JPH07157798A - 蒸気洗浄剤及び蒸気洗浄方法 - Google Patents
蒸気洗浄剤及び蒸気洗浄方法Info
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- JPH07157798A JPH07157798A JP30645193A JP30645193A JPH07157798A JP H07157798 A JPH07157798 A JP H07157798A JP 30645193 A JP30645193 A JP 30645193A JP 30645193 A JP30645193 A JP 30645193A JP H07157798 A JPH07157798 A JP H07157798A
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Abstract
(57)【要約】
本発明は、特定の炭酸ジ低級アルキルエステルを主成分
とする蒸気洗浄剤、並びに、前記の炭酸ジ低級アルキル
エステルを使用して、物品の表面に付着している有機汚
染物を蒸気洗浄によって除去する方法に係わる。 【効果】本発明における蒸気洗浄方法では、炭酸ジ低級
アルキルエステル（特に、ジメチルカーボネート、ジエ
チルカーボネート等）を主成分とする蒸気洗浄剤を用い
ているので、その蒸気洗浄に用いられる炭酸ジ低級アル
キルエステルの蒸気自体が極めて安全であって環境汚染
をすることがないと共に、該蒸気洗浄剤の液から前記炭
酸ジ低級アルキルエステルの蒸気を少ないエネルギーで
発生させることができるので極めて省エネルギーで物品
の蒸気洗浄を効率的に行うことができる。
とする蒸気洗浄剤、並びに、前記の炭酸ジ低級アルキル
エステルを使用して、物品の表面に付着している有機汚
染物を蒸気洗浄によって除去する方法に係わる。 【効果】本発明における蒸気洗浄方法では、炭酸ジ低級
アルキルエステル（特に、ジメチルカーボネート、ジエ
チルカーボネート等）を主成分とする蒸気洗浄剤を用い
ているので、その蒸気洗浄に用いられる炭酸ジ低級アル
キルエステルの蒸気自体が極めて安全であって環境汚染
をすることがないと共に、該蒸気洗浄剤の液から前記炭
酸ジ低級アルキルエステルの蒸気を少ないエネルギーで
発生させることができるので極めて省エネルギーで物品
の蒸気洗浄を効率的に行うことができる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】この出願の第１の発明は、特定の
炭酸ジ低級アルキルエステルを主成分とする蒸気洗浄剤
に係わるものであり、また、第２の発明は、前記蒸気洗
浄剤を用いて炭酸ジ低級アルキルエステルの蒸気を発生
させて、その蒸気と処理対象物品（洗浄すべき物品）と
を接触させて、処理対象物品の表面に付着している有機
汚染物を蒸気洗浄により除去する蒸気洗浄方法に係わる
ものである。
炭酸ジ低級アルキルエステルを主成分とする蒸気洗浄剤
に係わるものであり、また、第２の発明は、前記蒸気洗
浄剤を用いて炭酸ジ低級アルキルエステルの蒸気を発生
させて、その蒸気と処理対象物品（洗浄すべき物品）と
を接触させて、処理対象物品の表面に付着している有機
汚染物を蒸気洗浄により除去する蒸気洗浄方法に係わる
ものである。
【０００２】本発明における蒸気洗浄方法では、炭酸ジ
低級アルキルエステル（特に、ジメチルカーボネート、
ジエチルカーボネート等）を主成分とする蒸気洗浄剤を
用いているので、その蒸気洗浄に用いられる炭酸ジ低級
アルキルエステルの蒸気自体が極めて安全であって環境
汚染をすることがないと共に、該蒸気洗浄剤の液から前
記炭酸ジ低級アルキルエステルの蒸気を少ないエネルギ
ーで発生させることができるので極めて省エネルギーで
