JP2927284B2 - 磁気シールドルーム - Google Patents
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- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K9/00—Screening of apparatus or components against electric or magnetic fields
- H05K9/0073—Shielding materials
- H05K9/0075—Magnetic shielding materials
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- H—ELECTRICITY
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- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/677—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations
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- H01L21/67778—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations the wafers being stored in a carrier, involving loading and unloading involving loading and unloading of wafers
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- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
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- H05K9/0001—Rooms or chambers
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- Details Of Measuring And Other Instruments (AREA)
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、磁気シールドルー
ムに関し、特にウエハ等を出入りさせるための開口部を
備えた磁気シールドルームに関するものである。
ムに関し、特にウエハ等を出入りさせるための開口部を
備えた磁気シールドルームに関するものである。
【０００２】
【従来の技術】従来より、ウエハやマスク等の試料にレ
ジストパタンを形成する装置として、電子ビームを用い
てフォトレジストに描画するＥＢ（Electron Beam ）露
光装置が用いられている。この種の装置では外部磁場の
影響によって電子ビームの照射位置が変動し、その結
果、描画パタンに歪みを生じてしまうことが問題となっ
ている。そこで、これらのＥＢ露光装置をシールドルー
ム内に配置することにより、外部磁場を遮断した状態で
稼働することが行われている。
ジストパタンを形成する装置として、電子ビームを用い
てフォトレジストに描画するＥＢ（Electron Beam ）露
光装置が用いられている。この種の装置では外部磁場の
影響によって電子ビームの照射位置が変動し、その結
果、描画パタンに歪みを生じてしまうことが問題となっ
ている。そこで、これらのＥＢ露光装置をシールドルー
ム内に配置することにより、外部磁場を遮断した状態で
稼働することが行われている。
【０００３】ところで、ＥＢ露光装置で処理するウエハ
やマスクは、通常、これらを複数枚収納したカセットを
一つの単位として取り扱っている。そのため、ＥＢ露光
装置には、これから処理されるウエハやマスクをカセッ
トから取り出して処理室に送り込むためのロード部、処
理済みのウエハやマスクをカセットに収納するアンロー
ド部が設けられており、さらにはロード部やアンロード
部に対して何らかの手段を用いてカセットを取り付けた
り、取り外したりする必要がある。
やマスクは、通常、これらを複数枚収納したカセットを
一つの単位として取り扱っている。そのため、ＥＢ露光
装置には、これから処理されるウエハやマスクをカセッ
トから取り出して処理室に送り込むためのロード部、処
理済みのウエハやマスクをカセットに収納するアンロー
ド部が設けられており、さらにはロード部やアンロード
