CN217932404U - 一种用于掩膜版的洗边装置 - Google Patents

Abstract

本实用新型公开了一种用于掩膜版的洗边装置，涉及掩膜版清洗工具技术领域，包括支撑主体和旋转组件，支撑主体上设置有可滑动的喷头组件，该旋转组件用于驱动掩膜版转动，旋转组件包括驱动电机和支撑平台，驱动电机可滑动地设置在支撑主体上，支撑平台与驱动电机的主轴连接，喷头组件和驱动电机呈间隔设置，实际工作中，将需要洗边的掩模版放在支撑平台，支撑主体上的喷头组件移动到掩模版的边缘处，然后喷头组件喷出相应的药液对掩模版的边缘进行清理，当掩模版的一边清理完后，驱动电机转动使支撑平台转动，进而使掩模版另一边与喷头组件对应，反复循环直至掩模版的四边被清理干净，本实用新型操作简单且具有较好地清洗效果和清洗效率。

Description

一种用于掩膜版的洗边装置

技术领域

本实用新型涉及掩膜版清洗工具技术领域，具体涉及一种用于掩膜版的洗边装置。

背景技术

在掩模版制造的过程中，需要对掩膜版的边缘进行涂胶、显影及刻蚀等加工操作，若掩摸版的边缘不清理干净的话，会影响后期对掩摸版的边缘进一步加工的效果，对掩膜版的边缘清理内容有版边脱膜、版边去铬等，随着市场发展,掩模板需求量越来越大,小尺寸掩模板需求量更高，在需要对不同尺寸的掩膜版时，现有的掩膜版洗边装置上的冲洗装置不能灵活地调整位置来对不同尺寸的掩膜版进行清洗，这样会出现掩膜版的部分边缘清洗不到的情况，从而导致后期加工出来的掩膜版的质量不符合要求。

实用新型内容

目的在于提供了一种用于掩膜版的洗边装置，通过将需要进行洗边的掩膜版放置在支撑平台上，在驱动电机的作用下，支撑平台转动使得掩膜版的四边依次与支撑主体上的喷头组件相对应，然后喷头组件移动到合适的位置并喷出相应的药液对掩膜版的边进行清洗，从而解决了现有的掩膜版洗边装置上的冲洗装置不能灵活地调整位置来对不同尺寸的掩膜版进行边缘清洗，这样会出现掩膜版的部分边缘清洗不到的情况，从而导致后期加工的掩膜版的质量不符合要求的技术问题。

本实用新型通过下述技术方案实现：

一种用于掩膜版的洗边装置，包括:

支撑主体，所述支撑主体上设置有可上下左右滑动的喷头组件；

旋转组件，该旋转组件用于驱动掩膜版转动，所述旋转组件包括驱动电机和支撑平台，所述驱动电机可滑动地设置在支撑主体上，所述支撑平台与驱动电机的主轴连接，所述喷头组件和驱动电机呈间隔设置；

控制器，该控制器分别与喷头组件和驱动电机电性连接。

进一步的，所述支撑主体包括第一支撑板和第二支撑板，所述第一支撑板的一边沿和第二支撑板的一边沿垂直设置，所述第一支撑板上设置有竖向滑轨和横向滑轨，所述横向滑轨的一侧设置有与竖向滑轨配合的第一滑槽，所述横向滑轨背离滑槽的一侧设置有滑块，所述喷头组件设置在滑块上，所述第二支撑板上设置有水平滑轨，所述驱动电机上设置有与水平滑轨配合的第二滑槽。

进一步的，所述支撑主体上还设置有阻隔板，所述阻隔板与所述支撑平台垂直设置。

进一步的，所述支撑平台上设置有真空吸盘。

进一步的，所述喷头组件包括支架和方形基座，所述支架设置在所述滑块上，所述方形基座设置在支架上，所述方形基座上呈间隔倾斜分布有方形喷口，所述方形喷口中可选择的安装有脱膜药液喷头、蚀刻药液喷头、定向氮气喷头或定向粒子喷头。

进一步的，所述方形基座设置有两个，两个所述方形基座呈镜像对称设置在支架上。

进一步的，所述支架上还设置有药液吸附器。

进一步的，所述阻隔板靠近支撑平台的一端为复合胶材料制成的半圆柱结构。

进一步的，所述方形喷口的轴线与所述支撑平台的平面法线呈30°-45°。

进一步的，所述支撑主体、阻隔板和支撑平台上均设置有铁氟龙涂层。

本实用新型与现有技术相比，具有如下的优点和有益效果：

通过将需要进行洗边的掩膜版放置在支撑平台上，在驱动电机的作用下，支撑平台转动使得掩膜版的四边依次与支撑主体上的喷头组件相对应，然后喷头组件喷出相应的药液对掩膜版的边进行清洗，其中，支撑平台可转动使得喷头组件可依次对支撑平台上掩膜版的四边进行清理，通过控制器控制驱动电机便可使支撑平台转动，操作简单，喷头组件可上下左右滑动地设置在支撑主体上以及驱动电机可滑动地设置在支撑主体上，这样便于支撑平台与喷头组件之间相互调整位置，使得喷头组件可顺利地对放置在支撑平台上的掩膜版进行洗边工作。