物品の蒸気乾燥を行うことができる。
低級アルキルエステル（特に、ジメチルカーボネート、
ジエチルカーボネート等）を主成分とする蒸気洗浄剤を
用いているので、その蒸気洗浄に用いられる炭酸ジ低級
アルキルエステルの蒸気自体が極めて安全であって環境
汚染をすることがないと共に、該蒸気洗浄剤の液から前
記炭酸ジ低級アルキルエステルの蒸気を少ないエネルギ
ーで発生させることができるので極めて省エネルギーで
物品の蒸気乾燥を行うことができる。
【０００３】
【従来技術の説明】従来は、洗浄剤として有機ハロゲン
系溶剤（例えば、フロン、トリクロルエタン、トリクロ
ルエチレン、ジクロルエタンなど）が、種々の分野で幅
広く使用されていたが、近年、それらの有機ハロゲン系
化合物がオゾン層を破壊するとして、それらの生産・使
用が中止されつつあり、その代替洗浄剤として、水と洗
剤、シンナー等の炭化水素、代替フロンなどが種々提案
されている。しかし、それらの代替洗浄剤は、依然とし
てオゾン層をいくらか破壊することがあったり、引火性
等が高く安全性に問題があったり、特別の排水処理施設
が必要であったりなどの種々の問題がそれぞれあり、特
に蒸気洗浄剤としては必ずしも満足すべきものではなか
った。
系溶剤（例えば、フロン、トリクロルエタン、トリクロ
ルエチレン、ジクロルエタンなど）が、種々の分野で幅
広く使用されていたが、近年、それらの有機ハロゲン系
化合物がオゾン層を破壊するとして、それらの生産・使
用が中止されつつあり、その代替洗浄剤として、水と洗
剤、シンナー等の炭化水素、代替フロンなどが種々提案
されている。しかし、それらの代替洗浄剤は、依然とし
てオゾン層をいくらか破壊することがあったり、引火性
等が高く安全性に問題があったり、特別の排水処理施設
が必要であったりなどの種々の問題がそれぞれあり、特
に蒸気洗浄剤としては必ずしも満足すべきものではなか
った。
【０００４】また、レンズ、プリズムなどの精密光学部
品の製造工程、液晶基板、プリント配線板基板、半導体
ウェハー、電子部品などの精密電子部品の製造工程にお
いて、物品の表面に付着した種々の有機汚染物（又は水
分）を除去するために、種々の手段が採用されており、
特に、エタノール、イソプロピルアルコール、ブタノー
ルなどの低級アルコール類を蒸気洗浄剤として用いる蒸
気洗浄法（又は蒸気乾燥法）が有効な手段として知られ
ている。（例えば、特開昭５６−１６８０７２号公報、
特開昭５８−２００５４０号公報、又は特開平４−１５
５９２２号公報を参照）
品の製造工程、液晶基板、プリント配線板基板、半導体
ウェハー、電子部品などの精密電子部品の製造工程にお
いて、物品の表面に付着した種々の有機汚染物（又は水
分）を除去するために、種々の手段が採用されており、
特に、エタノール、イソプロピルアルコール、ブタノー
ルなどの低級アルコール類を蒸気洗浄剤として用いる蒸
気洗浄法（又は蒸気乾燥法）が有効な手段として知られ
ている。（例えば、特開昭５６−１６８０７２号公報、
特開昭５８−２００５４０号公報、又は特開平４−１５
５９２２号公報を参照）
【０００５】しかし、前記の低級アルコール類は、精密
光学部品、精密電子部品などの蒸気洗浄において用いた
場合に、安全性（引火性、毒性等）、蒸発性、洗浄性能
などが必ずしも満足すべきものではなかった。
光学部品、精密電子部品などの蒸気洗浄において用いた
場合に、安全性（引火性、毒性等）、蒸発性、洗浄性能
などが必ずしも満足すべきものではなかった。
【０００６】
【本発明が解決しようとする問題点】本願の発明は、前
述の蒸気洗浄において好適に使用することができ、オゾ
ン層の破壊などの環境汚染をすることが実質的になく、
新しい高性能の蒸気洗浄剤を提供すること、並びに、そ