部に対して何らかの手段を用いてカセットを取り付けた
り、取り外したりする必要がある。
【０００４】このようなロード／アンロード部を磁気シ
ールドルーム内に設置した場合、従来においては磁気シ
ールドルームに設けた常時閉の扉を設けた出入り口か
ら、人手によってカセットの搬入および搬出を行ってい
た。しかし、人の出入りのために扉を開くと、ＥＢ露光
装置が外部磁場の影響を受けてしまうため、カセットの
搬入・搬出時には装置の稼働を一時中断しなければなら
ず、スループットが低下するという問題があった。
ールドルーム内に設置した場合、従来においては磁気シ
ールドルームに設けた常時閉の扉を設けた出入り口か
ら、人手によってカセットの搬入および搬出を行ってい
た。しかし、人の出入りのために扉を開くと、ＥＢ露光
装置が外部磁場の影響を受けてしまうため、カセットの
搬入・搬出時には装置の稼働を一時中断しなければなら
ず、スループットが低下するという問題があった。
【０００５】例えば、図６は従来の磁気シールドルーム
を示す斜視図であり、同図に示すように、磁気シールド
ルーム１には、メンテナンス扉３とが設けられ、内壁に
は磁場遮蔽材が張り付けられるとともに、図示しないＥ
Ｂ露光装置等が内部に設置されている。
を示す斜視図であり、同図に示すように、磁気シールド
ルーム１には、メンテナンス扉３とが設けられ、内壁に
は磁場遮蔽材が張り付けられるとともに、図示しないＥ
Ｂ露光装置等が内部に設置されている。
【０００６】そのため、その対策としては、外部磁場の
影響をＥＢ露光装置に及ぼさない程度の開口を磁気シー
ルドルームに設け、その開口からカセットを出し入れす
ることが考えられる。しかし、近年の半導体集積回路に
おける微細化・高集積化の要請から、その描画精度の条
件は０．１μｍ以下と厳しくなっており、装置周辺の磁
場をできるだけ抑えることが要求されている。
影響をＥＢ露光装置に及ぼさない程度の開口を磁気シー
ルドルームに設け、その開口からカセットを出し入れす
ることが考えられる。しかし、近年の半導体集積回路に
おける微細化・高集積化の要請から、その描画精度の条
件は０．１μｍ以下と厳しくなっており、装置周辺の磁
場をできるだけ抑えることが要求されている。
【０００７】したがって、カセットの出し入れに必要と
される寸法（例えば、カセットの寸法は１８０［ｍｍ］
×１８０［ｍｍ］×１８０［ｍｍ］）の開口を設ける
と、そこから外部磁場がシールドルーム内に侵入してＥ
Ｂ露光装置に対して影響を及ぼすため、ＥＢ露光装置を
開口から十分離して設置しなければならない。その結
果、装置の占有面積に対する磁気シールドルームの占有
面積がかなり大きくなってしまうという問題点がある。
される寸法（例えば、カセットの寸法は１８０［ｍｍ］
×１８０［ｍｍ］×１８０［ｍｍ］）の開口を設ける
と、そこから外部磁場がシールドルーム内に侵入してＥ
Ｂ露光装置に対して影響を及ぼすため、ＥＢ露光装置を
開口から十分離して設置しなければならない。その結
果、装置の占有面積に対する磁気シールドルームの占有
面積がかなり大きくなってしまうという問題点がある。
【０００８】そこで、侵入した外部磁場の強度がＥＢ露
光装置に対して影響を及ぼさない程度にするためには、
長方形の開口の短辺を１００ｍｍ以下まで短くする必要
があり、このような寸法では１枚のウエハやマスクを通
すことが限界であって、カセットに収納した状態で出し
入れすることは到底できなかった。
光装置に対して影響を及ぼさない程度にするためには、
長方形の開口の短辺を１００ｍｍ以下まで短くする必要
があり、このような寸法では１枚のウエハやマスクを通
すことが限界であって、カセットに収納した状態で出し
入れすることは到底できなかった。
【０００９】一方、磁気シールドルームの開口部からの
外部磁場の侵入を抑制する方法の一つとしては、開口部
の外側に管状の磁気遮蔽材を設けたものも知られている
（例えば、特開昭５９−１９７１９８号公報参照）。
外部磁場の侵入を抑制する方法の一つとしては、開口部
の外側に管状の磁気遮蔽材を設けたものも知られている
（例えば、特開昭５９−１９７１９８号公報参照）。
【００１０】また、開口率を悪化させることなく磁気シ
ールド効果を向上させるために、開口部の外側に設けた
管状の遮蔽材の中に、さらに奥行きのある立体格子状の
シールド格子を配置し、格子間隔を奥行きよりも小さく
する技術も知られている（例えば、実開平３−１２４９
７号公報参照）。
ールド効果を向上させるために、開口部の外側に設けた
管状の遮蔽材の中に、さらに奥行きのある立体格子状の
シールド格子を配置し、格子間隔を奥行きよりも小さく
する技術も知られている（例えば、実開平３−１２４９
