JP2918638B2 - チタン合金の電気メッキ法 - Google Patents
チタン合金の電気メッキ法Info
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Description
【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明は、電気メッキ、特にチタン及びチタンベース
の合金上にニッケル層の電気メッキを施す方法に関す
る。
の合金上にニッケル層の電気メッキを施す方法に関す
る。
[従来の技術] ルーベン(Ruben)に付与された米国特許第4,127,209
号及びターナー(Turner)に付与された米国特許第4,41
6,739号並びにテンプラノ(Temprano)に付与された米
国特許第4,787,962号は、総てチタン及びチタンベース
の合金上にニッケル層の電気メッキを施す方法を開示し
ている。ターナーは、基盤表面上に酸化膜が形成される
ため、チタン基盤と電気メッキを施されたニッケル層と
をしっかり付着させることは困難であると述べている。
この酸化膜を除去する為に、ターナーは、フッ化水素酸
及びホルムアミドを用いている。ルーベンは、基盤を硫
酸等の酸溶液中で陰極と接続することによって基盤上に
水素化チタン層を形成して、酸化膜を除去している。ま
た、テンプラノは基盤表面を95%の硫酸溶液で洗浄して
いる。その他の従来技術においては、酸化膜の除去に、
フッ化水素酸及び硝酸を含有する溶液を用いている。
号及びターナー(Turner)に付与された米国特許第4,41
6,739号並びにテンプラノ(Temprano)に付与された米
国特許第4,787,962号は、総てチタン及びチタンベース
の合金上にニッケル層の電気メッキを施す方法を開示し
ている。ターナーは、基盤表面上に酸化膜が形成される
ため、チタン基盤と電気メッキを施されたニッケル層と
をしっかり付着させることは困難であると述べている。
この酸化膜を除去する為に、ターナーは、フッ化水素酸
及びホルムアミドを用いている。ルーベンは、基盤を硫
酸等の酸溶液中で陰極と接続することによって基盤上に
水素化チタン層を形成して、酸化膜を除去している。ま
た、テンプラノは基盤表面を95%の硫酸溶液で洗浄して
いる。その他の従来技術においては、酸化膜の除去に、
フッ化水素酸及び硝酸を含有する溶液を用いている。
[発明が解決しようとする課題] さて、上述の方法は、ある種のチタン合金に対しては
有効な方法であるが、ガスタービン産業に使用するよう
なタイプの特殊なチタン合金には、有用でない。従っ
て、それぞれの用途に適合したチタン合金の開発ととも
に、これらの合金上にニッケル層の電気メッキを施す方
法が模索されている 従って、本発明の目的は、ガスタ
ービン産業等に使用する特殊なチタン合金の電気メッキ
法を提供することにある。
有効な方法であるが、ガスタービン産業に使用するよう
なタイプの特殊なチタン合金には、有用でない。従っ
て、それぞれの用途に適合したチタン合金の開発ととも
に、これらの合金上にニッケル層の電気メッキを施す方
法が模索されている 従って、本発明の目的は、ガスタ
ービン産業等に使用する特殊なチタン合金の電気メッキ
法を提供することにある。
[課題を解決するための手段] 上記目的を達成するために、本発明による耐火性金属
元素を含有するチタンベース合金上に、70%濃度のフッ
化水素酸およそ4乃至6容量%と、36乃至38%濃度の塩
酸94乃至96容量%から成る組成を有する溶液中で、組成
物の表面にエッチングを施す行程と、上記エッチングを
施した表面上にニッケル層の陰極メッキを施す工程を用
いて、ニッケル層の電気メッキを行う。
元素を含有するチタンベース合金上に、70%濃度のフッ
化水素酸およそ4乃至6容量%と、36乃至38%濃度の塩
酸94乃至96容量%から成る組成を有する溶液中で、組成
物の表面にエッチングを施す行程と、上記エッチングを
施した表面上にニッケル層の陰極メッキを施す工程を用
いて、ニッケル層の電気メッキを行う。
さらに詳細には、36乃至38%濃度の塩酸およそ94乃至
