公報、又は特開平４−１５
５９２２号公報を参照）
品の製造工程、液晶基板、プリント配線板基板、半導体
ウェハー、電子部品などの精密電子部品の製造工程にお
いて、物品の表面に付着した種々の有機汚染物（又は水
分）を除去するために、種々の手段が採用されており、
特に、エタノール、イソプロピルアルコール、ブタノー
ルなどの低級アルコール類を蒸気洗浄剤として用いる蒸
気洗浄法（又は蒸気乾燥法）が有効な手段として知られ
ている。（例えば、特開昭５６−１６８０７２号公報、
特開昭５８−２００５４０号公報、又は特開平４−１５
５９２２号公報を参照）
【０００５】しかし、前記の低級アルコール類は、精密
光学部品、精密電子部品などの蒸気洗浄において用いた
場合に、安全性（引火性、毒性等）、蒸発性、洗浄性能
などが必ずしも満足すべきものではなかった。
光学部品、精密電子部品などの蒸気洗浄において用いた
場合に、安全性（引火性、毒性等）、蒸発性、洗浄性能
などが必ずしも満足すべきものではなかった。
【０００６】
【本発明が解決しようとする問題点】本願の発明は、前
述の蒸気洗浄において好適に使用することができ、オゾ
ン層の破壊などの環境汚染をすることが実質的になく、
新しい高性能の蒸気洗浄剤を提供すること、並びに、そ
の蒸気洗浄剤を用いて前述の物品を高い洗浄性能で効率
的に蒸気洗浄する方法を提供することを目的とするもの
である。
述の蒸気洗浄において好適に使用することができ、オゾ
ン層の破壊などの環境汚染をすることが実質的になく、
新しい高性能の蒸気洗浄剤を提供すること、並びに、そ
の蒸気洗浄剤を用いて前述の物品を高い洗浄性能で効率
的に蒸気洗浄する方法を提供することを目的とするもの
である。
【０００７】
【問題点を解決する手段】本願の第１の発明は、炭酸ジ
メチルを主成分とする蒸気洗浄剤に関する。
メチルを主成分とする蒸気洗浄剤に関する。
【０００８】そして、本願の第２の発明は、前記の炭酸
ジメチルを主成分とする蒸気洗浄剤を加熱して、炭酸ジ
メチルの蒸気を処理対象物品と接触させて、該物品の表
面に付着している有機汚染物又は水をその蒸気の凝縮液
に溶解させて、その凝縮液（処理液）を系外へ除去し
て、該物品を洗浄することを特徴とする蒸気洗浄方法に
関する。
ジメチルを主成分とする蒸気洗浄剤を加熱して、炭酸ジ
メチルの蒸気を処理対象物品と接触させて、該物品の表
面に付着している有機汚染物又は水をその蒸気の凝縮液
に溶解させて、その凝縮液（処理液）を系外へ除去し
て、該物品を洗浄することを特徴とする蒸気洗浄方法に
関する。
【０００９】本発明の蒸気洗浄剤は、炭酸ジメチルを主
成分とする（好ましくは８０重量％以上、特に９０〜１
００重量％含有する）蒸気洗浄剤である。
成分とする（好ましくは８０重量％以上、特に９０〜１
００重量％含有する）蒸気洗浄剤である。
【００１０】前記の炭酸ジメチルは溶剤として知られて
いたけれども、本発明におけるような、蒸気洗浄用に好
適な蒸気を容易に発生させることができ、そして、精密
光学部品、精密電子部品、精密機械部品などの部品の表
面に付着した有機汚染物（例えば、みつ蝋、オレフィン
系樹脂、アクリル系樹脂、エポキシ系樹脂、フェノール
樹脂などの接着剤、油脂、植物性樹脂、オレフィン系重
合体の保護膜、アルコール、エーテル、ケトン等の有機
化合物）を好適に蒸気洗浄できることについては実質的
に知られていなかったのである。
いたけれども、本発明におけるような、蒸気洗浄用に好
適な蒸気を容易に発生させることができ、そして、精密
