JP2919751B2 - 半導体集積回路装置 - Google Patents

半導体集積回路装置

Info

Publication number
JP2919751B2
JP2919751B2 JP23748094A JP23748094A JP2919751B2 JP 2919751 B2 JP2919751 B2 JP 2919751B2 JP 23748094 A JP23748094 A JP 23748094A JP 23748094 A JP23748094 A JP 23748094A JP 2919751 B2 JP2919751 B2 JP 2919751B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
integrated circuit
semiconductor integrated
power supply
voltage
line
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Lifetime
Application number
JP23748094A
Other languages
English (en)
Other versions
JPH08102518A (ja
Inventor
和夫 縣
健哉 飯口
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sanyo Denki Co Ltd
Original Assignee
Sanyo Denki Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Family has litigation
First worldwide family litigation filed litigation Critical https://patents.darts-ip.com/?family=17015957&utm_source=google_patent&utm_medium=platform_link&utm_campaign=public_patent_search&patent=JP2919751(B2) "Global patent litigation dataset” by Darts-ip is licensed under a Creative Commons Attribution 4.0 International License.
Application filed by Sanyo Denki Co Ltd filed Critical Sanyo Denki Co Ltd
Priority to JP23748094A priority Critical patent/JP2919751B2/ja
Publication of JPH08102518A publication Critical patent/JPH08102518A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP2919751B2 publication Critical patent/JP2919751B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Semiconductor Integrated Circuits (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、静電破壊耐量を向上さ
せたバイポーラ又はMOS型の半導体集積回路装置に関
する。
【0002】
【従来の技術】図5乃至図8は、従来の静電破壊防止用
の保護ダイオードを配設した集積回路を示す。電源線1
1と接地線12との間に内部回路13が接続され、その
内部回路13の信号線の入出力端子14のそれぞれに
は、電源線11及び接地線12に連通した保護ダイオー
ド15,16が配設されている。保護ダイオード15,
16は、通常のPN接合を用いたダイオードであり、こ
こで保護ダイオード15,16は、逆バイアス時には一
定電圧で降伏することにより、集積回路の内部回路13
を静電破壊から保護する目的で設けられたものである。
【0003】各図において符号17は直流電源であり、
スイッチ19を直流電源側に接続することによりコンデ
ンサ18に電荷をチャージする。次にスイッチ19を集
積回路側に接続することにより、コンデンサ18にチャ
ージされた電荷は、それぞれの信号線の端子14から集
積回路内部に入り内部回路13を通り放電される。静電
破壊試験は、集積回路の接地端子21を接地し、各信号
端子14に正又は負の電圧パルスを印加すること、また
電源端子20を接地し、各信号端子14のピンに正又は
負のパルスを印加することの計4通りの試験が行われ
る。
【0004】図5は、接地端子21を接地し、コンデン
サ18から正のパルス電圧を信号端子14に印加した場
合である。この場合は、内部回路13の耐圧が保護ダイ
オード16の降伏電圧よりも低いと、図示するように放
電電流は保護ダイオード15から内部回路13に入り、
接地線12を通り接地端子21から接地に流れる。
【0005】図6は、同様に接地端子21を接地し、負
の電圧パルスを信号端子14に印加した場合である。こ
の場合には、放電電流は接地端子21から接地線12を
通り保護ダイオード16が順方向であるので、信号端子
14からコンデンサ18に流れる。従って、この場合に
は放電電流は内部回路13を通らない。
【0006】図7は、電源端子20を接地し、正の電圧
パルスを信号端子14に印加した場合である。この場合
には、放電電流は保護ダイオード15が順方向であるの
で、信号端子14から保護ダイオード15、電源線11
を通り電源端子20から接地に流れる。従って、この場
合にも放電電流は内部回路13を通らない。
【0007】図8は、同様に電源端子20を接地し、負
の電圧パルスを信号端子14に印加した場合である。こ
の場合は、内部回路13の耐圧が保護ダイオード15の
降伏電圧よりも低いと、図示するように放電電流は電源
線11から内部回路13に入り、接地線12を通り保護
