JP2936920B2 - パターン転写装置 - Google Patents
パターン転写装置Info
- Publication number
- JP2936920B2 JP2936920B2 JP28723192A JP28723192A JP2936920B2 JP 2936920 B2 JP2936920 B2 JP 2936920B2 JP 28723192 A JP28723192 A JP 28723192A JP 28723192 A JP28723192 A JP 28723192A JP 2936920 B2 JP2936920 B2 JP 2936920B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- pattern
- glass substrate
- master mask
- pattern transfer
- hydraulic cylinder
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
Landscapes
- Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、半導体集積回路の写真
蝕刻工程に用いられるフォトマスクを複製する一括転写
用のパターン転写装置に関する。
蝕刻工程に用いられるフォトマスクを複製する一括転写
用のパターン転写装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】半導体集積回路の写真蝕刻工程中に用い
られるフォトマスクは、使用回数によってパターンが損
傷するので、マスタマスクにより複数のコピーマスクを
複写し、これら複数のコピーマスクを使用して露光装置
で半導体基板にパターンを転写していた。このコピーマ
スクを転写するのにパターン転写装置が用いられてい
た。このパターン転写装置は、マスタマスクとその画像
を露光により転写するコピー基板との間を密着させ、一
方向から光を投射し転写するものであった。また、この
パターン転写装置はコンタクトプリンタと呼ばれてい
た。
られるフォトマスクは、使用回数によってパターンが損
傷するので、マスタマスクにより複数のコピーマスクを
複写し、これら複数のコピーマスクを使用して露光装置
で半導体基板にパターンを転写していた。このコピーマ
スクを転写するのにパターン転写装置が用いられてい
た。このパターン転写装置は、マスタマスクとその画像
を露光により転写するコピー基板との間を密着させ、一
方向から光を投射し転写するものであった。また、この
パターン転写装置はコンタクトプリンタと呼ばれてい
た。
【０００３】図２（ａ）〜（ｆ）はコピーマスクを複製
する工程の一例を説明するためのマスターマスクとガラ
ス基板を工程順に示す断面図である。次にコピーマスク
を製作する過程について説明する。まず、図２（ａ）に
示すように、ガラス基板４１（例えば石英又はソーダラ
イムガラス）の上に８０〜１２０ｎｍの厚さにクロム膜
４２を蒸着し、洗浄する。次に、図２（ｂ）に示すよう
に、クロム膜４２上にレジストを４００〜６００ｎｍの
厚さに塗布してレジスト４３を形成し、しかる後プリベ
ークを行う。次に、図２（ｃ）に示すように、コンタク
トプリンターを使いマスターマスク４４をガラス基板４
１の上に覆い、紫外線を投射し、パターンをガラス基板
４１に転写する。次に、ガラス基板４１を現像装置の回
転台に載置し、１００〜４００ｒ．ｐ．ｍで回転させな
がら現像液をスプレー状に吹きかけ不要部のレジストを
溶解徐をして、図２（ｄ）に示すように、レジストパタ
ーン４３ａを形成する。そしてクロム膜４２とレジスト
パターン４３ａの密着を強化するためポストベークを行
った後、硝酸第二セリウムアンモニウムと過塩素酸を主
成分とするエッチング液に浸漬し、図２（ｅ）に示すよ
うに、レジストが除去された部分のクロム膜４２をエッ
チング除去する。最後に、図２（ｆ）に示すようにレジ
ストパターン４３ａを剥離液にて除去し、パターン４２
ａをもつフォトマスクが完成する。
する工程の一例を説明するためのマスターマスクとガラ
