JP2926805B2 - 超純水製造装置の殺菌方法 - Google Patents
超純水製造装置の殺菌方法Info
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Description
【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は超純水製造装置の殺菌方法に関し、さらに詳
細には純水をイオン交換装置および限外濾過装置に通水
して超純水を製造する超純水製造装置を熱水を用いて殺
菌する方法に関するものである。
細には純水をイオン交換装置および限外濾過装置に通水
して超純水を製造する超純水製造装置を熱水を用いて殺
菌する方法に関するものである。
超純水製造装置として、原水を前処理装置、脱炭酸装
置、逆浸透装置、イオン交換装置などに通水して不純物
を除去した純水（１次純水）を、純水貯槽からイオン交
換装置および限外濾過装置に通水して、さらに不純物を
除去し、超純水を製造する装置が使用されている。この
うち１次純水を製造する装置は１次純水系、最終的な超
純水を製造する装置は２次純水系といわれている。
置、逆浸透装置、イオン交換装置などに通水して不純物
を除去した純水（１次純水）を、純水貯槽からイオン交
換装置および限外濾過装置に通水して、さらに不純物を
除去し、超純水を製造する装置が使用されている。この
うち１次純水を製造する装置は１次純水系、最終的な超
純水を製造する装置は２次純水系といわれている。
第２図は従来の１次純水系および２次純水系からなる
超純水製造装置の系統図である。従来の超純水製造装置
は、前処理装置１、脱炭酸装置２、逆浸透装置３、イオ
ン交換装置４がシリーズに接続された１次純水系と、純
水貯槽５、ポンプ６、加熱器７、紫外線殺菌装置８、非
再生型イオン交換装置９、限外濾過装置10がシリーズに
接続された２次純水系とからなる。
超純水製造装置の系統図である。従来の超純水製造装置
は、前処理装置１、脱炭酸装置２、逆浸透装置３、イオ
ン交換装置４がシリーズに接続された１次純水系と、純
水貯槽５、ポンプ６、加熱器７、紫外線殺菌装置８、非
再生型イオン交換装置９、限外濾過装置10がシリーズに
接続された２次純水系とからなる。
上記のように超純水製造装置による超純水の製造方法
は、次のようにして行われる。
は、次のようにして行われる。
まず１次純水系においては、前処理装置１において、
原水に凝集分離処理等の浮遊物などを除去する前処理を
行い、脱炭酸装置２において脱炭酸し、逆浸透装置３に
おいて逆浸透処理により微細粒子等を除去する。次にイ
オン交換装置４においてイオン交換処理によりイオン性
物質を除去し、得られた純水は一旦純水貯槽５に蓄えら
れる。２次純水系においては、純水貯槽５から純水をポ
ンプ６で加熱器７を加熱することなく素通りさせ（殺菌
させることなく）、紫外線殺菌装置８で殺菌した後、非
再生型イオン交換装置９に通水してイオン交換を行い、
限外濾過装置10で微粒子を除去して超純水を製造し、ユ
ースポイント11に供給する。
原水に凝集分離処理等の浮遊物などを除去する前処理を
行い、脱炭酸装置２において脱炭酸し、逆浸透装置３に
おいて逆浸透処理により微細粒子等を除去する。次にイ
オン交換装置４においてイオン交換処理によりイオン性
物質を除去し、得られた純水は一旦純水貯槽５に蓄えら
れる。２次純水系においては、純水貯槽５から純水をポ
ンプ６で加熱器７を加熱することなく素通りさせ（殺菌
させることなく）、紫外線殺菌装置８で殺菌した後、非
再生型イオン交換装置９に通水してイオン交換を行い、
限外濾過装置10で微粒子を除去して超純水を製造し、ユ
ースポイント11に供給する。
２次純水系の加熱殺菌処理時には、純水貯槽５から純
水をポンプ６で加熱器７に導いて通常80℃程度に加熱
し、次に紫外線殺菌装置８を殺菌処理した後、非再生型
イオン交換装置９をバイパスして限外濾過装置10におい
て限外濾過を行い、純水貯槽５に循環し、加熱殺菌処理
を繰返す（以下、この操作をバイパス加熱処理と呼
ぶ）。加熱殺菌処理時に非再生型イオン交換装置９をバ
イパスするのは、イオン交換処理に使用するイオン交換
樹脂が熱水に弱いため、熱水からイオン交換樹脂を保護
するためである。
水をポンプ６で加熱器７に導いて通常80℃程度に加熱
し、次に紫外線殺菌装置８を殺菌処理した後、非再生型
