JP2915834B2 - 電気絶縁用懸垂碍子およびその製造方法 - Google Patents

電気絶縁用懸垂碍子およびその製造方法

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Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、引張強度および衝
撃強度に優れた電気絶縁用碍子およびその製造方法に関
するものである。
【0002】
【従来の技術】本出願人は、引張強度および衝撃強度に
優れた電気絶縁碍子の一例として、特公昭49−218
65号公報において、磁器素地よりなる懸垂碍子を、取
付金具とセメントで被覆される頭部と、この頭部以外の
笠部とに区分し、その頭部区分の表面に磁器素地の熱膨
張係数の36〜68%(常温〜800℃)の熱膨張係数
を有する釉薬層を、そして笠部区分表面には磁器素地の
熱膨張係数の71〜96%(常温〜800℃)の熱膨張
係数を有する釉薬層をそれぞれ具備してなる電気絶縁用
碍子を開示している。
【0003】図5は上述した従来の電気絶縁用碍子の一
例の構成を示す図である。図5において、懸垂碍子61
は、頭部62とこの頭部以外の笠部63とからなる同一
の磁器素地からなる磁器本体64を有している。頭部6
2の外側および内側の表面65に所定の頭部釉薬層66
を設けるとともに、笠部63の表面に所定の笠部釉薬層
67を設けている。外側の頭部釉薬層66上には、サン
ド層68、セメント層69を介して取付金具70を設け
ている。内側の頭部釉薬層66上には、サンド層68、
セメント層69を介してピン71を設けている。ピン7
1は、複数の懸垂碍子61を連結するために使用され
る。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】ところで、上述した図
5に示す電気絶縁用碍子では、磁器本体64の表面に2
つの異なる釉薬層すなわち頭部釉薬層66と笠部釉薬層
67とを連続して設ける必要があるが、頭部釉薬層66
と笠部釉薬層67との接合部において、図6(a)に示
すように両者の端部が重なり合ったり、図6(b)に示
すように両者の間に隙間ができることがあった。
【0005】図6(a)のように両者の端部が重なり合
うと、重なり合った部分ではサンド層68が埋まってし
まい、セメント層69との接着力が弱まり、その結果、
頭部62へ引張力が加わると取付金具70が抜け易くな
る問題があった。また、図6(b)のように両者の間に
薄肉部または隙間ができると、頭部62へ引張力が加わ
った場合、この薄肉部または隙間に最大引張力が加わ
り、この部分からクラックが発生し易くなる問題があっ
た。
【0006】本発明の目的は上述した課題を解消して、
引張強度および衝撃強度に優れた電気絶縁用碍子および
その製造方法を提供しようとするものである。
【0007】
【課題を解決するための手段】本発明の電気絶縁用碍子
は、磁器素地よりなる懸垂碍子を、取付金具とセメント
で被覆される頭部と、この頭部以外の笠部とに区分し、
その頭部区分の表面に頭部釉薬層を、そして笠部区分の
表面に笠部釉薬層をそれぞれ具備する電気絶縁用懸垂碍
子において、前記頭部釉薬層と笠部釉薬層との接合部分
を、前記頭部釉薬層と笠部釉薬層との先端に、それぞれ
の先端に向かって徐々に薄くなる接合部を形成し、この
接合部を重ねて構成することを特徴とするものである。
【0008】また、本発明の電気絶縁用碍子の製造方法
の第1発明は、上述した電気絶縁用懸垂碍子の製造方法
において、前記頭部釉薬層を前記頭部区分の外側に設け
るに当たり、前記頭部を下向きにオーバーフローディッ
ピング槽の釉薬中に所定の位置まで浸漬して引き上げる
ことにより、前記頭部区分の外側に前記頭部釉薬層を設
けたことを特徴とするものである。
【0009】さらに、本発明の電気絶縁用碍子の製造方
法の第2発明は、上述した電気絶縁用懸垂碍子の製造方