ス基板を工程順に示す断面図である。次にコピーマスク
を製作する過程について説明する。まず、図２（ａ）に
示すように、ガラス基板４１（例えば石英又はソーダラ
イムガラス）の上に８０〜１２０ｎｍの厚さにクロム膜
４２を蒸着し、洗浄する。次に、図２（ｂ）に示すよう
に、クロム膜４２上にレジストを４００〜６００ｎｍの
厚さに塗布してレジスト４３を形成し、しかる後プリベ
ークを行う。次に、図２（ｃ）に示すように、コンタク
トプリンターを使いマスターマスク４４をガラス基板４
１の上に覆い、紫外線を投射し、パターンをガラス基板
４１に転写する。次に、ガラス基板４１を現像装置の回
転台に載置し、１００〜４００ｒ．ｐ．ｍで回転させな
がら現像液をスプレー状に吹きかけ不要部のレジストを
溶解徐をして、図２（ｄ）に示すように、レジストパタ
ーン４３ａを形成する。そしてクロム膜４２とレジスト
パターン４３ａの密着を強化するためポストベークを行
った後、硝酸第二セリウムアンモニウムと過塩素酸を主
成分とするエッチング液に浸漬し、図２（ｅ）に示すよ
うに、レジストが除去された部分のクロム膜４２をエッ
チング除去する。最後に、図２（ｆ）に示すようにレジ
ストパターン４３ａを剥離液にて除去し、パターン４２
ａをもつフォトマスクが完成する。
【０００４】図３（ａ）及び（ｂ）は従来のパターン転
写装置の一例を示す断面図及び部分平面図である。上述
したマスクの複製工程で使用するパターン転写装置は、
図３に示すように、ガラス基板４１とマスターマスク４
４と密着させてパッキング１２を介して気密に保持する
２枚の保持板１ａ，２ａで構成されており、投射光に対
しマスターマスク４４及びガラス基板４１の転写面が垂
直になるように調節ねじ１１が設けられている。
写装置の一例を示す断面図及び部分平面図である。上述
したマスクの複製工程で使用するパターン転写装置は、
図３に示すように、ガラス基板４１とマスターマスク４
４と密着させてパッキング１２を介して気密に保持する
２枚の保持板１ａ，２ａで構成されており、投射光に対
しマスターマスク４４及びガラス基板４１の転写面が垂
直になるように調節ねじ１１が設けられている。
【０００５】また、この調節ねじ１１は保持板１ａの各
辺に複数本にねじ込まれ、その先端は保持板２ａの面に
当てられ、パッキング１２のつぶし代の許容範囲内で調
節ねじ１１を突出させ、マスターマスク４４とガラス基
板４１の傾むきを調節していた。
辺に複数本にねじ込まれ、その先端は保持板２ａの面に
当てられ、パッキング１２のつぶし代の許容範囲内で調
節ねじ１１を突出させ、マスターマスク４４とガラス基
板４１の傾むきを調節していた。
【０００６】次に、このパターン転写装置によるマスク
の複製手順を説明する。まず、マスターマスク４４とガ
ラス基板４１とを密着させた状態で保持板１ａ及び２ａ
で挟み保持する。次に、調節ねじ１１の保持板１ａより
突出する量を調節し、投射光に対して面が直角になる設
定する。次に、排気管６より図示していない真空排気装
置で真空排気し、マスターマスク４４とガラス基板４１
とをより密着させる。そして、投射光を投射しマスター
マスク４４のパターンをガラス基板４１に転写する。
の複製手順を説明する。まず、マスターマスク４４とガ
ラス基板４１とを密着させた状態で保持板１ａ及び２ａ
で挟み保持する。次に、調節ねじ１１の保持板１ａより
突出する量を調節し、投射光に対して面が直角になる設
定する。次に、排気管６より図示していない真空排気装
置で真空排気し、マスターマスク４４とガラス基板４１
とをより密着させる。そして、投射光を投射しマスター
マスク４４のパターンをガラス基板４１に転写する。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、この従
来のパターン転写装置では、真空排気後では真空圧のた
めに調節ねじを突出させて傾きを調整することが困難で
あり、真空排気する前に調節ねじを突出させ、予め調整
してから真空排気し露光転写していた。このため真空排
気により真空圧で傾きが微妙に変化し、しばしばパター
ンの転写ずれを起していた。この場合は、再度調節ねじ
