JP2923299B2 - 電気油圧式サーボシステム - Google Patents
電気油圧式サーボシステムInfo
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- signal
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
- B29C—SHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
- B29C45/00—Injection moulding, i.e. forcing the required volume of moulding material through a nozzle into a closed mould; Apparatus therefor
- B29C45/17—Component parts, details or accessories; Auxiliary operations
- B29C45/76—Measuring, controlling or regulating
- B29C45/77—Measuring, controlling or regulating of velocity or pressure of moulding material
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
- B29C—SHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
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- B29C45/17—Component parts, details or accessories; Auxiliary operations
- B29C45/76—Measuring, controlling or regulating
- B29C45/82—Hydraulic or pneumatic circuits
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- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T137/00—Fluid handling
- Y10T137/7722—Line condition change responsive valves
- Y10T137/7758—Pilot or servo controlled
- Y10T137/7759—Responsive to change in rate of fluid flow
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
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- Y10T137/7761—Electrically actuated valve
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- Engineering & Computer Science (AREA)
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- Mechanical Engineering (AREA)
- Injection Moulding Of Plastics Or The Like (AREA)
- Servomotors (AREA)
- Fluid-Pressure Circuits (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、容積が未知のキャビティに対して与圧下に
行われる流体の供給を制御するための電気油圧式サーボ
システムに関し、より詳しくは、かかる種類のシステム
であって、射出成形機へと供給される油圧流体の流れ及
び圧力の両者を制御するためのシステムに関するもので
ある。
行われる流体の供給を制御するための電気油圧式サーボ
システムに関し、より詳しくは、かかる種類のシステム
であって、射出成形機へと供給される油圧流体の流れ及
び圧力の両者を制御するためのシステムに関するもので
ある。
電気油圧式サーボシステムにおいては、システムから
の出力流れ及び出力圧力の両者を、流れ制御操作モード
及び圧力制御操作モードという別個のモードで制御する
ことが望ましいことが多い。例えば射出成形機の電気油
圧式制御においては、最初は成形機の射出シリンダを流
れ制御操作モードで操作して、溶融したプラスチックの
成形キャビティへの流れを制御し、次いで圧力制御操作
モードで操作して、キャビティが満たされた後に所望の
圧力状態を保つようにすることが望ましい。しかしなが
ら閉ループ圧力制御のためにシステム圧力の電子的なフ
ィードバックを利用している電気油圧式システムにおい
ては、サーボループの利得がキャビティの容積と共に変
化するため、またキャビティの有効容積がオペレータに
より意図的に変化され又はシステム中における流体の漏
れのために変化することもあるために、問題が生じてく
る。即ち成形キャビティ内の溶融プラスチックをも含め
た全圧縮容積は、金型の大きさ及び型式などに応じて1
2:1の割合で変化しうる。しかし最低でも10％から20％
の容積変化があれば、所望とする操作を行うためにはサ
ーボループの利得を調節することが必要となるからであ
る。従来においては、ループの利得は本質的に経験（試
行錯誤）に基づいて且つ（行うとしても）手動で調節さ
れていた。
の出力流れ及び出力圧力の両者を、流れ制御操作モード
及び圧力制御操作モードという別個のモードで制御する
ことが望ましいことが多い。例えば射出成形機の電気油
圧式制御においては、最初は成形機の射出シリンダを流
れ制御操作モードで操作して、溶融したプラスチックの
成形キャビティへの流れを制御し、次いで圧力制御操作
モードで操作して、キャビティが満たされた後に所望の
圧力状態を保つようにすることが望ましい。しかしなが
ら閉ループ圧力制御のためにシステム圧力の電子的なフ
ィードバックを利用している電気油圧式システムにおい
ては、サーボループの利得がキャビティの容積と共に変
化するため、またキャビティの有効容積がオペレータに
より意図的に変化され又はシステム中における流体の漏
れのために変化することもあるために、問題が生じてく
る。即ち成形キャビティ内の溶融プラスチックをも含め
た全圧縮容積は、金型の大きさ及び型式などに応じて1
2:1の割合で変化しうる。しかし最低でも10％から20％
