JP2974983B2 - フェノール系エポキシ樹脂およびその製造法 - Google Patents
フェノール系エポキシ樹脂およびその製造法Info
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- JP2974983B2 JP2974983B2 JP9157240A JP15724097A JP2974983B2 JP 2974983 B2 JP2974983 B2 JP 2974983B2 JP 9157240 A JP9157240 A JP 9157240A JP 15724097 A JP15724097 A JP 15724097A JP 2974983 B2 JP2974983 B2 JP 2974983B2
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Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、一群のフェノール
系エポキシ樹脂を提供することができ、特に電子用ケミ
カルと素材の用途に適したフェノール系エポキシ樹脂お
よびその製造方法に関する。
系エポキシ樹脂を提供することができ、特に電子用ケミ
カルと素材の用途に適したフェノール系エポキシ樹脂お
よびその製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】フェノール系エポキシ樹脂は半導体シー
ラント素材の主成分の１つであり、このうちビスフェノ
ール系エポキシ樹脂は比較的低い粘性を有することによ
り、製造プロセスにおいてその流動性を高めることがで
きるのみならず、さらにその気泡の発生を少なくするこ
とができる。このため半導体の薄いシーラント素材とし
て広く利用されている。
ラント素材の主成分の１つであり、このうちビスフェノ
ール系エポキシ樹脂は比較的低い粘性を有することによ
り、製造プロセスにおいてその流動性を高めることがで
きるのみならず、さらにその気泡の発生を少なくするこ
とができる。このため半導体の薄いシーラント素材とし
て広く利用されている。
【０００３】また、トリスフェノール系とテトラキスフ
ェノール系エポキシ樹脂は、比較的高いガラス転移温度
を有していることから、シーラント素材もしくは基板に
添加して使用することによって、その耐熱性を効果的に
高めることができる。
ェノール系エポキシ樹脂は、比較的高いガラス転移温度
を有していることから、シーラント素材もしくは基板に
添加して使用することによって、その耐熱性を効果的に
高めることができる。
【０００４】このほかフェノール系エポキシ樹脂のベン
ゼン環に炭化水素または芳香族基を導入した誘導体は、
シール後にその吸湿性を低下させるとともに、クラッキ
ングを少なくする効果を有する。よって、粘性が低く、
耐熱性を有し、しかも吸湿性の低いフェノール系エポキ
シ樹脂を合成することは、半導体電子素材開発の主要な
方向とされている。
ゼン環に炭化水素または芳香族基を導入した誘導体は、
シール後にその吸湿性を低下させるとともに、クラッキ
ングを少なくする効果を有する。よって、粘性が低く、
耐熱性を有し、しかも吸湿性の低いフェノール系エポキ
シ樹脂を合成することは、半導体電子素材開発の主要な
方向とされている。
【０００５】ところで、米国特許第５０２８６８６号明
細書には高純度のエポキシ樹脂の製造方法として、同時
に添加する方法が開示されていて、従来の技術に対する
改良方法には、同時にまたは連続して（１）エピハロヒ
ドリン、エポキシ化合物と溶媒との混合物および（２）
アルカリ金属またはアルカリ土類金属の水酸化物または
水酸化マンガンと水、または有機溶媒の混合物をエピハ
ロヒドリンと溶媒の混合物に添加し、１当量あたりのフ
ェノール基に対して少なくとも１当量以上のアルカリ金
属あるいはアルカリ土金属性水酸化物が反応に用いられ
る化学量論的置換反応を包括する。
細書には高純度のエポキシ樹脂の製造方法として、同時
に添加する方法が開示されていて、従来の技術に対する
改良方法には、同時にまたは連続して（１）エピハロヒ
ドリン、エポキシ化合物と溶媒との混合物および（２）
アルカリ金属またはアルカリ土類金属の水酸化物または
水酸化マンガンと水、または有機溶媒の混合物をエピハ
ロヒドリンと溶媒の混合物に添加し、１当量あたりのフ
ェノール基に対して少なくとも１当量以上のアルカリ金
属あるいはアルカリ土金属性水酸化物が反応に用いられ
る化学量論的置換反応を包括する。
【０００６】また、米国特許第４９５４６０３号明細書
には、耐熱性を有する難燃性のエポキシ樹脂組成物が記
載されていて、３つの官能基を有するエポキシ化合物
と、ハロゲン化ビスフェノールとを触媒存在下で作用さ
せて得られるハロゲン含有エポキシ樹脂を包括する。
には、耐熱性を有する難燃性のエポキシ樹脂組成物が記
載されていて、３つの官能基を有するエポキシ化合物
と、ハロゲン化ビスフェノールとを触媒存在下で作用さ
せて得られるハロゲン含有エポキシ樹脂を包括する。
【０００７】また、ヨーロッパ特許第５７９３０１号明
細書には、ビスフェノール構造を含むエポキシ樹脂の製
造方法が開示されていて、ジアルコールモノエーテルと
水とからなる溶媒の存在下、アルカリ金属酸化物をフェ
ノール基１モルあたり０．８〜２．０モルを４，４′−
ビスフェノールとエピハロヒドリンの混合物に添加する
合成方法を包括する。
細書には、ビスフェノール構造を含むエポキシ樹脂の製
造方法が開示されていて、ジアルコールモノエーテルと
水とからなる溶媒の存在下、アルカリ金属酸化物をフェ
ノール基１モルあたり０．８〜２．０モルを４，４′−
ビスフェノールとエピハロヒドリンの混合物に添加する
合成方法を包括する。
【０００８】同じくヨーロッパ特許第３９６２０３号明
細書記載の包覆半導体に用いられるエポキシ樹脂は、水
と、イソプロパノールの存在下で、テトラキスフェノー
ル、エピハロヒドリンと水酸化ナトリウム水溶液を反応
させて得る。
細書記載の包覆半導体に用いられるエポキシ樹脂は、水
と、イソプロパノールの存在下で、テトラキスフェノー
ル、エピハロヒドリンと水酸化ナトリウム水溶液を反応
させて得る。
【０００９】上記の従来の技術は、それぞれビスフェノ
ール、トリスフェノールおよびテトラキスフェノール系
エポキシ樹脂の製造方法に関するものであり、いずれの
場合もビスフェノール、トリスフェノール、あるいはテ
トラキスフェノールを原料として、アルコール類溶媒
（例えばイソプロパノール、エチレングリコールなど）
中、水酸化ナトリウムなどの強アルカリ水溶液を添加し
て、エピクロロヒドリンと反応させてエポキシ樹脂を得
る合成方法であり、反応には１モルのフェノール基あた
り、少なくとも１モル以上の水酸化ナトリウムが用いら
れている化学量論的置換反応である。
ール、トリスフェノールおよびテトラキスフェノール系
エポキシ樹脂の製造方法に関するものであり、いずれの
場合もビスフェノール、トリスフェノール、あるいはテ
トラキスフェノールを原料として、アルコール類溶媒
（例えばイソプロパノール、エチレングリコールなど）
中、水酸化ナトリウムなどの強アルカリ水溶液を添加し
て、エピクロロヒドリンと反応させてエポキシ樹脂を得
る合成方法であり、反応には１モルのフェノール基あた
り、少なくとも１モル以上の水酸化ナトリウムが用いら
れている化学量論的置換反応である。
【００１０】
【発明が解決しようとする課題】前記の従来より知られ
ているエポキシ樹脂の製造方法では、原料供給として強
アルカリを添加する際に放熱する故、アルカリ導入速度
に制約があり、徐々に滴下しなければならず、さらに原
料中、水、アルコール類、エピクロロヒドリンとフェノ
ールなどの有機化合物を含有する非均質反応であるた
め、反応は減圧共沸下で行う必要がある。しかも反応終
了後、さらに蒸留除去しにくい水とアルコール類を蒸留
するため、複雑な反応施設を要する上、その操作も煩わ
しく、かつ多くの時間を投入しなければならない。現状
では満足のゆく合成方法が知られていないため、簡単な
製造プロセスで反応時間も短縮できる新規なフェノール
系エポキシ樹脂の合成方法の開発が望ましいことは容易
に想像できる。
ているエポキシ樹脂の製造方法では、原料供給として強
アルカリを添加する際に放熱する故、アルカリ導入速度
に制約があり、徐々に滴下しなければならず、さらに原
料中、水、アルコール類、エピクロロヒドリンとフェノ
ールなどの有機化合物を含有する非均質反応であるた
め、反応は減圧共沸下で行う必要がある。しかも反応終
了後、さらに蒸留除去しにくい水とアルコール類を蒸留
するため、複雑な反応施設を要する上、その操作も煩わ
しく、かつ多くの時間を投入しなければならない。現状
では満足のゆく合成方法が知られていないため、簡単な
製造プロセスで反応時間も短縮できる新規なフェノール
系エポキシ樹脂の合成方法の開発が望ましいことは容易
に想像できる。
【００１１】本発明者らは、前記問題点を解決すべく鋭
意努力検討した結果、フェノール系エポキシ樹脂の製造
方法として、イミダゾール系化合物を触媒に用い、フェ
ノール、イミダゾールとエピハロヒドリンなどの原料を
同時に導入し、溶剤の非存在下で簡単な設備中、短時間
の反応で合成できることを発見し、本発明を完成するに
至った。
意努力検討した結果、フェノール系エポキシ樹脂の製造
方法として、イミダゾール系化合物を触媒に用い、フェ
ノール、イミダゾールとエピハロヒドリンなどの原料を
同時に導入し、溶剤の非存在下で簡単な設備中、短時間
の反応で合成できることを発見し、本発明を完成するに
至った。
【００１２】本発明の第一目的として、ＩＣシーラント
素材、プリント基板の基板添加剤および電子粘着剤など
に利用される一群のフェノール系エポキシ樹脂を提供す
る。
素材、プリント基板の基板添加剤および電子粘着剤など
に利用される一群のフェノール系エポキシ樹脂を提供す
る。
【００１３】本発明の次の目的は、前記のフェノール系
エポキシ樹脂の製造方法の提供にある。すなわち、イミ
ダゾール系化合物を触媒として用い、溶媒の非存在下
に、フェノール、イミダゾールとエピハロヒドリンを同
時に導入し反応を行なうことで、簡単な設備で、しかも
反応時間の短縮が可能となる工業的に有利な合成方法を
特徴とする。
エポキシ樹脂の製造方法の提供にある。すなわち、イミ
ダゾール系化合物を触媒として用い、溶媒の非存在下
に、フェノール、イミダゾールとエピハロヒドリンを同
時に導入し反応を行なうことで、簡単な設備で、しかも
反応時間の短縮が可能となる工業的に有利な合成方法を
特徴とする。
【００１４】
【課題を解決するための手段】本発明のフェノール系エ
ポキシ樹脂はつぎの一般式（II）または（III）で表さ
れる。
ポキシ樹脂はつぎの一般式（II）または（III）で表さ
れる。
【００１５】
【化１０】
【００１６】［式中、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3とＲ4は同じでも異
なっていてもよく、それぞれ独立して水素原子、Ｃ1〜6
の炭化水素基、Ｃ6〜10の芳香族基またはＣ1〜6の炭化
水素基により置換されたＣ6〜10の芳香族基を表す；Ｒ5
とＲ6は同じでも異なっていてもよく、それぞれ独立し