の突出量を調整し転写し転写ずれが無くなるまで繰返し
て行なわれていた。このことは部材の損失だけではなく
多大の工数を浪費するという問題があった。また、この
調節ねじの突出量の調節を繰返している内に、ねじ山の
つぶれやねじの先端による凹みを保持板に生じ、保持板
の寿命を短くするといった欠点もある。
来のパターン転写装置では、真空排気後では真空圧のた
めに調節ねじを突出させて傾きを調整することが困難で
あり、真空排気する前に調節ねじを突出させ、予め調整
してから真空排気し露光転写していた。このため真空排
気により真空圧で傾きが微妙に変化し、しばしばパター
ンの転写ずれを起していた。この場合は、再度調節ねじ
の突出量を調整し転写し転写ずれが無くなるまで繰返し
て行なわれていた。このことは部材の損失だけではなく
多大の工数を浪費するという問題があった。また、この
調節ねじの突出量の調節を繰返している内に、ねじ山の
つぶれやねじの先端による凹みを保持板に生じ、保持板
の寿命を短くするといった欠点もある。
【０００８】本発明の目的は、投射光の光軸に対して直
交度調整を真空圧で密着状態でも行え得るとともにより
迅速により簡単に調整出来、転写パターンずれを起さな
いパターン転写装置を提供することである。
交度調整を真空圧で密着状態でも行え得るとともにより
迅速により簡単に調整出来、転写パターンずれを起さな
いパターン転写装置を提供することである。
【０００９】
【課題を解決するための手段】本発明のパターン転写装
置は、パターンが形成される原板と転写される基板とを
パッキングを介して気密に密着させる二枚の保持板と、
これら原板と基板との間を真空排気して密着させる真空
排気装置と、前記保持板のいずれかの保持板の所定の位
置に取付けられるとともにピストンの先端で残りの前記
保持板の面を押す複数本の油圧シリンダと、この油圧シ
リンダに油を圧送するとともに油圧を可変出来る油圧装
置を備えている。
置は、パターンが形成される原板と転写される基板とを
パッキングを介して気密に密着させる二枚の保持板と、
これら原板と基板との間を真空排気して密着させる真空
排気装置と、前記保持板のいずれかの保持板の所定の位
置に取付けられるとともにピストンの先端で残りの前記
保持板の面を押す複数本の油圧シリンダと、この油圧シ
リンダに油を圧送するとともに油圧を可変出来る油圧装
置を備えている。
【００１０】
【実施例】次に、本発明について図面を用いて説明す
る。
る。
【００１１】図１は、本発明によるパターン転写装置の
一実施例を示す部分破断図である。このパターン転写装
置は、図１に示すように、保持板２を押しマスターマス
ク４４及びガラス基板の傾斜度を調整する油圧シリンダ
３と、油圧シリンダ３の押圧力を変える油圧制御弁７
と、油圧シリンダ３のポートを切換える切換弁８と、油
圧シリンダ３に油を圧送する油圧源９と、保持板１及び
２の基準面を載置する基台４と、この基台に載置される
とともに疑似光を投射しマスタマスクの平坦度と測定す
る平坦度測定器５を設けたことである。また、この平坦
度測定器５はレーザ光の干渉縞を利用したもので公知の
ものである。油圧シリンダ３の圧力を調整する油圧制御
弁の油圧分割能は一平方センチメートル当り０．１ｋｇ
という極めて小さい圧力で設定出来る。基台４は保持板
１及び２の基準面と平坦度測定器５を取付ける支持板１
０と同一面となるように精密な平坦面をもち、この精密
面は露光光源部の載置面を取付け転写作業が出来るよう
になっている。
一実施例を示す部分破断図である。このパターン転写装
置は、図１に示すように、保持板２を押しマスターマス
ク４４及びガラス基板の傾斜度を調整する油圧シリンダ
３と、油圧シリンダ３の押圧力を変える油圧制御弁７
と、油圧シリンダ３のポートを切換える切換弁８と、油
圧シリンダ３に油を圧送する油圧源９と、保持板１及び
２の基準面を載置する基台４と、この基台に載置される
とともに疑似光を投射しマスタマスクの平坦度と測定す
る平坦度測定器５を設けたことである。また、この平坦
度測定器５はレーザ光の干渉縞を利用したもので公知の
ものである。油圧シリンダ３の圧力を調整する油圧制御
弁の油圧分割能は一平方センチメートル当り０．１ｋｇ