イオン交換装置９をバイパスして限外濾過装置10におい
て限外濾過を行い、純水貯槽５に循環し、加熱殺菌処理
を繰返す（以下、この操作をバイパス加熱処理と呼
ぶ）。加熱殺菌処理時に非再生型イオン交換装置９をバ
イパスするのは、イオン交換処理に使用するイオン交換
樹脂が熱水に弱いため、熱水からイオン交換樹脂を保護
するためである。
バイパス加熱処理後は、水温を常温に下げ、前記同様
に純水を紫外線殺菌装置８を経て非再生型イオン交換装
置９に導いてイオン交換し、限外濾過装置10において限
外濾過した後、ユースポイント11から超純水として利用
される。
に純水を紫外線殺菌装置８を経て非再生型イオン交換装
置９に導いてイオン交換し、限外濾過装置10において限
外濾過した後、ユースポイント11から超純水として利用
される。
加熱殺菌処理は純水中に存在する微生物の殺菌のため
に行われるが、従来の方法では非再生型イオン交換装置
９に対する加熱殺菌処理が行われないため、非再生型イ
オン交換装置９における微生物の増殖は防止できず、超
純水製造装置全体の無菌化は達成されなかった。このた
め限外濾過装置10における細菌の除去性に問題が生じた
場合には、純水中に生菌が混入し、ユースポイント11へ
多量の生菌が送り込まれ、ユースポイント11全体を汚染
する可能性があった。
に行われるが、従来の方法では非再生型イオン交換装置
９に対する加熱殺菌処理が行われないため、非再生型イ
オン交換装置９における微生物の増殖は防止できず、超
純水製造装置全体の無菌化は達成されなかった。このた
め限外濾過装置10における細菌の除去性に問題が生じた
場合には、純水中に生菌が混入し、ユースポイント11へ
多量の生菌が送り込まれ、ユースポイント11全体を汚染
する可能性があった。
また非再生型イオン交換装置９をバイパスせずに熱水
を通して殺菌することも試みられているが、イオン交換
樹脂からの有機物等の溶出が生じ、超純水の水質が低下
する問題があった。
を通して殺菌することも試みられているが、イオン交換
樹脂からの有機物等の溶出が生じ、超純水の水質が低下
する問題があった。
本発明の目的は、上記のような問題点を解決するた
め、２次純水系のイオン交換装置における微生物の増殖
を防止して、超純水製造装置を無菌化することができ、
限外濾過装置の機能が低下した場合でも超純水に微生物
がリークしない超純水製造装置の殺菌方法を提案するこ
とである。
め、２次純水系のイオン交換装置における微生物の増殖
を防止して、超純水製造装置を無菌化することができ、
限外濾過装置の機能が低下した場合でも超純水に微生物
がリークしない超純水製造装置の殺菌方法を提案するこ
とである。
本発明は、超純水貯槽から純水をイオン交換装置およ
び限外濾過装置に通水して超純水を製造する超純水製造
装置を熱水で殺菌する方法において、 純水貯槽から導かれた純水を加熱器で55〜80℃に加熱
した後イオン交換装置に通水し、イオン交換装置の出口
水を系外に排出する20〜40分間の第１工程と、 純水貯槽からの純水を加熱器で55〜80℃に加熱した後
イオン交換装置および限外濾過装置を通して純水貯槽に
循環させる第２工程と からなることを特徴とする超純水製造装置の殺菌方法で
ある。
び限外濾過装置に通水して超純水を製造する超純水製造
装置を熱水で殺菌する方法において、 純水貯槽から導かれた純水を加熱器で55〜80℃に加熱
した後イオン交換装置に通水し、イオン交換装置の出口
水を系外に排出する20〜40分間の第１工程と、 純水貯槽からの純水を加熱器で55〜80℃に加熱した後
イオン交換装置および限外濾過装置を通して純水貯槽に
循環させる第２工程と からなることを特徴とする超純水製造装置の殺菌方法で
ある。
本発明において超純水製造のために用いる純水として
は、従来より１次純水系として採用されている純水製造
装置で製造された純水（１次純水）が使用できる。この
ような１次純水系としては第２図に示ように前処理装
置、脱炭酸装置、逆浸透装置、イオン交換装置からなる
ものが一般的であるが、これに限定されない。例えば逆
浸透装置とイオン交換装置とを逆の順序で接続したも
の、あるいは加熱器、紫外線殺菌装置、濾過装置などを
付加したものなど、任意のものが採用可能である。
は、従来より１次純水系として採用されている純水製造
装置で製造された純水（１次純水）が使用できる。この