光学部品、精密電子部品、精密機械部品などの部品の表
面に付着した有機汚染物（例えば、みつ蝋、オレフィン
系樹脂、アクリル系樹脂、エポキシ系樹脂、フェノール
樹脂などの接着剤、油脂、植物性樹脂、オレフィン系重
合体の保護膜、アルコール、エーテル、ケトン等の有機
化合物）を好適に蒸気洗浄できることについては実質的
に知られていなかったのである。
【００１１】前記の蒸気洗浄剤は、低級アルコール類、
エーテル類、ケトン類、低分子量の炭化水素化合物（シ
ンナー、ベンゼン、トルエン等）などの他の有機洗浄剤
を一部（１０重量％以下）含有していてもよいが、他の
有機洗浄剤をまったく含有していない、前記の炭酸ジメ
チルのみを含有している蒸気洗浄剤が最適である。
エーテル類、ケトン類、低分子量の炭化水素化合物（シ
ンナー、ベンゼン、トルエン等）などの他の有機洗浄剤
を一部（１０重量％以下）含有していてもよいが、他の
有機洗浄剤をまったく含有していない、前記の炭酸ジメ
チルのみを含有している蒸気洗浄剤が最適である。
【００１２】前記の蒸気洗浄剤は、溶液粘度（２０℃）
が１０センチポイズ以下、特に５センチポイズ以下であ
って、常温（約２０℃）で液状であることが好ましい。
即ち、溶液粘度が比較的低い前記の蒸気洗浄剤（液）で
は、蒸気洗浄において物品表面に凝縮した凝縮液が該物
品表面に付着した汚染物質を溶解して回収されるが、そ
の回収された洗浄処理液が、少ない量の物品を蒸気洗浄
処理しただけで簡単に高粘度となることがないので、そ
の洗浄処理液が高粘度となるために生じる種々の問題が
防止される。その結果、多くの量の処理物品に対して前
述の蒸気洗浄処理を容易に行なうことができるのであ
る。
が１０センチポイズ以下、特に５センチポイズ以下であ
って、常温（約２０℃）で液状であることが好ましい。
即ち、溶液粘度が比較的低い前記の蒸気洗浄剤（液）で
は、蒸気洗浄において物品表面に凝縮した凝縮液が該物
品表面に付着した汚染物質を溶解して回収されるが、そ
の回収された洗浄処理液が、少ない量の物品を蒸気洗浄
処理しただけで簡単に高粘度となることがないので、そ
の洗浄処理液が高粘度となるために生じる種々の問題が
防止される。その結果、多くの量の処理物品に対して前
述の蒸気洗浄処理を容易に行なうことができるのであ
る。
【００１３】また、蒸気洗浄剤は、クロル等のハロゲン
成分を実質的に含有していないものであることが好まし
く、ハロゲン成分の含有率は特に２０ｐｐｍ以下、更に
好ましくは１０ｐｐｍ以下であることが好適である。ま
た、精密電子部品用には、ハロゲン成分の含有率が５ｐ
ｐｍ以下、特に１ｐｐｍ以下である蒸気洗浄剤が最適で
ある。前記の低ハロゲン含有率の蒸気洗浄剤において主
成分として用いられる炭酸ジメチルとしては、一酸化炭
素と亜硝酸メチルとを白金族金属系触媒の存在下に反応
させて得られる炭酸ジメチルが、ハロゲン成分を実質的
に含有しておらず、高純度であるので好適である。
成分を実質的に含有していないものであることが好まし
く、ハロゲン成分の含有率は特に２０ｐｐｍ以下、更に
好ましくは１０ｐｐｍ以下であることが好適である。ま
た、精密電子部品用には、ハロゲン成分の含有率が５ｐ
ｐｍ以下、特に１ｐｐｍ以下である蒸気洗浄剤が最適で
ある。前記の低ハロゲン含有率の蒸気洗浄剤において主
成分として用いられる炭酸ジメチルとしては、一酸化炭
素と亜硝酸メチルとを白金族金属系触媒の存在下に反応
させて得られる炭酸ジメチルが、ハロゲン成分を実質的
に含有しておらず、高純度であるので好適である。