７号公報参照）。
【００１１】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、開口部
に磁気遮蔽材の管を設けることで外部磁場を十分にシー
ルドするためには、開口寸法に応じて管の長さを長くす
る必要があるが、管を長くするとカセットを磁気シール
ドルーム内のロード／アンロード部に出し入れする作業
性が阻害されるという問題点がある。例えば、カセット
をロード／アンロード部に載置する作業性を考慮する
と、管の長さをできるだけ短くする必要がある。
に磁気遮蔽材の管を設けることで外部磁場を十分にシー
ルドするためには、開口寸法に応じて管の長さを長くす
る必要があるが、管を長くするとカセットを磁気シール
ドルーム内のロード／アンロード部に出し入れする作業
性が阻害されるという問題点がある。例えば、カセット
をロード／アンロード部に載置する作業性を考慮する
と、管の長さをできるだけ短くする必要がある。
【００１２】また、管の内部にシールド格子を設けた場
合、換気口のような用途には適するものの、カセットを
出し入れするような用途においては、格子間隔を大きく
する必要があり、結局開口寸法に応じて管の長さを長く
しなければならず、作業性を阻害するという問題点があ
る。本発明は、このような課題を解決するためのもので
あり、外部磁場による磁気シールドルーム内の磁場強度
を増加させることなく、カセットの出し入れを可能とす
る開口を有し、かつ、管の長さを抑えた磁気シールドル
ームを提供することを目的とする。
合、換気口のような用途には適するものの、カセットを
出し入れするような用途においては、格子間隔を大きく
する必要があり、結局開口寸法に応じて管の長さを長く
しなければならず、作業性を阻害するという問題点があ
る。本発明は、このような課題を解決するためのもので
あり、外部磁場による磁気シールドルーム内の磁場強度
を増加させることなく、カセットの出し入れを可能とす
る開口を有し、かつ、管の長さを抑えた磁気シールドル
ームを提供することを目的とする。
【００１３】
【課題を解決するための手段】このような目的を達成す
るために、請求項１に係る本発明の磁気シールドルーム
は、開口部を有する磁気シールドルームにおいて、この
開口部には、所望の長さを有するとともに磁気遮蔽材に
よって形成された管が、上記磁気シールドルームから突
出するようにして取り付けられ、上記管の末端から所定
の長さに亘る部分は、管軸に対して上記管の外側に向い
たものである。また、請求項２に係る本発明の磁気シー
ルドルームは、請求項１において、上記管の長さは、２
００ｍｍ以下のものである。また、請求項３に係る本発
明の磁気シールドルームは、請求項１において、上記所
定の長さは、１０ｍｍ以上のものである。また、請求項
４に係る本発明の磁気シールドルームは、請求項１にお
いて、上記管の末端から所定の長さに亘る部分が、管軸
に対して上記管の外側に曲げられたものである。また、
請求項５に係る本発明の磁気シールドルームは、請求項
１において、上記管の末端から所定の長さに亘る部分
が、管軸に対して上記管の外側に曲率を持って曲げられ
たものである。また、請求項６に係る本発明の磁気シー
ルドルームは、請求項１において、上記管の末端から所
定の長さに亘る部分は、管軸に対して前記管の外側に９
０゜傾いたものである。また、請求項７に係る本発明の
磁気シールドルームは、請求項１において、上記管の外
側に向いた部分は、磁気遮蔽材からなる板部材を取り付
けて形成されたものである。また、請求項８に係る本発
明の磁気シールドルームは、請求項１において、上記開
口部は、物を出し入れするための開口部である。
るために、請求項１に係る本発明の磁気シールドルーム
は、開口部を有する磁気シールドルームにおいて、この
開口部には、所望の長さを有するとともに磁気遮蔽材に
よって形成された管が、上記磁気シールドルームから突
出するようにして取り付けられ、上記管の末端から所定
の長さに亘る部分は、管軸に対して上記管の外側に向い
たものである。また、請求項２に係る本発明の磁気シー
ルドルームは、請求項１において、上記管の長さは、２
００ｍｍ以下のものである。また、請求項３に係る本発
明の磁気シールドルームは、請求項１において、上記所
定の長さは、１０ｍｍ以上のものである。また、請求項
４に係る本発明の磁気シールドルームは、請求項１にお
いて、上記管の末端から所定の長さに亘る部分が、管軸
に対して上記管の外側に曲げられたものである。また、
請求項５に係る本発明の磁気シールドルームは、請求項
１において、上記管の末端から所定の長さに亘る部分
が、管軸に対して上記管の外側に曲率を持って曲げられ
