JP2948750B2 - ワークのめっき方法及び装置 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】この発明は、例えば、半導体
リードフレームの外装部にはんだめっきを行うためのワ
ークのめっき方法及び装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】めっき処理は、通常、リードフレーム等
のワーク（被処理物）に所望の処理を行うための薬品槽
と水洗槽を複数段設け、ワークを次の槽へ順次移動して
行なう。半導体リードフレームの外装部にはんだめっき
を施す場合、洗浄槽、エッチング槽、めっき槽、中和処
理槽、乾燥炉などを搬送路に沿って配置しておき、リー
ドフレームをこれらの装置に順次移動させてこれらの処
理を連続的に行うようにしている。

【０００３】リードフレームをコンベア上に置き、水平
搬送させるリードフレームはんだめっき装置では、前処
理から後処理までをすべて液中処理をするとすれば、槽
の横に穴を明けリードフレームを通過させるか、搬送ラ
インを傾斜させ、槽の縁を乗り越えて液中に出入りする
方法が考えられる。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、前者に
おいては、槽の横穴から処理液が多量に流出するため大
容量の循環ポンプが必要となり、流出する液を受けるオ
ーバーフロー槽が各プロセスの間に必要となるため、装
置寸法が長くなる欠点があった。後者の場合でも槽間浸
漬される有効長さに対し空中を移動する無効長さがある
ため、同様に装置寸法が長くなってしまう欠点があっ
た。

【０００５】この発明は、水平搬送コンベアを用いてリ
ードフレームを搬送しながらめっき処理とその前後の処
理を一貫したワークの流れの中で行う場合に、処理液の
流出量を少なくして液処理設備を簡略化するとともに、
槽の寸法の肥大化を抑えることができる処理方法、装置
を提供することを目的とする。

【０００６】

【課題を解決するための手段】請求項１に記載の発明
は、洗浄・エッチングなどの前処理、めっき処理、及び
めっき処理後の中和・乾燥などの後処理を一連の動作で
行って半導体リードフレーム等のワークにめっきを施す
ためのワークのめっき方法であって、ワークをほぼ水平
に収容する複数のトレーを上記処理を行なう処理槽中及
び処理槽間に走行させ、上記トレーは少なくともその一
部が流体の流通を可能とする流通部に形成され、上記め
っき処理はワークをめっき液中に浸漬させた状態で行
い、脱脂洗浄・エッチングなどの前処理及び中和などの
後処理は搬送中のワークを噴射液、ミスト又は雰囲気に
晒すことにより行うことを特徴とするワークのめっき方
法である。

【０００７】これにより、循環ポンプが付設されたオー
バーフロー槽を必要とする処理槽をめっき槽のみとし
て、めっき処理及び前後工程の装置を簡略化しかつ全体
として短かくしてコストを低下させる。トレーを用いた
搬送機構によりワークを搬送するので、ワークを搬送機
構に乗せる作業が容易であり、その自動化も簡単であ
る。トレーの流通部からめっき液、噴射液、ミスト又は
雰囲気が流通するので、各処理が円滑にかつ均一に施さ
れる。

【０００８】上記流通部は、トレーの上下面に開口して
いてもよく、上記噴射液又はミストをワークの上下方向
から噴射してもよい。また、上記処理槽の槽壁に開口部
を形成し、この開口部を挿通して上記搬送機構を走行さ
せてもよい。

【０００９】請求項２に記載の発明は、洗浄・エッチン
グなどの前処理、めっき処理、及びめっき処理後の中和
・乾燥などの後処理を一連の動作で行って半導体リード
フレーム等のワークにめっきを施すためのワークのめっ
き装置であって、ワークをほぼ水平に収容する複数のト
レーを上記処理を行なう処理槽中及び処理槽間に走行さ
せる搬送機構を備え、上記トレーには少なくともその一
部が流体の流通を可能とする流通部が形成され、上記め
っき処理槽にはめっき液が収容され、上記脱脂洗浄・エ
ッチングなどを行う前処理槽及び中和処理などを行う後
処理槽には、ワークに噴射液、ミストを供給するノズル
又は雰囲気を提供する手段が設けられたことを特徴とす
るワークのめっき装置である。

【００１０】上記流通部は、トレーの上下面に開口して
いてもよく、上記噴射液又はミストを、ワークの上下方
向から噴射してもよい。また、上記処理槽の槽壁に、上
記搬送機構を走行せしめる開口部を形成してもよい。上
記開口部に、上記トレーが走行可能な断面を持つ筒状の
オリフィス部を搬送機構の走行方向に沿って形成しても
よい。このオリフィス部は、液や気体の流通の際のコン
ダクタンスを下げて、開口部を介する液や気体の流出を
軽減する。