の蒸気洗浄剤を用いて前述の物品を高い洗浄性能で効率
的に蒸気洗浄する方法を提供することを目的とするもの
である。
述の蒸気洗浄において好適に使用することができ、オゾ
ン層の破壊などの環境汚染をすることが実質的になく、
新しい高性能の蒸気洗浄剤を提供すること、並びに、そ
の蒸気洗浄剤を用いて前述の物品を高い洗浄性能で効率
的に蒸気洗浄する方法を提供することを目的とするもの
である。
【０００７】
【問題点を解決する手段】本願の第１の発明は、一般式
Ｉ
Ｉ
【０００８】
【化３】
【０００９】（但し、式中、Ｒは炭素数１〜６の低級ア
ルキル基を示す）で示される炭酸ジ低級アルキルエステ
ルを主成分とする蒸気洗浄剤に関する。
ルキル基を示す）で示される炭酸ジ低級アルキルエステ
ルを主成分とする蒸気洗浄剤に関する。
【００１０】そして、本願の第２の発明は、前記の一般
式Ｉで示される炭酸ジ低級アルキルエステルを主成分と
する蒸気洗浄剤を加熱して、前記炭酸ジ低級アルキルエ
ステルの蒸気を処理対象物品と接触させて、該物品の表
面に付着している有機汚染物又は水をその蒸気の凝縮液
に溶解させて、その凝縮液（処理液）を系外へ除去し
て、該物品を洗浄することを特徴とする蒸気洗浄方法に
関する。
式Ｉで示される炭酸ジ低級アルキルエステルを主成分と
する蒸気洗浄剤を加熱して、前記炭酸ジ低級アルキルエ
ステルの蒸気を処理対象物品と接触させて、該物品の表
面に付着している有機汚染物又は水をその蒸気の凝縮液
に溶解させて、その凝縮液（処理液）を系外へ除去し
て、該物品を洗浄することを特徴とする蒸気洗浄方法に
関する。
【００１１】本発明の蒸気洗浄剤は、前記の一般式Ｉ
（式中、Ｒは、炭素数１〜６の低級アルキル基、好まし
くは炭素数１〜３の低級アルキル基を示す）で示される
炭酸ジ低級アルキルエステルを主成分とする（好ましく
は８０重量％以上、特に９０〜１００重量％含有する）
蒸気洗浄剤である。なお、前記の一般式Ｉ中のＲは、同
じ低級アルキル基であっても、異なる低級アルキル基で
あってもよく、例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロ
ピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル
基、ｎ−ベンチル基、ｎ−ヘキシル基などを挙げること
ができ、本発明では特にメチル基、エチル基が最適であ
る。
（式中、Ｒは、炭素数１〜６の低級アルキル基、好まし
くは炭素数１〜３の低級アルキル基を示す）で示される
炭酸ジ低級アルキルエステルを主成分とする（好ましく
は８０重量％以上、特に９０〜１００重量％含有する）
蒸気洗浄剤である。なお、前記の一般式Ｉ中のＲは、同
じ低級アルキル基であっても、異なる低級アルキル基で
あってもよく、例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロ
ピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル
基、ｎ−ベンチル基、ｎ−ヘキシル基などを挙げること
ができ、本発明では特にメチル基、エチル基が最適であ
る。
【００１２】前記の炭酸ジ低級アルキルエステルは、炭
酸ジメチルなどが溶剤として知られていたけれども、本
発明におけるような、蒸気洗浄用に好適な蒸気を容易に
発生させることができ、そして、精密光学部品、精密電
子部品、精密機械部品などの部品の表面に付着した有機
汚染物（例えば、みつ蝋、オレフィン系樹脂、アクリル
系樹脂、エポキシ系樹脂、フェノール樹脂などの接着
剤、油脂、植物性樹脂、オレフィン系重合体の保護膜、
アルコール、エーテル、ケトン等の有機化合物）を好適
に蒸気洗浄できることについては実質的に知られていな
かったのである。