の容積変化があれば、所望とする操作を行うためにはサ
ーボループの利得を調節することが必要となるからであ
る。従来においては、ループの利得は本質的に経験（試
行錯誤）に基づいて且つ（行うとしても）手動で調節さ
れていた。
そこで本発明の一般的な課題は、キャビティの容積の
関数として操作の間にループの利得が自動的に適切に調
節されるよう、圧力制御操作モードにおいて閉ループ電
子的制御を行う機構を含む、前述したような性質の電気
油圧式サーボ制御システムを提供することである。本発
明の別の課題は、流れ制御及び圧力制御という別々の操
作モードにおいて、より改良された油圧流体の流れの適
切な制御を行うための機構を含む、電気油圧式サーボシ
ステムを提供することである。
関数として操作の間にループの利得が自動的に適切に調
節されるよう、圧力制御操作モードにおいて閉ループ電
子的制御を行う機構を含む、前述したような性質の電気
油圧式サーボ制御システムを提供することである。本発
明の別の課題は、流れ制御及び圧力制御という別々の操
作モードにおいて、より改良された油圧流体の流れの適
切な制御を行うための機構を含む、電気油圧式サーボシ
ステムを提供することである。
容積が定まっていないキャビティにおける流体の圧力
を制御するための、本発明のよる電気油圧式サーボシス
テムは、パイロット流体圧力によって位置が制御される
弁スプール要素と、周囲の弁本体内におけるこの弁スプ
ール要素の位置の関数として流体を供給するためのポー
トとを有する主弁を含む。サーボ弁が電子的な弁制御信
号に応答可能であって、弁主体本体におけるパイロット
圧力を制御し、それによって弁スプール要素の位置を制
御する。電子的弁コントローラが、キャビティの容積内
において所望とされる流体圧力の関数として、遠隔のマ
スタエレクトロニクスから圧力コマンド信号を受け取
り、また主弁の出力ポートに連結された圧力センサーか
ら、キャビティの容積内の流体圧力を示す圧力帰還信号
を受け取る。圧力制御操作モードにおいて、圧力コマン
ド信号は圧力帰還信号と比較され、その差すなわちエラ
ー信号が、サーボ弁に対する弁制御信号を発生するため
に使用される。
を制御するための、本発明のよる電気油圧式サーボシス
テムは、パイロット流体圧力によって位置が制御される
弁スプール要素と、周囲の弁本体内におけるこの弁スプ
ール要素の位置の関数として流体を供給するためのポー
トとを有する主弁を含む。サーボ弁が電子的な弁制御信
号に応答可能であって、弁主体本体におけるパイロット
圧力を制御し、それによって弁スプール要素の位置を制
御する。電子的弁コントローラが、キャビティの容積内
において所望とされる流体圧力の関数として、遠隔のマ
スタエレクトロニクスから圧力コマンド信号を受け取
り、また主弁の出力ポートに連結された圧力センサーか
ら、キャビティの容積内の流体圧力を示す圧力帰還信号
を受け取る。圧力制御操作モードにおいて、圧力コマン
ド信号は圧力帰還信号と比較され、その差すなわちエラ
ー信号が、サーボ弁に対する弁制御信号を発生するため
に使用される。
本発明の好ましい実施例においては、周囲の弁本体内
における弁スプール要素の位置の関数として位置帰還信
号を供給するために、第二のセンサーが弁スプール要素
に連結される。位置帰還信号及び圧力帰還信号は両方と
も圧力制御サーボループにおいて使用され、圧力帰還信
号は利得Kpの関数として変化され、位置帰還信号は利得
Kdの関数として変化されて、その差すなわちエラー信号
は、利得Keの関数として変化される。キャビティの容積
は、圧力帰還信号及び位置帰還信号の関数として決定さ
れる。制御ループの利得、つまり利得Ke及びKdは、キャ
ビティの容積の関数として変化されて、それによりキャ
ビティの容積の意図的な又は予期しない変化に対してサ
ーボ制御システムを適合させる。最も好ましくは、弁制
御エレクトロニクスは、金型キャビティにおける所望の
流れ及び圧力の制御を行うために、流れ制御操作モード
又は圧力制御操作モードの何れにおいても、圧力帰還信
号及び位置帰還信号を周期的にサンプリングしてその関
数としてループの利得を更新し、圧力コマンド入力及び
流れコマンド入力をサンプリングし、そして電気油圧式
サーボ弁に対する弁制御信号を自動的に変化させる、マ
イクロプロセッサを基礎とするコントローラから成るも
のである。
における弁スプール要素の位置の関数として位置帰還信
号を供給するために、第二のセンサーが弁スプール要素
に連結される。位置帰還信号及び圧力帰還信号は両方と
も圧力制御サーボループにおいて使用され、圧力帰還信
号は利得Kpの関数として変化され、位置帰還信号は利得
Kdの関数として変化されて、その差すなわちエラー信号
は、利得Keの関数として変化される。キャビティの容積
は、圧力帰還信号及び位置帰還信号の関数として決定さ
れる。制御ループの利得、つまり利得Ke及びKdは、キャ
ビティの容積の関数として変化されて、それによりキャ
ビティの容積の意図的な又は予期しない変化に対してサ
ーボ制御システムを適合させる。最も好ましくは、弁制
御エレクトロニクスは、金型キャビティにおける所望の
流れ及び圧力の制御を行うために、流れ制御操作モード
又は圧力制御操作モードの何れにおいても、圧力帰還信
号及び位置帰還信号を周期的にサンプリングしてその関
数としてループの利得を更新し、圧力コマンド入力及び
流れコマンド入力をサンプリングし、そして電気油圧式
サーボ弁に対する弁制御信号を自動的に変化させる、マ
イクロプロセッサを基礎とするコントローラから成るも
のである。
射出成形機を制御するための本発明の好ましい実施形
態において、弁制御エレクトロニクスは、最初は流れ制
御操作モードにおいて成形機内への材料の射出速度を制
御するために、遠隔のマスタエレクトロニクスから受け
取った流れコマンド信号の関数として弁を操作し、そし
てその後はキャビティが満たされた後に射出成形機にお
いて所望とされる圧力状態を維持するために、圧力制御
操作モードにおいて遠隔のマスタエレクトロニクスから
受け取った圧力コマンド信号の制御の下に弁を操作する
ための機構を含んでいる。サーボ制御エレクトロニクス
は、主弁の出力ポートにおいて圧力センサーにより検出
されたキャビティ圧力の増大が、射出成形用金型のキャ
ビティが満たされたことを示す場合に、流れ制御操作モ
ードから圧力制御操作モードへと自動的に切り替えを行
うための機構を含む。
態において、弁制御エレクトロニクスは、最初は流れ制
御操作モードにおいて成形機内への材料の射出速度を制
御するために、遠隔のマスタエレクトロニクスから受け
取った流れコマンド信号の関数として弁を操作し、そし
てその後はキャビティが満たされた後に射出成形機にお