【００１４】前記の蒸気洗浄剤中の主成分である炭酸ジ
メチルは、その沸点（常圧）が約８０〜１８０℃、特に
８５〜１５０℃程度、即ち約９０℃であるので好まし
い。また、その溶液粘度（２０℃）が２．２センチポイ
ズ以下、特に２．０センチポイズ以下、更に好ましくは
０．５〜１．５センチポイズ程度、即ち約０．６センチ
ポイズであり、表面に微細な凹凸部を多数有する精密部
品などを容易に蒸気洗浄することができるので好まし
い。即ち、蒸気洗浄において、低い溶液粘度の炭酸ジメ
チルが使用されて、その蒸気を物品の表面上に凝縮させ
て物品表面の有機汚染物を溶解する場合に、物品表面の
微細な凹部にまで十分に浸透するので、物品表面の微細
な凹部内に付着している有機汚染物をも容易に除去する
ことができるのである。
メチルは、その沸点（常圧）が約８０〜１８０℃、特に
８５〜１５０℃程度、即ち約９０℃であるので好まし
い。また、その溶液粘度（２０℃）が２．２センチポイ
ズ以下、特に２．０センチポイズ以下、更に好ましくは
０．５〜１．５センチポイズ程度、即ち約０．６センチ
ポイズであり、表面に微細な凹凸部を多数有する精密部
品などを容易に蒸気洗浄することができるので好まし
い。即ち、蒸気洗浄において、低い溶液粘度の炭酸ジメ
チルが使用されて、その蒸気を物品の表面上に凝縮させ
て物品表面の有機汚染物を溶解する場合に、物品表面の
微細な凹部にまで十分に浸透するので、物品表面の微細
な凹部内に付着している有機汚染物をも容易に除去する
ことができるのである。
【００１５】また、前記の炭酸ジメチルは、比蒸発速度
（酢酸ｎ−ブチルエステルを１とした場合）が３．５以
上、特に４．０以上、即ち４．６であり、その蒸気を多
量に発生させるための熱エネルギーなどをかなり少なく
することができ、工業的な蒸気洗浄方法における省エネ
ルギーに寄与することができるので、好ましいのであ
る。
（酢酸ｎ−ブチルエステルを１とした場合）が３．５以
上、特に４．０以上、即ち４．６であり、その蒸気を多
量に発生させるための熱エネルギーなどをかなり少なく
することができ、工業的な蒸気洗浄方法における省エネ
ルギーに寄与することができるので、好ましいのであ
る。
【００１６】本発明の蒸気洗浄方法は、炭酸ジメチルを
主成分とする蒸気洗浄剤を加熱して、炭酸ジメチルの蒸
気を処理対象物品と接触させて、該物品の表面に付着し
ている有機汚染物又は水をその蒸気の凝縮液に溶解させ
て、その凝縮液を蒸気洗浄の処理液として系外へ排出し
除去して、該物品を洗浄するのである。
主成分とする蒸気洗浄剤を加熱して、炭酸ジメチルの蒸
気を処理対象物品と接触させて、該物品の表面に付着し
ている有機汚染物又は水をその蒸気の凝縮液に溶解させ
て、その凝縮液を蒸気洗浄の処理液として系外へ排出し
除去して、該物品を洗浄するのである。
【００１７】この発明の蒸気洗浄方法においては、例え
ば、 （ａ）炭酸ジメチルを主成分とする蒸気洗浄剤（液）
を、底部に加熱手段を備えている蒸気洗浄槽へ供給し
て、その蒸気洗浄槽の底部へ溜めておき、一方、蒸気洗
浄槽の上部の開口部から、蒸気洗浄の処理対象物品（有
機汚染物などで汚れている物品）を入れて、蒸気洗浄槽
内の中間部から上部にわたって、該処理対象物品を配置
（配列）して、蒸気洗浄槽を実質的に密閉状態とし、 （ｂ）同時に又は次いで、蒸気洗浄槽内の蒸気洗浄剤
（液）を、主成分の炭酸ジメチルの沸点付近の加熱温度
（特に、炭酸ジメチルの沸点−１０℃＜加熱温度＜炭酸
ジメチルの沸点＋５０℃）に加熱して、炭酸ジメチルの