酸ジメチルなどが溶剤として知られていたけれども、本
発明におけるような、蒸気洗浄用に好適な蒸気を容易に
発生させることができ、そして、精密光学部品、精密電
子部品、精密機械部品などの部品の表面に付着した有機
汚染物（例えば、みつ蝋、オレフィン系樹脂、アクリル
系樹脂、エポキシ系樹脂、フェノール樹脂などの接着
剤、油脂、植物性樹脂、オレフィン系重合体の保護膜、
アルコール、エーテル、ケトン等の有機化合物）を好適
に蒸気洗浄できることについては実質的に知られていな
かったのである。
【００１３】前記の蒸気洗浄剤は、低級アルコール類、
エーテル類、ケトン類、低分子量の炭化水素化合物（シ
ンナー、ベンゼン、トルエン等）などの他の有機洗浄剤
を一部（１０重量％以下）含有していてもよいが、他の
有機洗浄剤をまったく含有していない、前記の炭酸ジ低
級アルキルエステルのみを含有している蒸気洗浄剤が最
適である。
エーテル類、ケトン類、低分子量の炭化水素化合物（シ
ンナー、ベンゼン、トルエン等）などの他の有機洗浄剤
を一部（１０重量％以下）含有していてもよいが、他の
有機洗浄剤をまったく含有していない、前記の炭酸ジ低
級アルキルエステルのみを含有している蒸気洗浄剤が最
適である。
【００１４】前記の蒸気洗浄剤は、溶液粘度（２０℃）
が１０センチポイズ以下、特に５センチポイズ以下であ
って、常温（約２０℃）で液状であることが好ましい。
即ち、溶液粘度が比較的低い前記の蒸気洗浄剤（液）
は、蒸気洗浄において物品表面に凝縮して凝縮液が該物
品表面に付着した汚染物質を溶解して回収された洗浄処
理液が、少ない量の物品を蒸気洗浄処理しただけで簡単
に高粘度となることがなく、その洗浄処理液が高粘度と
なるために生じる種々の問題が防止され、その結果、多
くの量の処理物品に対して前述の蒸気洗浄処理を容易に
行うことができるのである。
が１０センチポイズ以下、特に５センチポイズ以下であ
って、常温（約２０℃）で液状であることが好ましい。
即ち、溶液粘度が比較的低い前記の蒸気洗浄剤（液）
は、蒸気洗浄において物品表面に凝縮して凝縮液が該物
品表面に付着した汚染物質を溶解して回収された洗浄処
理液が、少ない量の物品を蒸気洗浄処理しただけで簡単
に高粘度となることがなく、その洗浄処理液が高粘度と
なるために生じる種々の問題が防止され、その結果、多
くの量の処理物品に対して前述の蒸気洗浄処理を容易に
行うことができるのである。
【００１５】また、蒸気洗浄剤は、クロル等のハロゲン
成分を実質的に含有していないものであることが好まし
く、ハロゲン成分の含有率は特に２０ｐｐｍ以下、更に
好ましくは１０ｐｐｍ以下であることが好適であり、ま
た、精密電子部品用には、ハロゲン成分の含有率が５ｐ
ｐｍ以下、特に１ｐｐｍ以下である蒸気洗浄剤が最適で
ある。前記の低ハロゲン含有率の蒸気洗浄剤において主
成分として用いられる炭酸ジ低級アルキルエステルとし
ては、一酸化炭素と亜硝酸アルキルエステルとを白金族
金属系触媒の存在下に反応させて得られる炭酸ジエステ
ル（特に、炭酸ジメチル、炭酸ジエチル等）が、ハロゲ
ン成分を実質的に含有しておらず、高純度であるので好
適である。
成分を実質的に含有していないものであることが好まし
く、ハロゲン成分の含有率は特に２０ｐｐｍ以下、更に
好ましくは１０ｐｐｍ以下であることが好適であり、ま
た、精密電子部品用には、ハロゲン成分の含有率が５ｐ
ｐｍ以下、特に１ｐｐｍ以下である蒸気洗浄剤が最適で
ある。前記の低ハロゲン含有率の蒸気洗浄剤において主
成分として用いられる炭酸ジ低級アルキルエステルとし
ては、一酸化炭素と亜硝酸アルキルエステルとを白金族
金属系触媒の存在下に反応させて得られる炭酸ジエステ
ル（特に、炭酸ジメチル、炭酸ジエチル等）が、ハロゲ