【００１１】請求項３に記載の発明は、半導体リードフ
レーム等のワークにめっきを施すために、洗浄、エッチ
ングなどの前処理及びめっき後の中和処理などの後処理
を行なうワークの処理方法であって、これらの処理を行
なう処理槽中及び処理槽間を走行する水平搬送機構によ
りワークを搬送し、搬送中のワークに処理液又はミスト
を噴射して上記処理を行なうことを特徴とするワークの
処理方法である。これにより、水平搬送機構が通過する
槽の開口部を処理高さと同じ位置に設けても液の流出が
無く、搬送ラインを上下させる必要がない。請求項４に
記載の発明は、半導体リードフレーム等のワークにめっ
きを施すために、洗浄、エッチングなどの前処理及びめ
っき後の中和処理などの後処理を行なうワークの処理装
置であって、処理槽内をほぼ水平方向に走行するワーク
搬送機構と、搬送中のワークに処理液又はミストを噴射
する噴射ノズルとを有することを特徴とするワークの処
理装置である。

【００１２】請求項５に記載の発明は、上記搬送機構
は、水平方向に走行するチェーンに取り付けられてワー
クをほぼ水平に収容する複数のトレーを備え、このトレ
ーには少なくともその一部に流体の流通を可能とする流
通部が形成され、上記ノズルは少なくともトレーの上下
に配置されていることを特徴とする請求項４に記載のワ
ークの処理装置である。上記処理槽に、上記トレー上方
を覆う落下防止部材を設けてもよい。請求項６に記載の
発明は、半導体リードフレーム等のワークに洗浄、エッ
チングなどの前処理、めっき処理及びめっき後の中和処
理などの後処理を行なうために処理液を収容する処理槽
であって、該処理槽の槽壁に、ワークを搬送する搬送機
構を走行せしめる開口部が形成され、この開口部には、
上記搬送機構が走行可能な断面を持つオリフィス部が搬
送機構の走行方向に沿って形成されていることを特徴と
する処理槽である。

【００１３】請求項７に記載の発明は、上記搬送機構
は、水平方向に走行するチェーンに取り付けられてワー
クをほぼ水平に収容する複数のトレーを備え、このトレ
ーは、少なくともその一部に流体の流通を可能とする流
通部と幅方向の側壁とを有し、上記オリフィス部は、上
記トレーを少なくとも１つ収容する大きさに形成されて
いることを特徴とする請求項６に記載の処理槽である。
上記処理槽に、上記トレー上方を覆う落下防止部材を設
けてもよい。

【００１４】

【発明の実施の形態】以下、本発明の１つの実施の形態
のリードフレームのめっき装置を図１ないし図７を参照
して説明する。図１ないし図７において、符号１は搬送
トレーであり、処理槽１１〜１３の中を走行する左右一
対の無端状のコンベアチェーン３，３に取り付けられて
いる。コンベアチェーン３は、処理槽１１〜１３の両側
に設置したスプロケット４に巻き掛けられて、電動機５
によって循環走行するようになっている。また、符号２
０はローディング装置、符号２１はアンローディング装
置である。

【００１５】搬送トレー１は、図２及び図３に示すよう
に側壁６ａ，６ｂと底部７から浅い皿状に構成されてい
る。側壁６ａ，６ｂは、板状の囲いであり、幅方向の横
側壁６ａが長辺であり、走行方向に平行な短辺側の側壁
６ｂにはコンベアチェーン３に取り付けるためのピン８
が設けられている。また、横側壁６ａには、ガイドバー
（落下防止部材）９を挿通させるための切欠部１０が形
成されている。底部７は、側壁６の間に張り渡された細
い線材又は金網により構成され、処理液や気体あるいは
噴射液の流通及びめっき電流の流れを阻害しないように
なっている。搬送トレー１は、対象となるリードフレー
ム（ワーク）Ｌを１つ収容する程度の大きさになってい
る。

【００１６】上記搬送用トレー１は、その短辺６ｂが進
行方向に対して平行となるように所定の間隔Ｃに複数個
配置され、トレー両端部分を挟むようにして、左右一対
の無端状コンベアチェーン３に連結されている。ガイド
バー９は、各処理槽１１，１２，１３間における槽壁と
リードフレームＬの引っ掛かり防止と、エッチング槽内
などにおいて噴射ノズルからリードフレームに処理液を
吹き付ける場合、又はブロー、乾燥の場合にリードフレ
ームＬが浮き上がって落下するのを防止する目的で、処
理槽に設けられている。