附图说明

此处所说明的附图用来提供对本实用新型实施例的进一步理解，构成本申请的一部分，并不构成对本实用新型实施例的限定。在附图中：

图1为本实用新型的结构立体图；

图2为本实用新型对掩膜版清洗的结构示意图；

图3为本实用新型的喷头组件结构示意图；

图4为本实用新型的驱动电机底部结构示意图。

附图中标记及对应的零部件名称：

1-驱动电机，2-支撑平台，3-第二支撑板，4-第一支撑板,5-水平滑轨，6-横向滑轨，7-喷头组件，701-方形基座，702-支架，8-滑块,9-阻隔板，10-竖向滑轨，11-药液吸附器，12-方形喷口,13-第二滑槽，14-掩膜版。

具体实施方式

为使本实用新型的目的、技术方案和优点更加清楚明白，下面结合实施例和附图，对本实用新型作进一步的详细说明，本实用新型的示意性实施方式及其说明仅用于解释本实用新型，并不作为对本实用新型的限定。

本实施例中提供了一种用于掩膜版的洗边装置，如图1-图4所示，包括支撑主体、旋转组件和控制器，支撑主体上可滑动地设置有喷头组件，该旋转组件用于驱动掩膜版14转动，旋转组件包括驱动电机1和支撑平台2，该驱动电机1是伺服电机或者步进电机，驱动电机1设置在支撑主体上，支撑平台与2驱动电机1的主轴连接，喷头组件7和驱动电机1呈间隔设置，该控制器分别与喷头组件7和驱动电机1电性连接。在实际的工作过程中，通过将需要进行洗边的掩膜版14放置在支撑平台2上，然后使用控制器控制驱动电机1的主轴转动以及喷头组件7喷射清洗药液，在驱动电机1的作用下，支撑平台2转动使得掩膜版14的四边依次与支撑主体上的喷头组件7相对应，然后喷头组件7喷出相应的药液对掩膜版14的边进行清洗，其中，支撑平台2可转动使得喷头组件7可依次对支撑平台2上掩膜版14的四边进行清理，通过控制器控制驱动电机1便可使支撑平台2转动，操作简单，喷头组件7可上下左右滑动地设置在支撑主体上以及驱动电机1可滑动地设置在支撑主体上，这样便于支撑平台2与喷头组件7之间相互调整位置，使得喷头组件7可顺利地对放置在支撑平台2上的掩膜版14进行洗边工作，从而确保本实用新型可以对不同尺寸的掩膜版进行清理，也提高了清洗效率。

对上述实施例地进一步优化，为了实现喷头组件7在支撑主体上的上下左右滑动以及驱动电机1在支撑主体上的水平移动，支撑主体包括第一支撑板4和第二支撑板3，第一支撑板4的一边沿和第二支撑板3的一边沿垂直设置，第一支撑板4上设置有竖向滑轨10和横向滑轨6，横向滑轨6的一侧设置有与竖向滑轨10配合的第一滑槽，横向滑轨6背离滑槽的一侧设置有滑块8，喷头组件7设置在滑块8上，第二支撑板3上设置有水平滑轨5，驱动电机1上设置有与水平滑轨5配合的第二滑槽13。其中，横向滑轨6的上下移动、滑块8沿横向导轨6的移动以及驱动电机1沿水平滑轨5的移动可以通过电机和丝杆的配合或液压系统来实现。

对上述实施例地进一步优化，喷头组件7喷射的药液具有一定的腐蚀性，当药液喷射到掩膜版14中部时，会损坏掩膜版14，为了防止掩膜版14被药液腐蚀，支撑主体上还设置有阻隔板9，阻隔板9与支撑平台2垂直设置，将掩膜版9安装在支撑平台2上时，阻隔板9的一边沿与掩膜版14的表面紧密接触，阻隔板9将掩膜版14的边缘与掩膜版14中部隔开，从而保证药液不会飞贱到掩膜版14的中部。

对上述实施例地进一步优化，为了保证掩膜版14在支撑平台2上转动时，掩模版14不会脱离支撑平台2，支撑平台2上设置有真空吸盘，在真空吸盘的强吸力作用下，可以保证掩膜版14不脱离支撑平台2。

对上述实施例地进一步优化，喷头组件包括支架702和方形基座701，支架702设置在滑块8上，方形基座701设置在支架702上，方形基座701上呈间隔倾斜分布有方形喷口12，方形喷口12设置有四个，方形喷口12中可选择的安装有脱膜药液喷头、蚀刻药液喷头、定向氮气喷头或定向粒子喷头，喷头中喷射出相应的药液和气体对掩膜版14的边缘进行冲洗和清理，方形基座701设置有两个，两个方形基座701呈镜像对称设置在支架702上，本实用新型在使用时，掩膜版14的边缘处于两个方形基座701之间，这样使得设置在方形基座701中的喷头可同时对掩膜版14的两面进行冲洗清理。

