JP2950334B2 - ニポキシ基含有化合物の製造方法 - Google Patents
ニポキシ基含有化合物の製造方法Info
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- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
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Description
【発明の詳細な説明】 ＜産業上の利用分野＞ 本発明はエポキシ基含有化合物の製造方法に関し、特
にニッケル化合物を触媒として用いる新規な方法によ
り、エポキシ基含有化合物を得ることができる方法に関
する。
にニッケル化合物を触媒として用いる新規な方法によ
り、エポキシ基含有化合物を得ることができる方法に関
する。
＜従来の技術＞ 従来、エポキシ基含有化合物を製造する方法として、
エチレン性二重結合を有する化合物を、ベンゼン、クロ
ロホルムあるいは四塩化炭素などの不活性溶媒中で、酸
触媒の存在下に、過安息香酸、過ギ酸、過フタル酸、過
プロピオン酸、過酪酸あるいはトリフルオロ過酢酸など
の有機過酸化物で酸化する方法が知られている。特に、
工業的には、過酸化物を生じさせる物質、例えば氷酢酸
と不飽和化合物との混合物に、強酸触媒を加えて60〜70
℃に加熱しながら過酸化水素を加えて過酢酸を生成さ
せ、この過酢酸を利用してエポキシ基含有化合物を製造
する方法が行われている。
エチレン性二重結合を有する化合物を、ベンゼン、クロ
ロホルムあるいは四塩化炭素などの不活性溶媒中で、酸
触媒の存在下に、過安息香酸、過ギ酸、過フタル酸、過
プロピオン酸、過酪酸あるいはトリフルオロ過酢酸など
の有機過酸化物で酸化する方法が知られている。特に、
工業的には、過酸化物を生じさせる物質、例えば氷酢酸
と不飽和化合物との混合物に、強酸触媒を加えて60〜70
℃に加熱しながら過酸化水素を加えて過酢酸を生成さ
せ、この過酢酸を利用してエポキシ基含有化合物を製造
する方法が行われている。
＜発明が解決しようとする課題＞ しかしながら、前記方法における反応は、過敏な反応
であるため、選択的にエポキシ化反応を行うことが困難
であり、しかもエポキシ基含有化合物の生成に伴って、
生成したエポキシ基含有化合物の一部が重合することが
ある。
であるため、選択的にエポキシ化反応を行うことが困難
であり、しかもエポキシ基含有化合物の生成に伴って、
生成したエポキシ基含有化合物の一部が重合することが
ある。
また、有機過酸化物を使用しないエポキシ基含有化合
物の製造方法として、不飽和化合物に次亜ハロゲン酸を
使用してハロヒドリンを生成させ、次いでこのハロヒド
リンをアルカリ処理する方法が知られているが、この方
法は、構造の複雑なオレフィン類には適用できない。
物の製造方法として、不飽和化合物に次亜ハロゲン酸を
使用してハロヒドリンを生成させ、次いでこのハロヒド
リンをアルカリ処理する方法が知られているが、この方
法は、構造の複雑なオレフィン類には適用できない。
そこで本発明の目的は、エポキシ基含有化合物を得る
ことができる新規な方法を提供することにある。
ことができる新規な方法を提供することにある。
＜課題を解決するための手段＞ 本発明は、前記課題を解決するために、一般式
（Ｉ）： ［式中、R1、R2、R3およびR4は同一でも異なってもよ
く、水素原子またはアルキル基であり、またR1とR2、並
びにR3とR4は、それぞれ相互に結合して環を形成してい
てもよい］で表されるエチレン性二重結合含有化合物
を、 一般式（II）： ［式中、R5およびR7は同一でも異なってもよく、低級ア
ルキル基であり、R6は、水素原子、ハロゲン原子、低級
アルキル基、アリール基またはアリールアルキル基であ
り、R6とR7は相互に結合して環を形成していてもよい］ で表されるニッケル化合物を触媒として用い、かつ１級
アルコールおよび／または２級アルコールの存在下に、
酸素含有ガスと反応させる工程を含む、 一般式（III）： ［R1、R2、R3およびR4は前記一般式（Ｉ）において定義