96容量%と、70%濃度のフッ化水素酸およそ4乃至6容
量%からなる組成を有する溶液中で、組成物表面を室温
にて、約10秒以上エッチング処理する工程と、70%濃度
のフッ化水素酸約11乃至15容量%と、氷酢酸81乃至85容
量%と、水2乃至6容量%から成る室温溶液中で、前記
組成物に陽極エッチングを施す工程と、前記表面上にニ
ッケル層の陰極メッキを施す工程から構成して、少なく
とも1重量%以上の耐火性金属元素を含有するチタンベ
ース合金の表面上にニッケル層の電気メッキを施す。
96容量%と、70%濃度のフッ化水素酸およそ4乃至6容
量%からなる組成を有する溶液中で、組成物表面を室温
にて、約10秒以上エッチング処理する工程と、70%濃度
のフッ化水素酸約11乃至15容量%と、氷酢酸81乃至85容
量%と、水2乃至6容量%から成る室温溶液中で、前記
組成物に陽極エッチングを施す工程と、前記表面上にニ
ッケル層の陰極メッキを施す工程から構成して、少なく
とも1重量%以上の耐火性金属元素を含有するチタンベ
ース合金の表面上にニッケル層の電気メッキを施す。
あるいは、同様の組成の溶液を用いて、同様の工程に
基づいて、ニッケル層を付着させる。ニッケル層付着時
に、エッチングは、36乃至38%濃度塩酸95容量%と、70
%濃度のフッ化水素酸5容量%を含有する溶液中で行っ
ても良い。
基づいて、ニッケル層を付着させる。ニッケル層付着時
に、エッチングは、36乃至38%濃度塩酸95容量%と、70
%濃度のフッ化水素酸5容量%を含有する溶液中で行っ
ても良い。
[作用] 上記のように構成された溶液によれば、粘着性のスマ
ットを形成せずに、耐火性金属元素を含有するチタンベ
ース合金の表面を十分に腐食洗浄し、ニッケル層の付着
を容易にする。
ットを形成せずに、耐火性金属元素を含有するチタンベ
ース合金の表面を十分に腐食洗浄し、ニッケル層の付着
を容易にする。
[実施例] 以下に、上記した本発明の特徴の詳細を、好適な実施
例において具体的に説明する。
例において具体的に説明する。
前述したように、本発明は、チタン及びチタンベース
の合金上にニッケル層の電気メッキを施す方法に関する
ものであるが、ここで“チタンベース”とは、合金を構
成する主要な元素がチタンであるような合金のことを指
している。
の合金上にニッケル層の電気メッキを施す方法に関する
ものであるが、ここで“チタンベース”とは、合金を構
成する主要な元素がチタンであるような合金のことを指
している。
本発明は、耐火性金属を含有するチタンベースの合金
にニッケルを電着する場合に特に適している。このよう
な合金には、限定されるものではないが、以下のような
組成のものが含まれる。即ち、Ti−3Al−2.5V、Ti−6Al
−4V、Ti−8Al−1V−IMO、Ti−6Al−2Sn−4Zr−6Mo及び
Ti−6Al−2Sn−4Zr−2Moである。
にニッケルを電着する場合に特に適している。このよう
な合金には、限定されるものではないが、以下のような
組成のものが含まれる。即ち、Ti−3Al−2.5V、Ti−6Al
−4V、Ti−8Al−1V−IMO、Ti−6Al−2Sn−4Zr−6Mo及び
Ti−6Al−2Sn−4Zr−2Moである。
本発明の特色は、電気メッキを施す前にチタン基盤の
表面を化学溶液で洗浄することにある。この化学溶液
は、基礎表面を腐食するため、結果的には、本工程は、
エッチング工程とも言える。
表面を化学溶液で洗浄することにある。この化学溶液
は、基礎表面を腐食するため、結果的には、本工程は、
エッチング工程とも言える。
腐食あるいは電気メッキの施されていない化合物(Ti
−8Al−1V−1Moの構成の合金)の一部を適当なマスク物
質でマスクする。この場合、ワックス及び高分子性の樹
脂が好適である。基盤表面に析出あるいは付着した汚染
物、油その他の残さは、濡らした軽石で拭き取った後に
乾燥した軽石で拭き取る。その後、基盤表面に酸化アル
ミニウムグリットを用いて蒸気噴射を行い、すすぐ。こ
の時、すすぎは水中で行うことが望ましい。さて、この
基盤を、70%濃度のフッ化水素酸を容量%で4乃至6
%、35乃至38%濃度の塩酸を容量%で94乃至96%の混合