という極めて小さい圧力で設定出来る。基台４は保持板
１及び２の基準面と平坦度測定器５を取付ける支持板１
０と同一面となるように精密な平坦面をもち、この精密
面は露光光源部の載置面を取付け転写作業が出来るよう
になっている。
【００１２】次にこのパターン転写装置により複製手順
について説明する。まず、保持板１及び２によりマスタ
ーマスク４４とガラス基板４１を挟み、排気管より真空
排気を行う。このことによりマスターマスク４４とガラ
ス基板４１は密着し保持される。
について説明する。まず、保持板１及び２によりマスタ
ーマスク４４とガラス基板４１を挟み、排気管より真空
排気を行う。このことによりマスターマスク４４とガラ
ス基板４１は密着し保持される。
【００１３】次に、平坦度測定器５から感光しない波長
をもつ光を投射し、マスターマスク４４面より光を反射
させ、その光を入光する。次に、平坦度測定器５の干渉
縞による平坦度を観察しながら、マスターマスク４４の
傾斜を補正するのに必要と思われる保持板の位置にある
油圧シリンダ３の油圧を０．１ｋｇ単位で上昇させる。
このことによりマスターマスク４４は傾斜角が補正の方
向に傾むく、そして、補正すべき角度の１／２に調整し
たら、油圧シリンダ３の油圧上昇を停止する。
をもつ光を投射し、マスターマスク４４面より光を反射
させ、その光を入光する。次に、平坦度測定器５の干渉
縞による平坦度を観察しながら、マスターマスク４４の
傾斜を補正するのに必要と思われる保持板の位置にある
油圧シリンダ３の油圧を０．１ｋｇ単位で上昇させる。
このことによりマスターマスク４４は傾斜角が補正の方
向に傾むく、そして、補正すべき角度の１／２に調整し
たら、油圧シリンダ３の油圧上昇を停止する。
【００１４】次に、平坦度測定器５により平坦度を再度
測定し、半径方向で修正すべき方向における保持板１の
位置にある油圧シリンダ３の油圧を上昇させ傾斜角を調
整し、光軸に対して転写面が垂直になるように調整す
る。次に、基台４より平坦測定器５を取外し、露光光源
部の基準面を基台に載置し、露光することによってマス
ターマスク４４のパターンをガラス基板４１に転写す
る。
測定し、半径方向で修正すべき方向における保持板１の
位置にある油圧シリンダ３の油圧を上昇させ傾斜角を調
整し、光軸に対して転写面が垂直になるように調整す
る。次に、基台４より平坦測定器５を取外し、露光光源
部の基準面を基台に載置し、露光することによってマス
ターマスク４４のパターンをガラス基板４１に転写す
る。
【００１５】以上本発明の実施例では、平坦度測定器を
非接触である光学式測定器を開いたが、支持板に回転板
を取付け、その回転板の半径方向の任意の位置にダイア
ルゲージを取付け、マスターマスクの表面にダイヤルゲ
ージの触斜を接触させ、傾きを測定してもよい。すなわ
ち、汎用の平坦度測定器を使用出来るので、基台に専用
に取付ける必要はない。
非接触である光学式測定器を開いたが、支持板に回転板
を取付け、その回転板の半径方向の任意の位置にダイア
ルゲージを取付け、マスターマスクの表面にダイヤルゲ
ージの触斜を接触させ、傾きを測定してもよい。すなわ
ち、汎用の平坦度測定器を使用出来るので、基台に専用
に取付ける必要はない。
【００１６】また、油圧シリンダのロッドが当接する保
持板２の部分には、摩耗性の材料を当接部材として取付
けると良い。また基台４には、必要ならば、長手方向に
アリ溝を形成し、取付ける部材を長手方向に移動出来る
ようにすることである。
持板２の部分には、摩耗性の材料を当接部材として取付
けると良い。また基台４には、必要ならば、長手方向に
アリ溝を形成し、取付ける部材を長手方向に移動出来る
ようにすることである。
【００１７】
【発明の効果】以上説明したように、本発明は、真空圧
で密着し二枚の保持板で挟み保持されるマスターマスク
とガラス基板の傾きを調整するのにいずれかの保持板に
油圧シリンダを取付け、残りの保持板の面にピストンの
先端が当るようにし、油圧シリンダに油を圧送し油圧を
可変出来る油圧装置を設け、前記マスターマスクとガラ
ス基板とを真空圧で密着させた状態で、真空圧より圧力
の高い非圧縮性の油圧でピストンを微動させ二枚の保持