法において、前記頭部釉薬層を前記頭部区分の内側に設
けるに当たり、前記頭部を下向きにセットし;セットし
た頭部の内側に、釉薬の供給および吸引をするためのノ
ズルと釉薬面測定用の電極とを一体に設けた釉薬供給・
吸引装置を、上向きになった笠部の先端を基準としてセ
ットし;前記ノズルから頭部の内部に釉薬を供給し;供
給された釉薬の表面が前記電極と接触した時点を検知
し、検知と同時に前記ノズルからの釉薬の供給を中止
し;前記ノズルから頭部の内側に供給した釉薬を吸引し
て除去し;前記釉薬供給・吸引装置を前記頭部から退避
させることを特徴とするものである。
【0010】さらにまた、本発明の電気絶縁用碍子の製
造方法の第3発明は、上述した電気絶縁用懸垂碍子の製
造方法において、上述した電気絶縁用懸垂碍子の製造方
法において、前記笠部釉薬層を前記笠部区分に設けるに
当たり、釉薬供給用のノズルを、少なくとも頭部外側お
よび内側に設けた頭部釉薬層の端部より所定距離上側に
位置決めしてセットし、頭部を回転させると同時に前記
ノズルから釉薬を供給することにより、前記笠部区分に
前記笠部釉薬層を設けたことを特徴とするものである。
【0011】さらにまた、本発明の電気絶縁用碍子の製
造方法の第4発明は、上述した電気絶縁用懸垂碍子の製
造方法において、以下の工程を具備することを特徴とす
る電気絶縁碍子の製造方法; (1)頭部外側の施釉工程:前記頭部を下向きにオーバ
ーフローディッピング槽の釉薬中に所定の位置まで浸漬
して引き上げることにより、前記頭部区分の外側に前記
頭部釉薬層を設ける; (2)頭部内側の施釉工程:前記頭部を下向きにセット
し、セットした頭部の内側に、釉薬の供給および吸引を
するためのノズルと釉薬面測定用の電極とを一体に設け
た釉薬供給・吸引装置を、上向きになった笠部の先端を
基準としてセットし、前記ノズルから頭部の内部に釉薬
を供給し、供給された釉薬の表面が前記電極と接触した
時点を検知し、検知と同時に前記ノズルからの釉薬の供
給を中止し、前記ノズルから頭部の内側に供給した釉薬
を吸引して除去し、前記釉薬供給・吸引装置を前記頭部
から退避させる;および (3)笠部施釉工程:釉薬供給用のノズルを、少なくと
も頭部外側および内側に設けた頭部釉薬層の端部より所
定距離上側に位置決めしてセットし、頭部を回転させる
と同時に前記ノズルから釉薬を供給することにより、前
記笠部区分に前記笠部釉薬層を設ける。
【0012】上述した構成において、頭部釉薬層と笠部
釉薬層との先端に、それぞれの先端に向かって徐々に薄
くなる接合部すなわち断面がくさび型の接合部を形成
し、このくさび型の接合部を重ねて頭部釉薬層と笠部釉
薬層との接合部を構成することで、頭部釉薬層と笠部釉
薬層との接合部を頭部釉薬層または笠部釉薬層の厚さと
同一の厚さにすることができ、しかもこの接合部におけ
る隙間の発生は皆無になる。
【0013】上記接合部を製造するためには、頭部釉薬
層と笠部釉薬層との施釉時の端部の位置決め、および施
釉時における頭部釉薬層と笠部釉薬層の接合部に対応す
る部分の厚さの管理、すなわち先端ほど厚さが薄くなる
形状とする必要があり、その点は本発明の製造方法の第
1〜4発明を利用することで達成することができる。
【0014】
【発明の実施の形態】図1は本発明の電気絶縁用懸垂碍
子の一例の構成を示す図である。図1に示す例におい
て、懸垂碍子1は、頭部2とこの頭部以外の笠部3とか
らなる同一の磁器素地からなる磁器本体4を有してい
る。頭部2の外側および内側の表面5に所定の頭部釉薬
層6を設けるとともに、笠部3の表面に所定の笠部釉薬
層7を設けている。外側の頭部釉薬層6上には、サンド
層8、セメント層9を介して取付金具10を設けてい
る。内側の頭部釉薬層6上には、サンド層8、セメント
層9を介してピン11を設けている。ピン11は、複数
の懸垂碍子1を連結するために使用される。これらの構
成は従来の電気絶縁用懸垂碍子と同様である。
【0015】本発明の電気絶縁用懸垂碍子の構成におい
て重要なのは、図1において部分拡大図で示すように、
頭部2の外側および内側の両表面において、頭部釉薬層
6と笠部釉薬層7との接合構造を改良した点である。す
なわち、頭部釉薬層6と笠部釉薬層7との先端に、それ
ぞれの先端に向かって徐々に薄くなる接合部21および
22すなわち断面がくさび型の接合部を形成し、このく
さび型の接合部21および22を重ねて頭部釉薬層6と
笠部釉薬層7との接合部を構成している。
【0016】その結果、頭部釉薬層6と笠部釉薬層7と
の接合部を頭部釉薬層6または笠部釉薬層7の厚さと同
一の厚さにすることができ、サンド層8を均一に形成す
ることができる。そのため、取付金具10の脱落を防止
することができる。また、この接合部における隙間の発
生は皆無になり、接合部の隙間に起因するクラックの発
生もなくすことができる。
【0017】以下、本発明の電気絶縁用懸垂碍子の製造
方法の好適例について、工程毎に説明する。まず、磁器
本体4を準備する必要がある。この磁器本体4は、所定
組成の坏土を混練、成形、乾燥、焼成する従来と同様の
工程を経て得ることができる。次に、得られた磁器本体
4に対して、以下の工程を実施して最終的な電気絶縁用
懸垂碍子を得ている。
【0018】(1)頭部外側の施釉工程(図2:第1発
明):図2(a)に示すように、頭部2を下向きにオー
バーフローディッピング槽31の釉薬32中に所定の位
置まで浸漬して引き上げることにより、図2(b)に示
すように頭部2の外側にディッピングにより頭部釉薬層
6を設けている。ここで、オーバーフローディッピング
槽31を使用するのは、懸垂碍子1の頭部2が釉薬32
中へ浸漬しても釉薬32の液面は常に一定であるため、
頭部釉薬層6の端部の位置決めを正確に行うことができ
るためである。
【0019】このディッピングによる頭部外側の施釉工
程では、引き上げ時に頭部釉薬層6の端部から順に釉薬
32中から脱するため、釉薬32に浸漬している時間が
頭部釉薬層6の端部ほど短い。そのため、図2(b)に
示すように、先端に向かって徐々に薄くなるすなわち断
面がくさび型の頭部釉薬層6を得ることができる。
【0020】(2)頭部内側の施釉工程(図3:第2発
明):まず、図3(a)に示すように、頭部2を下向き
にセットし、セットした頭部の2内側に釉薬供給・吸引
装置41をセットする。この釉薬供給・吸引装置41
は、釉薬32の供給および吸引をするためのノズル42
と、釉薬32の液面測定用の電極43とを基板44に一
体に設けて構成されている。釉薬供給・吸引装置41の
セットは、基板44を上向きになった笠部7の先端と当
接させて、この先端を基準に行っている。そして、この
ように釉薬供給・吸引装置41をセットした状態で、電
極43の先端が、頭部内側の頭部釉薬層6の端部の位置
と対応する位置になる。
【0021】頭部2の内側の底部とノズル42の先端と
のクリアランスは、釉薬32の供給・吸引操作を完全に
行う観点から1〜2mmであることが好ましい。また、
図示していないが、ノズル42の先端に行くほど拡開し
たゴム等の弾性部材からなるフードを設けると、釉薬吸
引時に頭部2の底部の隅部に釉薬32が残りにくくなる
ため好ましい。
【0022】次に、図3(b)に示すように、ノズル4
2から頭部2の内部に釉薬32を供給する。そして、供
給された釉薬32の表面が電極43と接触した時点を、
電極43からの信号で図示しない制御装置が検知し、検
知と同時にノズル42からの釉薬32の供給を中止す
る。次に、図3(c)に示すように、ノズル42から頭
部2の内側に供給した釉薬32を吸引して除去し、頭部
2の内側に頭部釉薬層6を形成する。最後に、釉薬供給
・吸引装置41を頭部2から退避させる。
【0023】この釉薬供給・吸引装置41を使用したデ
ィッピングによる頭部内側の施釉工程では、釉薬供給・
吸引装置41による釉薬32の吸引時に、頭部釉薬層6
の端部から順に釉薬32中から脱するため、釉薬32に