比を有する組成の溶液に浸漬する。浸漬時間は、基盤表
面を洗浄し、腐食するのに十分でしかも過剰な腐食やピ
ットがないような期間とする。従って、およそ8乃至45
秒程度が良く、好適には、10乃至20秒とするのが望まし
い。最適浸漬時間は、およそ15秒とする。さて、基盤は
このフッ化水素酸(HF)−塩酸(HCl)浴から引き上
げ、水中ですすぐ。その後、基盤上に酸あるいはスマッ
トが残留しないように、脱イオン水でおよそ10秒間、超
音波洗浄を行う。
−8Al−1V−1Moの構成の合金)の一部を適当なマスク物
質でマスクする。この場合、ワックス及び高分子性の樹
脂が好適である。基盤表面に析出あるいは付着した汚染
物、油その他の残さは、濡らした軽石で拭き取った後に
乾燥した軽石で拭き取る。その後、基盤表面に酸化アル
ミニウムグリットを用いて蒸気噴射を行い、すすぐ。こ
の時、すすぎは水中で行うことが望ましい。さて、この
基盤を、70%濃度のフッ化水素酸を容量%で4乃至6
%、35乃至38%濃度の塩酸を容量%で94乃至96%の混合
比を有する組成の溶液に浸漬する。浸漬時間は、基盤表
面を洗浄し、腐食するのに十分でしかも過剰な腐食やピ
ットがないような期間とする。従って、およそ8乃至45
秒程度が良く、好適には、10乃至20秒とするのが望まし
い。最適浸漬時間は、およそ15秒とする。さて、基盤は
このフッ化水素酸(HF)−塩酸(HCl)浴から引き上
げ、水中ですすぐ。その後、基盤上に酸あるいはスマッ
トが残留しないように、脱イオン水でおよそ10秒間、超
音波洗浄を行う。
この時、基盤は、フッ化水素酸と氷酢酸と水を含有す
る溶液でエッチングしても良い。溶液組成としては、容
量%で11乃至15%の70%濃度のフッ化水素酸と、81乃至
85%の氷酢酸、2乃至6%の水とするのが望ましい。エ
ッチングは、陽極電極を用いておよそ6分間行う。次い
で、基盤をすすぎ、陰極電極を用いて、周知のスルファ
ミン酸ニッケル溶液内でメッキを行う。メッキ工程に
は、およそ30分必要である。その後、基盤を、空気中に
おいて約400℃で4時間加熱処理するのが望ましい。
る溶液でエッチングしても良い。溶液組成としては、容
量%で11乃至15%の70%濃度のフッ化水素酸と、81乃至
85%の氷酢酸、2乃至6%の水とするのが望ましい。エ
ッチングは、陽極電極を用いておよそ6分間行う。次い
で、基盤をすすぎ、陰極電極を用いて、周知のスルファ
ミン酸ニッケル溶液内でメッキを行う。メッキ工程に
は、およそ30分必要である。その後、基盤を、空気中に
おいて約400℃で4時間加熱処理するのが望ましい。
上記のメッキ工程を用いれば、およそ12乃至18ミクロ
ンの厚さのニッケル層を電気的に付着できる。加熱処理
後の層の結合強度は、ラップせん断標本によれば、475k
g/cm2以上となる。
ンの厚さのニッケル層を電気的に付着できる。加熱処理
後の層の結合強度は、ラップせん断標本によれば、475k
g/cm2以上となる。
従来の洗浄技術では、一般にTi−8Al−1V−1Mo基盤に
付着しないニッケル層が形成される。特に、およそ12容
量%の70%濃度のフッ化水素酸と1容量%の70%濃度の
硝酸を含むエッチング溶液を用いると、粘着性が大き
く、基盤表面から除去しにくいスマットが形成されるた
め、この溶液の使用は有用でない。フッ化水素酸−硝酸
溶液は、通常は、耐火性元素を含有しないチタン合金に
用いられており、成功を収めている。
付着しないニッケル層が形成される。特に、およそ12容
量%の70%濃度のフッ化水素酸と1容量%の70%濃度の
硝酸を含むエッチング溶液を用いると、粘着性が大き
く、基盤表面から除去しにくいスマットが形成されるた
め、この溶液の使用は有用でない。フッ化水素酸−硝酸
溶液は、通常は、耐火性元素を含有しないチタン合金に
用いられており、成功を収めている。
なお、上述した本発明の適応は、例示された実施例に
限られるものでなく、特許請求の範囲に述べた本発明の
主旨を逸脱しない範囲での総ての変形例において、実施
し得るものである。
限られるものでなく、特許請求の範囲に述べた本発明の
主旨を逸脱しない範囲での総ての変形例において、実施
し得るものである。