したとおりである］ で表されるエポキシ基含有化合物の製造方法を提供する
ものである。
（Ｉ）： ［式中、R1、R2、R3およびR4は同一でも異なってもよ
く、水素原子またはアルキル基であり、またR1とR2、並
びにR3とR4は、それぞれ相互に結合して環を形成してい
てもよい］で表されるエチレン性二重結合含有化合物
を、 一般式（II）： ［式中、R5およびR7は同一でも異なってもよく、低級ア
ルキル基であり、R6は、水素原子、ハロゲン原子、低級
アルキル基、アリール基またはアリールアルキル基であ
り、R6とR7は相互に結合して環を形成していてもよい］ で表されるニッケル化合物を触媒として用い、かつ１級
アルコールおよび／または２級アルコールの存在下に、
酸素含有ガスと反応させる工程を含む、 一般式（III）： ［R1、R2、R3およびR4は前記一般式（Ｉ）において定義
したとおりである］ で表されるエポキシ基含有化合物の製造方法を提供する
ものである。
また、前記一般式（Ｉ）で表されるエチレン性二重結
合含有化合物と、酸素含有ガスとの反応を、前記一般式
（II）で表されるニッケル化合物と合成ゼオライトの存
在下に行うのが好ましい。
合含有化合物と、酸素含有ガスとの反応を、前記一般式
（II）で表されるニッケル化合物と合成ゼオライトの存
在下に行うのが好ましい。
本発明の出発物質であるエチレン性二重結合含有化合
物を表わす一般式（Ｉ）において、R1、R2、R3およびR4
は同一でも異なってもよく、水素原子またはアルキル基
である。このアルキル基としては、炭素原子数１〜20の
アルキル基が好ましく、例えば、メチル基、エチル基、
プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプ
チル基、オクチル基、ノニル基、デシル基およびこれら
の異性体等が挙げられる。またR1とR2、並びにR3とR
4は、それぞれ相互に結合して環を形成していてもよ
い。例えば、R1とR2、またはR3とR4は結合して５員環、
６員環、７員環、８員環またはノルボルナン環を形成し
ていてもよい。
物を表わす一般式（Ｉ）において、R1、R2、R3およびR4
は同一でも異なってもよく、水素原子またはアルキル基
である。このアルキル基としては、炭素原子数１〜20の
アルキル基が好ましく、例えば、メチル基、エチル基、
プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプ
チル基、オクチル基、ノニル基、デシル基およびこれら
の異性体等が挙げられる。またR1とR2、並びにR3とR
4は、それぞれ相互に結合して環を形成していてもよ
い。例えば、R1とR2、またはR3とR4は結合して５員環、
６員環、７員環、８員環またはノルボルナン環を形成し
ていてもよい。
この一般式（Ｉ）で表されるエチレン性二重結合含有
化合物の具体例として、２−メチル−２−デセン、cis
−２−オクテン、trans−２−オクテン、２−メチル−
１−デセン、１−デセン、３−ブチル−７−ヘプテン等
のオレフィン類;2−ノルボルネン等の脂環式不飽和炭化
水素類などが挙げられる。
化合物の具体例として、２−メチル−２−デセン、cis
−２−オクテン、trans−２−オクテン、２−メチル−
１−デセン、１−デセン、３−ブチル−７−ヘプテン等
のオレフィン類;2−ノルボルネン等の脂環式不飽和炭化
水素類などが挙げられる。
本発明の方法においては、これらのエチレン性二重結
合含有化合物の中でも、特にノルボルネンや２−メチル
−２−デセン等の３置換オレフィンを用いた場合、対応
するエポキシ基含有化合物を高収率で得ることができ
る。
合含有化合物の中でも、特にノルボルネンや２−メチル
−２−デセン等の３置換オレフィンを用いた場合、対応
するエポキシ基含有化合物を高収率で得ることができ
る。
本発明において触媒として用いられるニッケル化合物
を表す前記一般式（II）において、R5およびR7は同一で
も異なってもよく、低級アルキル基である。この低級ア
ルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロ
ピル基、イソプロピル基、ｔ−ブチル基などが挙げられ
る。
を表す前記一般式（II）において、R5およびR7は同一で
も異なってもよく、低級アルキル基である。この低級ア
ルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロ
ピル基、イソプロピル基、ｔ−ブチル基などが挙げられ
る。
またR6は水素原子、ハロゲン原子、低級アルキル基、
アリール基またはアリールアルキル基である。ハロゲン
原子としては、例えば、塩素、フッ素、臭素等が挙げら
れる。低級アルキル基としては、例えば、メチル基、エ
チル基、プロピル基等が挙げられ、アリール基として
は、フェニル基、ｏ−、ｍ−またはｐ−トルイル基等が
挙げられ、アリールアルキル基としては、ベンジル基等
が挙げられる。
アリール基またはアリールアルキル基である。ハロゲン
原子としては、例えば、塩素、フッ素、臭素等が挙げら
れる。低級アルキル基としては、例えば、メチル基、エ
チル基、プロピル基等が挙げられ、アリール基として
は、フェニル基、ｏ−、ｍ−またはｐ−トルイル基等が
挙げられ、アリールアルキル基としては、ベンジル基等
が挙げられる。
さらに、R5とR7は相互に結合して５員環または６員環
等の環を形成していてもよい。
等の環を形成していてもよい。
この一般式（II）で表されるニッケル化合物の好まし
いものとして、下記式（II A）〜（II G）で表される化
合物を挙げることができる。
いものとして、下記式（II A）〜（II G）で表される化
合物を挙げることができる。
このニッケル化合物は、いずれの方法によって得られ
たものでもよく、特に限定されない。また、市販品を用
いてもよい。
たものでもよく、特に限定されない。また、市販品を用
いてもよい。
このニッケル化合物は、例えば、所望のニッケル化合
物に対応するジケトン化合物と、NiSO4またはNiCl2とを
用いて、脱塩法で製造することができる。このようにし
て得られる生成物は、反応溶媒等を除去した後、乾燥し
てそのまま使用してもよい。さらに有機溶媒で抽出した
精製物として使用してもよいし、減圧下に、昇華精製し
て使用してもよく、またこれらの精製法を組合わせて精
製し使用に供してもよい。
物に対応するジケトン化合物と、NiSO4またはNiCl2とを
用いて、脱塩法で製造することができる。このようにし
て得られる生成物は、反応溶媒等を除去した後、乾燥し
てそのまま使用してもよい。さらに有機溶媒で抽出した
精製物として使用してもよいし、減圧下に、昇華精製し
て使用してもよく、またこれらの精製法を組合わせて精
製し使用に供してもよい。
本発明の方法において、前記一般式（II）で表される
ニッケル化合物である触媒の使用量は、通常、出発原料
である前記一般式（Ｉ）で表されるエチレン性二重結合
含有化合物１モルに対して0.005〜１モルであり、特に
0.01〜0.2モルが好ましい。
ニッケル化合物である触媒の使用量は、通常、出発原料
である前記一般式（Ｉ）で表されるエチレン性二重結合
含有化合物１モルに対して0.005〜１モルであり、特に
0.01〜0.2モルが好ましい。
本発明の方法は、前記一般式（Ｉ）で表されるエチレ
ン性二重結合含有化合物を、一般式（II）で表されるニ
ッケル化合物を触媒として、１級アルコールおよび／ま
たは２級アルコールの存在下に反応させる方法である。
ン性二重結合含有化合物を、一般式（II）で表されるニ
ッケル化合物を触媒として、１級アルコールおよび／ま
たは２級アルコールの存在下に反応させる方法である。
用いられる１級アルコールまたは２級アルコールは、
脂肪族、脂環式、芳香族またはこれらの置換基を有する
ものでもよく、特に限定されない。例えば、メタノー
ル、エタノール、プロパノール、ブタノール、ペンタノ
ール、ベンジルアルコール、β−フェネチルアルコール
等の１級アルコール；イソプロパノール、sec−ブチル
アルコール、シクロペンタノール、シクロヘキサノー
ル、α−フェネチルアルコール等の２級アルコールなど
が挙げられる。これらは１種単独でも２種以上を組合せ