【００１７】図１において符号１１は脱脂・洗浄槽、エ
ッチング槽などのめっき前処理槽、符号１２はめっき
槽、符号１３は、中和処理槽、乾燥炉などのめっき後処
理槽である。各処理槽には、図４ないし図７に示すよう
に、前後及び槽間の隔壁１４に開口部１５が形成され、
これを挿通してチェーン３及び搬送トレー１が出入りす
るようになっている。

【００１８】図４及び図５に示すめっき前処理槽１１
は、薬液や洗浄水等の処理液を噴射させて処理を行なう
形式のものである。各処理槽１１ａ，１１ｂ，１１ｃは
隔壁１４によって区画され、搬送トレー１の走行路の上
下に所定の幅にわたって処理液噴射ノズル１６が配置さ
れ、これにはノズル１６に処理液や場合によっては噴霧
用の気体を供給する配管１７が設けられている。また、
ノズル１６の下流側には、必要に応じて水切り用のブロ
ーパイプ１８が設けられている。中和処理槽、洗浄槽な
どのめっき後処理槽１３も基本的な構造は同様である。

【００１９】図６及び図７は、浸漬処理を行うめっき槽
１２の構造を示すもので、このめっき槽１２は隣接する
処理槽との間に２つの隔壁１４ａ，１４ｂを有する２重
壁構造となっており、内側壁１４ｂの中のめっき槽本体
１２ａにめっき液を連続的に供給する配管（図示略）が
接続されており、２重壁の間のオーバーフロー槽１２ｂ
には、めっき槽本体１２ａから流出しためっき液を回収
して貯留槽に循環させる配管、ポンプ等（図示略）が設
けられている。

【００２０】内側壁１４ｂの開口部１５には、扁平な角
筒状のオリフィス部１９が水平方向に延びて形成されて
いる。このオリフィス部１９の断面は、トレー１の横側
壁６ａとその両側のコンベアチェーン３を含む搬送機構
の横断面よりやや大きく設定されており、トレー１を通
過させる必要最小限の断面積となるようにしている。ま
た、図６に示すように、オリフィス部１９の長さＡは、
トレー１の短辺６ｂの長さＢ及び隣接するトレー１の横
側壁６ａ間の間隔Ｃのいずれよりも大きく設定されてい
る。

【００２１】上記のような構成のめっき処理装置の作用
について説明する。図４及び図５において、左右一対の
コンベアチェーン３及び搬送トレー１等によって前処理
槽１１に搬送されてきたリードフレームＬは、第１前処
理槽１１ａのノズル１６から噴射された薬液等の処理液
によって所望の処理が施され、その処理後にブローパイ
プ１８にて薬液の液切りが行われ、後段の第２前処理槽
１１ｂに移送される。第２前処理槽１１ｂでは、ノズル
１６から噴射された洗浄水によって洗浄され、更に後段
の第３前処理槽１１ｃに移送される。第３前処理槽１１
ｃでは、第２前処理槽と同様に、ノズル１６から噴射さ
れた洗浄水によって洗浄され、更にブローパイプ１８に
て水切りが行われ、次の処理槽へ移送される。

【００２２】このように、このめっき装置においては、
従来、液中にワークＬを浸漬させて行っていた処理をも
噴射液によって行なうようにしたので、処理槽１１〜１
３の壁を貫通して走行する搬送機構を用いて処理槽中の
移動と処理槽間の移動の双方を行いつつ処理を行うこと
ができる。また、底部７が細線又は金網で構成されたト
レー１によりワークＬを搬送しているので、処理液を上
下から噴射してワークＬの全面を均等に処理することが
できる。

【００２３】前処理の終わったワークは、搬送装置によ
り２つの隔壁１４ａ，１４ｂの開口部１５を挿通して、
めっき槽１２に搬送され、めっき処理がなされる。開口
部１５が内側壁１４ｂに設けられているので、めっき液
はこの開口部１５から流出しており、その分のめっき液
は供給配管より連続的に供給される。オーバーフロー槽
１２ｂに流出しためっき液は図示しない貯留槽に戻り、
必要に応じて濾過や成分調整等を経てめっき槽本体１２
ａに循環供給される。

【００２４】ここにおいて、めっき槽本体１２ａの開口
部１５にはチェーンコンベアのトレー１の横断面よりや
や大きい断面を持つオリフィス部１９が設けられてお
り、その長さＡが少なくともトレー１の横側壁６ａの間
隔Ｂ又はＣよりも大きく設定されているので少なくとも
一方の横側壁がオリフィス中に存在するから、オリフィ
スを搬送トレーの横側壁によって塞いでめっき液の流通
コンダクタンスを下げている。従って、処理液の流出を
抑えることができる。なお、Ａ＞Ｂ＋Ｃとなるように設
定することにより、常に２枚の横側壁がオリフィス内に
存在するようにして流出量をさらに抑えることができ
る。