ン成分を実質的に含有しておらず、高純度であるので好
適である。
【００１６】前記の蒸気洗浄剤中の主成分である炭酸ジ
低級アルキルエステルは、その沸点（常圧）が約８０〜
１８０℃、特に８５〜１５０℃程度であることが好まし
く、また、その溶液粘度（２０℃）が２．２センチポイ
ズ以下、特に２．０センチポイズ以下、さらに好ましく
は０．５〜１．５センチポイズ程度であることが、表面
に微細な凹凸部を多数有する精密部品などを容易に蒸気
洗浄することができるので好ましい。即ち、蒸気洗浄に
おいて、低い溶液粘度の炭酸ジ低級アルキルエステルが
使用されて、その蒸気を物品の表面上に凝縮させて物品
表面の有機汚染物を溶解する場合に、物品表面の微細な
凹部にまで十分に浸透するので、物品表面の微細な凹部
内に付着している有機汚染物をも容易に除去することが
できるのである。
低級アルキルエステルは、その沸点（常圧）が約８０〜
１８０℃、特に８５〜１５０℃程度であることが好まし
く、また、その溶液粘度（２０℃）が２．２センチポイ
ズ以下、特に２．０センチポイズ以下、さらに好ましく
は０．５〜１．５センチポイズ程度であることが、表面
に微細な凹凸部を多数有する精密部品などを容易に蒸気
洗浄することができるので好ましい。即ち、蒸気洗浄に
おいて、低い溶液粘度の炭酸ジ低級アルキルエステルが
使用されて、その蒸気を物品の表面上に凝縮させて物品
表面の有機汚染物を溶解する場合に、物品表面の微細な
凹部にまで十分に浸透するので、物品表面の微細な凹部
内に付着している有機汚染物をも容易に除去することが
できるのである。
【００１７】また、前記の炭酸ジ低級アルキルエステル
は、比蒸発速度（酢酸ｎ−ブチルエステルを１とした場
合）が３．５以上、特に４．０以上であることが、その
蒸気を多量に発生させるための熱エネルギーなどをかな
り少なくすることができ、工業的な蒸気洗浄方法におけ
る省エネルギーに寄与することができるので、好ましい
のである。
は、比蒸発速度（酢酸ｎ−ブチルエステルを１とした場
合）が３．５以上、特に４．０以上であることが、その
蒸気を多量に発生させるための熱エネルギーなどをかな
り少なくすることができ、工業的な蒸気洗浄方法におけ
る省エネルギーに寄与することができるので、好ましい
のである。
【００１８】前記の炭酸ジ低級アルキルエステル（以
下、炭酸ジエステルとも言う）としては、例えば、炭酸
ジメチル、炭酸ジエチル、炭酸メチルエチルエステル、
炭酸ジプロピル、炭酸ジイソプロピル、炭酸ジブチル、
炭酸ジペンチル、炭酸ジヘキシルなどを挙げることがで
き、特に、炭酸ジメチル、炭酸ジエチルなどの『一般式
Ｉ中のＲが炭素数１〜２の低級アルキル基である炭酸ジ
低級アルキルエステル』が好適である。
下、炭酸ジエステルとも言う）としては、例えば、炭酸
ジメチル、炭酸ジエチル、炭酸メチルエチルエステル、
炭酸ジプロピル、炭酸ジイソプロピル、炭酸ジブチル、
炭酸ジペンチル、炭酸ジヘキシルなどを挙げることがで
き、特に、炭酸ジメチル、炭酸ジエチルなどの『一般式
Ｉ中のＲが炭素数１〜２の低級アルキル基である炭酸ジ
低級アルキルエステル』が好適である。
【００１９】本発明の蒸気洗浄方法は、前記の一般式Ｉ
で示される炭酸ジ低級アルキルエステル（炭酸ジエステ
ル）を主成分とする蒸気洗浄剤を加熱して、前記炭酸ジ
エステルの蒸気を処理対象物品と接触させて、該物品の
表面に付着している有機汚染物又は水をその蒸気の凝縮
液に溶解させて、その凝縮液を蒸気洗浄の処理液として
系外へ排出し除去して、該物品を洗浄するのである。
で示される炭酸ジ低級アルキルエステル（炭酸ジエステ
ル）を主成分とする蒸気洗浄剤を加熱して、前記炭酸ジ
エステルの蒸気を処理対象物品と接触させて、該物品の
表面に付着している有機汚染物又は水をその蒸気の凝縮