例えば、フッ化水素酸及び塩酸は、上述の70%濃度の
フッ化水素酸(HF)及び36乃至38%濃度の塩酸(HCl)
以外の濃度のものを用いることも可能である。溶液は、
得意な使用濃度に無関係に、70%濃度のHF4乃至6容量
%及び36乃至38%濃度のHCl94乃至96容量%を混合して
得られる組成を有するものとする。このような溶液のフ
ッ素イオン含量は、容易に従来のフッ素イオン特定電極
を用いて計測可能である。
フッ化水素酸(HF)及び36乃至38%濃度の塩酸(HCl)
以外の濃度のものを用いることも可能である。溶液は、
得意な使用濃度に無関係に、70%濃度のHF4乃至6容量
%及び36乃至38%濃度のHCl94乃至96容量%を混合して
得られる組成を有するものとする。このような溶液のフ
ッ素イオン含量は、容易に従来のフッ素イオン特定電極
を用いて計測可能である。
[発明の効果] 本発明の組成を有する溶液を使用すれば、ガスタービ
ン等に使用される耐火性金属元素を含有するチタン合金
の表面の腐食を効果的に行うことが可能であり、粘着性
のスマットの形成もなく、その結果、酸化膜の形成を防
いでニッケル層のメッキを施すことができ、かつ、付着
強度の高い層を得ることができる。
ン等に使用される耐火性金属元素を含有するチタン合金
の表面の腐食を効果的に行うことが可能であり、粘着性
のスマットの形成もなく、その結果、酸化膜の形成を防
いでニッケル層のメッキを施すことができ、かつ、付着
強度の高い層を得ることができる。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 コスタス ラウトシス アメリカ合衆国,コネチカット州,イー スト ハートフォード,ハックルベリー ロード 67 (56)参考文献 特開 昭61−87894(JP,A) 特開 昭61−170594(JP,A) 特開 昭61−110793(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.6,DB名) C25D 5/00 - 7/12 C23F 1/26 C25F 1/08
Claims (4)
- 【請求項1】70%濃度のフッ化水素酸約4乃至6容量%
と、36乃至38%濃度の塩酸94乃至96容量%から成る組成
を有する溶液中で、組成物の表面にエッチングを施す行
程を有し、 上記エッチングを施した表面上にニッケル層の陰極メッ
キを施すことを特徴とする、耐火性金属元素を含有する
チタンベース合金上に、ニッケル層の電気メッキを施す
方法。 - 【請求項2】36乃至38%濃度の塩酸約94乃至96容量%
と、70%濃度のフッ化水素酸約4乃至6容量%からなる
組成を有する溶液中で、組成物の表面に、室温にて、約
10秒以上エッチング処理を施す工程と、 70%濃度のフッ化水素酸約11乃至15容量%と、氷酢酸81
乃至85容量%と、水2乃至6容量%から成る組成を有す
る溶液中で、室温において、前記組成物に陽極エッチン
グを施す工程と、 前記表面上にニッケル層の陰極メッキを施す工程から構
成されることを特徴とする、少なくとも1重量%以上の
耐火性金属元素を含有するチタンベース合金の表面上に
ニッケル層の電気メッキを施す方法。 - 【請求項3】36乃至38%濃度の塩酸約94乃至96容量%
と、70%濃度のフッ化水素酸約4乃至6容量%から成る
組成を有する溶液中で、室温において、組成物の表面に
約10秒間以上エッチング処理を施す工程と、 70%濃度のフッ化水素酸約11乃至15容量%と、氷酢酸81
乃至85容量%と、水2乃至6容量%から成る組成を有す
る溶液中で、室温において、前記組成物の表面に陽極エ
ッチングを施す工程と、 前記エッチングを施した表面上にスルファミン酸ニッケ
ル溶液中でニッケル層の陰極メッキを施す工程から構成
されることを特徴とする、少なくとも1重量%以上の耐
火性金属元素を含有するチタンベース合金上にニッケル
層を付着させる方法。 - 【請求項4】前記エッチング工程が、36乃至38%濃度の
塩酸95容量%と、70%濃度のフッ化水素酸5容量%を含
有する溶液中で行われることを特徴とする、請求第3項