ても用いられる。これらのうちで好ましいものはプロパ
ノール、ブタノールである。
脂肪族、脂環式、芳香族またはこれらの置換基を有する
ものでもよく、特に限定されない。例えば、メタノー
ル、エタノール、プロパノール、ブタノール、ペンタノ
ール、ベンジルアルコール、β−フェネチルアルコール
等の１級アルコール；イソプロパノール、sec−ブチル
アルコール、シクロペンタノール、シクロヘキサノー
ル、α−フェネチルアルコール等の２級アルコールなど
が挙げられる。これらは１種単独でも２種以上を組合せ
ても用いられる。これらのうちで好ましいものはプロパ
ノール、ブタノールである。
本発明の方法において、１級アルコールおよび／また
は２級アルコールの使用量は、出発物質である前記一般
式（Ｉ）で表されるエチレン性二重結合含有化合物１モ
ルに対して、通常、１モル以上、好ましくは１〜10モル
である。また、この反応は、溶媒を用いて行うこともで
き、この場合には、通常は、上記式［II］で表される化
合物１モルに対して、１モル以上の量のアルコールを、
溶媒で希釈して使用することもできる。
は２級アルコールの使用量は、出発物質である前記一般
式（Ｉ）で表されるエチレン性二重結合含有化合物１モ
ルに対して、通常、１モル以上、好ましくは１〜10モル
である。また、この反応は、溶媒を用いて行うこともで
き、この場合には、通常は、上記式［II］で表される化
合物１モルに対して、１モル以上の量のアルコールを、
溶媒で希釈して使用することもできる。
この場合に使用することができる反応溶媒としては、
反応に対して不活性な溶媒を使用することができ、この
ような反応溶媒の具体的な例としては、 ベンゼンおよびトルエンのような芳香族溶媒： クロロホルム、ジクロルメタンおよびジクロロエタン
のようなハロゲン化炭化水素系溶媒： 酢酸エチルのようなエステル系溶媒、並びに アセトニトリル、THFなどを挙げることができる。こ
れらの溶媒は単独であるいは組み合わせて使用すること
ができる。
反応に対して不活性な溶媒を使用することができ、この
ような反応溶媒の具体的な例としては、 ベンゼンおよびトルエンのような芳香族溶媒： クロロホルム、ジクロルメタンおよびジクロロエタン
のようなハロゲン化炭化水素系溶媒： 酢酸エチルのようなエステル系溶媒、並びに アセトニトリル、THFなどを挙げることができる。こ
れらの溶媒は単独であるいは組み合わせて使用すること
ができる。
本発明に用いられる酸素含有ガスは、酸素ガス（純酸
素）でもよいし、酸素含有窒素ガス（例えば空気）、酸
素含有アルゴンガス等の酸素含有不活性ガスで良い。
素）でもよいし、酸素含有窒素ガス（例えば空気）、酸
素含有アルゴンガス等の酸素含有不活性ガスで良い。
酸素含有ガス中の酸素の分圧は、好ましくは0.1〜30a
tm、より好ましくは0.2〜15atmである。酸素の分圧がこ
の範囲内にあると、反応速度が速く、反応収率も良い。
tm、より好ましくは0.2〜15atmである。酸素の分圧がこ
の範囲内にあると、反応速度が速く、反応収率も良い。
また、本発明の方法においては、反応を合成セオライ
トの存在下に行うと、より高い収率で前記一般式（II
I）で表されるエポキシ基含有化合物を得ることができ
るため、好ましい。
トの存在下に行うと、より高い収率で前記一般式（II
I）で表されるエポキシ基含有化合物を得ることができ
るため、好ましい。
用いられる合成ゼオライトとしては、モレキュラーシ
ーブが特に適しており、さらにモレキュラーシーブ3A、
4Aおよび5Aとして市販されているものが特に好ましい。
モレキュラーシーブのような合成ゼオライトは、粉末状
あるいはペレット状などの種々の形態で使用することが
できる。
ーブが特に適しており、さらにモレキュラーシーブ3A、
4Aおよび5Aとして市販されているものが特に好ましい。
モレキュラーシーブのような合成ゼオライトは、粉末状
あるいはペレット状などの種々の形態で使用することが
できる。
このような合成ゼオライトを使用する場合、その使用
量は、通常、前記一般式（Ｉ）で表されるエチレン性二
重結合含有化合物１ミリモルに対して0.5g以下、好まし