たものである。また、請求項６に係る本発明の磁気シー
ルドルームは、請求項１において、上記管の末端から所
定の長さに亘る部分は、管軸に対して前記管の外側に９
０゜傾いたものである。また、請求項７に係る本発明の
磁気シールドルームは、請求項１において、上記管の外
側に向いた部分は、磁気遮蔽材からなる板部材を取り付
けて形成されたものである。また、請求項８に係る本発
明の磁気シールドルームは、請求項１において、上記開
口部は、物を出し入れするための開口部である。
【００１４】このように本発明は、磁気シールドルーム
を構成する磁気遮蔽材に吸収された磁場が管の末端から
放射状に放出されてその一部が開口から入り込むこと
が、管を設けた場合のシールド効果を低下させるという
知見に基づいてなされたものである。すなわち、本発明
は、管によって開口部からの外部磁場の侵入を防止する
とともに、管の末端から放出される磁場が開口部から磁
気シールドルーム内に入らないように管の末端を外側に
向けて磁場放出方向を変えることにより、開口部の磁気
シールド効率を上げ、シールド性能を低下させることな
く管の長さを短くすることを可能とするものである。
を構成する磁気遮蔽材に吸収された磁場が管の末端から
放射状に放出されてその一部が開口から入り込むこと
が、管を設けた場合のシールド効果を低下させるという
知見に基づいてなされたものである。すなわち、本発明
は、管によって開口部からの外部磁場の侵入を防止する
とともに、管の末端から放出される磁場が開口部から磁
気シールドルーム内に入らないように管の末端を外側に
向けて磁場放出方向を変えることにより、開口部の磁気
シールド効率を上げ、シールド性能を低下させることな
く管の長さを短くすることを可能とするものである。
【００１５】
【発明の実施の形態】次に、本発明の一つの実施の形態
について図を用いて説明する。図１は、本発明の一つの
実施の形態を示す斜視図である。同図において、図６に
おける同一符号の部品とは同一または同等のものを示
し、さらに長方形の開口部には磁気遮蔽材（例えば、パ
ーマロイ等）からなる管４がリベット等によって取り付
けられている。そして、その末端から所定の長さに亘る
部分は管軸に対して管の外側に向けて曲げられており、
以下においてはこの曲げられた部分をフランジ５という
ことにする。
について図を用いて説明する。図１は、本発明の一つの
実施の形態を示す斜視図である。同図において、図６に
おける同一符号の部品とは同一または同等のものを示
し、さらに長方形の開口部には磁気遮蔽材（例えば、パ
ーマロイ等）からなる管４がリベット等によって取り付
けられている。そして、その末端から所定の長さに亘る
部分は管軸に対して管の外側に向けて曲げられており、
以下においてはこの曲げられた部分をフランジ５という
ことにする。
【００１６】図２は、図１におけるII-II'線における断
面図を示す。同図（ａ）に示すように、フランジ５は管
４の縁に垂直に取り付けられ、また管４の長さを
「ｃ」、フランジ５の長さを「ｄ」としている。そし
て、各部の寸法は例えば、 開口寸法 「ａ」＝９９０［ｍｍ］ （３個のカセットを並べることができる） 「ｂ」＝２５０［ｍｍ］ 管４の寸法 開口は上記に同じ 「ｃ」＝１００［ｍｍ］ フランジ５の寸法 「ｄ」＝１０〜２０［ｍｍ］ フランジ５の管軸に対する角度 「θ」＝９０゜ とする。
面図を示す。同図（ａ）に示すように、フランジ５は管
４の縁に垂直に取り付けられ、また管４の長さを
「ｃ」、フランジ５の長さを「ｄ」としている。そし
て、各部の寸法は例えば、 開口寸法 「ａ」＝９９０［ｍｍ］ （３個のカセットを並べることができる） 「ｂ」＝２５０［ｍｍ］ 管４の寸法 開口は上記に同じ 「ｃ」＝１００［ｍｍ］ フランジ５の寸法 「ｄ」＝１０〜２０［ｍｍ］ フランジ５の管軸に対する角度 「θ」＝９０゜ とする。
【００１７】ただし、本発明はこれらの数値に限定され
るものではない。すなわち、少なくとも管４の末端から
所定の長さに亘る部分が管軸に対して管の外側に向いて
いればよいのであって、好ましくはフランジ５の寸法
「ｄ」を１０ｍｍ以上とし、フランジ５の管軸に対する
角度「θ」を９０゜とするとよい。また、図２（ｂ）に
示すように管４の末端周辺を曲率を持つようにして曲げ
ることにより、フランジ５に相当するものを形成しても
よい。そして、同図においても、管４の末端が管軸に対
して管の外側に向いていればよいのであって、好ましく
はフランジ５の寸法「ｄ」を１０ｍｍ以上とし、フラン
ジ５の外側に向いた方向と管軸にとの角度「θ」を９０
゜とするとよい。
るものではない。すなわち、少なくとも管４の末端から