板の外周囲の間隔を円滑に調整することによって、前記
マスターマスク及びガラス基板の転写面と光軸との真空
度をより早く設定出来るという効果がある。また、真空
圧による密着状態で調整を行えるので、真空圧により傾
斜の微妙な変化が起きても、その変化を吸収して調整出
来るのでパターン転写ずれは起きなくなるという効果が
なる。さらに、従来の調節ねじのような回転しながら押
すのではなく単に油圧シリンダのピストンで押す作用で
行うので、従来、起きていたねじ山のつぶれやねじの先
端で削れて凹むことが無くなり、保持板の寿命をより長
くするという効果がある。
で密着し二枚の保持板で挟み保持されるマスターマスク
とガラス基板の傾きを調整するのにいずれかの保持板に
油圧シリンダを取付け、残りの保持板の面にピストンの
先端が当るようにし、油圧シリンダに油を圧送し油圧を
可変出来る油圧装置を設け、前記マスターマスクとガラ
ス基板とを真空圧で密着させた状態で、真空圧より圧力
の高い非圧縮性の油圧でピストンを微動させ二枚の保持
板の外周囲の間隔を円滑に調整することによって、前記
マスターマスク及びガラス基板の転写面と光軸との真空
度をより早く設定出来るという効果がある。また、真空
圧による密着状態で調整を行えるので、真空圧により傾
斜の微妙な変化が起きても、その変化を吸収して調整出
来るのでパターン転写ずれは起きなくなるという効果が
なる。さらに、従来の調節ねじのような回転しながら押
すのではなく単に油圧シリンダのピストンで押す作用で
行うので、従来、起きていたねじ山のつぶれやねじの先
端で削れて凹むことが無くなり、保持板の寿命をより長
くするという効果がある。
【図１】本発明のパターン転写装置の一実施例を示す部
分破断図である。
分破断図である。
【図２】コピーマスクを複製する工程の一例を説明する
ためのマスタマスクとガラス基板の工程順に示す断面図
である。
ためのマスタマスクとガラス基板の工程順に示す断面図
である。
【図３】従来のパターン転写装置の一例を示す断面図及
び部分平面図である。
び部分平面図である。
１，１ａ，２，２ａ 保持板 ３ 油圧シリンダ ４ 基台 ５ 平坦度測定器 ６ 排気管 ７ 油圧制御弁 ８ 切換弁 ９ 油圧源 １０ 支持板 １１ 調節ねじ １２ パッキング ４１ ガラス基板 ４２，４２ａ クロム膜 ４３ レジスト ４３ａ レジストパターン ４４ マスターマスク
Claims (1)
- 【請求項１】 パターンが形成される原板と転写される
基板とをパッキングを介して気密に密着させる二枚の保
持板と、これら原板と基板との間を真空排気して密着さ
せる真空排気装置と、前記保持板のいずれかの保持板の
所定の位置に取付けられるとともにピストンの先端で残
りの前記保持板の面を押す複数本の油圧シリンダと、こ
の油圧シリンダに油を圧送するとともに油圧を可変出来
る油圧装置を備えることを特徴とするパターン転写装
置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP28723192A JP2936920B2 (ja) | 1992-10-26 | 1992-10-26 | パターン転写装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP28723192A JP2936920B2 (ja) | 1992-10-26 | 1992-10-26 | パターン転写装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06138641A JPH06138641A (ja) | 1994-05-20 |
| JP2936920B2 true JP2936920B2 (ja) | 1999-08-23 |
Family
ID=17714739