ダイオード16からコンデンサ18側に放電される。
【0008】以上の放電電流の流れ方で、図6及び図7
に示す放電電流の流れ方では、放電電流が内部回路13
を通らない。このため、放電電流の流れる保護ダイオー
ド15,16が適切に設計されていれば、静電破壊試験
において内部回路13が破壊されるという問題は起こら
ない。
【0009】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、図5及
び図8に示す場合には、順方向の保護ダイオード15,
16を通った放電電流は、集積回路の内部回路13を通
り放電される。この時に、内部回路13を構成する半導
体素子に破壊が生じる場合がある。特に、近年は微細加
工が進み、内部回路を構成する素子の破壊耐量が小さく
なってきたことにより、このモードの放電電流による静
電破壊が目立つようになってきた。
【0010】本発明は、上述の事情に鑑みて為されたも
のであり、上述のモードの静電破壊を防止することによ
り、静電破壊耐量を向上させた半導体集積回路装置を提
供することを目的とする。
【0011】
【課題を解決するための手段】本発明の半導体集積回路
装置は、電源線と接地線との間に内部回路が接続され、
該内部回路の信号線の入出力端子のそれぞれには前記電
源線及び接地線に連通した保護ダイオードが配設された
半導体集積回路装置において、前記電源線と接地線の間
に、電圧制限素子を付加したことを特徴とする。
【0012】
【作用】電源線と接地線の間に、電圧制限素子を接続し
たことから、静電破壊試験のパルス電流を内部回路をバ
イパスさせることができる。これによって内部回路の半
導体素子を静電破壊から保護することが可能となる。
【0013】
【実施例】以下、本発明の一実施例について図1乃至図
4を参照しながら説明する。尚、各図中同一符号は同一
又は相当部分を示す。
【0014】図1は、本発明の一実施例の集積回路の構
成を示す。電源線11と接地線12の間に内部回路13
が接続され、内部回路の信号線の入出力端子14のそれ
ぞれには、電源線11及び接地線12に連通した保護ダ
イオード15,16が配設されていることは従来と同様
である。本実施例の集積回路においては、内部回路13
をバイパスするために、電源線11と接地線12との間
に電圧制限素子22を接続している。
【0015】電圧制限素子22は、図2(A)に示すよ
うなツェナーダイオードであり、その降伏電圧を用いる
ことにより、任意の電圧に耐電圧を制限できる。又、
(B)に示すようなツェナーダイオードとトランジスタ
とを組み合わせた回路でもよく、更に又、(C)に示す
ようなトランジスタのコレクタエミッタ間逆方向降伏電
圧を用いたものでもよい。これらの電圧制限素子の耐圧
は、内部回路を構成する半導体素子の耐圧よりも低く設
定しなければならない。
【0016】図3乃至図4は、電圧制限素子22の動作
を説明するものである。図3に示す静電破壊試験におい
ては、接地端子21を接地し、信号端子14に正のパル
ス電圧を印加した場合を示す。この場合、内部回路13
の耐圧が保護ダイオード16の降伏電圧よりも低い素子
があると、放電電流は保護ダイオード15を通り、電源
線11を通り、電圧制限素子22を通り、接地に流れ
る。これは、電圧制限素子22がツェナーダイオードで
あり、この降伏電圧は、内部回路13のどの半導体素子
の耐圧よりも低く設定されているためである。
【0017】図4は、静電破壊試験において電源端子2
0を接地し、信号端子14に負のパルス電圧を印加した
場合である。この場合も放電電流は電圧制限素子22の
耐圧が内部回路13の半導体素子の耐圧よりも低いた
め、電圧制限素子22を通り接地線12を通り保護ダイ
オード16を通り、コンデンサ18に流れる。
【0018】なお、図6及び図7に示す、接地線12を
接地し、負の電圧パルスを印加した場合、及び電源線1
1を接地し、正の電圧パルスを印加した場合には、放電
電流は内部回路13には流れないので、従来技術に示し
たのと同様に問題を生じない。このようにして電圧制限
素子22を電源線11と接地線12の間に挿入すること
により、静電破壊試験の全てのパターンにおいて、放電
電流を内部回路13からバイパスさせることができる。
【0019】このように放電電流は内部回路を通らずに
放電経路が構成されるので、内部回路の半導体素子の破
壊を防ぐことが可能となる。電圧制限素子の付加は、パ
ターンの小変更のみで製造工程を全く変更することなく
行えるので、製造コストを上昇させることなく静電破壊
耐量の向上した半導体集積回路装置を簡単に製造するこ
とができる。
【0020】尚、上述の説明では、電圧制限素子の例と
してツェナーダイオード等を列挙したが、例示したもの
に限定されるものでなく、同等の機能を果たせるものな
らば何でもよいのは勿論のことである。
【0021】
【発明の効果】以上に説明したように本発明によれば、
電源線と接地線との間に電圧制限素子を接続することに
より、静電破壊試験における放電電流を内部回路からバ
イパスさせることができる。これにより、内部回路を構
成する半導体素子の破壊が防止され、静電破壊耐量を向
上させることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の一実施例の電圧制御素子を付加した集
積回路の回路図。
【図2】電圧制限素子の例を示し、(A)ツェナーダイ
オードを用いた例、(B)ツェナーダイオードとトラン
ジスタを組み合わせた例、(C)トランジスタのエミッ
タコレクタ接合の逆方向降伏電圧を利用した例を示す。
【図3】本発明の一実施例の半導体集積回路装置におけ
る静電破壊試験時の放電電流を示す回路図。
【図4】本発明の一実施例の半導体集積回路装置におけ
る静電破壊試験時の放電電流を示す回路図。
【図5】従来の半導体集積回路装置における静電破壊試
験時の放電電流を示す回路図。
【図6】従来の半導体集積回路装置における静電破壊試
験時の放電電流を示す回路図。
【図7】従来の半導体集積回路装置における静電破壊試
験時の放電電流を示す回路図。
【図8】従来の半導体集積回路装置における静電破壊試
験時の放電電流を示す回路図。

Claims (4)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 電源端子に電源線が接続され、接地端子
    に接地線が接続され、前記電源線と接地線との間に内部
    回路が接続され、該内部回路の信号線の入出力端子のそ
    れぞれには前記電源線及び接地線に連通した保護ダイオ
    ードが配設された半導体集積回路装置において、 前記電源線と接地線の間に、電圧制限素子を付加し、前
    記電源端子と接地端子のどちらか一方と前記入出力端子
    との間を、前記電圧制限素子と前記保護ダイオードとを
    経由して放電電流を流すことを可能ならしめたことを特
    徴とする半導体集積回路装置。
  2. 【請求項2】 前記電圧制限素子は、ツェナーダイオー
    ドを用いたものであることを特徴とする請求項1記載の
    半導体集積回路装置。
  3. 【請求項3】 前記電圧制限素子は、ツェナーダイオー
    ドとトランジスタとを組み合わせた回路を用いたもので
    あることを特徴とする請求項1記載の半導体集積回路装
    置。
  4. 【請求項4】 前記電圧制限素子は、トランジスタのエ
    ミッタコレクタ接合の降伏電圧を用いたものであること
    を特徴とする請求項1記載の半導体集積回路装置。
JP23748094A 1994-09-30 1994-09-30 半導体集積回路装置 Expired - Lifetime JP2919751B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP23748094A JP2919751B2 (ja) 1994-09-30 1994-09-30 半導体集積回路装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP23748094A JP2919751B2 (ja) 1994-09-30 1994-09-30 半導体集積回路装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH08102518A JPH08102518A (ja) 1996-04-16
JP2919751B2 true JP2919751B2 (ja) 1999-07-19

Family

ID=17015957

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP23748094A Expired - Lifetime JP2919751B2 (ja) 1994-09-30 1994-09-30 半導体集積回路装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2919751B2 (ja)

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2012004350A (ja) * 2010-06-17 2012-01-05 On Semiconductor Trading Ltd 半導体装置及びその製造方法

Also Published As

Publication number Publication date
JPH08102518A (ja) 1996-04-16

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP3566512B2 (ja) 静電気保護回路
US5465190A (en) Circuit and method for protecting power components against forward overvoltages
US5671111A (en) Apparatus for electro-static discharge protection in a semiconductor device
EP1356524B1 (en) Esd protection devices
JP4146795B2 (ja) 静電放電保護回路およびこの静電放電回路を備える差動増幅器
US5693973A (en) Protection structure of semiconductor integrated circuit
JPH03191612A (ja) 過電圧保護回路
US5654863A (en) Integrated circuit having a gate oxide
JP2919751B2 (ja) 半導体集積回路装置
US6154082A (en) Projection device against electrostatic discharges
US5965920A (en) Input protection circuit
JPH0327575A (ja) 半導体素子駆動回路
JP2004055583A (ja) 半導体集積回路装置
JP3100137B2 (ja) 半導体集積装置
JP3258869B2 (ja) 集積回路の静電気保護回路
JPH10214905A (ja) 信号入力回路
JPS63301558A (ja) 半導体集積回路装置
KR0174621B1 (ko) 반도체장치의 정전기 보호장치
KR100702834B1 (ko) 입력 보호 회로
JPH04109664A (ja) 静電気保護回路
JPS63276265A (ja) 半導体集積回路の入出力保護回路
JPH0510829B2 (ja)
JPH06178445A (ja) 半導体装置の入出力保護回路
JPH09116100A (ja) 保護回路
JPS60115253A (ja) 半導体集積回路装置