所定の長さに亘る部分が管軸に対して管の外側に向いて
いればよいのであって、好ましくはフランジ５の寸法
「ｄ」を１０ｍｍ以上とし、フランジ５の管軸に対する
角度「θ」を９０゜とするとよい。また、図２（ｂ）に
示すように管４の末端周辺を曲率を持つようにして曲げ
ることにより、フランジ５に相当するものを形成しても
よい。そして、同図においても、管４の末端が管軸に対
して管の外側に向いていればよいのであって、好ましく
はフランジ５の寸法「ｄ」を１０ｍｍ以上とし、フラン
ジ５の外側に向いた方向と管軸にとの角度「θ」を９０
゜とするとよい。
【００１８】図３は、磁気シールドルーム１の正面図お
よびＡ−Ａ’線における断面図を示す。同図（ｂ）に示
すように、磁気シールドルーム１の内壁全面、および壁
の開口部内にまで延在して、隙間無く磁気遮蔽材１１が
貼付されている。そして、開口部２付近にウエハやマス
クのロード／アンロード部６が設置され、開口部２を介
して搬送されたカセットはこのロード／アンロード部６
に装着される。
よびＡ−Ａ’線における断面図を示す。同図（ｂ）に示
すように、磁気シールドルーム１の内壁全面、および壁
の開口部内にまで延在して、隙間無く磁気遮蔽材１１が
貼付されている。そして、開口部２付近にウエハやマス
クのロード／アンロード部６が設置され、開口部２を介
して搬送されたカセットはこのロード／アンロード部６
に装着される。
【００１９】カセットに収納されたウエハ等は、搬送ア
ーム部８のアーム７によってＥＢ露光装置１０のカラム
９内に搬送されてから露光が行われる。その後、露光さ
れたウエハは上記とは逆の手順をたどり、アーム７によ
って再びカセットに装着され、そのカセットは開口部２
を介して外部に搬出される。なお、管４の長さはあまり
長いと、カセットをロード／アンロード部６に装着する
際に支障をきたすため、１５０ｍｍ以下にするのが好ま
しい。
ーム部８のアーム７によってＥＢ露光装置１０のカラム
９内に搬送されてから露光が行われる。その後、露光さ
れたウエハは上記とは逆の手順をたどり、アーム７によ
って再びカセットに装着され、そのカセットは開口部２
を介して外部に搬出される。なお、管４の長さはあまり
長いと、カセットをロード／アンロード部６に装着する
際に支障をきたすため、１５０ｍｍ以下にするのが好ま
しい。
【００２０】次に、本発明に係る管４の有無と外部磁場
の影響との関係について説明する。図４は、外部磁場を
５ｍＧとし、開口部２からの距離と磁気シールドルーム
１内の磁場の強度との関係を示したグラフである。な
お、開口寸法は、「ａ」×「ｂ」＝９９０［ｍｍ］×２
５０［ｍｍ］としている。同図に示すように、開口部２
を設けなければ磁気シールドルーム１内の磁場は、シー
ルド壁近くでは０．３ｍＧ、シールド壁から５００ｍｍ
の位置で０．２５ｍＧ、１０００ｍｍの位置では０．１
７ｍＧと徐々に減衰している。
の影響との関係について説明する。図４は、外部磁場を
５ｍＧとし、開口部２からの距離と磁気シールドルーム
１内の磁場の強度との関係を示したグラフである。な
お、開口寸法は、「ａ」×「ｂ」＝９９０［ｍｍ］×２
５０［ｍｍ］としている。同図に示すように、開口部２
を設けなければ磁気シールドルーム１内の磁場は、シー
ルド壁近くでは０．３ｍＧ、シールド壁から５００ｍｍ
の位置で０．２５ｍＧ、１０００ｍｍの位置では０．１
７ｍＧと徐々に減衰している。
【００２１】それに対して、開口部２のみを設けた磁気
シールドルーム１の場合（すなわち、管４のみを設けた
場合）、開口部２付近の磁場は約３ｍＧ近い値を示し、
開口部２から５００ｍｍの位置では０．３５ｍＧと急速
に減衰し、それ以降は徐々に減衰するが、１０００ｍｍ
の位置でも０．２３ｍＧと開口部のない場合と比べて
０．０６ｍＧ程度高い値を示している。
シールドルーム１の場合（すなわち、管４のみを設けた
場合）、開口部２付近の磁場は約３ｍＧ近い値を示し、
開口部２から５００ｍｍの位置では０．３５ｍＧと急速
に減衰し、それ以降は徐々に減衰するが、１０００ｍｍ
の位置でも０．２３ｍＧと開口部のない場合と比べて
０．０６ｍＧ程度高い値を示している。
【００２２】一方、「ｄ」＝１０［ｍｍ］，「θ」＝９
０゜のフランジ５を有し、「ｃ」＝２００［ｍｍ］であ
る管４を設けた本発明の一つの実施の形態においては、
開口部２のすぐ内側では０．６ｍＧの強度であるが、開
口部から５００ｍｍの位置では開口部のない場合とほぼ
等しい値まで急速に減衰し、１０００ｍｍの位置では
０．１７ｍＧまで徐々に減衰している。それに対して、
フランジを設けない管を用いた場合においてこの程度の
シールド効果を得るためには、６００ｍｍ以上の長さの