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP28723192A Expired - Lifetime JP2936920B2 (ja) | 1992-10-26 | 1992-10-26 | パターン転写装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2936920B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP4714440B2 (ja) * | 2004-08-11 | 2011-06-29 | 富士通株式会社 | フォトマスク製造方法 |
| CN110260768B (zh) * | 2019-06-21 | 2020-12-04 | 安徽南氟化工设备有限公司 | 一种紧急切断闸阀的端口平面度检测装置 |
-
1992
- 1992-10-26 JP JP28723192A patent/JP2936920B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH06138641A (ja) | 1994-05-20 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| KR102467979B1 (ko) | 반도체 프로세싱에서 오버레이를 제어하기 위해 보우를 제어하기 위한 응력의 위치-특정 튜닝 | |
| US7248336B2 (en) | Method and system for improving focus accuracy in a lithography system | |
| US7732109B2 (en) | Method and system for improving critical dimension uniformity | |
| JP2002520840A (ja) | マスクレスフォトリソグラフィシステム | |
| KR20060034694A (ko) | 임프린트 리소그래피 공정을 위한 확대 및 뒤틀림 보정용시스템 | |
| KR20070107810A (ko) | 이중층 레티클 블랭크 및 이것의 제조방법 | |
| KR20000057416A (ko) | 사진석판 시스템에서 렌즈 에러를 보상하는 레티클 | |
| KR20050086591A (ko) | 기판의 형상을 조절하기 위한 척킹 시스템 및 방법 | |
| JPH0347794A (ja) | スクリーン印刷方法、印刷版の製造方法及びそれらのための装置 | |
| KR20010101570A (ko) | 향상된 정밀도를 갖는 대영역 디스플레이 패널 생산시스템 | |
| JP2936920B2 (ja) | パターン転写装置 | |
| US7115355B2 (en) | Fabrication of sub-wavelength structures | |
| JPH10254122A (ja) | 露光用フォトマスク | |
| JPS636553A (ja) | レチクルの塵埃付着防止方法 | |
| JP3130777B2 (ja) | フォトマスク及びその製造方法 | |
| JP2002231614A (ja) | 剥離用当て板、剥離装置及び方法 | |
| KR20210126502A (ko) | 검출 장치, 리소그래피 장치, 물품의 제조 방법 및 검출 방법 | |
| KR20030023450A (ko) | 노광장치 | |
| JPS61150330A (ja) | 露光装置用照度補正板 | |
| KR960015093A (ko) | 노광방법, 노광장치 및 반도체 집적회로장치의 제조방법 | |
| JP5002871B2 (ja) | 露光装置 | |
| JPS5984245A (ja) | フオトマスク | |
| JP2006120899A (ja) | 投影光学系、投影光学系の調整方法、投影露光装置、投影露光方法、および投影露光装置の調整方法 | |
| JPS6017907Y2 (ja) | フオト・マスク | |
| JP2002231615A (ja) | 露光部材、露光装置及び方法、デバイス製造方法、並びに、デバイス |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 19990511 |