ような１次純水系としては第２図に示ように前処理装
置、脱炭酸装置、逆浸透装置、イオン交換装置からなる
ものが一般的であるが、これに限定されない。例えば逆
浸透装置とイオン交換装置とを逆の順序で接続したも
の、あるいは加熱器、紫外線殺菌装置、濾過装置などを
付加したものなど、任意のものが採用可能である。
純水を加熱殺菌するための加熱器としては、電熱器、
ボイラ、熱交換器などがあげられる。イオン交換装置と
しては従来から用いられているイオン交換装置が使用で
きるが、カートリッジポリッシャなどの非再生型イオン
交換装置が好ましい。このようなイオン交換装置にはカ
チオン交換樹脂およびアニオン交換樹脂を充填したもの
が用いられるが、これらの樹脂の種類、充填方法等は従
来から採用されているものがそのまま採用できる。
ボイラ、熱交換器などがあげられる。イオン交換装置と
しては従来から用いられているイオン交換装置が使用で
きるが、カートリッジポリッシャなどの非再生型イオン
交換装置が好ましい。このようなイオン交換装置にはカ
チオン交換樹脂およびアニオン交換樹脂を充填したもの
が用いられるが、これらの樹脂の種類、充填方法等は従
来から採用されているものがそのまま採用できる。
限外濾過装置はイオン交換装置からリークする微粒子
を除去するためのもので、従来から採用されているもの
が採用できる。紫外線殺菌装置は超純水製造時は常時点
灯し、加熱殺菌時は点灯しなくてもよいが、加熱殺菌さ
れた純水をさらに殺菌して殺菌効果を高めてもよい。
を除去するためのもので、従来から採用されているもの
が採用できる。紫外線殺菌装置は超純水製造時は常時点
灯し、加熱殺菌時は点灯しなくてもよいが、加熱殺菌さ
れた純水をさらに殺菌して殺菌効果を高めてもよい。
本発明においては、まず第１工程として、純水貯槽か
ら導かれた純水を加熱器で55〜80℃に加熱し、この加熱
した熱水をイオン交換装置に通水し、イオン交換装置の
出口水を系外に排出し、イオン交換装置からリークする
不純物や細菌を超純水製造装置外に除去する工程を20〜
40分間行う。
ら導かれた純水を加熱器で55〜80℃に加熱し、この加熱
した熱水をイオン交換装置に通水し、イオン交換装置の
出口水を系外に排出し、イオン交換装置からリークする
不純物や細菌を超純水製造装置外に除去する工程を20〜
40分間行う。
イオン交換装置に熱水を通水して殺菌すると、イオン
交換樹脂、特にアニオン交換樹脂が劣化して不純物が超
純水中にリークして超純水が汚染されるが、この不純物
のリークは熱水の通水初期にのみ限られることがわかっ
た。そこで本発明では加熱殺菌の初期に第１工程とし
て、不純物がリークしたイオン交換装置の出口水を系外
に排出する。
交換樹脂、特にアニオン交換樹脂が劣化して不純物が超
純水中にリークして超純水が汚染されるが、この不純物
のリークは熱水の通水初期にのみ限られることがわかっ
た。そこで本発明では加熱殺菌の初期に第１工程とし
て、不純物がリークしたイオン交換装置の出口水を系外
に排出する。
次に第２工程として、イオン交換装置の出口水の排水
を中止し、加熱器で加熱した純水をイオン交換装置、限
外濾過装置および純水貯槽の順で循環させて、純水貯槽
から純水貯槽までの装置全体を殺菌する。
を中止し、加熱器で加熱した純水をイオン交換装置、限
外濾過装置および純水貯槽の順で循環させて、純水貯槽
から純水貯槽までの装置全体を殺菌する。
イオン交換樹脂の耐熱温度は、カチオン交換樹脂が80
℃以下、アニオン交換樹脂が約55℃とされている。一
方、超純水中の生菌として一般的なシュードモナス属の
菌の殺菌温度は約60℃とされている。このため加熱器に
よる加熱温度は第１、第２工程とも55〜80℃、特に60℃
前後が好ましい。
℃以下、アニオン交換樹脂が約55℃とされている。一
方、超純水中の生菌として一般的なシュードモナス属の
菌の殺菌温度は約60℃とされている。このため加熱器に
よる加熱温度は第１、第２工程とも55〜80℃、特に60℃
前後が好ましい。
加熱殺菌の時間は40分以上、特に50〜80分間が好まし
い。イオン交換装置における不純物のリーク量は、純水
の流速にはあまり関係なく、主として時間により決ま
り、通水初期の20〜30分間に不純物のリークは終了す
る。従って第１工程としては、0.05m3/hr程度の低流速
で20〜40分間行い、第２工程は0.05〜1m3/hr、好ましく