管が必要であり、管の長さを短くさせることについて本
発明がいかに有効であるかがわかる。
０゜のフランジ５を有し、「ｃ」＝２００［ｍｍ］であ
る管４を設けた本発明の一つの実施の形態においては、
開口部２のすぐ内側では０．６ｍＧの強度であるが、開
口部から５００ｍｍの位置では開口部のない場合とほぼ
等しい値まで急速に減衰し、１０００ｍｍの位置では
０．１７ｍＧまで徐々に減衰している。それに対して、
フランジを設けない管を用いた場合においてこの程度の
シールド効果を得るためには、６００ｍｍ以上の長さの
管が必要であり、管の長さを短くさせることについて本
発明がいかに有効であるかがわかる。
【００２３】また、「ｄ」＝１０[ｍｍ］，「θ」＝９
０゜のフランジ５を有し、「ｃ」＝１００［ｍｍ］の管
４を設けた本発明の一つの実施の形態においても、開口
部のすぐ内側で約１．４ｍＧの強度であるが、開口部か
ら５００ｍｍの位置では開口部を設けていない場合とほ
とんど等しい値まで急速に減衰し、１０００ｍｍの位置
では０．１７ｍＧまで徐々に減衰している。
０゜のフランジ５を有し、「ｃ」＝１００［ｍｍ］の管
４を設けた本発明の一つの実施の形態においても、開口
部のすぐ内側で約１．４ｍＧの強度であるが、開口部か
ら５００ｍｍの位置では開口部を設けていない場合とほ
とんど等しい値まで急速に減衰し、１０００ｍｍの位置
では０．１７ｍＧまで徐々に減衰している。
【００２４】なお、フランジ５は上記のように管４の末
端を曲げて形成してもよいし、図５に示されるように曲
げられた管４の縁部４ａに、リング状のフランジ５をリ
ベット５ａを用いて取り付けてもよい。このとき、リベ
ット５ａの個数を増やしたり、またはリベット５ａの代
わりに溶接によってフランジ５を接続したりすることに
より、接続部分の密着性を高めることができ、接続部分
のインピ−ダンスが下がり、内部磁場をより外部へ放出
させ易くすることができる。また、縁部４ａ同士の切り
かけ部分にのみ板部材を取り付けることにより、管４の
開口を一周するようなフランジ５を形成しても、同様の
効果が得られる。
端を曲げて形成してもよいし、図５に示されるように曲
げられた管４の縁部４ａに、リング状のフランジ５をリ
ベット５ａを用いて取り付けてもよい。このとき、リベ
ット５ａの個数を増やしたり、またはリベット５ａの代
わりに溶接によってフランジ５を接続したりすることに
より、接続部分の密着性を高めることができ、接続部分
のインピ−ダンスが下がり、内部磁場をより外部へ放出
させ易くすることができる。また、縁部４ａ同士の切り
かけ部分にのみ板部材を取り付けることにより、管４の
開口を一周するようなフランジ５を形成しても、同様の
効果が得られる。
【００２５】
【発明の効果】以上説明したように、本発明は磁気シー
ルドルームの開口部にフランジを有する管を設けたこと
により、開口部の大きさを大きくしても外部磁場の磁気
シールドルーム内への影響を低減させることができる。
すなわち、管のみを用いた場合と比べ、短い管であって
も長い管と同等の効果が得られる。例えば、フランジ付
きの１００ｍｍ程度の管を開口に設けることにより、開
口から５００ｍｍ離れた位置においては開口のないもの
と同等の効果を得ることができる。そのため、開口部を
介してカセットの出し入れが可能となり、ロード／アン
ロード部を磁気シールドルーム内に設置することがで
き、スループットを向上させることができる。また、開
口部からの外部磁場の侵入を従来以上に抑制することが
できるため、ＥＢ露光装置と開口部との距離を短くする
ことができ、従来のように余分な空間を必要としないた
め、磁気シールドルームの小型化を図ることができる。
ルドルームの開口部にフランジを有する管を設けたこと
により、開口部の大きさを大きくしても外部磁場の磁気
シールドルーム内への影響を低減させることができる。
すなわち、管のみを用いた場合と比べ、短い管であって
も長い管と同等の効果が得られる。例えば、フランジ付
きの１００ｍｍ程度の管を開口に設けることにより、開
口から５００ｍｍ離れた位置においては開口のないもの
と同等の効果を得ることができる。そのため、開口部を
介してカセットの出し入れが可能となり、ロード／アン
ロード部を磁気シールドルーム内に設置することがで
き、スループットを向上させることができる。また、開
口部からの外部磁場の侵入を従来以上に抑制することが
できるため、ＥＢ露光装置と開口部との距離を短くする
ことができ、従来のように余分な空間を必要としないた
め、磁気シールドルームの小型化を図ることができる。
【図１】 本発明の一つの実施の形態を示す斜視図であ
る。
る。
【図２】 図１のII-II'線における断面図である。