て水素原子、Ｃ1〜6の炭化水素基、Ｃ6〜10の芳香族
基、Ｃ1〜6の炭化水素基の置換基により置換されたＣ
6〜10の芳香族基、
なっていてもよく、それぞれ独立して水素原子、Ｃ1〜6
の炭化水素基、Ｃ6〜10の芳香族基またはＣ1〜6の炭化
水素基により置換されたＣ6〜10の芳香族基を表す；Ｒ5
とＲ6は同じでも異なっていてもよく、それぞれ独立し
て水素原子、Ｃ1〜6の炭化水素基、Ｃ6〜10の芳香族
基、Ｃ1〜6の炭化水素基の置換基により置換されたＣ
6〜10の芳香族基、
【００１７】
【化１１】
【００１８】（式中、Ｒ7は水素原子、Ｃ1〜6の炭化水
素基、Ｃ6〜10の芳香族基またはＣ1〜6の炭化水素基に
より置換されたＣ6〜10の芳香族基を表す）、または
素基、Ｃ6〜10の芳香族基またはＣ1〜6の炭化水素基に
より置換されたＣ6〜10の芳香族基を表す）、または
【００１９】
【化１２】
【００２０】（式中、Ｒ8とＲ9は同じでも異なっていて
もよく、それぞれ独立して水素原子、Ｃ1〜6の炭化水素
基、Ｃ6〜10の芳香族基またはＣ1〜6の炭化水素基によ
り置換された芳香族基を表す）。ただし、Ｒ 5 とＲ 6 は少
なくとも一方が
もよく、それぞれ独立して水素原子、Ｃ1〜6の炭化水素
基、Ｃ6〜10の芳香族基またはＣ1〜6の炭化水素基によ
り置換された芳香族基を表す）。ただし、Ｒ 5 とＲ 6 は少
なくとも一方が
【００２１】
【化１３】
【００２２】であり、もしＲ 5 またはＲ 6 が
【００２３】
【化１４】
【００２４】であれば、Ｒ 1 、Ｒ 2 、Ｒ 3 とＲ 4 の少なくと
も１つはＣ 6〜10 の芳香族基またはＣ 1 〜6 の炭化水素基
の置換基により置換されたＣ 6〜10 の芳香族基を示
す。］また本発明は、イミダゾール系化合物の触媒下、
多価フェノール化合物あるいはその炭化水素系または芳
香族系誘導体とエピハロヒドリンとを反応させることを
含むフェノール系エポキシ樹脂、特につぎの一般式
（Ｉ）で示されるフェノール系エポキシ樹脂の製法に関
する。
も１つはＣ 6〜10 の芳香族基またはＣ 1 〜6 の炭化水素基
の置換基により置換されたＣ 6〜10 の芳香族基を示
す。］また本発明は、イミダゾール系化合物の触媒下、
多価フェノール化合物あるいはその炭化水素系または芳
香族系誘導体とエピハロヒドリンとを反応させることを
含むフェノール系エポキシ樹脂、特につぎの一般式
（Ｉ）で示されるフェノール系エポキシ樹脂の製法に関
する。
【００２５】
【化１５】
【００２６】［式中、Ｒ 1 、Ｒ 2 、Ｒ 3 とＲ 4 は同じでも異
なっていてもよく、それぞれ独立して水素原子、Ｃ 1〜6
の炭化水素基、Ｃ 6〜10 の芳香族基またはＣ 1〜6 の炭化
水素基の置換基により置換されたＣ 6〜10 の芳香族基を
示す；Ｒ 5 とＲ 6 は同じでも異なっていてもよく、それぞ
れ独立して水素原子、Ｃ 1〜6 の炭化水素基、Ｃ 6〜10 の
芳香族基、Ｃ 1〜6 の炭化水素基の置換基により置換され
たＣ 6〜10 の芳香族基、
なっていてもよく、それぞれ独立して水素原子、Ｃ 1〜6
の炭化水素基、Ｃ 6〜10 の芳香族基またはＣ 1〜6 の炭化
水素基の置換基により置換されたＣ 6〜10 の芳香族基を
示す；Ｒ 5 とＲ 6 は同じでも異なっていてもよく、それぞ
れ独立して水素原子、Ｃ 1〜6 の炭化水素基、Ｃ 6〜10 の
芳香族基、Ｃ 1〜6 の炭化水素基の置換基により置換され
たＣ 6〜10 の芳香族基、
【００２７】
【化１６】
【００２８】（式中Ｒ 7 は水素原子、Ｃ 1〜6 の炭化水素
基、Ｃ 6〜10 の芳香族基またはＣ 1〜6 の炭化水素基の置
換基により置換されたＣ 6〜10 の芳香族基を表す）、ま
たは
基、Ｃ 6〜10 の芳香族基またはＣ 1〜6 の炭化水素基の置
換基により置換されたＣ 6〜10 の芳香族基を表す）、ま
たは
【００２９】
【化１７】
【００３０】（式中、Ｒ 8 とＲ 9 は同じでも異なっていて
もよく、それぞれ独立して水素原子、Ｃ 1〜6 の炭化水素
基、Ｃ 6〜10 の芳香族基またはＣ 1〜6 の炭化水素基の置
換基により置換されたＣ 6〜10 の芳香族基を表す）；ｎ
は０または１を示す。］
もよく、それぞれ独立して水素原子、Ｃ 1〜6 の炭化水素
基、Ｃ 6〜10 の芳香族基またはＣ 1〜6 の炭化水素基の置
換基により置換されたＣ 6〜10 の芳香族基を表す）；ｎ
は０または１を示す。］
【００３１】前記の一般式（Ｉ）、（II）および（II
I）において、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3とＲ4は同じでも異なって
いてもよく、具体的に例示すると水素原子、Ｃ1〜6のア
ルキル基、Ｃ3〜6の環式アルキル基、Ｃ2〜6のアルケニ
ル基、Ｃ2〜6のアルキニル基、フェニル基、ナフチル
基、またはＣ1〜6のアルキル基、Ｃ3〜6の環式アルキル
基、Ｃ2〜6のアルケニル基もしくはＣ2〜6のアルキニル
基により置換されるフェニル基またはナフチル基などが
あげられる。さらに、水素原子、メチル基、エチル基、
ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソ
ブチル基、第三ブチル基、アミル基、ヘキシル基、フェ
ニル基、ベンジル基、フェニルエチル基などが好適に使
用され、特に水素原子、メチル基、第三ブチル基とフェ
ニル基が最も好適に使用される。
I）において、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3とＲ4は同じでも異なって
いてもよく、具体的に例示すると水素原子、Ｃ1〜6のア
ルキル基、Ｃ3〜6の環式アルキル基、Ｃ2〜6のアルケニ
ル基、Ｃ2〜6のアルキニル基、フェニル基、ナフチル
基、またはＣ1〜6のアルキル基、Ｃ3〜6の環式アルキル
基、Ｃ2〜6のアルケニル基もしくはＣ2〜6のアルキニル
基により置換されるフェニル基またはナフチル基などが
あげられる。さらに、水素原子、メチル基、エチル基、
ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソ
ブチル基、第三ブチル基、アミル基、ヘキシル基、フェ
ニル基、ベンジル基、フェニルエチル基などが好適に使
用され、特に水素原子、メチル基、第三ブチル基とフェ
ニル基が最も好適に使用される。
【００３２】前記一般式（Ｉ）において、Ｒ5とＲ6は同
じでも異なっていてもよく、具体的に例示すると水素原
子、Ｃ1〜6のアルキル基、Ｃ3〜6の環式アルキル基、Ｃ
2〜6のアルケニル基、Ｃ2〜6のアルキニル基、フェニル
基、ナフチル基、またはＣ1〜6のアルキル基、Ｃ3〜6の
環式アルキル基、Ｃ2〜6のアルケニル基もしくはＣ2〜6
のアルキニル基などの置換基により置換されたフェニル
基またはナフチル基などがあげられる。これらのうちで
も具体的には、水素原子、メチル基、エチル基、ｎ−プ
ロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル
基、第三ブチル基、ｎ−アミル基、イソアミル基、ネオ
ペンチル基、ヘキシル基、フェニル基、ベンジル基、フ
ェニルエチル基などがより好適に用いられ、特に水素原
子、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基とイソプピル
基が最も好適に使用される。
じでも異なっていてもよく、具体的に例示すると水素原
子、Ｃ1〜6のアルキル基、Ｃ3〜6の環式アルキル基、Ｃ
2〜6のアルケニル基、Ｃ2〜6のアルキニル基、フェニル
基、ナフチル基、またはＣ1〜6のアルキル基、Ｃ3〜6の
環式アルキル基、Ｃ2〜6のアルケニル基もしくはＣ2〜6
のアルキニル基などの置換基により置換されたフェニル
基またはナフチル基などがあげられる。これらのうちで
も具体的には、水素原子、メチル基、エチル基、ｎ−プ
ロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル
基、第三ブチル基、ｎ−アミル基、イソアミル基、ネオ
ペンチル基、ヘキシル基、フェニル基、ベンジル基、フ
ェニルエチル基などがより好適に用いられ、特に水素原
子、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基とイソプピル
基が最も好適に使用される。
【００３３】前記一般式（Ｉ）において、Ｒ5とＲ6は具
体的には、
体的には、
【００３４】
【化１８】
【００３５】（式中、Ｒ7は具体的には、水素原子、Ｃ
1〜6のアルキル基、Ｃ3〜6の環式アルキル基、Ｃ2〜6の
アルケニル基、Ｃ2〜6のアルキニル基、フェニル基、ナ
フチル基、またはＣ1〜6のアルキル基、Ｃ3〜6の環式ア
ルキル基、Ｃ2〜6のアルケニル基もしくはＣ2〜6のアル
キニル基などの置換基により置換されたフェニル基また
はナフチル基などがあげられる。このうちでも、特にメ
チル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、
ｎ−ブチル基、イソブチル基、第三ブチル基、アミル
基、ヘキシル基とフェニル基などが好適に使用され
る。）をも包含する。
1〜6のアルキル基、Ｃ3〜6の環式アルキル基、Ｃ2〜6の
アルケニル基、Ｃ2〜6のアルキニル基、フェニル基、ナ
フチル基、またはＣ1〜6のアルキル基、Ｃ3〜6の環式ア
ルキル基、Ｃ2〜6のアルケニル基もしくはＣ2〜6のアル
キニル基などの置換基により置換されたフェニル基また
はナフチル基などがあげられる。このうちでも、特にメ
チル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、
ｎ−ブチル基、イソブチル基、第三ブチル基、アミル
基、ヘキシル基とフェニル基などが好適に使用され
る。）をも包含する。
【００３６】前記一般式（Ｉ）において、Ｒ5とＲ6は具
体的には、
体的には、
【００３７】
【化１９】
【００３８】（式中、Ｒ8とＲ9は同じでも異なっていて
もよく、具体的には、水素原子、Ｃ1〜6のアルキル基、
Ｃ3〜6の環式アルキル基、Ｃ2〜6のアルケニル基、Ｃ
2〜6のアルキニル基、フェニル基、ナフチル基、または
Ｃ1〜6のアルキル基、Ｃ3〜6の環式アルキル基、Ｃ2〜6
のアルケニル基もしくはＣ2〜6のアルキニル基などの置
換基により置換されたフェニル基またはナフチル基など
があげられる。これらのうちでも、特にメチル基、エチ
ル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル
基、イソブチル基、第三ブチル基、アミル基、ヘキシル
基、フェニル基とベンジル基などはさらに好適に使用さ
れる。）をも包含する。
もよく、具体的には、水素原子、Ｃ1〜6のアルキル基、
Ｃ3〜6の環式アルキル基、Ｃ2〜6のアルケニル基、Ｃ
2〜6のアルキニル基、フェニル基、ナフチル基、または
Ｃ1〜6のアルキル基、Ｃ3〜6の環式アルキル基、Ｃ2〜6
のアルケニル基もしくはＣ2〜6のアルキニル基などの置
換基により置換されたフェニル基またはナフチル基など
があげられる。これらのうちでも、特にメチル基、エチ