いて所望とされる圧力状態を維持するために、圧力制御
操作モードにおいて遠隔のマスタエレクトロニクスから
受け取った圧力コマンド信号の制御の下に弁を操作する
ための機構を含んでいる。サーボ制御エレクトロニクス
は、主弁の出力ポートにおいて圧力センサーにより検出
されたキャビティ圧力の増大が、射出成形用金型のキャ
ビティが満たされたことを示す場合に、流れ制御操作モ
ードから圧力制御操作モードへと自動的に切り替えを行
うための機構を含む。
本発明は、さらなる課題、特徴及び利点などと共に、
以下の説明、特許請求の範囲及び添付の図面から最も良
く理解されるであろう。
以下の説明、特許請求の範囲及び添付の図面から最も良
く理解されるであろう。
第１図は、通常の射出成形機12の射出ラムを操作する
ための、本発明による電気油圧式サーボシステム10を示
している。システム10は主弁14を含み、この主弁におい
ては弁スプール要素16が弁本体18内に可動に設けられて
いて、入力ポート20,22から出力ポート24,26への油圧流
体の流れを制御している。ポンプ28が油圧流体をタンク
30から入力ポート20,22へと、リリーフ弁29によって設
定された一定の圧力において供給している。過渡的な圧
力変動を抑制するために、アキュムレータ（図示せず）
を使用することができる。出力ポート24,26はアクチュ
エータピストン34の両側において、線形アクチュエータ
32へと接続されている。ピストンはシャフト36によっ
て、射出成形機12の射出ラム（図示せず）に連結されて
いる。これらのことから、主弁14が所謂Ｐ−Ｑ弁とし
て、即ちアクチュエータ32に対する油圧流体の流れＱ及
び圧力Ｐを制御し、それにより射出ラムの速度、並びに
射出成形機12内で射出ラムによって加えられる圧力を制
御するものとして構成されていることが理解されるであ
ろう。圧力制御という目的のために、圧縮下に置かれる
全容積は、主弁14の下流側にある容積、即ちアクチュエ
ータ32内の流体の容積及び射出成形機12内のキャビティ
の容積とされる。
ための、本発明による電気油圧式サーボシステム10を示
している。システム10は主弁14を含み、この主弁におい
ては弁スプール要素16が弁本体18内に可動に設けられて
いて、入力ポート20,22から出力ポート24,26への油圧流
体の流れを制御している。ポンプ28が油圧流体をタンク
30から入力ポート20,22へと、リリーフ弁29によって設
定された一定の圧力において供給している。過渡的な圧
力変動を抑制するために、アキュムレータ（図示せず）
を使用することができる。出力ポート24,26はアクチュ
エータピストン34の両側において、線形アクチュエータ
32へと接続されている。ピストンはシャフト36によっ
て、射出成形機12の射出ラム（図示せず）に連結されて
いる。これらのことから、主弁14が所謂Ｐ−Ｑ弁とし
て、即ちアクチュエータ32に対する油圧流体の流れＱ及
び圧力Ｐを制御し、それにより射出ラムの速度、並びに
射出成形機12内で射出ラムによって加えられる圧力を制
御するものとして構成されていることが理解されるであ
ろう。圧力制御という目的のために、圧縮下に置かれる
全容積は、主弁14の下流側にある容積、即ちアクチュエ
ータ32内の流体の容積及び射出成形機12内のキャビティ
の容積とされる。
弁ブロック即ち弁本体18の上には電気油圧式サーボ弁
38が設けられており、制御エレクトロニクス40からの電
子的弁制御信号に応答して、弁本体18内の弁スプール要
素16の位置を制御するためのパイロット圧力を供給する
ようになっている。制御エレクトロニクス40は、サーボ
弁38上にアセンブリとして設けられている。制御エレク
トロニクス40は遠隔のマスタコントローラ42からコマン
ド信号を受け取り、またマスタコントローラに対して適
当な操作データ及び状態データを送出する。LVDTの如き
トランスジューサ又はセンサー44が弁本体18に設けられ
ており、弁スプール要素16に連結されていて、制御エレ
クトロニクス40に対し、弁本体18内における弁スプール
要素16の位置を示す帰還信号Ｙを供給する。弁スプール
要素16はコイルバネ47,48により、弁本体18内の中立中
央位置へと偏倚されている。第二のセンサー46が出力ポ
ート26（又は出力ポート24）に連結されていて、弁の出
力流体圧力の関数としての帰還信号Ｐを制御エレクトロ
ニクス40へと供給する。
38が設けられており、制御エレクトロニクス40からの電
子的弁制御信号に応答して、弁本体18内の弁スプール要
素16の位置を制御するためのパイロット圧力を供給する
ようになっている。制御エレクトロニクス40は、サーボ
弁38上にアセンブリとして設けられている。制御エレク
トロニクス40は遠隔のマスタコントローラ42からコマン
ド信号を受け取り、またマスタコントローラに対して適
当な操作データ及び状態データを送出する。LVDTの如き
トランスジューサ又はセンサー44が弁本体18に設けられ
ており、弁スプール要素16に連結されていて、制御エレ
クトロニクス40に対し、弁本体18内における弁スプール
要素16の位置を示す帰還信号Ｙを供給する。弁スプール
要素16はコイルバネ47,48により、弁本体18内の中立中
央位置へと偏倚されている。第二のセンサー46が出力ポ
ート26（又は出力ポート24）に連結されていて、弁の出
力流体圧力の関数としての帰還信号Ｐを制御エレクトロ
ニクス40へと供給する。
サーボ弁38及び制御エレクトロニクス40は、1986年８
月29日に出願され本出願人に譲渡された米国特許出願第
901,816号（米国特許第4,757,747号（特開昭62−297,50
4号））に記載された如き型式の一体のアセンブリの形
を取るのが最も好ましい。この米国特許出願の開示内容
は、参照として本明細書に取り入れることとする。本発
明のかかる好ましい実施例における制御エレクトロニク
ス40はマイクロプロセッサを基礎とするコントローラか
ら成り、このコントローラはマスタコントローラ42から
コマンド信号を受け取り、サンプリングし、格納するた
めの、そしてサーボ弁38に対する適切な弁制御信号を発
生するための機構を含んでいる。制御エレクトロニクス
40はまたメモリを含み、その中には弁制御プログラム及
び起動データが予め格納されている。このようなプログ
ラムは、マスタコントローラ42によって遠隔から選択可
能である。ループの利得定数をも含めた起動データはマ
スタコントローラ42から、或いは以下で詳細に論ずる内
部適応制御プログラムを介して変化させることができ
る。マスタコントローラ42の例は、1986年10月27日に出
願されやはり本出願人に譲渡された米国特許出願第923,
185号（米国特許第4,745,744号（特開昭63−170,709