【図３】 （ａ）磁気シールドルーム１の正面図、およ
び（ｂ）そのＡ−Ａ’線における断面図である。
び（ｂ）そのＡ−Ａ’線における断面図である。
【図４】 開口部２からの距離と磁気シールドルーム１
内の磁場の強度との関係を示すグラフである。
内の磁場の強度との関係を示すグラフである。
【図５】 管４およびフランジ５を示す斜視図である。
【図６】 従来例を示す斜視図である。
１…磁気シールドルーム、２…開口部、３…メンテナン
ス扉、４…管、４ａ…縁部、５…フランジ、５ａ…リベ
ット、６…ロード／アンロード部、７…アーム、８…搬
送アーム部、９…カラム、１０…ＥＢ露光装置、１１…
磁気遮蔽材。
ス扉、４…管、４ａ…縁部、５…フランジ、５ａ…リベ
ット、６…ロード／アンロード部、７…アーム、８…搬
送アーム部、９…カラム、１０…ＥＢ露光装置、１１…
磁気遮蔽材。
Claims (8)
- 【請求項１】 開口部を有する磁気シールドルームにお
いて、 この開口部には、所望の長さを有するとともに磁気遮蔽
材によって形成された管が、前記磁気シールドルームか
ら突出するようにして取り付けられ、 前記管の末端から所定の長さに亘る部分は、管軸に対し
て前記管の外側に向いていることを特徴とする磁気シー
ルドルーム。 - 【請求項２】 請求項１において、 前記管の長さは、２００ｍｍ以下であることを特徴とす
る磁気シールドルーム。 - 【請求項３】 請求項１において、 前記所定の長さは、１０ｍｍ以上であることを特徴とす
る磁気シールドルーム。 - 【請求項４】 請求項１において、 前記管の末端から所定の長さに亘る部分が、管軸に対し
て前記管の外側に曲げられていることを特徴とする磁気
シールドルーム。 - 【請求項５】 請求項１において、 前記管の末端から所定の長さに亘る部分が、管軸に対し
て前記管の外側に曲率を持って曲げられていることを特
徴とする磁気シールドルーム。 - 【請求項６】 請求項１において、 前記管の末端から所定の長さに亘る部分は、管軸に対し
て前記管の外側に９０゜傾いていることを特徴とする磁
気シールドルーム。 - 【請求項７】 請求項１において、 前記管の外側に向いた部分は、磁気遮蔽材からなる板部
材を取り付けて形成されていることを特徴とする磁気シ
ールドルーム。 - 【請求項８】 請求項１において、 前記開口部は、物を出し入れするための開口部であるこ
とを特徴とする磁気シールドルーム。
Priority Applications (6)
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|---|---|---|---|
| JP9353051A JP2927284B2 (ja) | 1997-12-22 | 1997-12-22 | 磁気シールドルーム |
| TW087121103A TW398166B (en) | 1997-12-22 | 1998-12-17 | A magnetic shield apparatus |
| KR1019980057193A KR100306986B1 (ko) | 1997-12-22 | 1998-12-22 | 자기차폐장치 |
| US09/218,501 US6265723B1 (en) | 1997-12-22 | 1998-12-22 | Magnetic shield apparatus |
| EP98124436A EP0924749A3 (en) | 1997-12-22 | 1998-12-22 | Magnetic shield apparatus |
| CN98125866A CN1114341C (zh) | 1997-12-22 | 1998-12-22 | 磁屏蔽设备 |
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| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9353051A JP2927284B2 (ja) | 1997-12-22 | 1997-12-22 | 磁気シールドルーム |
Publications (2)
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| JPH11186779A JPH11186779A (ja) | 1999-07-09 |
| JP2927284B2 true JP2927284B2 (ja) | 1999-07-28 |
Family
ID=18428244