浸漬している時間が頭部釉薬層6の端部ほど短い。その
ため、図3(c)に示すように、先端に向かって徐々に
薄くなるすなわち断面がくさび型の頭部釉薬層6を得る
ことができる。なお、ノズル42を介しての釉薬32の
供給操作および吸引操作はどのような手段で行っても良
いが、ポンプによる釉薬の供給・吸引操作を、ノズル4
2にゴム等からなる弾性部を設け、この弾性部の開閉を
シリンダーの駆動で行うよう構成すると好ましい。
【0024】(3)笠部施釉工程(図4:第3発明):
まず、図4に示すように、釉薬供給用のノズル51、5
2を、頭部2の外側および内側に設けた頭部釉薬層6の
端部より所定距離すなわち形成しようとする接合部の幅
だけ上側に位置決めしてセットする。そして、頭部2を
回転させると同時にノズル51、52から釉薬53を供
給することにより、笠部3に笠部釉薬層7を設ける。な
お、笠部3の形状は複雑であるため、ノズル51、52
以外に釉薬供給用のノズルを笠部3のひだの部分等に設
けると、より均一な笠部釉薬層7を得ることができる。
【0025】その結果、頭部釉薬層6と笠部釉薬層7と
の接合部21および22すなわち断面がくさび型の接合
部を重ねて形成して、頭部釉薬層6と笠部釉薬層7との
接合部を構成しているため、頭部釉薬層6と笠部釉薬層
7との接合部を頭部釉薬層6または笠部釉薬層7の厚さ
と同一の厚さにすることができる。
【0026】なお、本発明の第4発明は、上記製造方法
の第1発明〜第3発明のすべての工程を含む内容であ
り、ここではその説明を省略する。また、いずれの発明
においても、接合部の頭部釉薬層6と笠部釉薬層7との
重複部分の長さは特に限定するものでないが、10mm
以下であると好ましい。さらに、頭部釉薬層6および笠
部釉薬層7の厚さについても、従来と同様の例えば0.
4mm前後が好ましい。また、頭部釉薬層6を形成する
釉薬32および笠部釉薬層7を形成する釉薬53につい
ても、従来技術と同様、磁器素地の熱膨張係数の36〜
68%(常温〜800℃)の熱膨張係数を有する釉薬3
2と、磁器素地の熱膨張係数の71〜96%(常温〜8
00℃)の熱膨張係数を有する釉薬53とをそれぞれ使
用することが好ましい。
【0027】
【発明の効果】以上の説明から明らかなように、本発明
によれば、頭部釉薬層と笠部釉薬層との先端に、それぞ
れの先端に向かって徐々に薄くなる接合部すなわち断面
がくさび型の接合部を形成し、このくさび型の接合部を
重ねて頭部釉薬層と笠部釉薬層との接合部を構成してい
るため、頭部釉薬層と笠部釉薬層との接合部を頭部釉薬
層または笠部釉薬層の厚さと同一の厚さにすることがで
き、しかもこの接合部における隙間の発生は皆無にな
る。その結果、引張強度および衝撃強度に優れた電気絶
縁用碍子を得ることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の電気絶縁用懸垂碍子の一例の構成を示
す図である。
【図2】本発明の頭部外側の施釉工程の一例を示す図で
ある。
【図3】本発明の頭部内側の施釉工程の一例を示す図で
ある。
【図4】本発明の笠部施釉工程の一例を示す図である。
【図5】従来の電気絶縁用懸垂碍子の一例の構成を示す
図である。
【図6】従来の問題を説明するための図である。
【符号の説明】
1 懸垂碍子、2 頭部、3 笠部、4 磁器本体、5
表面、6 頭部釉薬層、7 笠部釉薬層、8 サンド
層、9 セメント層、10 取付金具、11 ピン、2
1、22 接合部、31 オーバーフローディッピン
グ、32 釉薬、41 釉薬供給・吸引装置、42 ノ
ズル、43 電極、44基板、51、52 ノズル、5
3 釉薬
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.6,DB名) H01B 17/02 B05D 1/36 B05D 5/06 101 H01B 17/38 H01B 19/00 301

Claims (5)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】磁器素地よりなる懸垂碍子を、取付金具と
    セメントで被覆される頭部と、この頭部以外の笠部とに
    区分し、その頭部区分の表面に頭部釉薬層を、そして笠
    部区分の表面に笠部釉薬層をそれぞれ具備する電気絶縁
    用懸垂碍子において、前記頭部釉薬層と笠部釉薬層との
    接合部分を、前記頭部釉薬層と笠部釉薬層との先端に、
    それぞれの先端に向かって徐々に薄くなる接合部を形成
    し、この接合部を重ねて構成することを特徴とする電気
    絶縁用懸垂碍子。
  2. 【請求項2】請求項1記載の電気絶縁用懸垂碍子の製造
    方法において、前記頭部釉薬層を前記頭部区分の外側に
    設けるに当たり、前記頭部を下向きにオーバーフローデ
    ィッピング槽の釉薬中に所定の位置まで浸漬して引き上
    げることにより、前記頭部区分の外側に前記頭部釉薬層
    を設けたことを特徴とする電気絶縁用懸垂碍子の製造方
    法。
  3. 【請求項3】請求項1記載の電気絶縁用懸垂碍子の製造
    方法において、前記頭部釉薬層を前記頭部区分の内側に
    設けるに当たり、前記頭部を下向きにセットし;セット
    した頭部の内側に、釉薬の供給および吸引をするための
    ノズルと釉薬面測定用の電極とを一体に設けた釉薬供給
    ・吸引装置を、上向きになった笠部の先端を基準として
    セットし;前記ノズルから頭部の内部に釉薬を供給し;
    供給された釉薬の表面が前記電極と接触した時点を検知
    し、検知と同時に前記ノズルからの釉薬の供給を中止
    し;前記ノズルから頭部の内側に供給した釉薬を吸引し
    て除去し;前記釉薬供給・吸引装置を前記頭部から退避
    させることを特徴とする電気絶縁用懸垂碍子の製造方
    法。
  4. 【請求項4】請求項1記載の電気絶縁用懸垂碍子の製造
    方法において、前記笠部釉薬層を前記笠部区分に設ける
    に当たり、釉薬供給用のノズルを、少なくとも頭部外側
    および内側に設けた頭部釉薬層の端部より所定距離上側
    に位置決めしてセットし、頭部を回転させると同時に前
    記ノズルから釉薬を供給することにより、前記笠部区分
    に前記笠部釉薬層を設けたことを特徴とする電気絶縁碍
    子の製造方法。
  5. 【請求項5】請求項1記載の電気絶縁用懸垂碍子の製造
    方法において、以下の工程を具備することを特徴とする
    電気絶縁碍子の製造方法; (1)頭部外側の施釉工程:前記頭部を下向きにオーバ
    ーフローディッピング槽の釉薬中に所定の位置まで浸漬
    して引き上げることにより、前記頭部区分の外側に前記
    頭部釉薬層を設ける; (2)頭部内側の施釉工程:前記頭部を下向きにセット
    し、セットした頭部の内側に、釉薬の供給および吸引を
    するためのノズルと釉薬面測定用の電極とを一体に設け
    た釉薬供給・吸引装置を、上向きになった笠部の先端を
    基準としてセットし、前記ノズルから頭部の内部に釉薬
    を供給し、供給された釉薬の表面が前記電極と接触した
    時点を検知し、検知と同時に前記ノズルからの釉薬の供
    給を中止し、前記ノズルから頭部の内側に供給した釉薬
    を吸引して除去し、前記釉薬供給・吸引装置を前記頭部
    から退避させる;および (3)笠部施釉工程:釉薬供給用のノズルを、少なくと
    も頭部外側および内側に設けた頭部釉薬層の端部より所
    定距離上側に位置決めしてセットし、頭部を回転させる
    と同時に前記ノズルから釉薬を供給することにより、前
    記笠部区分に前記笠部釉薬層を設ける。
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