号））に開示されている。
月29日に出願され本出願人に譲渡された米国特許出願第
901,816号（米国特許第4,757,747号（特開昭62−297,50
4号））に記載された如き型式の一体のアセンブリの形
を取るのが最も好ましい。この米国特許出願の開示内容
は、参照として本明細書に取り入れることとする。本発
明のかかる好ましい実施例における制御エレクトロニク
ス40はマイクロプロセッサを基礎とするコントローラか
ら成り、このコントローラはマスタコントローラ42から
コマンド信号を受け取り、サンプリングし、格納するた
めの、そしてサーボ弁38に対する適切な弁制御信号を発
生するための機構を含んでいる。制御エレクトロニクス
40はまたメモリを含み、その中には弁制御プログラム及
び起動データが予め格納されている。このようなプログ
ラムは、マスタコントローラ42によって遠隔から選択可
能である。ループの利得定数をも含めた起動データはマ
スタコントローラ42から、或いは以下で詳細に論ずる内
部適応制御プログラムを介して変化させることができ
る。マスタコントローラ42の例は、1986年10月27日に出
願されやはり本出願人に譲渡された米国特許出願第923,
185号（米国特許第4,745,744号（特開昭63−170,709
号））に開示されている。
第２図は第１図に図形をもって描かれたシステム10の
機能ブロックダイヤグラムであり、本発明によるマイク
ロプロセッサを基礎とした制御エレクトロニクス40の詳
細な機能ブロックダイヤグラムを含むものである。前述
したように制御エレクトロニクス40は、上記で参照した
米国特許出願第901,816号に開示された性質を持つマイ
クロプロセッサベースのコントローラでもって実現され
るのが好ましい。しかして第２図における制御エレクト
ロニクス40の機能ブロックダイヤグラムは、適当な制御
プログラミングによって構成されたかかるマイクロプロ
セッサベースのコントローラを示すものであることが理
解されよう。またかかるマイクロプロセッサベースのコ
ントローラは、当該コントローラへの入力される信号の
各々を、周期的なサンプリング間隔においてサンプリン
グし格納するための機能を含むことも理解されよう。そ
のようなサンプリング回路は、簡単のために第２図では
機能的に図示されてはいない。
機能ブロックダイヤグラムであり、本発明によるマイク
ロプロセッサを基礎とした制御エレクトロニクス40の詳
細な機能ブロックダイヤグラムを含むものである。前述
したように制御エレクトロニクス40は、上記で参照した
米国特許出願第901,816号に開示された性質を持つマイ
クロプロセッサベースのコントローラでもって実現され
るのが好ましい。しかして第２図における制御エレクト
ロニクス40の機能ブロックダイヤグラムは、適当な制御
プログラミングによって構成されたかかるマイクロプロ
セッサベースのコントローラを示すものであることが理
解されよう。またかかるマイクロプロセッサベースのコ
ントローラは、当該コントローラへの入力される信号の
各々を、周期的なサンプリング間隔においてサンプリン
グし格納するための機能を含むことも理解されよう。そ
のようなサンプリング回路は、簡単のために第２図では
機能的に図示されてはいない。
第２図を参照すると、マスタコントローラ42（第１
図）から受け取った圧力コマンド信号Pcは、制御エレク
トロニクス40内で加算接続点50の非反転入力へと供給さ
れる。位置センサー44の出力Ｙは、A/Dコンバータ52及
び帰還補償回路網54を介して、加算接続点50の反転入力
へと供給される。同様にして、圧力センサー46の出力Ｐ
は、A/Dコンバータ56及び帰還補償回路網58を介して、
加算接続点50の反転入力へと供給されている。帰還補償
回路網54において、位置帰還信号Ｙは利得Kd及びラプラ
ス演算子“S"で乗算されるが、このような乗算は微分動
作を示すための標準的な技術である。同様に帰還補償回
路網58では、圧力センサー46の出力Ｐが、利得Kpを含む
係数（１＋Kp＊Ｓ）で乗算される。加算接続点50の出力
は、圧力コマンド入力Pcと、帰還補償回路網54,58のそ
れぞれにより変化された位置及び圧力帰還信号Y,Pの間
の差を表しており、積分器60へと供給されて、利得Keを
乗ぜられ、ラプラス演算子“S"で除算される。利得調節
回路網70は、位置帰還信号Ｙ及び圧力帰還信号Ｐを受け
取る入力を有し、また帰還補償回路網54,58及び積分器6
0に連結され、以下に説明するようにして利得Kp、Kd及
び／又はKeを選択的且つ適合するよう変化させる出力を
有している。
図）から受け取った圧力コマンド信号Pcは、制御エレク
トロニクス40内で加算接続点50の非反転入力へと供給さ
れる。位置センサー44の出力Ｙは、A/Dコンバータ52及
び帰還補償回路網54を介して、加算接続点50の反転入力
へと供給される。同様にして、圧力センサー46の出力Ｐ
は、A/Dコンバータ56及び帰還補償回路網58を介して、
加算接続点50の反転入力へと供給されている。帰還補償
回路網54において、位置帰還信号Ｙは利得Kd及びラプラ
ス演算子“S"で乗算されるが、このような乗算は微分動
作を示すための標準的な技術である。同様に帰還補償回
路網58では、圧力センサー46の出力Ｐが、利得Kpを含む
係数（１＋Kp＊Ｓ）で乗算される。加算接続点50の出力
は、圧力コマンド入力Pcと、帰還補償回路網54,58のそ
れぞれにより変化された位置及び圧力帰還信号Y,Pの間
の差を表しており、積分器60へと供給されて、利得Keを
乗ぜられ、ラプラス演算子“S"で除算される。利得調節
回路網70は、位置帰還信号Ｙ及び圧力帰還信号Ｐを受け
取る入力を有し、また帰還補償回路網54,58及び積分器6
0に連結され、以下に説明するようにして利得Kp、Kd及
び／又はKeを選択的且つ適合するよう変化させる出力を
有している。
積分器60の出力は、制限段62を介して最小選択段64へ
と供給されてる。これらの段62,64はまた、マスタコン
トローラ42から流れコマンド信号Qcを入力として受け取
る。制限段62は、積分器60からの入力に等しいところか
ら、流れコマンド信号Qcに対応する限界に至るまでの出
力を供給する。最小選択段64の出力は、当該段に対する
入力のうちより少ないものに従い、利得段66を介し、加
算接続点68の非反転入力において、位置制御サーボルー
プ67に対し位置コマンド信号Ycとして供給される。加算
接続点68の反転入力は、位置センサー44からの位置帰還
信号Ｙを受け取る。こうして加算接続点68の差動出力
は、弁スプール要素16（第１図）における位置エラーを
示す。進み回路網72は、主弁14及びサーボ弁38における