は0.15m3/hr程度の流速で20〜40分間行うのが好まし
い。
い。イオン交換装置における不純物のリーク量は、純水
の流速にはあまり関係なく、主として時間により決ま
り、通水初期の20〜30分間に不純物のリークは終了す
る。従って第１工程としては、0.05m3/hr程度の低流速
で20〜40分間行い、第２工程は0.05〜1m3/hr、好ましく
は0.15m3/hr程度の流速で20〜40分間行うのが好まし
い。
以下、本発明を図面の実施例によって説明する。
第１図は本発明の実施例における超純水製造装置の系
統図である。第１図において、１次純水系は第２図と同
様に構成されている、２次純水系も第２図と同様に、純
水貯槽５、ポンプ６、加熱器７、紫外線殺菌装置８、非
再生型イオン交換装置９および限外濾過装置10からなる
が、非再生型イオン交換装置９の出口に排水路12が設け
られている。
統図である。第１図において、１次純水系は第２図と同
様に構成されている、２次純水系も第２図と同様に、純
水貯槽５、ポンプ６、加熱器７、紫外線殺菌装置８、非
再生型イオン交換装置９および限外濾過装置10からなる
が、非再生型イオン交換装置９の出口に排水路12が設け
られている。
上記の超純水製造装置を用いた超純水の製造方法は、
次のようにして行う。
次のようにして行う。
まず１次純水系における純水の製造は第２図と同様に
行われる。また２次純水系における超純水の製造も第２
図と同様に行われ、ユースポイント11に供給される。
行われる。また２次純水系における超純水の製造も第２
図と同様に行われ、ユースポイント11に供給される。
２次純水系において加熱殺菌を行う場合は、第１工程
として、純水貯槽５から純水をポンプ６で加熱器７に導
いて通常55〜80℃に加熱して殺菌し、さらに紫外線殺菌
装置８を殺菌処理した後、非再生型イオン交換装置９に
通水し、熱水により非再生型イオン交換装置９も加熱殺
菌処理する。非再生型イオン交換装置９を加熱殺菌処理
した熱水は、非再生型イオン交換装置９と限外濾過装置
10との間に設けた排水路12から系外へ排水する。この排
水操作は通常20〜40分間、好ましくは25〜35分間行うの
が望ましい。この排水操作によい、非再生型イオン交換
装置９からリークする不純物および細菌を超純水製造装
置外に除去することができる。
として、純水貯槽５から純水をポンプ６で加熱器７に導
いて通常55〜80℃に加熱して殺菌し、さらに紫外線殺菌
装置８を殺菌処理した後、非再生型イオン交換装置９に
通水し、熱水により非再生型イオン交換装置９も加熱殺
菌処理する。非再生型イオン交換装置９を加熱殺菌処理
した熱水は、非再生型イオン交換装置９と限外濾過装置
10との間に設けた排水路12から系外へ排水する。この排
水操作は通常20〜40分間、好ましくは25〜35分間行うの
が望ましい。この排水操作によい、非再生型イオン交換
装置９からリークする不純物および細菌を超純水製造装
置外に除去することができる。
次に第２工程として、排水路12からの排水を中止し、
加熱器７で通常55〜80℃に加熱した熱水を非再生型イオ
ン交換装置９、限外濾過装置10および純水貯槽５の順に
循環させて、純水貯槽５から出て純水貯槽５に至るまで
の超純水製造装置全体を加熱殺菌処理する。
加熱器７で通常55〜80℃に加熱した熱水を非再生型イオ
ン交換装置９、限外濾過装置10および純水貯槽５の順に
循環させて、純水貯槽５から出て純水貯槽５に至るまで
の超純水製造装置全体を加熱殺菌処理する。
こうして殺菌処理した超純水製造装置は通常の超純水
製造工程に戻り、前記と同様に通水後、限外濾過装置10
からユースポイント11に供給される。
製造工程に戻り、前記と同様に通水後、限外濾過装置10
からユースポイント11に供給される。
上記の殺菌方法では、第１工程におけるイオン交換装
置の出口水の排水操作により、溶出物等の不純物が存在
する純水を超純水製造装置外に除去した後、純水貯槽５
から出て純水貯槽５に至るまでの装置全体を加熱殺菌処
理するので、超純水製造装置を完全に無菌化でき、限外
濾過装置10の機能が低下した場合でも、生菌がユースポ
イント11にリークすることはない。
置の出口水の排水操作により、溶出物等の不純物が存在
する純水を超純水製造装置外に除去した後、純水貯槽５
から出て純水貯槽５に至るまでの装置全体を加熱殺菌処
理するので、超純水製造装置を完全に無菌化でき、限外