液に溶解させて、その凝縮液を蒸気洗浄の処理液として
系外へ排出し除去して、該物品を洗浄するのである。
【００２０】この発明の蒸気洗浄方法においては、例え
ば、（ａ）炭酸ジ低級アルキルエステル（炭酸ジエステ
ル）を主成分とする蒸気洗浄剤（液）を、底部に加熱手
段を備えている蒸気洗浄槽へ供給して、その蒸気洗浄槽
の底部へ溜めておき、一方、蒸気洗浄槽の上部の開口部
から、蒸気洗浄の処理対象物品（有機汚染物などで汚れ
ている物品）を入れて、蒸気洗浄槽内の中間部から上部
にわたって、該処理対象物品を配置（配列）して、蒸気
洗浄槽を実質的に密閉状態とし、（ｂ）同時に又は次い
で、蒸気洗浄槽内の蒸気洗浄剤（液）を、主成分の炭酸
ジエステルの沸点付近の加熱温度（特に、炭酸ジエステ
ルの沸点−１０℃＜加熱温度＜炭酸ジエステルの沸点＋
５０℃）に加熱して、その炭酸ジエステルの蒸気を多量
に発生させ、蒸気洗浄槽内にその蒸気を充満させ、
（ｃ）そして、その蒸気を蒸気洗浄槽内に配置された処
理対象物品と接触させてその物品表面上に凝縮させて、
物品表面に付着している有機汚染物（又は水）を凝縮液
に溶解させながら、（ｄ）該物品表面からその凝縮液
（処理液）を流下・滴下させて洗浄槽の底部に溜めて凝
縮液（処理液）として外部へ排出して除去することによ
って、該処理対象物品を蒸気洗浄するのである。
ば、（ａ）炭酸ジ低級アルキルエステル（炭酸ジエステ
ル）を主成分とする蒸気洗浄剤（液）を、底部に加熱手
段を備えている蒸気洗浄槽へ供給して、その蒸気洗浄槽
の底部へ溜めておき、一方、蒸気洗浄槽の上部の開口部
から、蒸気洗浄の処理対象物品（有機汚染物などで汚れ
ている物品）を入れて、蒸気洗浄槽内の中間部から上部
にわたって、該処理対象物品を配置（配列）して、蒸気
洗浄槽を実質的に密閉状態とし、（ｂ）同時に又は次い
で、蒸気洗浄槽内の蒸気洗浄剤（液）を、主成分の炭酸
ジエステルの沸点付近の加熱温度（特に、炭酸ジエステ
ルの沸点−１０℃＜加熱温度＜炭酸ジエステルの沸点＋
５０℃）に加熱して、その炭酸ジエステルの蒸気を多量
に発生させ、蒸気洗浄槽内にその蒸気を充満させ、
（ｃ）そして、その蒸気を蒸気洗浄槽内に配置された処
理対象物品と接触させてその物品表面上に凝縮させて、
物品表面に付着している有機汚染物（又は水）を凝縮液
に溶解させながら、（ｄ）該物品表面からその凝縮液
（処理液）を流下・滴下させて洗浄槽の底部に溜めて凝
縮液（処理液）として外部へ排出して除去することによ
って、該処理対象物品を蒸気洗浄するのである。
【００２１】前述の蒸気洗浄方法において、物品と接触
して、有機汚染物が溶解されている凝縮液（処理液）
は、最初に供給した蒸気洗浄剤が溜まっている場所（蒸
気洗浄槽の底部）と異なる箇所に溜めて系外へ排出する
ことが好ましい。また、この発明の蒸気洗浄方法におい
て、前述のようにして系外へ排出された凝縮液（有機汚
染物が溶解している処理液）は、通常の蒸留操作などに
よって、精製することによって、炭酸ジエステルを分
離、回収して、再び、その炭酸ジエステルを蒸気洗浄槽
の底部へ供給して、蒸気洗浄に使用することができる。
して、有機汚染物が溶解されている凝縮液（処理液）
は、最初に供給した蒸気洗浄剤が溜まっている場所（蒸
気洗浄槽の底部）と異なる箇所に溜めて系外へ排出する
ことが好ましい。また、この発明の蒸気洗浄方法におい
て、前述のようにして系外へ排出された凝縮液（有機汚
染物が溶解している処理液）は、通常の蒸留操作などに
よって、精製することによって、炭酸ジエステルを分
離、回収して、再び、その炭酸ジエステルを蒸気洗浄槽
の底部へ供給して、蒸気洗浄に使用することができる。
【００２２】前記の蒸気洗浄方法において、洗浄される
処理対象物品は、蒸気洗浄槽の内部で炭酸ジエステルの