作動の遅れ、並びにデジタル的なサンプリングプロセス
により導入された遅れについて、この位置エラーを補償
する。補償された位置エラー信号は利得段74へと供給さ
れ、適当なバイアスが出力に対して加えられる。これに
より生成する信号は、パルス幅変調増幅器76を介して、
サーボ弁38のトルクモーターへと供給される。
と供給されてる。これらの段62,64はまた、マスタコン
トローラ42から流れコマンド信号Qcを入力として受け取
る。制限段62は、積分器60からの入力に等しいところか
ら、流れコマンド信号Qcに対応する限界に至るまでの出
力を供給する。最小選択段64の出力は、当該段に対する
入力のうちより少ないものに従い、利得段66を介し、加
算接続点68の非反転入力において、位置制御サーボルー
プ67に対し位置コマンド信号Ycとして供給される。加算
接続点68の反転入力は、位置センサー44からの位置帰還
信号Ｙを受け取る。こうして加算接続点68の差動出力
は、弁スプール要素16（第１図）における位置エラーを
示す。進み回路網72は、主弁14及びサーボ弁38における
作動の遅れ、並びにデジタル的なサンプリングプロセス
により導入された遅れについて、この位置エラーを補償
する。補償された位置エラー信号は利得段74へと供給さ
れ、適当なバイアスが出力に対して加えられる。これに
より生成する信号は、パルス幅変調増幅器76を介して、
サーボ弁38のトルクモーターへと供給される。
作動を行うに当たっては、制御エレクトロニクス40が
マスタコントローラ42から流れコマンド信号Qcを受け取
る。流れコマンド信号Qcは、主弁14の出力ポート24,26
において望ましい流体流量、これに対応するアクチュエ
ータ32内でのピストン34の速度、及びこれに直接に対応
する射出成形機12のキャビティ内への溶融プラスチック
の流量を示すものである。制御エレクトロニクス40はま
た同様に、金型キャビティ内において望ましい圧力を示
す圧力コマンド信号Pcを受け取る。（射出成形機におけ
る流動性物質の流れは、漏れを無視すれば、シャフト36
による直接の連接のゆえに、アクチュエータ32における
圧力流体の流れに対応し、また金型キャビティ内の流体
圧力は、圧力センサー46で検出された油圧流体の圧力に
直接に対応することが理解されるであろう。）制御エレ
クトロニクス40はコマンド信号Qc、Pc及び帰還信号Ｙ、
Ｐに応動して、圧力制御操作モードと流れ制御操作モー
ドの両者の間で選択を行い、相当する位置コマンド信号
Ycを位置制御サーボループ67へと供給する。
マスタコントローラ42から流れコマンド信号Qcを受け取
る。流れコマンド信号Qcは、主弁14の出力ポート24,26
において望ましい流体流量、これに対応するアクチュエ
ータ32内でのピストン34の速度、及びこれに直接に対応
する射出成形機12のキャビティ内への溶融プラスチック
の流量を示すものである。制御エレクトロニクス40はま
た同様に、金型キャビティ内において望ましい圧力を示
す圧力コマンド信号Pcを受け取る。（射出成形機におけ
る流動性物質の流れは、漏れを無視すれば、シャフト36
による直接の連接のゆえに、アクチュエータ32における
圧力流体の流れに対応し、また金型キャビティ内の流体
圧力は、圧力センサー46で検出された油圧流体の圧力に
直接に対応することが理解されるであろう。）制御エレ
クトロニクス40はコマンド信号Qc、Pc及び帰還信号Ｙ、
Ｐに応動して、圧力制御操作モードと流れ制御操作モー
ドの両者の間で選択を行い、相当する位置コマンド信号
Ycを位置制御サーボループ67へと供給する。
より詳しく述べると、最初にアクチュエータのピスト
ン34（第１図）及び射出成形機12の射出ラムが完全に引
っ込められた位置にあるとすれば、流体圧力Ｐは低く
（第３図）、積分器60において生ずる出力は高い。そこ
で流れコマンド信号Qcが最小選択段64において選択さ
れ、適当な利得を段66で得た後に、位置コマンド信号Yc
として加算接続点68へと供給される。かくして位置制御
サーボループ67はサーボ弁38及び主弁14を制御して、所
望とする一定の流量Qcに対応する弁スプール要素16（第
１図）のある一定の位置Ｙ（第３図）を得る。射出成形
機13の金型キャビティがプラスチックで満たされると、
背圧によってアクチュエータ32内でのピストン34の動き
が遅くなり、帰還圧力Ｐが急激に増加し始める（第３
図）。帰還補償回路網58において、圧力Ｐにはそれ自体
の微分値（Kp＊Ｓ）が加算される。圧力Ｐの大きさ及び
変化率の両者を示すことになるこの加算値が圧力コマン
ド信号Pcに近づくにつれ、積分器60の出力は減少する。
この出力が流れコマンド信号Qcよりも小さくなった場合
には、最小選択段64は圧力制御操作モードへと切り替わ
り、積分された圧力微分値を位置コマンド信号Ycとして
位置制御サーボループ67へと供給する。最小選択段64は
このようにして、圧力センサー46からの圧力帰還信号Ｐ
の大きさ及び変化率の関数として、サーボ弁38及び主弁
14における流れ制御操作モードと圧力制御操作モードの
間の選択を行う。圧力制御を行う目的から、電気油圧式
サーボシステム10（第１図）はリリーフ弁29において決
定される流体の供給圧力、圧縮下における有効容積、及
びシステム中での漏れによって本質的に規定されるもの
である。システム中での漏れは、一定であると想定でき
る。圧縮下における有効容積は、アクチュエータ32にお
ける流体及び射出成形機12における溶融プラスチックの
圧縮性効果をもたらすのと等しい容積として定義され
る。これらのパラメーターによって定義されるある所与
のシステムについて、望ましいシステム圧力制御を行う
ためには、利得Ke、Kd及びKpの特有の組み合わせが必要
である。利得Ke、Kd及びKpは利得調節回路網70によって
決定される。
ン34（第１図）及び射出成形機12の射出ラムが完全に引
っ込められた位置にあるとすれば、流体圧力Ｐは低く
（第３図）、積分器60において生ずる出力は高い。そこ
で流れコマンド信号Qcが最小選択段64において選択さ
れ、適当な利得を段66で得た後に、位置コマンド信号Yc
として加算接続点68へと供給される。かくして位置制御
サーボループ67はサーボ弁38及び主弁14を制御して、所
望とする一定の流量Qcに対応する弁スプール要素16（第
１図）のある一定の位置Ｙ（第３図）を得る。射出成形
機13の金型キャビティがプラスチックで満たされると、
背圧によってアクチュエータ32内でのピストン34の動き
が遅くなり、帰還圧力Ｐが急激に増加し始める（第３
図）。帰還補償回路網58において、圧力Ｐにはそれ自体
の微分値（Kp＊Ｓ）が加算される。圧力Ｐの大きさ及び
変化率の両者を示すことになるこの加算値が圧力コマン