对上述实施例地进一步优化，为了实现对喷头组件7喷出药液的回收，支架702上还设置有药液吸附器11，该药液吸附器11具有运输管和负压装置，本实用新型在实际的工作过程中，喷头组件7出来的药液将掩膜版14的边缘清理完毕后，通过运输管，然后进入负压装置中。

对上述实施例地进一步优化，阻隔板9靠近支撑平台2的一端为复合胶材料制成的半圆柱结构，其中，与阻隔板9的一端为钢材料制成的方形结构相比，阻隔板9的一端为复合胶材料制成的半圆柱结构的设置，可以保证掩膜版14的端部与阻隔板9接触时，掩模版14的表面不被刮坏。

对上述实施例地进一步优化，方形喷口12的轴线与支撑平台2的平面法线呈30°-45°，这样倾斜角度的设置可以使得喷头喷出的药液与掩膜版边缘表面呈一定的角度，从而提高清洗效果。

对上述实施例地进一步优化，支撑主体、阻隔板9和支撑平台2均涂有铁氟龙涂层，该铁氟龙涂层具有较好地抗腐蚀性，可有效地保护支撑主体、阻隔板9和支撑平台2不被腐蚀。

以上所述的具体实施方式，对本实用新型的目的、技术方案和有益效果进行了进一步详细说明，所应理解的是，以上所述仅为本实用新型的具体实施方式而已，并不用于限定本实用新型的保护范围，凡在本实用新型的精神和原则之内，所做的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本实用新型的保护范围之内。

Claims (10)

1.一种用于掩膜版的洗边装置，其特征在于，包括:

支撑主体，所述支撑主体上设置有可上下左右滑动的喷头组件(7)；

旋转组件，该旋转组件用于驱动掩膜版(14)转动，所述旋转组件包括驱动电机(1)和支撑平台(2)，所述驱动电机(1)可水平滑动地设置在支撑主体上，所述支撑平台(2)与驱动电机(1)的主轴连接，所述喷头组件(7)和驱动电机(1)呈间隔设置；

控制器，该控制器分别与喷头组件(7)和驱动电机(1)电性连接。

2.根据权利要求1所述的一种用于掩膜版的洗边装置，其特征在于，所述支撑主体包括第一支撑板(4)和第二支撑板(3)，所述第一支撑板(4)的一边沿和第二支撑板(3)的一边沿垂直设置；

所述第一支撑板(4)上设置有竖向滑轨(10)和横向滑轨(6)，所述横向滑轨(6)的一侧设置有与竖向滑轨(10)配合的第一滑槽，所述横向滑轨(6)背离第一滑槽的一侧设置有滑块(8)，所述喷头组件(7)设置在滑块(8)上；所述第二支撑板(3)上设置有水平滑轨(5)，所述驱动电机(1)上设置有与水平滑轨(5)配合的第二滑槽(13)。

3.根据权利要求1所述的一种用于掩膜版的洗边装置，其特征在于，所述支撑主体上还设置有阻隔板(9)，所述阻隔板(9)与所述支撑平台(2)垂直设置。

4.根据权利要求1所述的一种用于掩膜版的洗边装置，其特征在于，所述支撑平台(2)上设置有真空吸盘。

5.根据权利要求2所述的一种用于掩膜版的洗边装置，其特征在于，所述喷头组件(7)包括支架(702)和方形基座(701)，所述支架(702)设置在所述滑块(8)上，所述方形基座(701)设置在支架(702)上，所述方形基座(701)上呈间隔倾斜分布有方形喷口(12)；

所述方形喷口(12)中可选择的地安装有脱膜药液喷头、蚀刻药液喷头、定向氮气喷头或定向粒子喷头。

6.根据权利要求5所述的一种用于掩膜版的洗边装置，其特征在于，所述方形基座(701)设置有两个，两个所述方形基座(701)呈镜像对称设置在支架(702)上。

7.根据权利要求5所述的一种用于掩膜版的洗边装置，其特征在于，所述支架(702)上还设置有药液吸附器(11)。

8.根据权利要求3所述的一种用于掩膜版的洗边装置，其特征在于，所述阻隔板(9)靠近支撑平台(2)的一端为复合胶材料制成的半圆柱结构。

9.根据权利要求5所述的一种用于掩膜版的洗边装置，其特征在于，所述方形喷口(12)的轴线与所述支撑平台(2)的平面法线呈30°-45°。

10.根据权利要求3所述的一种用于掩膜版的洗边装置，其特征在于，所述支撑主体、阻隔板(9)和支撑平台(2)上均设置有铁氟龙涂层。

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