蒸気を多量に発生させ、蒸気洗浄槽内にその蒸気を充満
させ、 （ｃ）そして、その蒸気を蒸気洗浄槽内に配置された処
理対象物品と接触させてその物品表面上に凝縮させて、
物品表面に付着している有機汚染物（又は水）を凝縮液
に溶解させながら、 （ｄ）該物品表面からその凝縮液（処理液）を流下・滴
下させて洗浄槽の底部に溜めて凝縮液（処理液）として
外部へ排出して除去することによって、該処理対象物品
を蒸気洗浄するのである。
ば、 （ａ）炭酸ジメチルを主成分とする蒸気洗浄剤（液）
を、底部に加熱手段を備えている蒸気洗浄槽へ供給し
て、その蒸気洗浄槽の底部へ溜めておき、一方、蒸気洗
浄槽の上部の開口部から、蒸気洗浄の処理対象物品（有
機汚染物などで汚れている物品）を入れて、蒸気洗浄槽
内の中間部から上部にわたって、該処理対象物品を配置
（配列）して、蒸気洗浄槽を実質的に密閉状態とし、 （ｂ）同時に又は次いで、蒸気洗浄槽内の蒸気洗浄剤
（液）を、主成分の炭酸ジメチルの沸点付近の加熱温度
（特に、炭酸ジメチルの沸点−１０℃＜加熱温度＜炭酸
ジメチルの沸点＋５０℃）に加熱して、炭酸ジメチルの
蒸気を多量に発生させ、蒸気洗浄槽内にその蒸気を充満
させ、 （ｃ）そして、その蒸気を蒸気洗浄槽内に配置された処
理対象物品と接触させてその物品表面上に凝縮させて、
物品表面に付着している有機汚染物（又は水）を凝縮液
に溶解させながら、 （ｄ）該物品表面からその凝縮液（処理液）を流下・滴
下させて洗浄槽の底部に溜めて凝縮液（処理液）として
外部へ排出して除去することによって、該処理対象物品
を蒸気洗浄するのである。
【００１８】前述の蒸気洗浄方法において、物品と接触
して有機汚染物が溶解されている凝縮液（処理液）は、
最初に供給した蒸気洗浄剤が溜まっている場所（蒸気洗
浄槽の底部）と異なる箇所に溜めて系外へ排出すること
が好ましい。また、この発明の蒸気洗浄方法において、
前述のようにして系外へ排出された凝縮液（有機汚染物
が溶解している処理液）は、通常の蒸留操作などによっ
て精製することにより、炭酸ジメチルを分離、回収する
ことができる。そして、その炭酸ジメチルは、再び蒸気
洗浄槽の底部へ供給して、蒸気洗浄に供することができ
る。
して有機汚染物が溶解されている凝縮液（処理液）は、
最初に供給した蒸気洗浄剤が溜まっている場所（蒸気洗
浄槽の底部）と異なる箇所に溜めて系外へ排出すること
が好ましい。また、この発明の蒸気洗浄方法において、
前述のようにして系外へ排出された凝縮液（有機汚染物
が溶解している処理液）は、通常の蒸留操作などによっ
て精製することにより、炭酸ジメチルを分離、回収する
ことができる。そして、その炭酸ジメチルは、再び蒸気
洗浄槽の底部へ供給して、蒸気洗浄に供することができ
る。
【００１９】前記の蒸気洗浄方法において、洗浄される
処理対象物品は、蒸気洗浄槽の内部で炭酸ジメチルの蒸
気と接触する際に、その表面温度が炭酸ジメチルの沸点
以下の温度、特に該沸点より２〜３０℃程度低い温度で
あることが、炭酸ジメチルの蒸気が該物品の表面におい
て良好に凝縮するために、好ましい。
処理対象物品は、蒸気洗浄槽の内部で炭酸ジメチルの蒸
気と接触する際に、その表面温度が炭酸ジメチルの沸点
以下の温度、特に該沸点より２〜３０℃程度低い温度で
あることが、炭酸ジメチルの蒸気が該物品の表面におい
て良好に凝縮するために、好ましい。
【００２０】
【実施例】以下、実施例を示し、この発明をさらに詳し
く説明する。
く説明する。
【００２１】実施例１ 底部に電気的ヒーターが埋設された蒸気洗浄槽（内容