に記載の方法。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US375,231 | 1982-05-05 | ||
US07/375,231 US4902388A (en) | 1989-07-03 | 1989-07-03 | Method for electroplating nickel onto titanium alloys |
EP91630001A EP0494579B1 (en) | 1989-07-03 | 1991-01-08 | Method for electroplating nickel onto titanium alloys |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0347991A JPH0347991A (ja) | 1991-02-28 |
JP2918638B2 true JP2918638B2 (ja) | 1999-07-12 |
Family
ID=40158587
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2176106A Expired - Fee Related JP2918638B2 (ja) | 1989-07-03 | 1990-07-03 | チタン合金の電気メッキ法 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4902388A (ja) |
EP (2) | EP0407326A1 (ja) |
JP (1) | JP2918638B2 (ja) |
DE (1) | DE69126958T2 (ja) |
Families Citing this family (15)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
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JP2730620B2 (ja) * | 1994-07-05 | 1998-03-25 | ナシヨナル・サイエンス・カウンシル | イリジウム/パラジウム酸化物メッキ層を有するチタニウム電極の製法 |
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DE102005055303A1 (de) | 2005-11-21 | 2007-05-24 | Mtu Aero Engines Gmbh | Verfahren zur Vorbehandlung von Titanbauteilen zur nachfolgenden Beschichtung derselben |
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CN102787335B (zh) * | 2012-07-31 | 2015-04-08 | 沈阳理工大学 | 一种钛合金前处理方法 |
DE102015213162A1 (de) * | 2015-07-14 | 2017-01-19 | MTU Aero Engines AG | Verfahren zum galvanischen Beschichten von TiAl-Legierungen |
CN105506693A (zh) * | 2015-12-28 | 2016-04-20 | 上海交通大学 | 一种提高耐腐蚀性的表面镍涂层晶粒度调控方法 |
WO2018015009A1 (de) * | 2016-07-18 | 2018-01-25 | Ceramtec Gmh | Galvanische kupferabscheidung auf refraktärmetallisierungen |
CN114875408B (zh) * | 2022-05-23 | 2023-09-22 | 成都科宁达材料有限公司 | 一种选区激光熔化tc4合金基复合材料及其制备方法和应用 |
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