くは0.02〜0.3gの割合となる量である。
量は、通常、前記一般式（Ｉ）で表されるエチレン性二
重結合含有化合物１ミリモルに対して0.5g以下、好まし
くは0.02〜0.3gの割合となる量である。
本発明の方法における反応は、液相中で連続的に行っ
てもよいし、回分的に行ってもよい。
てもよいし、回分的に行ってもよい。
反応温度は、通常、40〜200程度であり、特に50〜150
℃が好ましい。
℃が好ましい。
以上の反応によって得られる反応混合物は、通常、副
生物、未反応の出発原料、触媒等を含有するため、本発
明の目的物であるエポキシ基含有化合物は、この反応混
合物中から分離、精製して得ることができる。用いられ
る分離方法は、特に制限されず、例えば、蒸留、吸着に
よる方法、抽出、再結晶等公知の分離方法によれば良
い。
生物、未反応の出発原料、触媒等を含有するため、本発
明の目的物であるエポキシ基含有化合物は、この反応混
合物中から分離、精製して得ることができる。用いられ
る分離方法は、特に制限されず、例えば、蒸留、吸着に
よる方法、抽出、再結晶等公知の分離方法によれば良
い。
本発明の方法によって得られるエポキシ基含有化合物
は、例えば、合成中間体、ポリマー原料等の用途に有用
である。
は、例えば、合成中間体、ポリマー原料等の用途に有用
である。
＜実施例＞ 以下、実施例および比較例により本発明を具体的に説
明するが、本発明は、これらの実施例に限定されるもの
ではない。
明するが、本発明は、これらの実施例に限定されるもの
ではない。
（実施例１） 反応容器に、２−メチル−２−デセン10mmol、プロパ
ノール1.5mlおよびジクロルエタン2ml、および触媒とし
てビス（３−メチルアセチルアセトナト）ニッケル90mg
（0.30mmolを仕込んだ。次いで、反応容器内に、10kg/c
m2の酸素ガスを充填し、100℃で６時間反応させた。
ノール1.5mlおよびジクロルエタン2ml、および触媒とし
てビス（３−メチルアセチルアセトナト）ニッケル90mg
（0.30mmolを仕込んだ。次いで、反応容器内に、10kg/c
m2の酸素ガスを充填し、100℃で６時間反応させた。
得られた反応生成液をガスクロマトグラフィーにかけ
て、分析した結果、２−メチル−２−デセンの転化率は
95％で、目的物であるエポキシド（2,2−ジメチル−３
−ヘプチルオキシラン）の収率は40％であった。
て、分析した結果、２−メチル−２−デセンの転化率は
95％で、目的物であるエポキシド（2,2−ジメチル−３
−ヘプチルオキシラン）の収率は40％であった。
（実施例２） 反応容器に、さらにモレキュラーシーブ4A（アルドリ
ッチ社製）1gを仕込み、反応混合液を懸濁させた以外
は、実施例１と同様にして反応させ、得られた反応生成
液をガスクロマトグラフィーにかけて分析したところ、
２−メチル−２−デセンの転化率は100％で、目的物で
あるエポキシド（2,2−ジメチル−３−ヘプチルオキシ
ラン）の収率は54％であった。
ッチ社製）1gを仕込み、反応混合液を懸濁させた以外
は、実施例１と同様にして反応させ、得られた反応生成
液をガスクロマトグラフィーにかけて分析したところ、
２−メチル−２−デセンの転化率は100％で、目的物で
あるエポキシド（2,2−ジメチル−３−ヘプチルオキシ
ラン）の収率は54％であった。
（実施例３） プロパノールの代わりにイソプロパノール1.5mlを用
いた以外は実施例１と同様にして反応させ、得られた反
応生成液をガスクロマトグラフィーにかけて分析したと
ころ、２−メチル−２−デセンの転化率は100％であ
り、目的物であるエポキシド（2,2−ジメチル−３−ヘ
プチルオキシラン）の収率は40％であった。
いた以外は実施例１と同様にして反応させ、得られた反
応生成液をガスクロマトグラフィーにかけて分析したと
ころ、２−メチル−２−デセンの転化率は100％であ
り、目的物であるエポキシド（2,2−ジメチル−３−ヘ
プチルオキシラン）の収率は40％であった。
（実施例４） 反応容器にさらにモレキュラーシーブ4A1gを仕込み、
反応混合液を懸濁させた以外は、実施例３と同様にして