積：約１．５ｍ3）の中間部に、研磨直後のプリズム
（平均付着量：みつ蝋約５００ｍｇ及びアクリル系接着
剤２ｇ程度）を５０個配置した後、該蒸気洗浄槽を実質
的に密閉した。
積：約１．５ｍ3）の中間部に、研磨直後のプリズム
（平均付着量：みつ蝋約５００ｍｇ及びアクリル系接着
剤２ｇ程度）を５０個配置した後、該蒸気洗浄槽を実質
的に密閉した。
【００２２】次いで、前記の蒸気洗浄槽の底部に炭酸ジ
メチルからなる蒸気洗浄剤（この液体の２０℃の溶液粘
度：０．６２５センチポイズ、供給量：２０リットル）
を供給して、蒸気洗浄槽の底部に溜まっている蒸気洗浄
剤を約９５℃に加熱して、炭酸ジメチルの蒸気を発生さ
せて蒸気洗浄槽内に充満させ、そして、約８５℃程度の
温度に維持された前記プリズムと前記蒸気とを接触させ
た。そして、蒸気洗浄槽内では、そのプリズムの表面に
おいて炭酸ジメチルの蒸気が凝縮しながら、各プリズム
の表面に付着している前記みつ蝋及びアクリル系接着剤
を溶解させるという蒸気洗浄が、約６０分間継続して行
われた。
メチルからなる蒸気洗浄剤（この液体の２０℃の溶液粘
度：０．６２５センチポイズ、供給量：２０リットル）
を供給して、蒸気洗浄槽の底部に溜まっている蒸気洗浄
剤を約９５℃に加熱して、炭酸ジメチルの蒸気を発生さ
せて蒸気洗浄槽内に充満させ、そして、約８５℃程度の
温度に維持された前記プリズムと前記蒸気とを接触させ
た。そして、蒸気洗浄槽内では、そのプリズムの表面に
おいて炭酸ジメチルの蒸気が凝縮しながら、各プリズム
の表面に付着している前記みつ蝋及びアクリル系接着剤
を溶解させるという蒸気洗浄が、約６０分間継続して行
われた。
【００２３】なお、前述のように蒸気洗浄剤として使用
された炭酸ジメチルは、その蒸気がプリズムの表面で凝
縮して、みつ蝋及びアクリル系接着剤（有機汚染物）を
溶解しながら、蒸気洗浄槽の下部へ流下（滴下）するの
で、その処理液を収集して系外へ排出した。その処理液
には、みつ蝋が２４．９７５ｇ以上及びアクリル系接着
剤が９９．９ｇ以上含有されていた。前述の蒸気洗浄に
おいて物品の表面から除去された、みつ蝋の除去率は９
９．９％以上で、アクリル系接着剤の除去率は９９．０
％以上であった。また、前記の処理液は２０℃の溶液粘
度が約０．８センチポイズ程度であった。
された炭酸ジメチルは、その蒸気がプリズムの表面で凝
縮して、みつ蝋及びアクリル系接着剤（有機汚染物）を
溶解しながら、蒸気洗浄槽の下部へ流下（滴下）するの
で、その処理液を収集して系外へ排出した。その処理液
には、みつ蝋が２４．９７５ｇ以上及びアクリル系接着
剤が９９．９ｇ以上含有されていた。前述の蒸気洗浄に
おいて物品の表面から除去された、みつ蝋の除去率は９
９．９％以上で、アクリル系接着剤の除去率は９９．０
％以上であった。また、前記の処理液は２０℃の溶液粘
度が約０．８センチポイズ程度であった。
【００２４】
【本発明の作用効果】本発明の蒸気洗浄剤は、精密光学
部品、精密電子部品、精密機械部品などの部品の表面に
付着した有機汚染物を好適に蒸気洗浄でき、オゾン層の
破壊などの環境汚染をすることがなく安全性が高いと共
に、高性能の蒸気洗浄性を示す新しい蒸気洗浄剤であ
る。また、本発明の蒸気洗浄方法は、前記の新しい蒸気
洗浄剤を用いて、種々の物品を高い洗浄性能で効率的に
安全に蒸気洗浄することができるものである。
部品、精密電子部品、精密機械部品などの部品の表面に
付着した有機汚染物を好適に蒸気洗浄でき、オゾン層の
破壊などの環境汚染をすることがなく安全性が高いと共
に、高性能の蒸気洗浄性を示す新しい蒸気洗浄剤であ
る。また、本発明の蒸気洗浄方法は、前記の新しい蒸気
洗浄剤を用いて、種々の物品を高い洗浄性能で効率的に
安全に蒸気洗浄することができるものである。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 平６−340898（ＪＰ，Ａ) 特開 平６−196463（ＪＰ，Ａ) 特開 平４−68095（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.6，ＤＢ名) C11D 7/26 B08B 3/08 C11D 17/00 C23G 5/032 F22B 3/02
Claims (2)
- 【請求項１】 炭酸ジメチルを主成分とする蒸気洗浄
剤。 - 【請求項２】 （ａ）炭酸ジメチルを主成分とする蒸気
洗浄剤を、底部に加熱手段を備えている蒸気洗浄槽へ供
給して、その蒸気洗浄槽の底部へ溜めておき、一方、蒸
気洗浄槽の上部の開口部から、蒸気洗浄の処理対象物品
を入れて、蒸気洗浄槽内の中間部から上部にわたって、
該処理対象物品を配置して、蒸気洗浄槽を実質的に密閉
状態とし、 （ｂ）同時に又は次いで、蒸気洗浄槽内の蒸気洗浄剤
を、炭酸ジメチルの沸点−１０℃＜加熱温度＜炭酸ジメ
チルの沸点＋５０℃の温度範囲に 加熱して、炭酸ジメチ
ルの蒸気を多量に発生させ、蒸気洗浄槽内にその蒸気を
充満させ、 （ｃ）そして、その蒸気を蒸気洗浄槽内に配置された 処
理対象物品と接触させてその物品表面上に凝縮させて、
該物品表面に付着している有機汚染物又は水をその蒸気
の凝縮液に溶解させながら、 （ｄ）該物品表面からその凝縮液を流下・滴下させて洗
浄槽の底部に溜めて凝縮液として外部へ排出して除去す
る ことを特徴とする蒸気洗浄方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5306451A JP2985169B2 (ja) | 1993-12-07 | 1993-12-07 | 蒸気洗浄剤及び蒸気洗浄方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5306451A JP2985169B2 (ja) | 1993-12-07 | 1993-12-07 | 蒸気洗浄剤及び蒸気洗浄方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07157798A JPH07157798A (ja) | 1995-06-20 |
| JP2985169B2 true JP2985169B2 (ja) | 1999-11-29 |
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ID=17957165
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP6000028B2 (ja) * | 2012-09-07 | 2016-09-28 | 甘糟化学産業株式会社 | 金属用洗浄剤 |
-
1993
- 1993-12-07 JP JP5306451A patent/JP2985169B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH07157798A (ja) | 1995-06-20 |
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