濾過装置10の機能が低下した場合でも、生菌がユースポ
イント11にリークすることはない。
実施例１ 第１図に示す超純水製造装置を用いて、流速0.05m3/h
r、熱水温度60℃または80℃の条件で第１工程の加熱殺
菌処理を行った。非再生型イオン交換装置の出口におい
て、一定時間ごとに超純水を採取し、この超純水中に存
在する0.1μｍ以上の微粒子の数を、レーザ光を利用し
たパーティクルカウンタ「Ｋ−LAMIC−200」（栗田工業
（株）製、商標）により測定した。結果を第３図に示
す。
r、熱水温度60℃または80℃の条件で第１工程の加熱殺
菌処理を行った。非再生型イオン交換装置の出口におい
て、一定時間ごとに超純水を採取し、この超純水中に存
在する0.1μｍ以上の微粒子の数を、レーザ光を利用し
たパーティクルカウンタ「Ｋ−LAMIC−200」（栗田工業
（株）製、商標）により測定した。結果を第３図に示
す。
上記の結果より、非再生型イオン交換装置からリーク
する不純物は20〜30分間で著しく減少することがわか
る。
する不純物は20〜30分間で著しく減少することがわか
る。
実施例２ 第１図に示す超純水製造装置を用いて、下記条件で加
熱殺菌を行った。
熱殺菌を行った。
第１工程 熱水温度:60℃ 流 速:0.05m3/hr 時 間:30分間 第２工程 熱水温度:60℃ 流 速:0.15m3/hr 時 間:30分間 以上のような条件で加熱殺菌処理を行った後、水温22
℃、流速1m3/時間の条件で超純水を循環させた。
℃、流速1m3/時間の条件で超純水を循環させた。
加熱殺菌終了後、所定時間ごとに紫外線殺菌装置の出
口（以下、UV出口と呼ぶ）、非再生型イオン交換装置の
出口（以下、DI出口と呼ぶ）および限外濾過装置の出口
（以下、UF出口と呼ぶ）において超純水を採取し、超純
水中に存在する生菌数をフィルター培養法により測定し
た。結果を表１に示す。
口（以下、UV出口と呼ぶ）、非再生型イオン交換装置の
出口（以下、DI出口と呼ぶ）および限外濾過装置の出口
（以下、UF出口と呼ぶ）において超純水を採取し、超純
水中に存在する生菌数をフィルター培養法により測定し
た。結果を表１に示す。
比較例１ 第２図に示す超純水製造装置を用いて、下記バイパス
加熱処理条件で加熱殺菌を行った。
加熱処理条件で加熱殺菌を行った。
熱水温度:80℃ 流 量:0.05m3/hr 時 間:1時間 以上のような条件でバイパス加熱処理を行った後、水
温22℃、流速1m3/hrの条件で超純水を循環させてイオン
交換を行った。
温22℃、流速1m3/hrの条件で超純水を循環させてイオン
交換を行った。
以下、実施例２と同様にして超純水中に存在する生菌
数を測定した。結果を表１に示す。
数を測定した。結果を表１に示す。
表１の結果より、本発明の殺菌方法によれば、UV出
口、DI出口およびUF出口で採取したいずれの超純水も生
菌数は極めて少なく、かつ加熱殺菌後の時間経過に伴う
生菌数の増加が認められず、超純水製造装置が無菌状態
に保たれていることがわかる。
口、DI出口およびUF出口で採取したいずれの超純水も生
菌数は極めて少なく、かつ加熱殺菌後の時間経過に伴う
生菌数の増加が認められず、超純水製造装置が無菌状態
に保たれていることがわかる。
一方、従来の殺菌方法においては、２次純水系イオン
交換装置を加熱殺菌しないため、DI出口の超純水中の生
菌数が多いことがわかる。また加熱殺菌後の時間経過に
伴って、DI出口およびUF出口の超純水中の生菌数に若干
の増加が認められる。
交換装置を加熱殺菌しないため、DI出口の超純水中の生
菌数が多いことがわかる。また加熱殺菌後の時間経過に
伴って、DI出口およびUF出口の超純水中の生菌数に若干
の増加が認められる。
本発明によれば、純水貯槽から導かれた純水を加熱器
で加熱してイオン交換装置に通水し、イオン交換装置の
出口水を第１工程において系外に排出した後、第２工程
において純水貯槽に循環させるようにしたので、貴重な
純水を大量に消費することなく、イオン交換装置におけ
る微生物の増殖を防止して、超純水製造装置を無菌化す
ることができ、限外濾過装置の機能が低下した場合で
も、超純水中に微生物がリークすることがない。
で加熱してイオン交換装置に通水し、イオン交換装置の
出口水を第１工程において系外に排出した後、第２工程
において純水貯槽に循環させるようにしたので、貴重な