蒸気と接触する際に、その表面温度が、炭酸ジエステル
の沸点以下の温度、特に該沸点より２〜３０℃程度低い
温度であることが、炭酸ジエステルの蒸気が該物品の表
面において良好に凝縮するために、好ましい。
処理対象物品は、蒸気洗浄槽の内部で炭酸ジエステルの
蒸気と接触する際に、その表面温度が、炭酸ジエステル
の沸点以下の温度、特に該沸点より２〜３０℃程度低い
温度であることが、炭酸ジエステルの蒸気が該物品の表
面において良好に凝縮するために、好ましい。
【００２３】
【実施例】以下、実施例を示し、この発明をさらに詳し
く説明する。
く説明する。
【００２４】実施例１ 底部に電気的ヒーターが埋設された蒸気洗浄槽（内容
積：約１．５ｍ3 ）の中間部に、研磨直後のプリズム
（平均付着量：みつ蝋約５００ｍｇ及びアクリル系接着
剤２ｇ程度）を５０個配置した後、該蒸気洗浄槽を実質
的に密閉した。
積：約１．５ｍ3 ）の中間部に、研磨直後のプリズム
（平均付着量：みつ蝋約５００ｍｇ及びアクリル系接着
剤２ｇ程度）を５０個配置した後、該蒸気洗浄槽を実質
的に密閉した。
【００２５】次いで、前記の蒸気洗浄槽の底部に炭酸ジ
メチルからなる蒸気洗浄剤（この液体の２０℃の溶液粘
度：０．６２５センチポイズ、供給量：２０リットル）
を供給して、蒸気洗浄槽の底部に溜まっている蒸気洗浄
剤を約９５℃に加熱して、炭酸ジメチルの蒸気を発生さ
せて蒸気洗浄槽内に充満させ、そして、約８５℃程度の
温度に維持された前記プリズムと前記蒸気とを接触させ
た。そして、蒸気洗浄内では、そのプリズムの表面にお
いて炭酸ジメチルの蒸気が凝縮しながら、各プリズムの
表面に付着している前記みつ蝋及びアクリル系接着剤を
溶解させるという蒸気洗浄が、約６０分間継続して行わ
れた。
メチルからなる蒸気洗浄剤（この液体の２０℃の溶液粘
度：０．６２５センチポイズ、供給量：２０リットル）
を供給して、蒸気洗浄槽の底部に溜まっている蒸気洗浄
剤を約９５℃に加熱して、炭酸ジメチルの蒸気を発生さ
せて蒸気洗浄槽内に充満させ、そして、約８５℃程度の
温度に維持された前記プリズムと前記蒸気とを接触させ
た。そして、蒸気洗浄内では、そのプリズムの表面にお
いて炭酸ジメチルの蒸気が凝縮しながら、各プリズムの
表面に付着している前記みつ蝋及びアクリル系接着剤を
溶解させるという蒸気洗浄が、約６０分間継続して行わ
れた。
【００２６】なお、前述のように蒸気洗浄剤として使用
された炭酸ジメチルは、その蒸気がプリズムの表面で凝
縮して、みつ蝋及びアクリル系接着剤（有機汚染物）を
溶解しながら、蒸気洗浄槽の下部へ流下（滴下）するの
で、その処理液を収集して系外へ排出した。その処理液
には、みつ蝋を２４．９７５ｇ以上及びアクリル系接着
剤を９９．９ｇ以上含有されていた。前述の蒸気洗浄に
おいて物品の表面から除去されたみつ蝋の除去率は９
９．９％以上で、アクリル系接着剤の除去率は９９．０
％以上であった。また、前記の処理液は、２０℃の溶液
粘度が約０．８センチポイズ程度であった。
された炭酸ジメチルは、その蒸気がプリズムの表面で凝
縮して、みつ蝋及びアクリル系接着剤（有機汚染物）を
溶解しながら、蒸気洗浄槽の下部へ流下（滴下）するの
で、その処理液を収集して系外へ排出した。その処理液
には、みつ蝋を２４．９７５ｇ以上及びアクリル系接着
剤を９９．９ｇ以上含有されていた。前述の蒸気洗浄に
おいて物品の表面から除去されたみつ蝋の除去率は９
９．９％以上で、アクリル系接着剤の除去率は９９．０
％以上であった。また、前記の処理液は、２０℃の溶液
粘度が約０．８センチポイズ程度であった。
【００２７】
【本発明の作用効果】本発明の蒸気洗浄剤は、精密光学
部品、精密電子部品、精密機械部品などの部品の表面に
付着した有機汚染物を好適に蒸気洗浄でき、オゾン層の