ド信号Pcに近づくにつれ、積分器60の出力は減少する。
この出力が流れコマンド信号Qcよりも小さくなった場合
には、最小選択段64は圧力制御操作モードへと切り替わ
り、積分された圧力微分値を位置コマンド信号Ycとして
位置制御サーボループ67へと供給する。最小選択段64は
このようにして、圧力センサー46からの圧力帰還信号Ｐ
の大きさ及び変化率の関数として、サーボ弁38及び主弁
14における流れ制御操作モードと圧力制御操作モードの
間の選択を行う。圧力制御を行う目的から、電気油圧式
サーボシステム10（第１図）はリリーフ弁29において決
定される流体の供給圧力、圧縮下における有効容積、及
びシステム中での漏れによって本質的に規定されるもの
である。システム中での漏れは、一定であると想定でき
る。圧縮下における有効容積は、アクチュエータ32にお
ける流体及び射出成形機12における溶融プラスチックの
圧縮性効果をもたらすのと等しい容積として定義され
る。これらのパラメーターによって定義されるある所与
のシステムについて、望ましいシステム圧力制御を行う
ためには、利得Ke、Kd及びKpの特有の組み合わせが必要
である。利得Ke、Kd及びKpは利得調節回路網70によって
決定される。
流れ制御段階の終わり、即ちアクチュエータ32が完全
に移動されて射出成形機12の金型キャビティが満たされ
た場合から始めると、圧力Ｐは次式に従って増加する
（第３図）。
に移動されて射出成形機12の金型キャビティが満たされ
た場合から始めると、圧力Ｐは次式に従って増加する
（第３図）。
Ｖ＊（dP/dt）＝Ｂ＊Ｑ（ｔ） （１） 式中、Ｖはキャビティの容積、Ｂは油圧流体及び溶融
プラスチックの有効体積弾性率である。流量Ｑ（ｔ）は
弁スプール要素16の位置Ｙを用いて表すことができ、式
（１）を次のように書き直すことができる。
プラスチックの有効体積弾性率である。流量Ｑ（ｔ）は
弁スプール要素16の位置Ｙを用いて表すことができ、式
（１）を次のように書き直すことができる。
Ｖ＊（dP/dt）＝Ｋ＊（Ｙ−Yz）＊SQRT（Ps−Ｐ）
（２） 式中、Yzは弁スプール要素16の中央位置又はゼロ流れ
位置、Ｋは定数、Psは供給圧力、SQRTは平方根を示す。
式（２）は一次の近似として、主弁14の計量領域が中央
からの弁スプール要素の移動距離に比例することを仮定
するものである。弁スプール要素の位置Ｙは、制御エレ
クトロニクス40によって流れ制御操作モードが圧力制御
操作モードに切り替えられるまでは、圧力が増加するに
際して一定である（第３図）。
（２） 式中、Yzは弁スプール要素16の中央位置又はゼロ流れ
位置、Ｋは定数、Psは供給圧力、SQRTは平方根を示す。
式（２）は一次の近似として、主弁14の計量領域が中央
からの弁スプール要素の移動距離に比例することを仮定
するものである。弁スプール要素の位置Ｙは、制御エレ
クトロニクス40によって流れ制御操作モードが圧力制御
操作モードに切り替えられるまでは、圧力が増加するに
際して一定である（第３図）。
式（２）を積分すると次のようになる。
Ｋ＊（Ｙ−Yz）＊ｔ＝２＊Ｖ＊（SQRT（Ps−P1）− SQRT（Ps−Ｐ）） （３） SQRT（Ps−P1）という項は、第３図の時間t1におい
て、即ち圧力ＰがP1に等しく位置ＹがY1に等しい場合に
式（３）の解を求めることによって得られる定数であ
る。Ｎ個のサンプリング間隔の後に、即ち圧力ＰがP2に
等しくなる時間t2において、式（３）は次のようにな
る。
て、即ち圧力ＰがP1に等しく位置ＹがY1に等しい場合に
式（３）の解を求めることによって得られる定数であ
る。Ｎ個のサンプリング間隔の後に、即ち圧力ＰがP2に
等しくなる時間t2において、式（３）は次のようにな
る。
Ｖ＝K/2＊（Ｎ＊Ｔ＊（Ｙ−Yz））／ （SQRT（Ps−P1）−SQRT（Ps−P2）） （４） 式中、Ｔはサンプリング間隔の長さであり、即ちＮ＊
Ｔ＝（t2−t1）である。かくして実際のキャビティ容積
Ｖが決定される。弁スプール要素の位置Ｙがサンプリン
グ間隔（t2−t1）の間にY1からY2へと変化した場合、式
（４）においては平均の位置（Y1＋Y2）/2が使用され
る。
Ｔ＝（t2−t1）である。かくして実際のキャビティ容積
Ｖが決定される。弁スプール要素の位置Ｙがサンプリン
グ間隔（t2−t1）の間にY1からY2へと変化した場合、式
（４）においては平均の位置（Y1＋Y2）/2が使用され
る。
容積Ｖがこのようにして利得調節回路網70において式
（４）により一旦決定されたならば、それに従って利得
Kp、Kd及び／又はKeが適宜調節される。積分器の利得Ke
は本質的に容積Ｖと共に線形に増加し、弁スプール要素
の位置帰還利得Kdは容積Ｖが増加するにつれて逆に減少
し、そして圧力帰還利得Kpは容積Ｖが12:1の割合で変化
しても殆ど変化しないことが見出された。かくして本発
明の好ましい実施例においては、利得Ke、Kp及びKdは利
得調節回路網70において次のようにして調節される。
（４）により一旦決定されたならば、それに従って利得
Kp、Kd及び／又はKeが適宜調節される。積分器の利得Ke
は本質的に容積Ｖと共に線形に増加し、弁スプール要素
の位置帰還利得Kdは容積Ｖが増加するにつれて逆に減少
し、そして圧力帰還利得Kpは容積Ｖが12:1の割合で変化
しても殆ど変化しないことが見出された。かくして本発
明の好ましい実施例においては、利得Ke、Kp及びKdは利
得調節回路網70において次のようにして調節される。
Ke＝Ke1＊Vr Kp＝Kp1 Kd＝Kd1/Vr Vr＝V/V1 （５） 式中、Ke1,Kp1,Kd1及びV1は最初に設定された公称又
は設計値である。
は設計値である。
以上の如く本発明によれば、射出成形機等のキャビテ
ィの容積の関数として、操作の間にループの利得を自動
的に適切に調節することのできる電気油圧式サーボ制御
システムが提供される。従ってキャビティの容積が変化
しても、これに応じて例えば射出ラムからの溶融プラス
チックの流れなどを容易に自動的に最適化することがで
きる。また本発明によれば、流れ制御及び圧力制御とい
う別々の操作モードの間で自動的な適切な切り替えが行
われ、より改良された油圧流体の流れの適切な制御が行
われるものである。
ィの容積の関数として、操作の間にループの利得を自動
的に適切に調節することのできる電気油圧式サーボ制御
システムが提供される。従ってキャビティの容積が変化
しても、これに応じて例えば射出ラムからの溶融プラス
チックの流れなどを容易に自動的に最適化することがで
きる。また本発明によれば、流れ制御及び圧力制御とい
う別々の操作モードの間で自動的な適切な切り替えが行
われ、より改良された油圧流体の流れの適切な制御が行
われるものである。
最後に理解の便に資するため本発明の要約を記すと、
本発明は容積が定まっていないキャビティ内における圧
力を制御するための電気油圧式サーボシステムであっ
て、弁スプール要素と、周囲の弁本体内における弁スプ
ール要素の位置の関数として流体を供給するためのポー
トを有する主弁を含むものである。サーボ弁が電子的な
弁制御信号に応答して主弁本体内におけるパイロット圧
力を制御し、それにより弁スプール要素の位置を制御す
る。電子的な弁コントローラ即ち制御エレクトロニクス
が、遠隔のマスタコントローラからキャビティ容積内に
おける望ましい流体圧力の関数である圧力コマンド信号
を受け取り、また主弁の出力ポートに連結された圧力セ
ンサーからキャビティ容積内の流体圧力を示す圧力帰還
信号を受け取る。圧力コマンド信号は圧力制御操作モー
ドにおいて圧力帰還信号と比較され、サーボ弁に対する
弁制御信号を発生するために誤差又はエラー信号が用い
られる。弁スプール要素には第二のセンサーが連結され
ており、周囲の弁本体内における弁スプール要素の位置
の関数としての位置帰還信号を供給するようになってい
る。
本発明は容積が定まっていないキャビティ内における圧
力を制御するための電気油圧式サーボシステムであっ
て、弁スプール要素と、周囲の弁本体内における弁スプ
ール要素の位置の関数として流体を供給するためのポー
トを有する主弁を含むものである。サーボ弁が電子的な
弁制御信号に応答して主弁本体内におけるパイロット圧
力を制御し、それにより弁スプール要素の位置を制御す
る。電子的な弁コントローラ即ち制御エレクトロニクス
が、遠隔のマスタコントローラからキャビティ容積内に
おける望ましい流体圧力の関数である圧力コマンド信号
を受け取り、また主弁の出力ポートに連結された圧力セ
ンサーからキャビティ容積内の流体圧力を示す圧力帰還
信号を受け取る。圧力コマンド信号は圧力制御操作モー
ドにおいて圧力帰還信号と比較され、サーボ弁に対する
弁制御信号を発生するために誤差又はエラー信号が用い
られる。弁スプール要素には第二のセンサーが連結され
ており、周囲の弁本体内における弁スプール要素の位置
の関数としての位置帰還信号を供給するようになってい
る。
第１図は、現在のところ好ましい本発明の実施例による
サーボシステムの電気油圧的な概略のダイヤグラムであ
り； 第２図は、第１図に概略的に示されたシステムの機能ブ
ロックダイヤグラムであり；及び 第３図は、本発明の好ましい実施例の操作の理解に有用
なグラフである。 10……電気油圧式サーボシステム 12……射出成形機、14……主弁 16……弁スプール要素、18……弁本体 20,22……入力ポート、24,26……出力ポート 32……アクチュエータ、34……ピストン 36……シャフト、38……サーボ弁 40……制御エレクトロニクス 42……マスタコントローラ 44……位置センサー、46……圧力センサー 54,58……帰還補償回路網、60……積分器 62……制限段、64……最小選択段 66……利得段、67……位置制御サーボループ 70……利得調節回路網
サーボシステムの電気油圧的な概略のダイヤグラムであ
り； 第２図は、第１図に概略的に示されたシステムの機能ブ
ロックダイヤグラムであり；及び 第３図は、本発明の好ましい実施例の操作の理解に有用
なグラフである。 10……電気油圧式サーボシステム 12……射出成形機、14……主弁 16……弁スプール要素、18……弁本体 20,22……入力ポート、24,26……出力ポート 32……アクチュエータ、34……ピストン 36……シャフト、38……サーボ弁 40……制御エレクトロニクス 42……マスタコントローラ 44……位置センサー、46……圧力センサー 54,58……帰還補償回路網、60……積分器 62……制限段、64……最小選択段 66……利得段、67……位置制御サーボループ 70……利得調節回路網
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 昭62−170318（ＪＰ，Ａ) 特開 昭51−144887（ＪＰ，Ａ) 特開 昭62−151315（ＪＰ，Ａ) 特開 昭62−18233（ＪＰ，Ａ) 特開 昭63−81014（ＪＰ，Ａ) 特開 昭63−39314（ＪＰ，Ａ) 特開 昭58−103009（ＪＰ，Ａ) 特開 昭62−3637（ＪＰ，Ａ) 特開 昭62−177301（ＪＰ，Ａ) 特開 昭61−79003（ＪＰ，Ａ) 特開 昭58−170901（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.6，ＤＢ名) F15B 11/02 F15B 11/04 F15B 13/043 B29C 45/82
Claims (15)
- 【請求項１】容積が定まっていないキャビティ内の流体
圧力を制御するための電気油圧式サーボシステムにおい
て、 弁装置であって、 弁要素と、 該弁要素の位置の関数として、前記キャビティへと流体
を供給する手段と、 電子的な弁制御信号に応答して、前記弁要素の位置を制
御する手段と、 を含む弁装置と、 電子的弁制御手段であって、 前記キャビティ内の所望の流体圧力の関数として、圧力
コマンド信号Pcを供給する手段と、 前記弁装置に結合され、前記キャビティ内の流体圧力の
関数として、電子的な圧力帰還信号Ｐを供給する手段
と、 利得Kpの関数として、前記圧力帰還信号Ｐを変化させる
手段と、 前記圧力コマンド信号Pcと前記変化させた圧力帰還信号
Ｐの間の差に、利得Keを乗じた関数として、前記電子的
な弁制御信号を供給する手段と、 前記キャビティの容積Ｖを決定する手段と、 前記キャビティの容積の関数として、前記利得Keを変化
させる手段と、 を含む電子的弁制御手段と、 からなるシステム。 - 【請求項２】前記弁制御手段がさらに、前記弁要素の位
置の関数として電子的な位置帰還信号Ｙを供給するため
前記弁装置に連結された手段を含み、前記容積決定手段
は前記帰還信号Ｐ及びＹに応答してキャビティ容積を決
定する手段を含む、請求項１記載のシステム。 - 【請求項３】前記容積決定手段は、予め定められた時間
隔以上にわたる前記圧力帰還信号Ｐの変化の平方根で除
した、同じ時間隔以上にわたる前記位置帰還信号Ｙの変
化に応答する、請求項２記載のシステム。 - 【請求項４】前記弁制御手段はさらに、前記コマンド信
号Pcと、利得Kdを乗じた前記位置帰還信号Ｙの変化率と
の間の差の関数として前記弁制御信号を供給する手段を
含み、前記利得変化手段は前記利得Kdを前記容積Ｖの関
数として変化させる手段からなる、請求項３記載のシス
テム。 - 【請求項５】前記弁制御手段は公称利得Ke1,Kp1及びKd1
並びに公称キャビティ容積V1を確立する手段と、次式： Ke＝Ke1＊Vr Kp＝Kp1 Kd＝Kd1/Vr Vr＝V/V1 に従って前記利得Ke、Kp及びKdを設定する手段を含む、
請求項４記載のシステム。 - 【請求項６】前記弁制御手段はさらに、流れコマンド信
号Qcを供給する手段と、前記圧力コマンド信号Pcの前記
関数として第一の弁制御信号を供給する手段と、圧力制
御操作モードにおいて前記帰還信号Ｐ及びＹ並びに前記
利得Ke、Kd及びKpを供給する手段と、流れ制御操作モー
ドにおいて前記流れコマンド信号Qcの関数として第二の
弁制御信号を供給する手段と、前記圧力制御操作モード
と前記流れ制御操作モードの間で選択を行う手段を含
む、請求項５記載のシステム。 - 【請求項７】前記モード選択手段は前記第一及び第二の
弁制御信号のうちの小さな方の弁制御信号Ycを選択する
手段からなる、請求項６記載のシステム。 - 【請求項８】前記弁制御手段がさらに、前記小さな方の
弁制御信号Ycと前記位置帰還信号Ｙの間の差に応答する
手段を含む、請求項７記載のシステム。 - 【請求項９】射出成形機のキャビティ内への溶融プラス
チックの注入を制御する電気油圧式サーボシステムを含
む射出成形機において、前記システムが： 前記射出成形機へと供給される油圧流体の流量及び圧力
の関数として変化する流量及び圧力において前記キャビ
ティ内へ前記溶融プラスチックを注入するための手段
と、 弁要素と、与圧下に油圧流体源と連結する第一のポート
と、前記弁要素の位置の関数として前記注入手段へと油
圧流体を供給するために前記注入手段に連結された第二
のポートと、及び前記弁要素の位置を制御すべく電子的
な弁制御信号に応答する手段とを含む弁装置と、 前記注入手段への油圧流体の所望の圧力及び流れの関数
としての圧力及び流れコマンド信号を供給する手段と、
及び 前記圧力及び流れコマンド信号に応答して前記電子的な
弁制御信号を前記弁装置へと供給する制御手段とからな
り、該制御手段が： 前記弁要素の位置の関数として電子的位置帰還信号を供
給する手段と、 前記第二のポートにおける油圧流体の圧力の関数として
電子的圧力帰還信号を供給する手段と、 流れ制御操作モードにおいて前記流れコマンド信号と前
記位置帰還信号の間の差の関数として前記弁制御信号を
供給する手段と、 圧力制御操作モードにおいて前記圧力コマンド信号と前
記圧力帰還信号の間の差の関数として前記弁制御信号を
供給する手段であって、前記位置及び圧力帰還信号に応
答して前記キャビティの容積Ｖを決定する手段と、該容
積の予め定められた関数として、電子的サーボ制御ルー
プの利得を変化させる手段を含む、手段と、及び 前記流れ制御操作モードと前記圧力制御操作モードの間
で選択を行う手段と、 からなる射出成形機。 - 【請求項１０】前記選択手段は、前記第二のポートにお
ける流体の圧力の増加に応答して前記キャビティが満た
されたことを示し、前記制御手段を前記流れ制御操作モ
ードから圧力制御操作モードへと切り替える手段を含
む、請求項９記載の射出成形機。 - 【請求項１１】前記圧力制御操作モードにおいて前記弁
制御信号を供給する手段はさらに、前記圧力コマンド信
号と前記圧力帰還信号の変化率との間の差に応答する手
段を含む、請求項９記載の射出成形機。 - 【請求項１２】前記圧力制御操作モードにおいて前記弁
制御信号を供給する手段はさらに、前記圧力コマンド信
号と前記位置帰還信号の変化率との間の差に応答する手
段を含む、請求項11記載の射出成形機。 - 【請求項１３】前記圧力制御操作モードにおいて前記弁
制御信号を供給する手段は、前記コマンド信号、位置帰
還信号、圧力帰還信号、変化率信号及び電子的制御信号
の少なくとも幾つかに利得を乗ずる手段と、前記利得の
少なくとも幾つかを前記キャビティの関数として変化さ
せる手段を含む電子的サーボ制御ループを形成する手段
からなる、請求項12記載の射出成形機。 - 【請求項１４】前記圧力制御操作モードにおいて前記弁
制御信号を供給する手段は前記弁制御信号を式Ke（Pc−
Kd＊−Kp＊−Ｐ）の関数として供給する手段を含
み、式中Ke、Kd及びKpは前記利得、Pcは前記圧力コマン
ド信号、は位置帰還信号の変化率、Ｐは前記圧力帰還
信号、そしては前記圧力帰還信号の変化率である、請
求項13記載の射出成形機。 - 【請求項１５】前記利得変化手段は前記利得Ke、Kd及び
Kpを次式： Ke＝Ke1＊Vr Kp＝Kp1 Kd＝Kd1/Vr Vr＝V/V1 の関数として変化させる手段を含み、式中においてKe
1、Kp1及びKd1は利得Ke、Kp及びKdのそれぞれの予め定
められた公称値であり、V1は前記容積Ｖの予め定められ
た公称値である、請求項13記載の射出成形機。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US07/164,957 US4798527A (en) | 1988-03-07 | 1988-03-07 | Control system for injection molding machine |
| US164957 | 1988-03-07 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01283401A JPH01283401A (ja) | 1989-11-15 |
| JP2923299B2 true JP2923299B2 (ja) | 1999-07-26 |
Family
ID=22596818
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1053585A Expired - Lifetime JP2923299B2 (ja) | 1988-03-07 | 1989-03-06 | 電気油圧式サーボシステム |
Country Status (8)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4798527A (ja) |
| EP (1) | EP0332132B1 (ja) |
| JP (1) | JP2923299B2 (ja) |
| CN (1) | CN1023196C (ja) |
| AU (1) | AU603284B2 (ja) |
| CA (1) | CA1305644C (ja) |
| DE (1) | DE68909450T2 (ja) |
| ES (1) | ES2045221T3 (ja) |
Families Citing this family (25)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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