純水を大量に消費することなく、イオン交換装置におけ
る微生物の増殖を防止して、超純水製造装置を無菌化す
ることができ、限外濾過装置の機能が低下した場合で
も、超純水中に微生物がリークすることがない。
第１図は実施例における超純水製造装置の系統図、第２
図は従来の超純水製造装置の系統図、第３図は実施例１
の結果を示すグラフである。 各図中、同一符号は同一部分を示し、１は前処理装置、
２は脱炭酸装置、３は逆浸透装置、４はイオン交換装
置、５は純水貯槽、７は加熱器、８は紫外線殺菌装置、
９は非再生型イオン交換装置、10は限外濾過装置、11は
ユースポイント、12は排水路である。
図は従来の超純水製造装置の系統図、第３図は実施例１
の結果を示すグラフである。 各図中、同一符号は同一部分を示し、１は前処理装置、
２は脱炭酸装置、３は逆浸透装置、４はイオン交換装
置、５は純水貯槽、７は加熱器、８は紫外線殺菌装置、
９は非再生型イオン交換装置、10は限外濾過装置、11は
ユースポイント、12は排水路である。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.6，ＤＢ名) C02F 1/42 C02F 1/44 C02F 1/02 B01J 49/00
Claims (1)
- 【請求項１】純水貯槽から純水をイオン交換装置および
限外濾過装置に通水して超純水を製造する超純水製造装
置を熱水で殺菌する方法において、 純水貯槽から導かれた純水を加熱器で55〜80℃に加熱し
た後イオン交換装置に通水し、イオン交換装置の出口水
を系外に排出する20〜40分間の第１工程と、 純水貯槽からの純水を加熱器で55〜80℃に加熱した後イ
オン交換装置および限外濾過装置を通して純水貯槽に循
環させる第２工程と からなることを特徴とする超純水製造装置の殺菌方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP32307989A JP2926805B2 (ja) | 1989-12-13 | 1989-12-13 | 超純水製造装置の殺菌方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP32307989A JP2926805B2 (ja) | 1989-12-13 | 1989-12-13 | 超純水製造装置の殺菌方法 |
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| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03186389A JPH03186389A (ja) | 1991-08-14 |
| JP2926805B2 true JP2926805B2 (ja) | 1999-07-28 |
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ID=18150853
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|---|---|---|---|
| JP32307989A Expired - Fee Related JP2926805B2 (ja) | 1989-12-13 | 1989-12-13 | 超純水製造装置の殺菌方法 |
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| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2926805B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP5382282B2 (ja) * | 2006-04-26 | 2014-01-08 | 栗田工業株式会社 | 純水製造装置 |
-
1989
- 1989-12-13 JP JP32307989A patent/JP2926805B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH03186389A (ja) | 1991-08-14 |
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