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9353051A Expired - Fee Related JP2927284B2 (ja) | 1997-12-22 | 1997-12-22 | 磁気シールドルーム |
Country Status (6)
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| JP (1) | JP2927284B2 (ja) |
| KR (1) | KR100306986B1 (ja) |
| CN (1) | CN1114341C (ja) |
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| US6962644B2 (en) | 2002-03-18 | 2005-11-08 | Applied Materials, Inc. | Tandem etch chamber plasma processing system |
| JP2003309393A (ja) * | 2002-04-12 | 2003-10-31 | Fujita Corp | 磁気シールド構造およびその設計法 |
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| JP6117352B2 (ja) * | 2013-05-30 | 2017-04-19 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 荷電粒子線装置 |
| US10104816B2 (en) * | 2016-02-05 | 2018-10-16 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Co., Ltd. | Board, semiconductor fabrication plant (FAB) and fabrication facility |
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|---|---|---|---|---|
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| JPS6457700A (en) | 1987-08-28 | 1989-03-03 | Hitachi Ltd | Magnetic shielding device |
| JP2744470B2 (ja) | 1989-06-09 | 1998-04-28 | 出光興産株式会社 | 潤滑油組成物 |
| JPH07122886A (ja) | 1993-10-22 | 1995-05-12 | Shimizu Corp | 磁気シールドルームにおける出入口開口部 |
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1997
- 1997-12-22 JP JP9353051A patent/JP2927284B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
1998
- 1998-12-17 TW TW087121103A patent/TW398166B/zh active
- 1998-12-22 US US09/218,501 patent/US6265723B1/en not_active Expired - Fee Related
- 1998-12-22 EP EP98124436A patent/EP0924749A3/en not_active Withdrawn
- 1998-12-22 KR KR1019980057193A patent/KR100306986B1/ko not_active IP Right Cessation
- 1998-12-22 CN CN98125866A patent/CN1114341C/zh not_active Expired - Fee Related
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| CN1114341C (zh) | 2003-07-09 |
| KR19990063318A (ko) | 1999-07-26 |
| US6265723B1 (en) | 2001-07-24 |
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| EP0924749A2 (en) | 1999-06-23 |
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