ル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル
基、イソブチル基、第三ブチル基、アミル基、ヘキシル
基、フェニル基とベンジル基などはさらに好適に使用さ
れる。）をも包含する。
【００３９】前記一般式（Ｉ）において、Ｒ5とＲ6のよ
り好適な例として、水素原子、メチル基、エチル基、ｎ
−プロピル基、イソプロピル基、
り好適な例として、水素原子、メチル基、エチル基、ｎ
−プロピル基、イソプロピル基、
【００４０】
【化２０】
【００４１】などがあげられる。
【００４２】本発明の前記一般式（Ｉ）で示すフェノー
ル系エポキシ樹脂の製造方法は、前 記のとおり、イミダ
ゾール系化合物の触媒下、多価フェノール化合物あるい
はその炭化水素系または芳香族誘導体とエピハロヒドリ
ンの反応により行われる。
ル系エポキシ樹脂の製造方法は、前 記のとおり、イミダ
ゾール系化合物の触媒下、多価フェノール化合物あるい
はその炭化水素系または芳香族誘導体とエピハロヒドリ
ンの反応により行われる。
【００４３】本発明において用いられる多価フェノール
化合物としては、ビスフェノール、トリスフェノールと
テトラキスフェノールなどがあげられる。製造プロセス
において、触媒として用いられるイミダゾール系化合物
を多価フェノールあるいはその炭化水素系または芳香族
系誘導体とエピハロヒドリンの溶液中に添加し、常圧、
均質系において加温還流し、多価フェノール基含有のエ
ポキシ樹脂あるいはその炭化水素系または芳香族系誘導
体を得る。このうちで、ビスフェノール系エポキシ樹脂
はパラ位、パラ位（Ｐ，Ｐ′−）結合やオルト位、オル
ト位（Ｏ，Ｏ′−）結合などの結合状態の構造体も含
む。
化合物としては、ビスフェノール、トリスフェノールと
テトラキスフェノールなどがあげられる。製造プロセス
において、触媒として用いられるイミダゾール系化合物
を多価フェノールあるいはその炭化水素系または芳香族
系誘導体とエピハロヒドリンの溶液中に添加し、常圧、
均質系において加温還流し、多価フェノール基含有のエ
ポキシ樹脂あるいはその炭化水素系または芳香族系誘導
体を得る。このうちで、ビスフェノール系エポキシ樹脂
はパラ位、パラ位（Ｐ，Ｐ′−）結合やオルト位、オル
ト位（Ｏ，Ｏ′−）結合などの結合状態の構造体も含
む。
【００４４】本発明の製造方法において用いられる多価
フェノール化合物、たとえばビスフェノール、トリスフ
ェノール、テトラキスフェノールおよびその炭化水素系
または芳香族系誘導体（下記一般式（IV）に示す）は、
酸化カップリング反応あるいは酸性縮合反応により合成
することができる。
フェノール化合物、たとえばビスフェノール、トリスフ
ェノール、テトラキスフェノールおよびその炭化水素系
または芳香族系誘導体（下記一般式（IV）に示す）は、
酸化カップリング反応あるいは酸性縮合反応により合成
することができる。
【００４５】
【化２１】
【００４６】（式中、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、Ｒ6は
前記一般式（Ｉ）と同じ意味を表す。）本発明の製造方
法において、触媒としてイミダゾール系化合物を用いる
が、特に制限はなく、具体的には、イミダゾール、２−
メチルイミダゾール、２−エチルイミダゾール、２−ｎ
−プロピルイミダゾール、２−イソプロピルイミダゾー
ルと２−フェニルイミダゾールなどを使用するのが効率
的である。その使用量は１当量のフェノール基あたり、
０．０１〜０．５当量のイミダゾール系化合物を用いる
のが好ましい。特に０．０１〜０．２当量を用いるのが
最も好適である。
前記一般式（Ｉ）と同じ意味を表す。）本発明の製造方
法において、触媒としてイミダゾール系化合物を用いる
が、特に制限はなく、具体的には、イミダゾール、２−
メチルイミダゾール、２−エチルイミダゾール、２−ｎ
−プロピルイミダゾール、２−イソプロピルイミダゾー
ルと２−フェニルイミダゾールなどを使用するのが効率
的である。その使用量は１当量のフェノール基あたり、
０．０１〜０．５当量のイミダゾール系化合物を用いる
のが好ましい。特に０．０１〜０．２当量を用いるのが
最も好適である。
【００４７】本発明の製造方法においても用いられるエ
ピハロヒドリンとしてエピクロロヒドリンとエピブロム
ヒドリンがあげられ、特にエピクロロヒドリンを用いる
のが好ましい。その使用量は、１当量のフェノール基あ
たり、１〜２０当量のエピハロヒドリンが好ましく、特
に１〜５当量を用いるのが最も好適である。
ピハロヒドリンとしてエピクロロヒドリンとエピブロム
ヒドリンがあげられ、特にエピクロロヒドリンを用いる
のが好ましい。その使用量は、１当量のフェノール基あ
たり、１〜２０当量のエピハロヒドリンが好ましく、特
に１〜５当量を用いるのが最も好適である。
【００４８】本発明のフェノール系エポキシ樹脂は、イ
ミダゾール化合物の存在下、多価フェノール化合物ある
いはその炭化水素系または芳香族系誘導体とエピハロヒ
ドリンを常圧下、還流される均一系反応により行なわれ
る。反応温度は通常９０〜１２０℃であり、反応時間は
特に制限はないが、通常、置換基にもよるが１〜４時間
行なわれるのが望ましい。
ミダゾール化合物の存在下、多価フェノール化合物ある
いはその炭化水素系または芳香族系誘導体とエピハロヒ
ドリンを常圧下、還流される均一系反応により行なわれ
る。反応温度は通常９０〜１２０℃であり、反応時間は
特に制限はないが、通常、置換基にもよるが１〜４時間
行なわれるのが望ましい。
【００４９】前記反応により得られた生成物には、さら
にその容量の３〜５倍量の有機溶剤（たとえば、メチル
エチルケトン、メチル−２−ペンタノン、トルエンある
いはそれらの混合液など）と生成物と約同容量の１Ｎの
水酸化ナトリウム水溶液が添加され、撹拌しながら１〜
４時間還流し反応を続ける。その後抽出、乾燥、濃縮な
どの操作を経て、粗製物を得る。粗製物はさらにメチル
エチルケトン、メチル−２−ペンタノン、トルエンある
いはエチルアルコールなど有機溶剤により再結晶、ある
いはクロマトグラフィ法により純化される。収率は８５
〜９５％と効率的である。
にその容量の３〜５倍量の有機溶剤（たとえば、メチル
エチルケトン、メチル−２−ペンタノン、トルエンある
いはそれらの混合液など）と生成物と約同容量の１Ｎの
水酸化ナトリウム水溶液が添加され、撹拌しながら１〜
４時間還流し反応を続ける。その後抽出、乾燥、濃縮な
どの操作を経て、粗製物を得る。粗製物はさらにメチル
エチルケトン、メチル−２−ペンタノン、トルエンある
いはエチルアルコールなど有機溶剤により再結晶、ある
いはクロマトグラフィ法により純化される。収率は８５
〜９５％と効率的である。
【００５０】本発明のフェノール系エポキシ樹脂は、Ｉ
Ｃ用シーラント素材、プリント基板の基板添加剤、電子
用接着剤の成分として有用である。これらの材料を調製
するには、従来より用いられているエポキシ樹脂に代え
て本発明のフェノール系エポキシ樹脂を用いればよい。
Ｃ用シーラント素材、プリント基板の基板添加剤、電子
用接着剤の成分として有用である。これらの材料を調製
するには、従来より用いられているエポキシ樹脂に代え
て本発明のフェノール系エポキシ樹脂を用いればよい。
【００５１】
【実施例】以下、実施例をあげ本発明をさらに詳細に説
明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【００５２】実施例１ ４，４′−ビス（グリシジルオキシ）−３，３′，５，
５′−テトラメチルビフェニルの合成 容量５００ｍｌの丸底二口フラスコにメカニカル攪拌機
とコンデンサーを備え、３，３′，５，５′−テトラメ
チル−４，４′−ビスフェノール４８．４ｇ（０．２０
モル）、イミダゾール０．６８ｇ（０．０１モル）とエ
ピクロロヒドリン１８５．２ｇ（２．０モル）を加えて
後、１１５℃に加熱して２時間還流しながら反応を続け
る（クロマトグラフィで原料の３，３′，５，５′−テ
トラメチル−４，４′−ビスフェノールが完全に反応し
てなくなったのを確認する）。室温にもどし、回転濃縮
器で過剰のエピクロロヒドリンを除去する。
５′−テトラメチルビフェニルの合成 容量５００ｍｌの丸底二口フラスコにメカニカル攪拌機
とコンデンサーを備え、３，３′，５，５′−テトラメ
チル−４，４′−ビスフェノール４８．４ｇ（０．２０
モル）、イミダゾール０．６８ｇ（０．０１モル）とエ
ピクロロヒドリン１８５．２ｇ（２．０モル）を加えて
後、１１５℃に加熱して２時間還流しながら反応を続け
る（クロマトグラフィで原料の３，３′，５，５′−テ
トラメチル−４，４′−ビスフェノールが完全に反応し
てなくなったのを確認する）。室温にもどし、回転濃縮
器で過剰のエピクロロヒドリンを除去する。
【００５３】得られる反応生成物に４−メチル−２−ペ
ンタノン２００ｍｌと１Ｎの水酸化ナトリウム水溶液５
０ｍｌを加え、強く撹拌しながら９０℃に加熱し、還流
しながら２時間反応を続ける。室温にもどした後抽出
し、有機層と水層に分離し、さらに４−メチル−２−ペ
ンタノンを用い水層を抽出する（１６０ｍｌ×２）。有
機層を集め、無水硫酸ナトリウムで脱水、濾過、回転濃
縮機を用い濃縮して粗生成物をえた。
ンタノン２００ｍｌと１Ｎの水酸化ナトリウム水溶液５
０ｍｌを加え、強く撹拌しながら９０℃に加熱し、還流
しながら２時間反応を続ける。室温にもどした後抽出
し、有機層と水層に分離し、さらに４−メチル−２−ペ
ンタノンを用い水層を抽出する（１６０ｍｌ×２）。有
機層を集め、無水硫酸ナトリウムで脱水、濾過、回転濃
縮機を用い濃縮して粗生成物をえた。
【００５４】粗生成物は、さらに４−メチル−２−ペン
タノンで再結晶し、濾過して白色の固形物６０．４ｇを
得た。収率８５％。
タノンで再結晶し、濾過して白色の固形物６０．４ｇを
得た。収率８５％。
【００５５】ｍｐ．＝９９．５５〜１０１．５℃1 Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，２００ＭＨｚ）δ：２．３２
（１２Ｈ，ｓ）、２．７２（２Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝４．９，
２．７Ｈｚ）、２．８８（２Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝４．９，
４．４Ｈｚ）、３．３７（２Ｈ，ｄｄｄｄ，Ｊ＝５．
８，４．４，３．３，２．７Ｈｚ）、３．４２（２Ｈ，
ｄｄ，Ｊ＝１１．０，５．９Ｈｚ）、４．０６（２Ｈ，
ｄｄ，Ｊ＝１１．０，３．３Ｈｚ）、７．１５（４Ｈ，
ｓ）13Ｃ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，１００ＭＨｚ）δ：１
５．８（ｑ）、５１．３（ｔ）、５１．７（ｄ）、７
３．２（ｔ）、１２８．２（ｓ）、１３０．９（２Ｃ，
ｄ）、１３６．６（２Ｃ，ｄ）、１５４．８（ｓ）
（１２Ｈ，ｓ）、２．７２（２Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝４．９，
２．７Ｈｚ）、２．８８（２Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝４．９，
４．４Ｈｚ）、３．３７（２Ｈ，ｄｄｄｄ，Ｊ＝５．
８，４．４，３．３，２．７Ｈｚ）、３．４２（２Ｈ，
ｄｄ，Ｊ＝１１．０，５．９Ｈｚ）、４．０６（２Ｈ，
ｄｄ，Ｊ＝１１．０，３．３Ｈｚ）、７．１５（４Ｈ，
ｓ）13Ｃ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，１００ＭＨｚ）δ：１
５．８（ｑ）、５１．３（ｔ）、５１．７（ｄ）、７
３．２（ｔ）、１２８．２（ｓ）、１３０．９（２Ｃ，
ｄ）、１３６．６（２Ｃ，ｄ）、１５４．８（ｓ）
【００５６】実施例２ ４，４′−ビス（グリシジルオキシ）ビフェニルの合成 多価フェノールとして４，４′−ビスフェノールを用
い、分離精製する際に、４−メチル−２−ペンタノンの
代わりにメチルエチルケトンとトルエンの混合液（３／
１）で抽出したほかは、前記実施例１に準じて合成を行
ない、メチルエチルケトンで再結晶して白色の固形分を
得た。収率９５％。
い、分離精製する際に、４−メチル−２−ペンタノンの
代わりにメチルエチルケトンとトルエンの混合液（３／
１）で抽出したほかは、前記実施例１に準じて合成を行
ない、メチルエチルケトンで再結晶して白色の固形分を
得た。収率９５％。
【００５７】ｍｐ．＝１４４〜１４６℃1 Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，２００ＭＨｚ）δ：２．７５
（２Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝４．９，２．６Ｈｚ）、２．９０
（２Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝４．９，４．３Ｈｚ）、３．３６
（２Ｈ，ｄｄｄｄ，Ｊ＝５．６，４．３，３．０，２．
６Ｈｚ）、３．９７（２Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１１．１，５．
６Ｈｚ）、４．２４（２Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１１．１，３．
０Ｈｚ）、６．９６（４Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．７，２．０
Ｈｚ）、７．４４（４Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．７，２．０Ｈ
ｚ）
（２Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝４．９，２．６Ｈｚ）、２．９０
（２Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝４．９，４．３Ｈｚ）、３．３６
（２Ｈ，ｄｄｄｄ，Ｊ＝５．６，４．３，３．０，２．
６Ｈｚ）、３．９７（２Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１１．１，５．
６Ｈｚ）、４．２４（２Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１１．１，３．
０Ｈｚ）、６．９６（４Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．７，２．０
Ｈｚ）、７．４４（４Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．７，２．０Ｈ
ｚ）
【００５８】実施例３ ２，２′−ビス（グリシジルオキシ）ビフェニルの合成 多価フェノールとして２，２′−ビスフェノールを用
い、分離精製の際に、４−メチル−２−ペンタノンの代
わりにトルエンを用い抽出した以外は、すべて前記実施
例１に準じて合成を行ない、生じた粗精製物をシリカゲ
ルクロマトグラフィで精製して無色の液状物を得た。収
率９２％。
い、分離精製の際に、４−メチル−２−ペンタノンの代
わりにトルエンを用い抽出した以外は、すべて前記実施
例１に準じて合成を行ない、生じた粗精製物をシリカゲ
ルクロマトグラフィで精製して無色の液状物を得た。収
率９２％。
【００５９】油状物1 Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，２００ＭＨｚ）δ：２．５４
（２Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝５．１，２．５Ｈｚ）、２．７０
（２Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝５．１，４．０Ｈｚ）、３．１６
（２Ｈ，ｄｄｄｄ，Ｊ＝５．５，４．０，２．９，２．
５Ｈｚ）、３．９３（２Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１１．２，５．
５Ｈｚ）、４．１７（２Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１１．２，２．
９Ｈｚ）、６．９５（２Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．１，＜１．
０Ｈｚ）、７．０３（２Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝７．３，１．０
Ｈｚ）、７．２４（４Ｈ，ｍ）13Ｃ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ
3、１００ＭＨｚ）δ：４４．３（ｔ）、５０．２
（ｄ）、６８．９（ｔ）、１１２．６（ｄ）、１２１．
０（ｄ）、１２８．３（ｓ）、１２８．５（ｄ）、１３
１．４（ｄ）、１５５．９（ｓ）
（２Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝５．１，２．５Ｈｚ）、２．７０
（２Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝５．１，４．０Ｈｚ）、３．１６
（２Ｈ，ｄｄｄｄ，Ｊ＝５．５，４．０，２．９，２．
５Ｈｚ）、３．９３（２Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１１．２，５．
５Ｈｚ）、４．１７（２Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１１．２，２．
９Ｈｚ）、６．９５（２Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．１，＜１．
０Ｈｚ）、７．０３（２Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝７．３，１．０
Ｈｚ）、７．２４（４Ｈ，ｍ）13Ｃ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ
3、１００ＭＨｚ）δ：４４．３（ｔ）、５０．２
（ｄ）、６８．９（ｔ）、１１２．６（ｄ）、１２１．
０（ｄ）、１２８．３（ｓ）、１２８．５（ｄ）、１３
１．４（ｄ）、１５５．９（ｓ）
【００６０】実施例４〜７ 出発多価フェノールとしての下記のビスフェノールを用
い、分離精製する際、４−メチル−２−ペンタノンの代
わりにトルエン混液を用いて抽出した以外は、すべて前
記実施例１に順じて実施例４〜７について合成を行な
い、さらにトルエンより再結成して白色の固形物あるい
は油状物を得た。収率８５〜９０％。
い、分離精製する際、４−メチル−２−ペンタノンの代
わりにトルエン混液を用いて抽出した以外は、すべて前
記実施例１に順じて実施例４〜７について合成を行な
い、さらにトルエンより再結成して白色の固形物あるい
は油状物を得た。収率８５〜９０％。
【００６１】（実施例４） ２，２′−ビス［（４−グリシジルオキシ−３，５−ジ
メチル）フェニル］プロパン： 出発多価フェノール：２，２′−ビス（３，５−ジメチ
ル−４−ヒドロキシフェニル）プロパン 油状物1 Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，２００ＭＨｚ）δ：１．５６
（６Ｈ，ｓ）、２．１５（１２Ｈ，ｓ）、２．６９（２
Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝４．９，２．６Ｈｚ）、２．８５（２
Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝４．９，４．２Ｈｚ）、３．３３（２
Ｈ，ｄｄｄｄ，Ｊ＝５．９，４．２，３．３，２．６Ｈ
ｚ）、３．７１（２Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１１．０，５．９Ｈ
ｚ）、４．００（２Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１１．０，３．３Ｈ
ｚ）、６．８０（４Ｈ，ｓ）
メチル）フェニル］プロパン： 出発多価フェノール：２，２′−ビス（３，５−ジメチ
ル−４−ヒドロキシフェニル）プロパン 油状物1 Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，２００ＭＨｚ）δ：１．５６
（６Ｈ，ｓ）、２．１５（１２Ｈ，ｓ）、２．６９（２
Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝４．９，２．６Ｈｚ）、２．８５（２
Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝４．９，４．２Ｈｚ）、３．３３（２
Ｈ，ｄｄｄｄ，Ｊ＝５．９，４．２，３．３，２．６Ｈ
ｚ）、３．７１（２Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１１．０，５．９Ｈ
ｚ）、４．００（２Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１１．０，３．３Ｈ
ｚ）、６．８０（４Ｈ，ｓ）
【００６２】（実施例５） １，１′−ビス［（４−グリシジルオキシ−３−フェニ
ル）フェニル］プロパン： 出発多価フェノール：１，１′−ビス（３−フェニル−
４−ヒドロキシフェニル）プロパン 油状物1 Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，４００ＭＨｚ）δ：０．９２
（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ）、２．０６（２Ｈ，ｄ
ｑ，Ｊ＝７．７，７．２Ｈｚ）、２．６４（２Ｈ，ｄ
ｄ，Ｊ＝４．９，２．６Ｈｚ）、２．７８（２Ｈ，ｄ
ｄ，Ｊ＝４．９，４．４Ｈｚ）、３．２２（２Ｈ，ｄｄ
ｄｄ，Ｊ＝５．１，４．４，３．０，２．６Ｈｚ）、
３．７６（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．７Ｈｚ）、３．９３（２
Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１１．１，５．１Ｈｚ）、４．１５（２
Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１１．１，３．０Ｈｚ）、６．８９（２
Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４，Ｈｚ）、７．１５（２Ｈ，ｄｄ，
Ｊ＝８．４，２．２Ｈｚ）、７．２１（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝
２．２Ｈｚ）、７．３０（２Ｈ，ｔｔ，Ｊ＝７．３，
２．０Ｈｚ）、７．３９（４Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．３Ｈ
ｚ）、７．５２（４Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝７．３，２．０Ｈ
ｚ）
ル）フェニル］プロパン： 出発多価フェノール：１，１′−ビス（３−フェニル−
４−ヒドロキシフェニル）プロパン 油状物1 Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，４００ＭＨｚ）δ：０．９２
（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ）、２．０６（２Ｈ，ｄ
ｑ，Ｊ＝７．７，７．２Ｈｚ）、２．６４（２Ｈ，ｄ
ｄ，Ｊ＝４．９，２．６Ｈｚ）、２．７８（２Ｈ，ｄ
ｄ，Ｊ＝４．９，４．４Ｈｚ）、３．２２（２Ｈ，ｄｄ
ｄｄ，Ｊ＝５．１，４．４，３．０，２．６Ｈｚ）、
３．７６（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．７Ｈｚ）、３．９３（２
Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１１．１，５．１Ｈｚ）、４．１５（２
Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１１．１，３．０Ｈｚ）、６．８９（２
Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４，Ｈｚ）、７．１５（２Ｈ，ｄｄ，
Ｊ＝８．４，２．２Ｈｚ）、７．２１（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝
２．２Ｈｚ）、７．３０（２Ｈ，ｔｔ，Ｊ＝７．３，
２．０Ｈｚ）、７．３９（４Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．３Ｈ
ｚ）、７．５２（４Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝７．３，２．０Ｈ
ｚ）
【００６３】（実施例６） １，１′−ビス［（４−グリシジルオキシ−３−フェニ
ル）フェニル］ブタン：出発多価フェノール：１，１′
−ビス（３−フェニル−４−ヒドロキシフェニル）ブタ
ン 油状物1 Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，２００ＭＨｚ）δ：０．９１
（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ）、１．２７（２Ｈ，ｔ
ｑ，Ｊ＝９．１，７．２Ｈｚ）、１．９９（２Ｈ，ｔ
ｄ，Ｊ＝９．１，４．８Ｈｚ）、２．６３（２Ｈ，ｄ
ｄ，Ｊ＝４．９，２．５Ｈｚ）、２．７６（２Ｈ，ｄ
ｄ，Ｊ＝４．９，４．４Ｈｚ）、３．２１（２Ｈ，ｄｄ
ｄｄ，Ｊ＝５．０，４．４，３．０，２．５Ｈｚ）、
３．６８（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝４．８Ｈｚ）、３．９３（２
Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１１．１，５．０Ｈｚ）、４．１４（２
Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１１．１，３．０Ｈｚ）、６．８７（２
Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．３Ｈｚ）、７．１４（２Ｈ，ｄｄ，Ｊ
＝８．３，２．１Ｈｚ）、７．２０（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝
２．１Ｈｚ）、７．３５（６Ｈ，ｍ）、７．５１（４
Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝７．１，１．７Ｈｚ）
ル）フェニル］ブタン：出発多価フェノール：１，１′
−ビス（３−フェニル−４−ヒドロキシフェニル）ブタ
ン 油状物1 Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，２００ＭＨｚ）δ：０．９１
（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ）、１．２７（２Ｈ，ｔ
ｑ，Ｊ＝９．１，７．２Ｈｚ）、１．９９（２Ｈ，ｔ
ｄ，Ｊ＝９．１，４．８Ｈｚ）、２．６３（２Ｈ，ｄ
ｄ，Ｊ＝４．９，２．５Ｈｚ）、２．７６（２Ｈ，ｄ
ｄ，Ｊ＝４．９，４．４Ｈｚ）、３．２１（２Ｈ，ｄｄ
ｄｄ，Ｊ＝５．０，４．４，３．０，２．５Ｈｚ）、
３．６８（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝４．８Ｈｚ）、３．９３（２
Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１１．１，５．０Ｈｚ）、４．１４（２
Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１１．１，３．０Ｈｚ）、６．８７（２
Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．３Ｈｚ）、７．１４（２Ｈ，ｄｄ，Ｊ
＝８．３，２．１Ｈｚ）、７．２０（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝
２．１Ｈｚ）、７．３５（６Ｈ，ｍ）、７．５１（４
Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝７．１，１．７Ｈｚ）
【００６４】（実施例７） １，１′−ビス［（４−グリシジルオキシ−３−フェニ
ル）フェニル］−２−メチルプロパン： 出発多価フェノール：１，１′−ビス（３−フェニル−
４−ヒドロキシフェニル）−２−メチルプロパン ｍｐ．＝１３１〜１３４℃1 Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，２００ＭＨｚ）δ：０．８３
（６Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．５Ｈｚ）、２．３７（１Ｈ，ｄｓ
ｅｐｔ，Ｊ＝１１．０，６．５Ｈｚ）、２．５７（２
Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝４．９，２．７Ｈｚ）、２．７１（２
Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝４．９，４．４Ｈｚ）、３．１５（２
Ｈ，ｄｄｄｄ，Ｊ＝５．０，４．４，３．０，２．７Ｈ
ｚ）、３．２１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１１．０Ｈｚ）、３．
８６（２Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１１．１，５．０Ｈｚ）、４．
０７（２Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１１．１，３．０Ｈｚ）、６．
８１（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．２Ｈｚ）、７．１２（２Ｈ，
ｄｄ，Ｊ＝８．２，２．０Ｈｚ）、７．２０（２Ｈ，
ｄ，Ｊ＝２．０Ｈｚ）、７．３０（６Ｈ，ｍ）、７．４
５（４Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝６．９，１．７Ｈｚ）
ル）フェニル］−２−メチルプロパン： 出発多価フェノール：１，１′−ビス（３−フェニル−
４−ヒドロキシフェニル）−２−メチルプロパン ｍｐ．＝１３１〜１３４℃1 Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，２００ＭＨｚ）δ：０．８３
（６Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．５Ｈｚ）、２．３７（１Ｈ，ｄｓ
ｅｐｔ，Ｊ＝１１．０，６．５Ｈｚ）、２．５７（２
Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝４．９，２．７Ｈｚ）、２．７１（２
Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝４．９，４．４Ｈｚ）、３．１５（２
Ｈ，ｄｄｄｄ，Ｊ＝５．０，４．４，３．０，２．７Ｈ
ｚ）、３．２１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１１．０Ｈｚ）、３．
８６（２Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１１．１，５．０Ｈｚ）、４．
０７（２Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１１．１，３．０Ｈｚ）、６．
８１（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．２Ｈｚ）、７．１２（２Ｈ，
ｄｄ，Ｊ＝８．２，２．０Ｈｚ）、７．２０（２Ｈ，
ｄ，Ｊ＝２．０Ｈｚ）、７．３０（６Ｈ，ｍ）、７．４
５（４Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝６．９，１．７Ｈｚ）
【００６５】実施例８ ２，２′−ビス（グリシジルオキシ）−３，３′，５，
５′−テトラ−第三ブチルビフェニルの合成 多価フェノールとして３，３′，５，５′−テトラ−第
三ブチル−２，２′−ビスフェノールを用い、分離精製
において、エタノール再結晶したほかは、すべて前記実
施例１に準じて合成を行ない、白色の固形物を得た。収
率８５％。
５′−テトラ−第三ブチルビフェニルの合成 多価フェノールとして３，３′，５，５′−テトラ−第
三ブチル−２，２′−ビスフェノールを用い、分離精製
において、エタノール再結晶したほかは、すべて前記実
施例１に準じて合成を行ない、白色の固形物を得た。収
率８５％。
【００６６】ｍｐ．＝１８５〜１８６℃1 Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，２００ＭＨｚ）δ：１．３３
（１８Ｈ，ｓ）、１．４３（１８Ｈ，ｓ）、２．１９
（２Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝４．９，２．７Ｈｚ）、２．６３
（２Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝４．９，４．４Ｈｚ）、３．００
（２Ｈ，ｄｄｄｄ，Ｊ＝５．５，４．４，３．３，２．
７Ｈｚ）、３．５７（２Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１１．０，５．
６Ｈｚ）、３．６８（２Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１１．０，３．
３Ｈｚ）、７．１４（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．４Ｈｚ）、
７．３８（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．４Ｈｚ）ＭＳ（ｍ／
ｅ）：５２２（Ｍ+）、４６６（ｂａｓｅ）、４５１、
３３７、２２５、５７、４１、２９
（１８Ｈ，ｓ）、１．４３（１８Ｈ，ｓ）、２．１９
（２Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝４．９，２．７Ｈｚ）、２．６３
（２Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝４．９，４．４Ｈｚ）、３．００
（２Ｈ，ｄｄｄｄ，Ｊ＝５．５，４．４，３．３，２．
７Ｈｚ）、３．５７（２Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１１．０，５．
６Ｈｚ）、３．６８（２Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１１．０，３．
３Ｈｚ）、７．１４（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．４Ｈｚ）、
７．３８（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．４Ｈｚ）ＭＳ（ｍ／
ｅ）：５２２（Ｍ+）、４６６（ｂａｓｅ）、４５１、
３３７、２２５、５７、４１、２９
【００６７】実施例９〜１１ 合成中、出発多価フェノールとして下記の多価フェノー
ルを用い、イミダゾールとエピクロロヒドリンの使用量
を１．５倍量に増加し、また、抽出過程の際、水酸化ナ
トリウム水溶液の使用量を１．５倍量に増加し、さらに
抽出後、４−メチル−２−ペンタノンを濃縮して白色の
セミ固形物を得たほかは、すべて前記実施例１に準じて
合成を行なった。収率８５〜９０％。
ルを用い、イミダゾールとエピクロロヒドリンの使用量
を１．５倍量に増加し、また、抽出過程の際、水酸化ナ
トリウム水溶液の使用量を１．５倍量に増加し、さらに
抽出後、４−メチル−２−ペンタノンを濃縮して白色の
セミ固形物を得たほかは、すべて前記実施例１に準じて
合成を行なった。収率８５〜９０％。
【００６８】（実施例９） トリス（４−グリシジルオキシフェニル）メタン： 出発多価フェノール：トリス（４−ヒドロキシフェニ
ル）メタン 油状物1 Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，２００ＭＨｚ）δ：２．７２
（３Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝４．９，２．７Ｈｚ）、２．８７
（３Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝４．９，４．２Ｈｚ）、３．３１
（３Ｈ，ｄｄｄｄ，Ｊ＝５．５，４．２，３．１，２．
７Ｈｚ）、３．９２（３Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１１．０，５．
５Ｈｚ）、４．１６（３Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１１．０，３．
１Ｈｚ）、５．３７（１Ｈ，ｓ）、６．８１（６Ｈ，ｄ
ｄ，Ｊ＝８．６，２．５Ｈｚ）、６．９７（６Ｈ，ｄ
ｄ，Ｊ＝８．６，２．５Ｈｚ）
ル）メタン 油状物1 Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，２００ＭＨｚ）δ：２．７２
（３Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝４．９，２．７Ｈｚ）、２．８７
（３Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝４．９，４．２Ｈｚ）、３．３１
（３Ｈ，ｄｄｄｄ，Ｊ＝５．５，４．２，３．１，２．
７Ｈｚ）、３．９２（３Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１１．０，５．
５Ｈｚ）、４．１６（３Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１１．０，３．
１Ｈｚ）、５．３７（１Ｈ，ｓ）、６．８１（６Ｈ，ｄ
ｄ，Ｊ＝８．６，２．５Ｈｚ）、６．９７（６Ｈ，ｄ
ｄ，Ｊ＝８．６，２．５Ｈｚ）
【００６９】（実施例１０） ビス［（４−グリシジルオキシ−３−フェニル）フェニ
ル］−（４−グリシジルオキシフェニル）メタン： 出発多価フェノール：ビス（３−フェニル−４−ヒドロ
キシフェニル）−（４−ヒドロキシフェニル）メタン 油状物1 Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，２００ＭＨｚ）δ：２．５８
（２Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝４．９，２．７Ｈｚ）、２．６６
（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝４．９，２．６Ｈｚ）、２．７１
（２Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝４．９，４．０Ｈｚ）、２．８１
（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝４．９，４．２Ｈｚ）、３．１６
（２Ｈ，ｄｄｄｄ，Ｊ＝５．０，４．０，３．０，２．
７Ｈｚ）、３．２５（１Ｈ，ｄｄｄｄ，Ｊ＝５．５，
４．２，３．０，２．６Ｈｚ）、３．８６（１Ｈ，ｄ
ｄ，Ｊ＝１１．１，５．５Ｈｚ）、３．８７（２Ｈ，ｄ
ｄ，Ｊ＝１１．１，５．０Ｈｚ）、４．１０（３Ｈ，ｄ
ｄ，Ｊ＝１１．１，３．０Ｈｚ）、５．３９（１Ｈ，
ｓ）、６．７６（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．９Ｈｚ）、６．８
１（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ）、６．９４（２Ｈ，ｄ
ｄ，Ｊ＝８．４，２．２Ｈｚ）、６．９９（２Ｈ，ｄ，
Ｊ＝８．９Ｈｚ）、７．０５（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．２Ｈ
ｚ）、７．２５（６Ｈ，ｍ）、７．４１（４Ｈ，ｄｄ，
Ｊ＝６．９，２．０Ｈｚ） ＭＳ（ｍ／ｅ）：６１２（Ｍ+，ｂａｓｅ）、５３９、
５３６、４６３、３８７、２９８、２７３、１９７、３
１
ル］−（４−グリシジルオキシフェニル）メタン： 出発多価フェノール：ビス（３−フェニル−４−ヒドロ
キシフェニル）−（４−ヒドロキシフェニル）メタン 油状物1 Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，２００ＭＨｚ）δ：２．５８
（２Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝４．９，２．７Ｈｚ）、２．６６
（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝４．９，２．６Ｈｚ）、２．７１
（２Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝４．９，４．０Ｈｚ）、２．８１
（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝４．９，４．２Ｈｚ）、３．１６
（２Ｈ，ｄｄｄｄ，Ｊ＝５．０，４．０，３．０，２．
７Ｈｚ）、３．２５（１Ｈ，ｄｄｄｄ，Ｊ＝５．５，
４．２，３．０，２．６Ｈｚ）、３．８６（１Ｈ，ｄ
ｄ，Ｊ＝１１．１，５．５Ｈｚ）、３．８７（２Ｈ，ｄ
ｄ，Ｊ＝１１．１，５．０Ｈｚ）、４．１０（３Ｈ，ｄ
ｄ，Ｊ＝１１．１，３．０Ｈｚ）、５．３９（１Ｈ，
ｓ）、６．７６（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．９Ｈｚ）、６．８
１（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ）、６．９４（２Ｈ，ｄ
ｄ，Ｊ＝８．４，２．２Ｈｚ）、６．９９（２Ｈ，ｄ，
Ｊ＝８．９Ｈｚ）、７．０５（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．２Ｈ
ｚ）、７．２５（６Ｈ，ｍ）、７．４１（４Ｈ，ｄｄ，
Ｊ＝６．９，２．０Ｈｚ） ＭＳ（ｍ／ｅ）：６１２（Ｍ+，ｂａｓｅ）、５３９、
５３６、４６３、３８７、２９８、２７３、１９７、３
１
【００７０】（実施例１１） １−［α−メチル−α−（４−グリシジルオキシフェニ
ル）エチル］−４−［α，α−ビス（４−グリシジルオ
キシ−フェニル）エチル］ベンゼン： 出発多価フェノール：１−［α−メチル−α−（４−グ
リシジルオキシフェニル）エチル］−４−［α，α−ビ
ス（４−ヒドロキシフェニル）エチル］ベンゼン： 軟化点＝６３℃1 Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，２００ＭＨｚ）δ：１．５７
（６Ｈ，ｓ）、２．０２（３Ｈ，ｓ）、２．６７（３
Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝４．９，２．５Ｈｚ）、２．８２（３
Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝４．９，４．４Ｈｚ）、３．２６（３
Ｈ，ｄｄｄｄ，Ｊ＝５．４，４．４，３．３，２．５Ｈ
ｚ）、３．８７（３Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１１．０，５．４Ｈ
ｚ）、４．１１（３Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１１．０，３．３Ｈ
ｚ）、６．７２（４Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．８Ｈｚ）、６．７
５（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．６Ｈｚ）、６．８６（２Ｈ，
ｄ，Ｊ＝８．８Ｈｚ）、６．９１（４Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．
８Ｈｚ）、７．０１（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．６Ｈｚ）、
７．０８（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．８Ｈｚ）
ル）エチル］−４−［α，α−ビス（４−グリシジルオ
キシ−フェニル）エチル］ベンゼン： 出発多価フェノール：１−［α−メチル−α−（４−グ
リシジルオキシフェニル）エチル］−４−［α，α−ビ
ス（４−ヒドロキシフェニル）エチル］ベンゼン： 軟化点＝６３℃1 Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，２００ＭＨｚ）δ：１．５７
（６Ｈ，ｓ）、２．０２（３Ｈ，ｓ）、２．６７（３
Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝４．９，２．５Ｈｚ）、２．８２（３
Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝４．９，４．４Ｈｚ）、３．２６（３
Ｈ，ｄｄｄｄ，Ｊ＝５．４，４．４，３．３，２．５Ｈ
ｚ）、３．８７（３Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１１．０，５．４Ｈ
ｚ）、４．１１（３Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１１．０，３．３Ｈ
ｚ）、６．７２（４Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．８Ｈｚ）、６．７
５（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．６Ｈｚ）、６．８６（２Ｈ，
ｄ，Ｊ＝８．８Ｈｚ）、６．９１（４Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．
８Ｈｚ）、７．０１（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．６Ｈｚ）、
７．０８（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．８Ｈｚ）
【００７１】実施例１２〜１３ 合成中、出発多価フェノールとして下記の多価フェノー
ルを用い、イミダゾールとエピクロロヒドリンの使用を
２倍量に増加し、また、抽出過程の際、水酸化ナトリウ
ム水溶液の使用量も２倍量に増加したほかは、すべて前
記実施例１に準じて合成を行なった。反応生成物を抽
出、濃縮した後、４−メチル−２−ペンタノンで再結晶
を行ない白色の固形物を得た。収率８５〜８７％。
ルを用い、イミダゾールとエピクロロヒドリンの使用を
２倍量に増加し、また、抽出過程の際、水酸化ナトリウ
ム水溶液の使用量も２倍量に増加したほかは、すべて前
記実施例１に準じて合成を行なった。反応生成物を抽
出、濃縮した後、４−メチル−２−ペンタノンで再結晶
を行ない白色の固形物を得た。収率８５〜８７％。
【００７２】（実施例１２） １，１′，２，２′−テトラキス（４−グリシジルオキ
シフェニル）エタン：出発多価フェノール：１，１′，
２，２′−テトラキス（４−グリシジルオキシフェニ
ル）エタン ｍｐ．＝１６９〜１７２℃1 Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，２００ＭＨｚ）δ：２．６７
（４Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝４．９，２．６Ｈｚ）、２．８３
（４Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝４．９，４．４Ｈｚ）、３．２５
（４Ｈ，ｄｄｄｄ，Ｊ＝５．６，４．４，３．３，２．
６Ｈｚ）、３．８１（４Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１１．０，５．
６Ｈｚ）、４．０６（４Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１１．０，３．
３Ｈｚ）、４．５２（２Ｈ，ｓ）、６．６４（８Ｈ，
ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ）、６．９５（８Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．
５Ｈｚ） ＭＳ（ｍ／ｅ）：６２２（Ｍ+）、４７３、３４７、３
１１（ｂａｓｅ）、２５５、１３６、１０７、５７
シフェニル）エタン：出発多価フェノール：１，１′，
２，２′−テトラキス（４−グリシジルオキシフェニ
ル）エタン ｍｐ．＝１６９〜１７２℃1 Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，２００ＭＨｚ）δ：２．６７
（４Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝４．９，２．６Ｈｚ）、２．８３
（４Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝４．９，４．４Ｈｚ）、３．２５
（４Ｈ，ｄｄｄｄ，Ｊ＝５．６，４．４，３．３，２．
６Ｈｚ）、３．８１（４Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１１．０，５．
６Ｈｚ）、４．０６（４Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１１．０，３．
３Ｈｚ）、４．５２（２Ｈ，ｓ）、６．６４（８Ｈ，
ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ）、６．９５（８Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．
５Ｈｚ） ＭＳ（ｍ／ｅ）：６２２（Ｍ+）、４７３、３４７、３
１１（ｂａｓｅ）、２５５、１３６、１０７、５７
【００７３】（実施例１３） １，１′，２，２′−テトラキス［（４−グリシジルオ
キシ−３−フェニル）フェニル］エタン： 出発多価フェノール：１，１′，２，２′−テトラキス
（３−フェニル−４−ヒドロキシフェニル）エタン 油状物1 Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，２００ＭＨｚ）δ：２．６７
（４Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝４．９，２．５Ｈｚ）、２．８２
（４Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝４．９，４．４Ｈｚ）、３．２４
（４Ｈ，ｄｄｄｄ，Ｊ＝５．５，４．４，３．３，２．
５Ｈｚ）、３．８５（４Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１１．１，５．
５Ｈｚ）、４．０８（４Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１１．１，３．
３Ｈｚ）、４．５３（２Ｈ，ｓ）、６．８０（４Ｈ，
ｄ，Ｊ＝８．２Ｈｚ）、７．１０（４Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝
８．２，２．１Ｈｚ）、７．２０（４Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．
１Ｈｚ）、７．３１（１２Ｈ，ｍ）、７．４４（８Ｈ，
ｄｄ，Ｊ＝７．０，１．８Ｈｚ）
キシ−３−フェニル）フェニル］エタン： 出発多価フェノール：１，１′，２，２′−テトラキス
（３−フェニル−４−ヒドロキシフェニル）エタン 油状物1 Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，２００ＭＨｚ）δ：２．６７
（４Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝４．９，２．５Ｈｚ）、２．８２
（４Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝４．９，４．４Ｈｚ）、３．２４
（４Ｈ，ｄｄｄｄ，Ｊ＝５．５，４．４，３．３，２．
５Ｈｚ）、３．８５（４Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１１．１，５．
５Ｈｚ）、４．０８（４Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１１．１，３．
３Ｈｚ）、４．５３（２Ｈ，ｓ）、６．８０（４Ｈ，
ｄ，Ｊ＝８．２Ｈｚ）、７．１０（４Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝
８．２，２．１Ｈｚ）、７．２０（４Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．
１Ｈｚ）、７．３１（１２Ｈ，ｍ）、７．４４（８Ｈ，
ｄｄ，Ｊ＝７．０，１．８Ｈｚ）
【００７４】本発明を実施するための前記具体例は、本
発明に係る説明を目的としたことだけにとどまり、前記
の発明の開示により、その他の改善や修飾が可能である
ことが想像できる。前記に選ばれ、かつ説明の行なわれ
た具体例は本発明を実施するための最良の応用例および
説明例であって、当技術分野の熟練者にとっては、前記
具体例やその他特殊用途に用いられる変法を駆使して本
発明をより効果的に応用することが可能である。公平な
立場から合法性や法における均衡性などを考慮した場
合、それらの改良や変法は当然本発明に含まれる。
発明に係る説明を目的としたことだけにとどまり、前記
の発明の開示により、その他の改善や修飾が可能である
ことが想像できる。前記に選ばれ、かつ説明の行なわれ
た具体例は本発明を実施するための最良の応用例および
説明例であって、当技術分野の熟練者にとっては、前記
具体例やその他特殊用途に用いられる変法を駆使して本
発明をより効果的に応用することが可能である。公平な
立場から合法性や法における均衡性などを考慮した場
合、それらの改良や変法は当然本発明に含まれる。
【００７５】
【発明の効果】本発明に係るフェノール系エポキシ樹脂
は粘性が低く、耐熱性に優れ、しかも吸湿性が少ないた
め、半導体シーラント素材、プリント基板の基板添加剤
および電子用接着剤などに広く利用される。また、本発
明に係るフェノール系エポキシ樹脂の製造方法は、すべ
ての原料化合物を同時に供給し、常圧還流しながら均一
系中において反応を行なうため、溶剤を必要とせず、従
来より知られる方法に比較して、簡単な反応施設で、プ
ロセスを簡略化し、しかも反応時間の短縮が可能とな
り、収率もよく、工業的価値は極めて高く有用である。
は粘性が低く、耐熱性に優れ、しかも吸湿性が少ないた
め、半導体シーラント素材、プリント基板の基板添加剤
および電子用接着剤などに広く利用される。また、本発
明に係るフェノール系エポキシ樹脂の製造方法は、すべ
ての原料化合物を同時に供給し、常圧還流しながら均一
系中において反応を行なうため、溶剤を必要とせず、従
来より知られる方法に比較して、簡単な反応施設で、プ
ロセスを簡略化し、しかも反応時間の短縮が可能とな
り、収率もよく、工業的価値は極めて高く有用である。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 ＦＩ Ｈ０１Ｌ 23/31 (56)参考文献 特開 平７−228580（ＪＰ，Ａ) 特開 昭48−29751（ＪＰ，Ａ) 特開 平７−206996（ＪＰ，Ａ) 特開 平５−214069（ＪＰ，Ａ) 特開 平５−140138（ＪＰ，Ａ) 特開 平５−148342（ＪＰ，Ａ) 特開 平８−92347（ＪＰ，Ａ) 特開 平４−234867（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.6，ＤＢ名) C07D 303/00 - 303/27 C07D 301/00 - 301/28 ＣＡ（ＳＴＮ) ＲＥＧＩＳＴＲＹ（ＳＴＮ)
Claims (24)
- 【請求項１】 つぎの一般式（II）または（III）で示
されるフェノール系エポキシ樹脂。 【化１】 ［式中、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3とＲ4は同じでも異なっていても
よく、それぞれ独立して水素原子、Ｃ1〜6の炭化水素
基、Ｃ6〜10の芳香族基またはＣ1〜6の炭化水素基の置
換基により置換されたＣ6〜10の芳香族基を示す；Ｒ5と
Ｒ6は同じでも異なっていてもよく、それぞれ独立して
水素原子、Ｃ1〜6の炭化水素基、Ｃ6〜10の芳香族基、
Ｃ1〜6の炭化水素基の置換基により置換されたＣ6〜10
の芳香族基、 【化２】 （式中Ｒ7は水素原子、Ｃ1〜6の炭化水素基、Ｃ6〜10の
芳香族基またはＣ1〜6の炭化水素基の置換基により置換
されたＣ6〜10の芳香族基を表す）、または 【化３】 （式中、Ｒ8とＲ9は同じでも異なっていてもよく、それ
ぞれ独立して水素原子、Ｃ1〜6の炭化水素基、Ｃ6〜10
の芳香族基またはＣ1〜6の炭化水素基の置換基により置
換されたＣ6〜10の芳香族基を表す）。ただし、Ｒ 5 とＲ
6 は少なくとも一方が 【化４】 であり、もしＲ 5 またはＲ 6 が 【化５】 であれば、Ｒ 1 、Ｒ 2 、Ｒ 3 とＲ 4 の少なくとも１つはＣ
6〜10 の芳香族基またはＣ 1〜6 の炭化水素基の置換基に
より置換されたＣ 6〜10 の芳香族基を示す。］ - 【請求項２】 前記Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3とＲ4がそれぞれ独立
して水素原子、Ｃ1〜6のアルキル基、Ｃ3〜6の環式アル
キル基、Ｃ2〜6のアルケニル基、Ｃ2〜6のアルキニル
基、フェニル基、ナフチル基、またはＣ1〜6のアルキル
基、Ｃ3〜6の環式アルキル基、Ｃ2〜6のアルケニル基も
しくはＣ2〜6のアルキニル基の置換基により置換される
フェニル基またはナフチル基である請求項１記載のエポ
キシ樹脂。 - 【請求項３】 前記Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3とＲ4がそれぞれ独立
してメチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピ
ル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、第三ブチル基、ｎ
−アミル基、ネオペンチル基、イソアミル基、ヘキシル
基、フェニル基またはナフチル基である請求項２記載の
エポキシ樹脂。 - 【請求項４】 前記Ｒ5とＲ6 のいずれか一方が水素原
子、Ｃ1〜6のアルキル基、Ｃ3〜6の環式アルキル基、Ｃ
2〜6のアルケニル基、Ｃ2〜6のアルキニル基、フェニル
基、ナフチル基、またはＣ1〜6のアルキル基、Ｃ3〜6の
環式アルキル基、Ｃ2〜6のアルケニル基もしくはＣ2〜6
のアルキニル基の置換基により置換されたフェニル基ま
たはナフチル基である請求項１記載のエポキシ樹脂。 - 【請求項５】 前記Ｒ5とＲ6 のいずれか一方がメチル
基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−
ブチル基、イソブチル基、第三ブチル基、アミル基また
はヘキシル基である請求項４記載のエポキシ樹脂。 - 【請求項６】 前記Ｒ7が水素原子、Ｃ1〜6のアルキル
基、Ｃ3〜6の環式アルキル基、Ｃ2〜6のアルケニル基、
Ｃ2〜6のアルキニル基、フェニル基、ナフチル基、また
はＣ1〜6のアルキル基、Ｃ3〜6の環式アルキル基、Ｃ
2〜6のアルケニル基もしくはＣ2〜6のアルキニル基の置
換基により置換されたフェニル基またはナフチル基であ
る請求項１記載のエポキシ樹脂。 - 【請求項７】 前記Ｒ7がメチル基、エチル基、ｎ−プ
ロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル
基、第三ブチル基、アミル基またはヘキシル基である請
求項１記載のエポキシ樹脂。 - 【請求項８】 前記Ｒ8とＲ9がそれぞれ独立して水素原
子、Ｃ1〜6のアルキル基、Ｃ3〜6の環式アルキル基、Ｃ
2〜6のアルケニル基、Ｃ2〜6のアルキニル基、フェニル
基、ナフチル基、またはＣ1〜6のアルキル基、Ｃ3〜6の
環式アルキル基、Ｃ2〜6のアルケニル基もしくはＣ2〜6
のアルキニル基の置換基により置換されたフェニル基ま
たはナフチル基である請求項１記載のエポキシ樹脂。 - 【請求項９】 前記Ｒ8とＲ9がそれぞれ独立してメチル
基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−
ブチル基、イソブチル基、第三ブチル基、ｎ−アミル
基、イソアミル基、ネオペンチシル基、フェニル基、フ
ェニルメチル基またはナフチル基である請求項８記載の
エポキシ樹脂。 - 【請求項１０】 式： 【化６】 で示される化合物よりなる群から選ばれる請求項１記載
のエポキシ樹脂。 - 【請求項１１】 イミダゾール系化合物の触媒下、多価
フェノール化合物あるいはその炭化水素系または芳香族
系誘導体とエピハロヒドリンとを反応させることを含む
フェノール系エポキシ樹脂の製造法。 - 【請求項１２】 前記フェノール系エポキシ樹脂が一般
式（Ｉ） 【化７】 ［式中、Ｒ 1 、Ｒ 2 、Ｒ 3 とＲ 4 は同じでも異なっていても
よく、それぞれ独立して水素原子、Ｃ 1〜6 の炭化水素
基、Ｃ 6〜10 の芳香族基またはＣ 1〜6 の炭化水素基の置
換基により置換されたＣ 6〜10 の芳香族基を示す；Ｒ 5 と
Ｒ 6 は同じでも異なっていてもよく、それぞれ独立して
水素原子、Ｃ 1〜6 の炭化水素基、Ｃ 6〜10 の芳香族基、
Ｃ 1〜6 の炭化水素基の置換基により置換されたＣ 6〜10
の芳香族基、 【化８】 （式中Ｒ 7 は水素原子、Ｃ 1〜6 の炭化水素基、Ｃ 6〜10 の
芳香族基またはＣ 1〜6 の炭化水素基の置換基により置換
されたＣ 6〜10 の芳香族基を表す）、または 【化９】 （式中、Ｒ 8 とＲ 9 は同じでも異なっていてもよく、それ
ぞれ独立して水素原子、Ｃ 1〜6 の炭化水素基、Ｃ 6〜10
の芳香族基またはＣ 1〜6 の炭化水素基の置換基に より置
換されたＣ 6〜10 の芳香族基を表す）；ｎは０または１
を示す。］により示されるエポキシ樹脂である請求項１
１記載の製造法。 - 【請求項１３】 前記多価フェノール化合物がビスフェ
ノール、トリスフェノールまたはテトラキスフェノール
を含む請求項１１記載の製造法。 - 【請求項１４】 前記エピハロヒドリンがエピクロロヒ
ドリンまたはエピブロムヒドリンである請求項１１記載
の製造法。 - 【請求項１５】 前記多価フェノール化合物１当量あた
り、エピハロヒドリンを１〜２０当量使用する請求項１
１記載の製造法。 - 【請求項１６】 前記多価フェノール化合物１当量あた
り、エピハロヒドリンを１〜５当量使用する請求項１５
記載の製造法。 - 【請求項１７】 前記イミダゾール系化合物が、イミダ
ゾール、２−メチルイミダゾール、２−エチルイミダゾ
ール、２−ｎ−プロピルイミダゾール、２−イソプロピ
ルイミダゾールおよび２−フェニルイミダゾールよりな
る群から選ばれる請求項１１記載の製造法。 - 【請求項１８】 前記多価フェノール化合物１当量あた
り、イミダゾール系化合物を０．０１〜０．５当量使用
する請求項１１記載の製造法。 - 【請求項１９】 前記多価フェノール化合物１当量あた
り、イミダゾール系化合物を０．０１〜０．２当量使用
する請求項１８記載の製造法。 - 【請求項２０】 常圧下、均一系反応で加温還流して反
応する請求項１１記載の製造法。 - 【請求項２１】 反応温度が９０〜１２０℃である請求
項２０記載の製造法。 - 【請求項２２】 請求項１記載のエポキシ樹脂を含むＩ
Ｃ用シーラント素材。 - 【請求項２３】 請求項１記載のエポキシ樹脂を含むプ
リント基板の基板添加剤。 - 【請求項２４】 請求項１記載のエポキシ樹脂を含む電
子用接着剤。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| TW086103560A TW343982B (en) | 1997-03-18 | 1997-03-18 | Phenolic epoxy and process for producing the same |
| TW86103560 | 1997-03-18 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10265466A JPH10265466A (ja) | 1998-10-06 |
| JP2974983B2 true JP2974983B2 (ja) | 1999-11-10 |
Family
ID=21626469
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9157240A Expired - Lifetime JP2974983B2 (ja) | 1997-03-18 | 1997-06-13 | フェノール系エポキシ樹脂およびその製造法 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2974983B2 (ja) |
| TW (1) | TW343982B (ja) |
-
1997
- 1997-03-18 TW TW086103560A patent/TW343982B/zh not_active IP Right Cessation
- 1997-06-13 JP JP9157240A patent/JP2974983B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| TW343982B (en) | 1998-11-01 |
| JPH10265466A (ja) | 1998-10-06 |
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