破壊などの環境汚染をすることがなく安全性が高いと共
に、高性能の蒸気洗浄性を示す新しい蒸気洗浄剤であ
り、また、本発明の蒸気洗浄方法は、前記の新しい蒸気
洗浄剤を用いて、種々の物品を高い洗浄性能で効率的に
安全に蒸気洗浄することができるのである。
部品、精密電子部品、精密機械部品などの部品の表面に
付着した有機汚染物を好適に蒸気洗浄でき、オゾン層の
破壊などの環境汚染をすることがなく安全性が高いと共
に、高性能の蒸気洗浄性を示す新しい蒸気洗浄剤であ
り、また、本発明の蒸気洗浄方法は、前記の新しい蒸気
洗浄剤を用いて、種々の物品を高い洗浄性能で効率的に
安全に蒸気洗浄することができるのである。
Claims (2)
- 【請求項１】一般式Ｉ 【化１】 （但し、式中、Ｒは炭素数１〜６の低級アルキル基を示
す）で示される炭酸ジ低級アルキルエステルを主成分と
する蒸気洗浄剤。 - 【請求項２】一般式Ｉ 【化２】 （但し、式中、Ｒは炭素数１〜６の低級アルキル基を示
す）で示される炭酸ジ低級アルキルエステルを主成分と
する蒸気洗浄剤を加熱して、前記炭酸ジ低級アルキルエ
ステルの蒸気を処理対象物品と接触させて、該物品表面
に付着している有機汚染物又は水をその蒸気の凝縮液に
溶解させて、凝縮液を系外へ除去して、該物品を洗浄す
ることを特徴とする蒸気洗浄方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5306451A JP2985169B2 (ja) | 1993-12-07 | 1993-12-07 | 蒸気洗浄剤及び蒸気洗浄方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5306451A JP2985169B2 (ja) | 1993-12-07 | 1993-12-07 | 蒸気洗浄剤及び蒸気洗浄方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07157798A true JPH07157798A (ja) | 1995-06-20 |
| JP2985169B2 JP2985169B2 (ja) | 1999-11-29 |
Family
ID=17957165
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5306451A Expired - Fee Related JP2985169B2 (ja) | 1993-12-07 | 1993-12-07 | 蒸気洗浄剤及び蒸気洗浄方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2985169B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2014051711A (ja) * | 2012-09-07 | 2014-03-20 | Amakasu Kagaku Sangyo Kk | 金属用洗浄剤 |
-
1993
- 1993-12-07 JP JP5306451A patent/JP2985169B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2014051711A (ja) * | 2012-09-07 | 2014-03-20 | Amakasu Kagaku Sangyo Kk | 金属用洗浄剤 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2985169B2 (ja) | 1999-11-29 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |