JP2934447B2 - ワーク洗浄・バリ取り装置 - Google Patents

ワーク洗浄・バリ取り装置

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JP2934447B2
JP2934447B2 JP1043129A JP4312989A JP2934447B2 JP 2934447 B2 JP2934447 B2 JP 2934447B2 JP 1043129 A JP1043129 A JP 1043129A JP 4312989 A JP4312989 A JP 4312989A JP 2934447 B2 JP2934447 B2 JP 2934447B2
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JP
Japan
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work
nozzle
moving
jet
scanning substrate
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JP1043129A
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JPH02222761A (ja
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由紀夫 長山
亮 三浦
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SHIBAURA MEKATORONIKUSU KK
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SHIBAURA MEKATORONIKUSU KK
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Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明は、超高圧ジェット噴流によりワークの洗浄や
バリ取りを行なうワーク洗浄・バリ取り装置に関するも
のである。
(発明の背景) IC基板のフレームなどのワークを洗浄したりそのバリ
を取るのに、水や洗浄液などの超高圧ジェット噴流を当
てて行なうことがある。この場合ジェットの噴射面積に
は制限があるため、大きなワークの洗浄・バリ取りには
ジェットノズルをワークに対して走査する必要がある。
第3図はその一例を示す斜視図であり、この図で符号
10は水平なコンベアであり、その上に載せたワーク(図
示せず)を一定速度でX方向に移動する。12は走査基板
であり、水平な面上で移動可能となるように図示しない
フレームに保持されている。この走査基板12は一対の偏
心カム14(14a、14b)により水平な面上で一定半径の円
を描くように平行移動しながら回転される。すなわち両
偏心カム14は、同期して回転する2つの円板16(16a、1
6b)と、その偏心位置に摺動可能に保持されたピン18
(18a、18b)とを備え、このピン18の下端を走査基板12
に固定したものである。従って円板16をその中心軸20
(20a、20b)を中心にして回転駆動すれば、走査基板12
はピン18の偏心量を半径とする円運動を行う。
22(22a、22b)はジェットノズルであり、走査基板12
に適宜間隔をおいて固定されている。これらのノズル22
には高圧ポンプ(図示せず)から高圧の水あるいは洗浄
液が供給される。
この結果コンベア10をX方向を走行させつつ偏心カム
14の円板16を回転させれば、各ノズル22が噴出するジェ
ット噴流は図に示すようにスパイラル状の軌跡24(24a
〜d)を描いてコンベア10上面を走査する。従ってこの
コンベア10上にワークを載せておけば、このワークの洗
浄・バリ取りを行うことができる。
しかしジェット噴流の各軌跡24の位置は、処理するワ
ークによって変更することが必要になることがある。例
えば各軌跡24を互いに接するようにしたり離すようにす
ることが要求される場合がある。またワークに当たる噴
流の強さを調節するために、ノズル22とワークとの間隔
もワークによって変える必要が生じる。また例えばノズ
ルが空気中から噴射するジェット噴流を洗浄液に浸けた
ワークに向って噴射し、ジェット噴流に空気を巻き込ま
せて気泡と共にワークに当て、気泡によるキャビテーシ
ョン効果を利用して洗浄・バリ取り作用を促進させるも
のがあるが、この場合にもノズルとワークとの距離を調
節して最も効率良く処理ができる間隔に調整できること
が必要となる。
このようにノズル22相互の間隔やノズル22の高さなど
は調節できることが望ましいが、前記第3図に示した従
来装置ではノズル22は走査基板12に固定されていてこの
ような調節ができなかったり、この調節ができたとして
も非常に面倒な作業を伴うという問題があった。
(発明の目的) 本発明はこのような事情に鑑みなされたものであり、
走査基板に取付けるノズルの間隔や高さ等を簡単に変更
することができ、構造も簡単なワーク洗浄・バリ取り装
置を提供することを目的とする。
(発明の構成) 本発明によればこの目的は、ワークを一方向に移動す
るワーク移動手段と、このワークの移動方向に略平行な
平面内で一定半径の円を描くように平行移動することに
よって回転走査される走査基板と、前記走査基板に略垂
直な軸回りで回動位置および上下位置調節可能に保持さ
れかつ前記ワークの移動方向に対して略直交する方向に
所定間隔離して配列された円柱状の複数のノズルホルダ
と、これらのノズルホルダにそれぞれの回動中心から偏
心して固定され前記ワークに対して超高圧ジェット噴流
を噴射するノズルとを備えることを特徴とするワーク洗
浄・バリ取り装置、より達成される。
(実施例) 第1図は本発明の一実施例の斜視図、第2図はノズル
ホルダの断面図である。
これらの図において50(50a〜d)は円柱状のノズル
ホルダである。このノズルホルダ50には、第2図に示す
ようにその中心軸52から距離rだけ偏心した位置に、中
心軸52に並行な貫通孔54が形成されている。この貫通孔
54の上端には継手ねじが形成され、ここに図示しない高
圧ポンプの接続パイプ56が接続されている。貫通孔54の
下端にはノズル58が組込まれている。すなわち貫通孔54
の下端にはノズル装着孔が形成され、この装着孔にOリ
ング60を介してノズル58が下から挿入され、さらにノズ
ル押え環62をこの装着孔に螺入することによりノズル58
を固定したものである。
このように構成されたノズルホルダ50は、前記第3図
で説明した従来装置と同様な走査基板12の側面に保持さ
れる。すなわち走査基板12の側面には受け具64(64a、
b)が固定され、この受け具64には適宜数のねじ66によ
り押え具68が着脱可能とされ、これら受け具64と押え具
68との間にそれぞれ2つのノズルホルダ50が挟持されて
いる。
従ってねじ66を緩めれば、ノズルホルダ50は受け具64
と押え具68との間で回動可能かつ上下動可能となり、任
意の位置でねじ66を締めればノズルホルダ50は固定でき
る。ノズルホルダ50のノズル58は、ノズルホルダ50の中
心線52から距離rだけ偏心しているから、2つのノズル
ホルダ50、50の中心線52、52の間隔がlであれば、2つ
のノズルホルダ50のノズル58間隔Lは、 L=l±2r の範囲で調節可能である。
なお第1図では前記第3図と同一部分に同一符号を付
したから、その説明は繰り返さない。
(発明の効果) 以上のように本発明は、ワークの移動方向に略直交す
るように配列した複数の円柱状のノズルホルダを回動位
置および上下位置を調節可能となるように走査基板に取
付け、ノズルをこのノズルホルダの回動中心線から偏心
させて設けたものであるから、ノズル相互間の間隔やノ
ズルとワークとの間隔を簡単に変えることができ、ワー
クの種類等に応じて最適な位置にジェット噴流を走査さ
せながらワークに当て、ワークの洗浄・バリ取りを行う
ことが可能になる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の一実施例の斜視図、第2図はノズルホ
ルダの断面図、また第3図は従来装置の斜視図である。 10……コンベア、12……走査基板、14……偏心カム、50
……ノズルホルダ、58……ノズル、r……偏心量。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 平1−251650(JP,A) 特開 平1−251651(JP,A) 特開 昭62−277300(JP,A) 実開 昭63−181462(JP,U) 実開 平1−77861(JP,U) 実開 昭61−178987(JP,U) 実開 昭61−95457(JP,U) 実開 昭62−192864(JP,U) 実開 昭63−181462(JP,U) 特許2588920(JP,B2) 特公 平7−10515(JP,B2) (58)調査した分野(Int.Cl.6,DB名) B08B 1/00 - 11/04 H01L 21/304 B05B 3/02

Claims (1)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】ワークを一方向に移動するワーク移動手段
    と、このワークの移動方向に略平行な平面内で一定半径
    の円を描くように平行移動することによって回転走査さ
    れる走査基板と、前記走査基板に略垂直な軸回りで回動
    位置および上下位置調節可能に保持されかつ前記ワーク
    の移動方向に対して略直交する方向に所定間隔離して配
    列された円柱状の複数のノズルホルダと、これらのノズ
    ルホルダにそれぞれの回動中心から偏心して固定され前
    記ワークに対して超高圧ジェット噴流を噴射するノズル
    とを備えることを特徴とするワーク洗浄・バリ取り装
    置。
JP1043129A 1989-02-27 1989-02-27 ワーク洗浄・バリ取り装置 Expired - Lifetime JP2934447B2 (ja)

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