反応させ、得られた反応生成液をガスクロマトグラフィ
ーにかけて分析したところ、２−メチル−２−デセンの
転化率は100％であり、目的物であるエポキシド（2,2−
ジメチル−３−ヘプチルオキシラン）の収率は47％であ
った。
反応混合液を懸濁させた以外は、実施例３と同様にして
反応させ、得られた反応生成液をガスクロマトグラフィ
ーにかけて分析したところ、２−メチル−２−デセンの
転化率は100％であり、目的物であるエポキシド（2,2−
ジメチル−３−ヘプチルオキシラン）の収率は47％であ
った。
（実施例５〜９） ２−メチル−２−デセンの代わりに、表１で示すオレ
フィンおよび反応時間で反応を行った以外は実施例２と
同様にして反応を行い、得られた反応生成液をガスクロ
マトグラフィーで分析し、使用したオレフィンの転化
率、および目的物であるエポキシ基含有化合物の収率を
求めた。結果を表１に示す。
フィンおよび反応時間で反応を行った以外は実施例２と
同様にして反応を行い、得られた反応生成液をガスクロ
マトグラフィーで分析し、使用したオレフィンの転化
率、および目的物であるエポキシ基含有化合物の収率を
求めた。結果を表１に示す。
（実施例10） ２−メチル−２−デセンの代りに２−ノルボルネン10
mmolを用い、プロパノールの代わりにイソプロパノール
を用い、さらに反応容器にモレキュラーシーブ4A1gを仕
込み、反応混合液を懸濁させた以外は、実施例１と同様
にして反応させた。
mmolを用い、プロパノールの代わりにイソプロパノール
を用い、さらに反応容器にモレキュラーシーブ4A1gを仕
込み、反応混合液を懸濁させた以外は、実施例１と同様
にして反応させた。
得られた反応生成液をガスクロマトグラフィーで分析
した結果、２−ノルボルネンの転化率は88％であり、目
的物であるexo−2,3−エポキシノルボルネンの収率は59
％であった。
した結果、２−ノルボルネンの転化率は88％であり、目
的物であるexo−2,3−エポキシノルボルネンの収率は59
％であった。
（実施例11〜15） 触媒としてビス（３−メチルアセチルアセトナト）ニ
ッケルの代りに、表２に示すニッケル化合物を用いた以
外は実施例10と同様にして反応を行った。
ッケルの代りに、表２に示すニッケル化合物を用いた以
外は実施例10と同様にして反応を行った。
得られた反応生成液をガスクロマトグラフィーで分析
し、２−ノルボルネンの転化率、および目的物であるエ
ポキシ基含有化合物の収率を求めた。結果を表２に示
す。
し、２−ノルボルネンの転化率、および目的物であるエ
ポキシ基含有化合物の収率を求めた。結果を表２に示
す。
（比較例１） 反応容器に、２−メチル−２−デセン10mmol、ジクロ
ロメタン2mlおよび、ビス（３−メチルアセチルアセト
ナト）ニッケル90mgを入れ、実施例１と同様の条件下に
反応を行った。
ロメタン2mlおよび、ビス（３−メチルアセチルアセト
ナト）ニッケル90mgを入れ、実施例１と同様の条件下に
反応を行った。
このようにして得られた反応液を、ガスクロマトグラ
フィーを用いて分析した結果、２−メチル−２−デセン
の転化率は80％で、目的物であるエポキシド（2,2−ジ
メチル−３−ヘプチルオキシラン）が10％生成してい
た。
フィーを用いて分析した結果、２−メチル−２−デセン
の転化率は80％で、目的物であるエポキシド（2,2−ジ
メチル−３−ヘプチルオキシラン）が10％生成してい
た。
（比較例２） 実施例１の反応でアルコールを1,1−ジメチルエタノ
ール（ｔ−ブタノール）にかえた以外は同様にして反応
を行った。
ール（ｔ−ブタノール）にかえた以外は同様にして反応
を行った。
このようにして得られた反応液を、ガスクロマトグラ
フィーを用いて分析した結果、２−メチル−２−デセン
の転化率は20％で、目的物であるエポキシド（2,2−ジ
メチル−３−ヘプチルオキシラン）が７％生成してい
た。
フィーを用いて分析した結果、２−メチル−２−デセン
の転化率は20％で、目的物であるエポキシド（2,2−ジ
メチル−３−ヘプチルオキシラン）が７％生成してい
た。