【００２５】以上のように槽開口部１５から流出する液
を最少限に抑えることにより、めっき液の循環系のポン
プ及びそれに附随する配管を小さくすることができ、こ
れによって装置を小型化することができる。また、コン
ベアチェーン３はめっき槽２ｃの一端側から他端側へ、
壁１８に形成されたオリフィス１９を挿通して走行する
ので、めっき槽２ｃへの出入りにおいても搬送ラインを
上下させる必要がない。例えば、コンベアチェーンを傾
斜させて隔壁を越えるようにすると、槽内に浸漬される
有効長さに対して空中を移動する無効長さが大きく、こ
のため装置寸法が長くなってしまうが、このめっき装置
では、搬送装置の簡略化と搬送の高速化が図られてい
る。

【００２６】めっき処理槽１２を通過したワークＬは、
中和処理槽、乾燥炉などのめっき後処理槽１３に搬送さ
れる。ここでの処理は、中和処理槽では、前処理槽と同
様の液噴射による処理が、乾燥炉では加熱又は乾燥雰囲
気で処理がなされる。

【００２７】このように、この実施の形態においては、
ワークであるリードフレームＬを水平搬送させ、処理液
を使う処理については、めっき工程以外のすべてのプロ
セスで、通過するリードフレームの両面に配したノズル
から噴射される液で表面処理を施すようにしたので、処
理液を流出させることなく水平搬送型の搬送機構を用い
ることができる。また、めっき処理に関してはオリフィ
ス部１９を設けてめっき液の流出を最小限に止めた。こ
れらの工夫により、共通の水平搬送型の搬送機構でめっ
き処理の最初から最後までの工程を一貫してリードフレ
ームを搬送することができるので、異なる形式の搬送機
構を使う必要が無くなり、設備コストを軽減することが
できるとともに、処理槽内や処理槽間でのリードフレー
ムの移し替えが不要なので作業の手間や時間が軽減さ
れ、操業コストの軽減と能率の向上が図れる。

【００２８】なお、上記においては、めっき槽のみを浸
漬型としたが、必要に応じて液処理を行なう他の処理槽
の一部又は全部を浸漬型としても良い。また、上記で
は、オリフィス部を浸漬型にのみ設けたが、噴射型、あ
るいは乾燥炉等の雰囲気型処理槽に設けても良い。

【００２９】

【発明の効果】以上説明したように、この発明によれ
ば、めっき処理の全工程のワークの搬送を共通の水平搬
送機構でまかなうことができるので、異なる形式の搬送
機構を使う必要が無くなり、設備コストを軽減すること
ができるとともに、処理槽内や処理槽間でのリードフレ
ームの移し替えが不要なので作業の手間や時間が軽減さ
れ、操業コストの軽減と能率の向上が図れる。その結
果、めっき処理とその前後の処理を一貫したワークの流
れの中で行って、設備の簡略化と、めっき処理の機械
化、省力化及び能率向上を達成することができる。ま
た、この発明によれば、電解処理が必要な処理工程にお
いては、浸漬式の槽を、その必要のない処理工程におい
ては噴射式の槽をそれぞれ選択することができ、いずれ
も同一の搬送装置にて処理が施せるため、めっき工程の
違いに対する汎用性が高い。また、従来の無駄なスペー
スを最小化したことによって、装置全体の寸法が小さく
なる等の優れた効果を奏する。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の一つ実施の形態のめっき装置の全体の
構成を示す斜視図である。

【図２】トレーの構造を示す斜視図である。

【図３】トレー及びコンベアチェーンの平面図である。

【図４】噴射型処理槽の断面図である。

【図５】噴射型処理槽の平面図である。

【図６】浸漬型処理槽の断面図である。

【図７】浸漬型処理槽の平面図である。

【符号の説明】

１ トレー ３ コンベアチェーン ４ スプロケット ５ 電動機 ６ 側壁 ７ 底部 ８ ピン ９ ガイドバー １０ 切欠部 １１，１１ａ，１１ｂ，１１ｃ 前処理槽 １２ めっき槽 １２ａ めっき槽本体 １２ｂ オーバーフロー槽 １３ 後処理槽 １４ 隔壁 １５ 開口部 １６ 噴射ノズル １７ 配管 １８ ブローパイプ １９ オリフィス部 ２０ ローディング装置 ２１ アンローディング装置

フロントページの続き (51)Int.Cl.⁶ 識別記号 ＦＩ Ｈ０１Ｌ 23/50 Ｈ０１Ｌ 23/50 Ｄ (56)参考文献 特開 昭58−125857（ＪＰ，Ａ) 特開 平４−289198（ＪＰ，Ａ) 特開 平５−255899（ＪＰ，Ａ) 特開 昭48−52643（ＪＰ，Ａ) 特開 昭57−188695（ＪＰ，Ａ) 特開 平９−53199（ＪＰ，Ａ) 特開 平９−71896（ＪＰ，Ａ) 特公 昭46−40082（ＪＰ，Ｂ１) (58)調査した分野(Int.Cl.⁶，ＤＢ名) C25D 17/00 C25D 7/12 C25D 17/08 C25D 21/08

Claims (7)

(57)【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 洗浄・エッチングなどの前処理、めっき
   処理、及びめっき処理後の中和・乾燥などの後処理を一
   連の動作で行って半導体リードフレーム等のワークにめ
   っきを施すためのワークのめっき方法であって、 ワークをほぼ水平に収容する複数のトレーを上記処理を
   行なう処理槽中及び処理槽間に走行させ、 上記トレーは少なくともその一部が流体の流通を可能と
   する流通部に形成され、 上記めっき処理はワークをめっき液中に浸漬させた状態
   で行い、脱脂洗浄・エッチングなどの前処理及び中和な
   どの後処理は搬送中のワークを噴射液、ミスト又は雰囲
   気に晒すことにより行うことを特徴とするワークのめっ
   き方法。
2. 【請求項２】 洗浄・エッチングなどの前処理、めっき
   処理、及びめっき処理後の中和・乾燥などの後処理を一
   連の動作で行って半導体リードフレーム等のワークにめ
   っきを施すためのワークのめっき装置であって、 ワークをほぼ水平に収容する複数のトレーを上記処理を
   行なう処理槽中及び処理槽間に走行させる搬送機構を備
   え、 上記トレーには少なくともその一部が流体の流通を可能
   とする流通部に形成され、 上記めっき処理槽にはめっき液が収容され、 上記脱脂洗浄・エッチングなどを行う前処理槽及び中和
   処理などを行う後処理槽には、ワークに噴射液、ミスト
   を供給するノズル又は雰囲気を提供する手段が設けられ
   たことを特徴とするワークのめっき装置。
3. 【請求項３】 半導体リードフレーム等のワークにめっ
   きを施すために、洗浄、エッチングなどの前処理及びめ
   っき後の中和処理などの後処理を行なうワークの処理方
   法であって、 これらの処理を行なう処理槽中及び処理槽間を走行する
   水平搬送機構によりワークを搬送し、 搬送中のワークに処理液又はミストを噴射して上記処理
   を行なうことを特徴とするワークの処理方法。
4. 【請求項４】 半導体リードフレーム等のワークにめっ
   きを施すために、洗浄、エッチングなどの前処理及びめ
   っき後の中和処理などの後処理を行なうワークの処理装
   置であって、 処理槽内をほぼ水平方向に走行するワーク搬送機構と、 搬送中のワークに処理液又はミストを噴射する噴射ノズ
   ルとを有することを特徴とするワークの処理装置。
5. 【請求項５】 上記搬送機構は、水平方向に走行するチ
   ェーンに取り付けられてワークをほぼ水平に収容する複
   数のトレーを備え、このトレーは少なくともその一部に
   流体の流通を可能とする流通部が形成され、上記ノズル
   は少なくともトレーの上下に配置されていることを特徴
   とする請求項４に記載のワークの処理装置。
6. 【請求項６】 半導体リードフレーム等のワークに洗
   浄、エッチングなどの前処理、めっき処理及びめっき後
   の中和処理などの後処理を行なうために処理液を収容す
   る処理槽であって、 該処理槽の槽壁に、ワークを搬送する搬送機構を走行せ
   しめる開口部が形成され、 この開口部には、上記搬送機構が走行可能な断面を持つ
   オリフィス部が搬送機構の走行方向に沿って形成されて
   いることを特徴とする処理槽。
7. 【請求項７】 上記搬送機構は、水平方向に走行するチ
   ェーンに取り付けられてワークをほぼ水平に収容する複
   数のトレーを備え、このトレーは、少なくともその一部
   に流体の流通を可能とする流通部と幅方向の側壁とを有
   し、上記オリフィス部は、上記トレーを少なくとも１つ
   収容する大きさに形成されていることを特徴とする請求
   項６に記載の処理槽。