（比較例３） ビス（３−メチルアセチルアセトナト）ニッケルの代
りに、ビス（1,1,1,5,5,5−ヘキサフルオロアセチルア
セトナト）ニッケルを用いた以外は、実施例１と同様に
して反応を行った。
りに、ビス（1,1,1,5,5,5−ヘキサフルオロアセチルア
セトナト）ニッケルを用いた以外は、実施例１と同様に
して反応を行った。
得られた反応生成液を、ガスクロマトグラフィーで分
析したところ、２−メチル−２−デセンの転化率は０で
あり、エポキシド（2,2−ジメチル−３−ヘプチルオキ
シラン）が生成しなかったことがわかった。
析したところ、２−メチル−２−デセンの転化率は０で
あり、エポキシド（2,2−ジメチル−３−ヘプチルオキ
シラン）が生成しなかったことがわかった。
＜発明の効果＞ 本発明の方法によれば、特定の構造のニッケル化合物
を触媒として用いる新規な反応により、エポキシ基含有
化合物を得ることができる。
を触媒として用いる新規な反応により、エポキシ基含有
化合物を得ることができる。
Claims (2)
- 【請求項１】一般式（Ｉ）： ［式中、R1、R2、R3およびR4は同一でも異なってもよ
く、水素原子またはアルキル基であり、またR1とR2、並
びにR3とR4は、それぞれ相互に結合して環を形成してい
てもよい］で表されるエチレン性二重結合含有化合物
を、一般式（II）： ［式中、R5およびR7は同一でも異なってもよく、低級ア
ルキル基であり、R6は、水素原子、ハロゲン原子、低級
アルキル基、アリール基またはアリールアルキル基であ
り、R6とR7は相互に結合して環を形成していてもよい］ で表されるニッケル化合物を触媒として用い、かつ１級
アルコールおよび／または２級アルコールの存在下に、
酸素含有ガスと反応させる工程を含む、 一般式（III）： ［R1、R2、R3およびR4は前記一般式（Ｉ）において定義
したとおりである］ で表されるエポキシ基含有化合物の製造方法。 - 【請求項２】前記一般式（Ｉ）で表されるエチレン性二
重結合含有化合物と、酸素含有ガスとの反応を、前記一
般式（II）で表されるニッケル化合物と合成ゼオライト
の存在下に行うことを特徴とする請求項１に記載のエポ
キシ基含有化合物の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2010261A JP2950334B2 (ja) | 1990-01-19 | 1990-01-19 | ニポキシ基含有化合物の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2010261A JP2950334B2 (ja) | 1990-01-19 | 1990-01-19 | ニポキシ基含有化合物の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03246288A JPH03246288A (ja) | 1991-11-01 |
| JP2950334B2 true JP2950334B2 (ja) | 1999-09-20 |
Family
ID=11745371
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2010261A Expired - Fee Related JP2950334B2 (ja) | 1990-01-19 | 1990-01-19 | ニポキシ基含有化合物の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2950334B2 (ja) |
-
1990
- 1990-01-19 JP JP2010261A patent/JP2950334B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH03246288A (ja) | 1991-11-01 |
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| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |