JP2914342B2 - 集積回路装置の冷却構造 - Google Patents
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Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、集積回路装置の冷
却構造に関し、特に、エリアバンプ方式と呼ばれるフリ
ップチップやボールグリッドアレイ(BGA)パッケー
ジによって実装される集積回路装置にヒートシンクを取
り付け空気によって冷却する冷却構造に関する。
却構造に関し、特に、エリアバンプ方式と呼ばれるフリ
ップチップやボールグリッドアレイ(BGA)パッケー
ジによって実装される集積回路装置にヒートシンクを取
り付け空気によって冷却する冷却構造に関する。
【0002】
【従来の技術】従来この種の集積回路装置の冷却構造で
は、集積回路装置はその下面が配線基板の上面と対向す
るように搭載され、該集積回路装置の上面にヒートシン
クが取り付けられる。
は、集積回路装置はその下面が配線基板の上面と対向す
るように搭載され、該集積回路装置の上面にヒートシン
クが取り付けられる。
【0003】図6を参照すると、集積回路装置21の上
面にヒートシンク26が設けられている。ヒートシンク
26は集積回路装置21の上面と熱的に結合するよう固
着される。集積回路装置21で発生した熱はヒートシン
ク26へ伝わった後、空気中へ放出される。
面にヒートシンク26が設けられている。ヒートシンク
26は集積回路装置21の上面と熱的に結合するよう固
着される。集積回路装置21で発生した熱はヒートシン
ク26へ伝わった後、空気中へ放出される。
【0004】集積回路装置21の下面には信号の入出力
および電源の接続のために用いられる半田バンプ22が
形成されている。集積回路装置21は配線基板25に直
接搭載されるのではなく、半田バンプ22によってイン
ターポーザ基板23上に搭載されている。半田バンプ2
2のピッチが小さく、配線基板25に直接搭載すること
ができないためである。
および電源の接続のために用いられる半田バンプ22が
形成されている。集積回路装置21は配線基板25に直
接搭載されるのではなく、半田バンプ22によってイン
ターポーザ基板23上に搭載されている。半田バンプ2
2のピッチが小さく、配線基板25に直接搭載すること
ができないためである。
【0005】インターポーザ基板23の下面には半田ボ
ール24が設けられている。半田ボール24は配線基板
25に搭載可能なピッチで配置されている。インターポ
ーザ回路は半田ボール24によって配線基板25上に搭
載される。
ール24が設けられている。半田ボール24は配線基板
25に搭載可能なピッチで配置されている。インターポ
ーザ回路は半田ボール24によって配線基板25上に搭
載される。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】上述の従来技術では、
集積回路装置の動作速度や集積度の向上に伴う消費電力
の増加に対応できないという問題がある。集積回路装置
の消費電力の増加に対応するためにはヒートシンクを大
型化しなければならないが、冷却性能はヒートシンクの
大型化に比例して向上しないためである。また、集積回
路装置により大型のヒートシンクを取り付けるためには
該大型ヒートシンクに合わせて取り付け構造をも改良し
なければならないという問題がある。
集積回路装置の動作速度や集積度の向上に伴う消費電力
の増加に対応できないという問題がある。集積回路装置
の消費電力の増加に対応するためにはヒートシンクを大
型化しなければならないが、冷却性能はヒートシンクの
大型化に比例して向上しないためである。また、集積回
路装置により大型のヒートシンクを取り付けるためには
該大型ヒートシンクに合わせて取り付け構造をも改良し
なければならないという問題がある。
【0007】本発明の目的は、集積回路装置の動作速度
や集積度の向上に伴う消費電力の増加に対応できる集積
回路装置の冷却構造を提供することにある。
や集積度の向上に伴う消費電力の増加に対応できる集積
回路装置の冷却構造を提供することにある。
【0008】さらに、本発明の他の目的は、集積回路装
置の外形と等しいかまたは類似の搭載領域を占有するだ
けで十分な冷却効果が得られる集積回路装置の冷却構造
を提供することにある。
置の外形と等しいかまたは類似の搭載領域を占有するだ
けで十分な冷却効果が得られる集積回路装置の冷却構造
を提供することにある。
【0009】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に本発明のは、基板と、下面が前記基板の上面に対向す
るように搭載された集積回路装置と、前記基板の下面に
熱的に結合された放熱部材と、前記基板に設けられ前記
集積回路装置で発生した熱を伝達する貫通孔とを含む。
に本発明のは、基板と、下面が前記基板の上面に対向す
るように搭載された集積回路装置と、前記基板の下面に
熱的に結合された放熱部材と、前記基板に設けられ前記
集積回路装置で発生した熱を伝達する貫通孔とを含む。
【0010】また、本発明の他の集積回路装置の冷却構
造は、第1の基板と、下面が前記第1の基板の上面に対
向するように搭載された第2の基板と、下面が前記第2
の基板の上面に対向するように搭載された集積回路装置
と、前記第1の基板の下面に熱的に結合された放熱部材
と、前記第1の基板に設けられ前記集積回路装置で発生
した熱を伝達する貫通孔とを含む。
造は、第1の基板と、下面が前記第1の基板の上面に対
向するように搭載された第2の基板と、下面が前記第2
の基板の上面に対向するように搭載された集積回路装置
と、前記第1の基板の下面に熱的に結合された放熱部材
と、前記第1の基板に設けられ前記集積回路装置で発生
した熱を伝達する貫通孔とを含む。
【0011】さらに、本発明の他の集積回路装置の冷却
構造は、第1の基板と、下面が前記第1の基板の上面に
対向するように搭載された第2の基板と、下面が前記第
2の基板の上面に対向するように搭載された集積回路装
置と、前記第1の基板の下面に熱的に結合された第1の
放熱部材と、前記集積回路装置の上面に熱的に結合され
た第2の放熱部材と、前記第1の基板に設けられ前記集
積回路装置で発生した熱を伝達する貫通孔とを含む。
構造は、第1の基板と、下面が前記第1の基板の上面に
対向するように搭載された第2の基板と、下面が前記第
2の基板の上面に対向するように搭載された集積回路装
置と、前記第1の基板の下面に熱的に結合された第1の
放熱部材と、前記集積回路装置の上面に熱的に結合され
た第2の放熱部材と、前記第1の基板に設けられ前記集
積回路装置で発生した熱を伝達する貫通孔とを含む。
【0012】また、本発明の他の集積回路装置の冷却構
造は、前記第1の基板と前記第2の基板とを接続する接
続部材を含み、該接続部材は前記貫通孔とずらされて配
置されていることを特徴とする。
造は、前記第1の基板と前記第2の基板とを接続する接
続部材を含み、該接続部材は前記貫通孔とずらされて配
置されていることを特徴とする。
【0013】さらに、本発明の他の集積回路装置の冷却
構造は、前記第1の基板と前記第2の基板とを接続する
複数の接続部材を含み、前記複数のの接続部材は、前記
貫通孔とずらされて設けられた第1の接続部材と、前記
貫通孔と電気的に接続された第2の接続部材とを含む。
構造は、前記第1の基板と前記第2の基板とを接続する
複数の接続部材を含み、前記複数のの接続部材は、前記
貫通孔とずらされて設けられた第1の接続部材と、前記
貫通孔と電気的に接続された第2の接続部材とを含む。
【0014】また、本発明の他の集積回路装置の冷却構
造は、前記貫通孔には熱伝導部材が充填されていること
を特徴とする。
造は、前記貫通孔には熱伝導部材が充填されていること
を特徴とする。
【0015】
【発明の実施の形態】次に本発明の集積回路装置の冷却
構造の実施の形態について図面を参照して詳細に説明す
る。
構造の実施の形態について図面を参照して詳細に説明す
る。
【0016】図1を参照すると、本発明の集積回路装置
の冷却構造の第一の実施の形態は、配線基板5と、配線
基板5の上面に搭載された集積回路装置1と、集積回路
装置1に熱的に結合されたヒートシンク6と、配線基板
5の下面に熱的に結合されたヒートシンク9と、配線基
板5に設けられた放熱ヴィア7とを含む。
の冷却構造の第一の実施の形態は、配線基板5と、配線
基板5の上面に搭載された集積回路装置1と、集積回路
装置1に熱的に結合されたヒートシンク6と、配線基板
5の下面に熱的に結合されたヒートシンク9と、配線基
板5に設けられた放熱ヴィア7とを含む。
【0017】集積回路装置1の下面には複数の半田バン
プ2が設けられている。各半田バンプ2は集積回路装置
の信号の入出力や電源の接続のために設けられている。
半田バンプ2は配列ピッチが小さいため配線基板5の配
線パターンの微細化がバンプピッチに追いつかない場合
は集積回路装置を直接配線基板5に搭載することができ
ない。このため、インターポーザ基板3が集積回路装置
1と配線基板5との間に挿入される。
プ2が設けられている。各半田バンプ2は集積回路装置
の信号の入出力や電源の接続のために設けられている。
半田バンプ2は配列ピッチが小さいため配線基板5の配
線パターンの微細化がバンプピッチに追いつかない場合
は集積回路装置を直接配線基板5に搭載することができ
ない。このため、インターポーザ基板3が集積回路装置
1と配線基板5との間に挿入される。
【0018】インターポーザ基板3は、上面に集積回路
装置1が搭載され、下面が配線基板5の上面と対向する
ように配線基板5上に搭載されている。インターポーザ
基板3は、配線基板5に搭載可能なピッチで配置された
半田ボール4を有し、半田ボール4によって配線基板5
と接続される。インターポーザ基板3の両主面には配線
パターンが設けられており、この配線パターンによって
半田バンプ2と半田ボール4との間の電気的接続を行な
う。インターポーザ基板3の材料は、セラミックであ
る。より具体的には、アルミナや窒化アルミニウムであ
る。インターポーザ基板3の大きさは約5センチメート
ル四方である。集積回路装置1の半田バンプ2が直接配
線基板5のパターンに接続可能な場合はインターポーザ
基板3は不要となる。
装置1が搭載され、下面が配線基板5の上面と対向する
ように配線基板5上に搭載されている。インターポーザ
基板3は、配線基板5に搭載可能なピッチで配置された
半田ボール4を有し、半田ボール4によって配線基板5
と接続される。インターポーザ基板3の両主面には配線
パターンが設けられており、この配線パターンによって
半田バンプ2と半田ボール4との間の電気的接続を行な
う。インターポーザ基板3の材料は、セラミックであ
る。より具体的には、アルミナや窒化アルミニウムであ
る。インターポーザ基板3の大きさは約5センチメート
ル四方である。集積回路装置1の半田バンプ2が直接配
線基板5のパターンに接続可能な場合はインターポーザ
基板3は不要となる。
【0019】配線基板5は、複数の半田ボール4と対向
する位置に設けられた複数のパッドと、複数の放熱ヴィ
ア7と、内部配線とを含む。配線基板5の材料エポキシ
樹脂やポリイミド樹脂である。配線基板5の厚さは約3
〜3.5ミリメートルであり、大きさは約リード12〜
3センチメートル四方である。
する位置に設けられた複数のパッドと、複数の放熱ヴィ
ア7と、内部配線とを含む。配線基板5の材料エポキシ
樹脂やポリイミド樹脂である。配線基板5の厚さは約3
〜3.5ミリメートルであり、大きさは約リード12〜
3センチメートル四方である。
【0020】複数の放熱ヴィア7は集積回路装置1で発
生した熱を伝達する。各放熱ヴィア7は配線基板5を貫
通している。複数の放熱ヴィア7は格子状に配置されて
いる。より好ましくは、放熱ヴィア7は貫通孔に半田が
充填されて形成される。この場合、放熱ヴィア7に何も
充填されていない場合に比べ熱伝導特性をより向上させ
ることができる。各放熱ヴィア7の直径は、0.3〜
0.4ミリメートルである。各放熱ヴィア7はインター
ポーザ基板3に設けられた複数の半田ボール4の各々と
電気的に接続されないようにずらされて配置される。
生した熱を伝達する。各放熱ヴィア7は配線基板5を貫
通している。複数の放熱ヴィア7は格子状に配置されて
いる。より好ましくは、放熱ヴィア7は貫通孔に半田が
充填されて形成される。この場合、放熱ヴィア7に何も
充填されていない場合に比べ熱伝導特性をより向上させ
ることができる。各放熱ヴィア7の直径は、0.3〜
0.4ミリメートルである。各放熱ヴィア7はインター
ポーザ基板3に設けられた複数の半田ボール4の各々と
電気的に接続されないようにずらされて配置される。
【0021】ヒートシンク6は、集積回路装置1の半田
バンプ2が形成された面と反対の面に取り付けられる。
取付手段としては、エポキシ樹脂やシリコーン樹脂に金
属酸化物等の熱伝導性充填材粒子を混入した接着剤、半
田などの低融点金属が用いられる。またバネやネジによ
る力でヒートシンクを半導体素子1に押し付けるように
してもよい。この場合、ヒートシンク6と集積回路装置
1との接触面にグリース状の熱伝導物質を塗布するとヒ
ートシンクと集積回路装置1との熱的な結合をより強固
にすることができる。
バンプ2が形成された面と反対の面に取り付けられる。
取付手段としては、エポキシ樹脂やシリコーン樹脂に金
属酸化物等の熱伝導性充填材粒子を混入した接着剤、半
田などの低融点金属が用いられる。またバネやネジによ
る力でヒートシンクを半導体素子1に押し付けるように
してもよい。この場合、ヒートシンク6と集積回路装置
1との接触面にグリース状の熱伝導物質を塗布するとヒ
ートシンクと集積回路装置1との熱的な結合をより強固
にすることができる。
【0022】配線基板5の集積回路装置1が搭載された
面と反対の面には放熱パッド8が設けられる。放熱パッ
ドは8は配線基板5の集積回路装置1が搭載されていな
い面上の配線パターンと同様に形成され、少なくとも複
数の放熱ヴィア7を包含する大きさが必要である。
面と反対の面には放熱パッド8が設けられる。放熱パッ
ドは8は配線基板5の集積回路装置1が搭載されていな
い面上の配線パターンと同様に形成され、少なくとも複
数の放熱ヴィア7を包含する大きさが必要である。
【0023】ヒートシンク9は放熱パッド8上にヒート
シンク6と同様の方法で固着される。
シンク6と同様の方法で固着される。
【0024】図2を参照すると、集積回路装置1から発
生した熱は第1の伝達径路Aおよび第2の伝達経路Bに
よって放熱される。
生した熱は第1の伝達径路Aおよび第2の伝達経路Bに
よって放熱される。
【0025】第1の伝達経路は、集積回路装置1とヒー
トシンク6とからなる。集積回路装置1で発生した熱
は、集積回路装置1内を伝導して集積回路装置1の上面
からヒートシンク6に伝わり、ヒートシンク6から空気
中に放出される。
トシンク6とからなる。集積回路装置1で発生した熱
は、集積回路装置1内を伝導して集積回路装置1の上面
からヒートシンク6に伝わり、ヒートシンク6から空気
中に放出される。
【0026】第2の伝達経路は、集積回路装置1、半田
バンプ2、インターポーザ基板3、半田ボール4、放熱
ヴィア7、配線基板5、放熱パッド8およびヒートシン
ク9からなる。すなわち、集積回路装置1で発生した熱
は、半田バンプ2を経由してインターポーザ基板3に伝
わり、さらに半田ボール4を経て配線基板5および放熱
ヴィア7に伝わる。配線基板5および放熱ヴィア7に伝
導された熱は、それらを介して放熱パッド8へ伝達され
ヒートシンク9に伝わって空気中に放出される。
バンプ2、インターポーザ基板3、半田ボール4、放熱
ヴィア7、配線基板5、放熱パッド8およびヒートシン
ク9からなる。すなわち、集積回路装置1で発生した熱
は、半田バンプ2を経由してインターポーザ基板3に伝
わり、さらに半田ボール4を経て配線基板5および放熱
ヴィア7に伝わる。配線基板5および放熱ヴィア7に伝
導された熱は、それらを介して放熱パッド8へ伝達され
ヒートシンク9に伝わって空気中に放出される。
【0027】このように、本実施の形態では、集積回路
装置1が搭載された配線基板5の該集積回路装置1の搭
載面と反対の面にヒートシンク9を設け、配線基板5の
ヒートシンク9が搭載された領域に複数の放熱ヴィア7
を設けたため、集積回路装置1からヒートシンク9へ配
線基板5を介して熱が伝達するときの熱抵抗をより小さ
くすることができる。
装置1が搭載された配線基板5の該集積回路装置1の搭
載面と反対の面にヒートシンク9を設け、配線基板5の
ヒートシンク9が搭載された領域に複数の放熱ヴィア7
を設けたため、集積回路装置1からヒートシンク9へ配
線基板5を介して熱が伝達するときの熱抵抗をより小さ
くすることができる。
【0028】また、本実施の形態では、集積回路装置1
の配線基板5と対向する面と反対の面にもヒートシンク
6を設け、集積回路装置1およびヒートシンク6からな
る第1の伝達経路Aと、集積回路装置1、半田バンプ
2、インターポーザ基板3、半田ボール4、放熱ヴィア
7、配線基板5、放熱パッド8およびヒートシンク9か
らなる第2の伝達経路とを形成した。このため、集積回
路装置の動作速度や集積度の向上に伴う消費電力の増加
に対応できる。
の配線基板5と対向する面と反対の面にもヒートシンク
6を設け、集積回路装置1およびヒートシンク6からな
る第1の伝達経路Aと、集積回路装置1、半田バンプ
2、インターポーザ基板3、半田ボール4、放熱ヴィア
7、配線基板5、放熱パッド8およびヒートシンク9か
らなる第2の伝達経路とを形成した。このため、集積回
路装置の動作速度や集積度の向上に伴う消費電力の増加
に対応できる。
【0029】本実施の形態では配線基板5とヒートシン
ク9との間に放熱パッド8を設ける構成としたが、放熱
パッド8は設けなくてもよい。このとき、ヒートシンク
9は配線基板5上に直接設けられる。
ク9との間に放熱パッド8を設ける構成としたが、放熱
パッド8は設けなくてもよい。このとき、ヒートシンク
9は配線基板5上に直接設けられる。
【0030】また、本実施の形態では、複数の放熱ヴィ
ア7の各々と複数の半田ボール4の各々とをずらしては
位置するよう構成したが、複数の放熱ヴィア7が半田ボ
ール4と電気的に接続されるものを含むよう構成しても
よい。より好ましい形態では、半田ボール4と電気的に
接続された放熱ヴィアは、電源またはGND用の電極と
して用いられる。
ア7の各々と複数の半田ボール4の各々とをずらしては
位置するよう構成したが、複数の放熱ヴィア7が半田ボ
ール4と電気的に接続されるものを含むよう構成しても
よい。より好ましい形態では、半田ボール4と電気的に
接続された放熱ヴィアは、電源またはGND用の電極と
して用いられる。
【0031】次に、本発明の第二の実施の形態につい
て、図面を参照して詳細に説明する。この第二の実施の
形態の特徴は集積回路装置がボールグリッドアレイ(B
GA)パッケージに実装されている点にある。その他の
構成は第一の実施の形態のものと同様である。
て、図面を参照して詳細に説明する。この第二の実施の
形態の特徴は集積回路装置がボールグリッドアレイ(B
GA)パッケージに実装されている点にある。その他の
構成は第一の実施の形態のものと同様である。
【0032】図3を参照すると、集積回路装置10はB
GAパッケージ11に実装されている。集積回路装置1
0は回路面と反対の面がBGAパッケージ11の上面と
対向するように搭載されている。集積回路装置10の回
路面の入出力端子とBGAパッケージ11の上面の電極
とがワイヤボンディングにより接続されている。集積回
路装置10は樹脂で封止されている。
GAパッケージ11に実装されている。集積回路装置1
0は回路面と反対の面がBGAパッケージ11の上面と
対向するように搭載されている。集積回路装置10の回
路面の入出力端子とBGAパッケージ11の上面の電極
とがワイヤボンディングにより接続されている。集積回
路装置10は樹脂で封止されている。
【0033】半田ボール12はBGAパッケージ11の
下面に設けられ、BGAパッケージ11と配線基板13
とを電気的に接続する。ヒートシンク16はBGAパッ
ケージ11の上に熱的に結合されるよう固着される。ヒ
ートシンク16およびヒートシンク17の外形はBGA
パッケージ11の外形と等しいかまたは類似の大きさを
有する。放熱ヴィア14および放熱パッド15が設けら
れた領域の大きさもBGAパッケージ11の外形と等し
いかまたは類似の大きさである。
下面に設けられ、BGAパッケージ11と配線基板13
とを電気的に接続する。ヒートシンク16はBGAパッ
ケージ11の上に熱的に結合されるよう固着される。ヒ
ートシンク16およびヒートシンク17の外形はBGA
パッケージ11の外形と等しいかまたは類似の大きさを
有する。放熱ヴィア14および放熱パッド15が設けら
れた領域の大きさもBGAパッケージ11の外形と等し
いかまたは類似の大きさである。
【0034】図4を参照すると、集積回路装置1から発
生した熱は第1の伝達径路Cおよび第2の伝達経路Dに
よって放熱される。
生した熱は第1の伝達径路Cおよび第2の伝達経路Dに
よって放熱される。
【0035】第1の伝達経路Cでは、集積回路装置10
で発生した熱はBGAパッケージ11の封止樹脂を介し
てヒートシンク16に伝わり、そこから空気中に放出さ
れる。
で発生した熱はBGAパッケージ11の封止樹脂を介し
てヒートシンク16に伝わり、そこから空気中に放出さ
れる。
【0036】第2の伝達経路Dでは、集積回路装置10
で発生した熱は集積回路装置10内部とBGAパッケー
ジ11とを伝導したのち半田ボール12を経由して配線
基板13および放熱ヴィア14に伝わる。配線基板13
および放熱ヴィア14に伝導された熱は、これらを介し
て放熱パッド15へ伝達されヒートシンク17に伝わっ
て空気中に放出される。
で発生した熱は集積回路装置10内部とBGAパッケー
ジ11とを伝導したのち半田ボール12を経由して配線
基板13および放熱ヴィア14に伝わる。配線基板13
および放熱ヴィア14に伝導された熱は、これらを介し
て放熱パッド15へ伝達されヒートシンク17に伝わっ
て空気中に放出される。
【0037】このように、本実施の形態では、集積回路
装置10が搭載されたBGAパッケージ11の上面に設
けられたヒートシンク16と、配線基板5のBGAパッ
ケージ11が搭載された面と反対の面に設けられたヒー
トシンク17と、配線基板5のヒートシンク17が搭載
された領域に設けられた複数の放熱ヴィア14とを有す
るため、冷却径路が増えるとともに熱抵抗をより小さく
することができる。このため、BGAパッケージ11の
外形と等しいかまたは類似の搭載領域を占有するだけ
で、BGAパッケージ11に搭載された集積回路装置1
0を十分に冷却させることができる。
装置10が搭載されたBGAパッケージ11の上面に設
けられたヒートシンク16と、配線基板5のBGAパッ
ケージ11が搭載された面と反対の面に設けられたヒー
トシンク17と、配線基板5のヒートシンク17が搭載
された領域に設けられた複数の放熱ヴィア14とを有す
るため、冷却径路が増えるとともに熱抵抗をより小さく
することができる。このため、BGAパッケージ11の
外形と等しいかまたは類似の搭載領域を占有するだけ
で、BGAパッケージ11に搭載された集積回路装置1
0を十分に冷却させることができる。
【0038】次に、本発明の第三の実施の形態につい
て、図面を参照して詳細に説明する。この第三の実施の
形態の特徴はマルチチップモジュール(MCM)に上記
第1および第2の実施の形態を適用した点にある。
て、図面を参照して詳細に説明する。この第三の実施の
形態の特徴はマルチチップモジュール(MCM)に上記
第1および第2の実施の形態を適用した点にある。
【0039】図5を参照すると、MCM100は、配線
基板20上にマイクロプロセッサチップ18およびキャ
ッシュメモリチップ19が搭載されて構成されている。
基板20上にマイクロプロセッサチップ18およびキャ
ッシュメモリチップ19が搭載されて構成されている。
【0040】マイクロプロセッサチップ18は入出力信
号数が比較的多いため、フリップチップにより実装され
る。マイクロプロセッサチップ18を冷却する冷却構造
は上記第1の実施例を適用するのが好ましい。
号数が比較的多いため、フリップチップにより実装され
る。マイクロプロセッサチップ18を冷却する冷却構造
は上記第1の実施例を適用するのが好ましい。
【0041】キャッシュメモリチップ19は量産品を使
用するため標準パッケージであるBGAパッケージを用
いて実装される。キャッシュメモリチップ19を冷却す
る冷却構造は上記第2の実施例が適用できる。
用するため標準パッケージであるBGAパッケージを用
いて実装される。キャッシュメモリチップ19を冷却す
る冷却構造は上記第2の実施例が適用できる。
【0042】MCM100が実装される情報処理装置が
高性能化されるのに伴って集積回路装置の動作速度が向
上されたり高集積化されることにより、マイクロプロセ
ッサチップ18では数ワットから30ワット、キャッシ
ュメモリチップ19でも1ワット以上の電力を消費する
ことがある。本発明では、これらの熱を効率的に除去す
ることができる。
高性能化されるのに伴って集積回路装置の動作速度が向
上されたり高集積化されることにより、マイクロプロセ
ッサチップ18では数ワットから30ワット、キャッシ
ュメモリチップ19でも1ワット以上の電力を消費する
ことがある。本発明では、これらの熱を効率的に除去す
ることができる。
【0043】また、本発明では、マイクロプロセッサチ
ップ18やキャッシュメモリチップ19の上面およびこ
れらが搭載された配線基板20のマイクロプロセッサチ
ップ18およびキャッシュメモリチップ19が搭載され
た面と反対の面にそれぞれヒートシンクを設けたため、
より大型のヒートシンクを採用する必要がなくなり、こ
の結果、より大型のヒートシンクを取り付けるためにM
CM100上の各チップの配置を変更させずに済むとい
う効果がある。
ップ18やキャッシュメモリチップ19の上面およびこ
れらが搭載された配線基板20のマイクロプロセッサチ
ップ18およびキャッシュメモリチップ19が搭載され
た面と反対の面にそれぞれヒートシンクを設けたため、
より大型のヒートシンクを採用する必要がなくなり、こ
の結果、より大型のヒートシンクを取り付けるためにM
CM100上の各チップの配置を変更させずに済むとい
う効果がある。
【0044】本実施例では、配線基板5のみに放熱ヴィ
ア7を設ける構成としたが、インターポーザ基板3にも
放熱ヴィアを設けるようにしてもよい。
ア7を設ける構成としたが、インターポーザ基板3にも
放熱ヴィアを設けるようにしてもよい。
【0045】
【発明の効果】以上の説明で明らかなように、本発明で
は、集積回路装置が搭載された配線基板の該集積回路装
置の搭載面と反対の面にヒートシンクを設け、配線基板
の該ヒートシンクが搭載された領域に複数の放熱ヴィア
を設けるようにしたため、集積回路装置からヒートシン
クへ配線基板を介して熱が伝達するときの熱抵抗を小さ
くすることができる。
は、集積回路装置が搭載された配線基板の該集積回路装
置の搭載面と反対の面にヒートシンクを設け、配線基板
の該ヒートシンクが搭載された領域に複数の放熱ヴィア
を設けるようにしたため、集積回路装置からヒートシン
クへ配線基板を介して熱が伝達するときの熱抵抗を小さ
くすることができる。
【0046】また、本発明は、集積回路装置から発生し
た熱を除去する経路として、集積回路装置またはそれを
収容したパッケージに熱的に結合された第1のヒートシ
ンクから放熱する第1の熱の伝達経路と、集積回路装置
を搭載した配線基板の該集積回路装置の搭載面と反対の
面に熱的に結合された第2のヒートシンクから放熱する
第2の熱の伝達経路とが形成され、全体の放熱量が増大
する。この結果、集積回路装置で発生した熱を有効に除
去でき、集積回路装置の動作速度や集積度の向上に伴う
消費電力の増大に対応できるという効果も本発明にはあ
る。
た熱を除去する経路として、集積回路装置またはそれを
収容したパッケージに熱的に結合された第1のヒートシ
ンクから放熱する第1の熱の伝達経路と、集積回路装置
を搭載した配線基板の該集積回路装置の搭載面と反対の
面に熱的に結合された第2のヒートシンクから放熱する
第2の熱の伝達経路とが形成され、全体の放熱量が増大
する。この結果、集積回路装置で発生した熱を有効に除
去でき、集積回路装置の動作速度や集積度の向上に伴う
消費電力の増大に対応できるという効果も本発明にはあ
る。
【図1】本発明の第一の実施の形態の断面図である。
【図2】本発明の第一の実施の形態における熱の伝達経
路を示す断面図である。
路を示す断面図である。
【図3】本発明の第二の実施の形態の断面図である。
【図4】本発明の第二の実施の形態における熱の伝達経
路を示す断面図である。
路を示す断面図である。
【図5】本発明のマルチチップパッケージの断面図であ
る。
る。
【図6】従来例の断面図である。
1、10、21 集積回路装置 2 半田バンプ 3、23 インターポーザ基板 4 半田ボール 5、13、20、25 配線基板 6、9、16、17、26 ヒートシンク 7 放熱ヴィア 8 放熱パッド 11 BGAパッケージ 12 半田ボール 14 放熱ヴィア 15 放熱パッド 18 マイクロプロセッサチップ 19 キャッシュメモリチップ 22 半田バンプ 24 半田ボール
Claims (6)
- 【請求項1】 第1の基板と、 下面が前記第1の基板の上面に対向するように搭載され
た第2の基板と、 下面が前記第2の基板の上面に対向するように搭載され
た集積回路装置と、 前記第1の基板の下面に熱的に結合された第1の放熱部
材と、 前記集積回路装置の上面に熱的に結合された第2の放熱
部材と、 前記第1の基板に設けられ前記集積回路装置で発生した
熱を伝達する貫通孔とを含むことを特徴とする集積回路
装置の冷却構造。 - 【請求項2】 前記第1の基板と前記第2の基板とを接
続する接続部材を含み、該接続部材は前記貫通孔とずら
されて配置されていることを特徴とする請求項1記載の
集積回路装置の冷却構造。 - 【請求項3】 第1の基板と、 下面が前記第1の基板の上面に対向するように搭載され
た第2の基板と、 下面が前記第2の基板の上面に対向するように搭載され
た集積回路装置と、 前記第1の基板の下面に熱的に結合された放熱部材と、 前記第1の基板に設けられ前記集積回路装置で発生した
熱を伝達する貫通孔と、 前記第1の基板と前記第2の基板とを接続する接続部材
とを含み、 該接続部材は前記貫通孔とずらされて配置されているこ
とを特徴とする集積回路装置の冷却構造。 - 【請求項4】 前記第1の基板と前記第2の基板とを接
続する複数の接続部材を含み、 前記複数の接続部材は、前記貫通孔とずらされて設けら
れた第1の接続部材と、前記貫通孔と電気的に接続され
た第2の接続部材とを含むことを特徴とする請求項1記
載の集積回路装置の冷却構造。 - 【請求項5】 第1の基板と、 下面が前記第1の基板の上面に対向するように搭載され
た第2の基板と、 下面が前記第2の基板の上面に対向するように搭載され
た集積回路装置と、 前記第1の基板の下面に熱的に結合された放熱部材と、 前記第1の基板に設けられ前記集積回路装置で発生した
熱を伝達する貫通孔と、 前記第1の基板と前記第2の基板とを接続する複数の接
続部材とを含み、 前記複数の接続部材は、前記貫通孔とずらされて設けら
れた第1の接続部材と、前記貫通孔と電気的に接続され
た第2の接続部材とを含むことを特徴とする集積回路装
置の冷却構造。 - 【請求項6】 前記貫通孔には熱伝導部材が充填されて
いることを特徴とする請求項1記載の集積回路装置の冷
却構造。
Priority Applications (6)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP9078171A JP2914342B2 (ja) | 1997-03-28 | 1997-03-28 | 集積回路装置の冷却構造 |
AU59693/98A AU729475B2 (en) | 1997-03-28 | 1998-03-27 | Integrated circuit device cooling structure |
CA002233481A CA2233481C (en) | 1997-03-28 | 1998-03-27 | Integrated circuit device cooling structure |
DE69802132T DE69802132T2 (de) | 1997-03-28 | 1998-03-27 | Aufbau zum Kühlen einer integrierten Schaltung |
EP98250111A EP0871352B1 (en) | 1997-03-28 | 1998-03-27 | Integrated circuit device cooling structure |
US09/049,123 US5990550A (en) | 1997-03-28 | 1998-03-27 | Integrated circuit device cooling structure |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP9078171A JP2914342B2 (ja) | 1997-03-28 | 1997-03-28 | 集積回路装置の冷却構造 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH10275883A JPH10275883A (ja) | 1998-10-13 |
JP2914342B2 true JP2914342B2 (ja) | 1999-06-28 |
Family
ID=13654507
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP9078171A Expired - Fee Related JP2914342B2 (ja) | 1997-03-28 | 1997-03-28 | 集積回路装置の冷却構造 |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US5990550A (ja) |
EP (1) | EP0871352B1 (ja) |
JP (1) | JP2914342B2 (ja) |
AU (1) | AU729475B2 (ja) |
CA (1) | CA2233481C (ja) |
DE (1) | DE69802132T2 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN105609474A (zh) * | 2014-11-19 | 2016-05-25 | 株式会社电装 | 具有导热构件的电子装置 |
Families Citing this family (70)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6586835B1 (en) * | 1998-08-31 | 2003-07-01 | Micron Technology, Inc. | Compact system module with built-in thermoelectric cooling |
US6392296B1 (en) | 1998-08-31 | 2002-05-21 | Micron Technology, Inc. | Silicon interposer with optical connections |
TW399309B (en) * | 1998-09-30 | 2000-07-21 | World Wiser Electronics Inc | Cavity-down package structure with thermal via |
FR2786656B1 (fr) * | 1998-11-27 | 2001-01-26 | Alstom Technology | Composant electronique de puissance comportant des moyens de refroidissement |
US6255852B1 (en) | 1999-02-09 | 2001-07-03 | Micron Technology, Inc. | Current mode signal interconnects and CMOS amplifier |
US6856013B1 (en) * | 1999-02-19 | 2005-02-15 | Micron Technology, Inc. | Integrated circuit packages, ball-grid array integrated circuit packages and methods of packaging an integrated circuit |
US6268660B1 (en) * | 1999-03-05 | 2001-07-31 | International Business Machines Corporation | Silicon packaging with through wafer interconnects |
DE19919781A1 (de) * | 1999-04-30 | 2000-11-09 | Wuerth Elektronik Gmbh | Leiterplatte und Verfahren zu ihrer Anbringung |
US7554829B2 (en) | 1999-07-30 | 2009-06-30 | Micron Technology, Inc. | Transmission lines for CMOS integrated circuits |
US6825550B2 (en) | 1999-09-02 | 2004-11-30 | Micron Technology, Inc. | Board-on-chip packages with conductive foil on the chip surface |
JP4673949B2 (ja) * | 1999-11-12 | 2011-04-20 | 富士通株式会社 | 半導体ユニットおよびその製造方法 |
US6703707B1 (en) * | 1999-11-24 | 2004-03-09 | Denso Corporation | Semiconductor device having radiation structure |
US6219243B1 (en) * | 1999-12-14 | 2001-04-17 | Intel Corporation | Heat spreader structures for enhanced heat removal from both sides of chip-on-flex packaged units |
DE10033352B4 (de) * | 2000-07-08 | 2010-08-19 | Robert Bosch Gmbh | Verfahren zur Herstellung einer elektronischen Baugruppe und elektronische Baugruppe |
TW462121B (en) * | 2000-09-19 | 2001-11-01 | Siliconware Precision Industries Co Ltd | Heat sink type ball grid array package |
US20030064542A1 (en) * | 2001-10-02 | 2003-04-03 | Corisis David J. | Methods of packaging an integrated circuit |
US6580611B1 (en) * | 2001-12-21 | 2003-06-17 | Intel Corporation | Dual-sided heat removal system |
US7101770B2 (en) | 2002-01-30 | 2006-09-05 | Micron Technology, Inc. | Capacitive techniques to reduce noise in high speed interconnections |
US6762939B2 (en) * | 2002-02-20 | 2004-07-13 | Intel Corporation | Thermal solution for a mezzanine card |
US7235457B2 (en) | 2002-03-13 | 2007-06-26 | Micron Technology, Inc. | High permeability layered films to reduce noise in high speed interconnects |
JP2003324214A (ja) * | 2002-04-30 | 2003-11-14 | Omron Corp | 発光モジュール |
TWM245730U (en) * | 2003-03-19 | 2004-10-01 | Power Mate Technology Co Ltd | Heat dissipating coating layer of object under heat dissipation |
JP2004288834A (ja) * | 2003-03-20 | 2004-10-14 | Fujitsu Ltd | 電子部品の実装方法、実装構造及びパッケージ基板 |
US20040184236A1 (en) * | 2003-03-20 | 2004-09-23 | Kuang-Yao Lee | Central processing unit (CPU) heat sink module |
US20040188811A1 (en) * | 2003-03-24 | 2004-09-30 | Intel Corporation | Circuit package apparatus, systems, and methods |
US6821816B1 (en) * | 2003-06-13 | 2004-11-23 | Delphi Technologies, Inc. | Relaxed tolerance flip chip assembly |
KR100534968B1 (ko) * | 2003-09-16 | 2005-12-08 | 현대자동차주식회사 | 전자소자의 냉각구조 |
US20050077614A1 (en) * | 2003-10-10 | 2005-04-14 | Chengalva Suresh K. | Semiconductor device heat sink package and method |
CN100362654C (zh) * | 2003-12-12 | 2008-01-16 | 矽统科技股份有限公司 | 具有散热装置的球栅阵列封装 |
FR2864419B1 (fr) * | 2003-12-19 | 2006-04-28 | Hispano Suiza Sa | Procede pour braser un composant electronique sur une carte electronique, procede de reparation de la carte et installation pour la mise en oeuvre du procede |
CN100389492C (zh) * | 2003-12-24 | 2008-05-21 | 鸿富锦精密工业(深圳)有限公司 | 散热装置及其制备方法 |
CN100358130C (zh) * | 2004-04-08 | 2007-12-26 | 鸿富锦精密工业(深圳)有限公司 | 散热装置及其制备方法 |
KR100669768B1 (ko) | 2004-11-17 | 2007-01-16 | 삼성에스디아이 주식회사 | 지능형 전원 모듈의 방열 구조 및 이를 구비한 디스플레이모듈 |
US7269017B2 (en) * | 2004-11-19 | 2007-09-11 | Delphi Technologies, Inc. | Thermal management of surface-mount circuit devices on laminate ceramic substrate |
KR100708659B1 (ko) | 2005-01-15 | 2007-04-17 | 삼성에스디아이 주식회사 | 지능형 전원 모듈의 방열 구조, 이를 구비한 디스플레이모듈 및 지능형 전원 모듈의 방열판 설치 방법 |
JP2006287080A (ja) | 2005-04-04 | 2006-10-19 | Hitachi Ltd | メモリモジュール |
US20060266475A1 (en) * | 2005-05-24 | 2006-11-30 | American Standard Circuits, Inc. | Thermally conductive interface |
US20070076377A1 (en) * | 2005-10-03 | 2007-04-05 | Matteo Gravina | Bi-Polar Thermal Managment |
TWI292300B (en) * | 2005-11-21 | 2008-01-01 | Delta Electronics Inc | Electronic device with dual heat dissipating structures |
US7629683B1 (en) | 2006-02-28 | 2009-12-08 | Juniper Networks, Inc. | Thermal management of electronic devices |
CN101039566A (zh) * | 2006-03-17 | 2007-09-19 | 富准精密工业(深圳)有限公司 | 散热装置及应用该散热装置的电子装置 |
US8952524B2 (en) * | 2006-04-28 | 2015-02-10 | Juniper Networks, Inc. | Re-workable heat sink attachment assembly |
JP2008140924A (ja) * | 2006-11-30 | 2008-06-19 | Toshiba Corp | 電子機器 |
US7863189B2 (en) * | 2007-01-05 | 2011-01-04 | International Business Machines Corporation | Methods for fabricating silicon carriers with conductive through-vias with low stress and low defect density |
US20080284037A1 (en) | 2007-05-15 | 2008-11-20 | Andry Paul S | Apparatus and Methods for Constructing Semiconductor Chip Packages with Silicon Space Transformer Carriers |
JP5188120B2 (ja) * | 2007-08-10 | 2013-04-24 | 新光電気工業株式会社 | 半導体装置 |
WO2009036486A1 (en) * | 2007-09-21 | 2009-03-26 | Silverbrook Research Pty Ltd | Coding pattern comprising direction codes |
US7706144B2 (en) * | 2007-12-17 | 2010-04-27 | Lynch Thomas W | Heat dissipation system and related method |
CN102522380B (zh) * | 2011-12-21 | 2014-12-03 | 华为技术有限公司 | 一种PoP封装结构 |
US9337123B2 (en) | 2012-07-11 | 2016-05-10 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. | Thermal structure for integrated circuit package |
US10269676B2 (en) | 2012-10-04 | 2019-04-23 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. | Thermally enhanced package-on-package (PoP) |
TWI508238B (zh) * | 2012-12-17 | 2015-11-11 | Princo Corp | 晶片散熱系統 |
CN104269386A (zh) * | 2014-08-28 | 2015-01-07 | 西安电子科技大学 | 一种多芯片封装粘结层导热齿结构 |
CN108293293B (zh) * | 2015-11-30 | 2020-07-14 | 日本精工株式会社 | 控制单元及电动助力转向装置 |
US10782316B2 (en) * | 2017-01-09 | 2020-09-22 | Delta Design, Inc. | Socket side thermal system |
JP6715818B2 (ja) | 2017-03-22 | 2020-07-01 | ベジ 佐々木 | 冷却構造体、冷却システム、発熱装置および構造物 |
WO2018173942A1 (ja) | 2017-03-22 | 2018-09-27 | フリージア・マクロス株式会社 | 冷却構造体、冷却システム、発熱装置および構造物 |
US10153261B2 (en) * | 2017-04-03 | 2018-12-11 | Cisco Technology, Inc. | Cooling system for high power application specific integrated circuit with embedded high bandwidth memory |
KR20190018812A (ko) | 2017-08-16 | 2019-02-26 | 삼성전기주식회사 | 반도체 패키지와 이를 구비하는 전자 기기 |
US10553517B2 (en) * | 2018-01-18 | 2020-02-04 | Semiconductor Components Industries, Llc | High power module semiconductor package with multiple submodules |
WO2020062253A1 (zh) * | 2018-09-30 | 2020-04-02 | 北京比特大陆科技有限公司 | 电路板、计算设备及散热机箱 |
CN109643705A (zh) * | 2018-10-31 | 2019-04-16 | 北京比特大陆科技有限公司 | 电路板及芯片布局方法、计算设备 |
WO2020102983A1 (zh) * | 2018-11-20 | 2020-05-28 | 北京比特大陆科技有限公司 | 电路板及超算服务器 |
US11227846B2 (en) * | 2019-01-30 | 2022-01-18 | Mediatek Inc. | Semiconductor package having improved thermal interface between semiconductor die and heat spreading structure |
JP7173278B2 (ja) * | 2019-03-05 | 2022-11-16 | 株式会社アイシン | 半導体装置 |
US11621211B2 (en) * | 2019-06-14 | 2023-04-04 | Mediatek Inc. | Semiconductor package structure |
US11183449B1 (en) * | 2020-05-22 | 2021-11-23 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. | Cryogenic integrated circuits |
US11825593B2 (en) * | 2021-06-28 | 2023-11-21 | Aptiv Technologies Limited | Through board via heat sink |
EP4113594A1 (en) * | 2021-06-28 | 2023-01-04 | Aptiv Technologies Limited | Through board via heat sink |
WO2023278632A1 (en) | 2021-06-30 | 2023-01-05 | Delta Design, Inc. | Temperature control system including contactor assembly |
Family Cites Families (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4682269A (en) * | 1984-10-11 | 1987-07-21 | Teradyne, Inc. | Heat dissipation for electronic components on a ceramic substrate |
JP2828358B2 (ja) * | 1991-09-20 | 1998-11-25 | 沖電気工業株式会社 | 半導体放熱構造 |
DE9308842U1 (ja) * | 1993-06-14 | 1993-07-22 | Blaupunkt-Werke Gmbh, 31139 Hildesheim, De | |
US5396403A (en) * | 1993-07-06 | 1995-03-07 | Hewlett-Packard Company | Heat sink assembly with thermally-conductive plate for a plurality of integrated circuits on a substrate |
US5523260A (en) * | 1993-08-02 | 1996-06-04 | Motorola, Inc. | Method for heatsinking a controlled collapse chip connection device |
JP2828385B2 (ja) * | 1993-08-11 | 1998-11-25 | 沖電気工業株式会社 | Icパッケージの構造 |
JP2646994B2 (ja) * | 1993-12-29 | 1997-08-27 | 日本電気株式会社 | ヒートシンク付ピングリッドアレイ |
JPH07321258A (ja) * | 1994-05-24 | 1995-12-08 | Fujitsu Ltd | 半導体装置 |
MY112145A (en) * | 1994-07-11 | 2001-04-30 | Ibm | Direct attachment of heat sink attached directly to flip chip using flexible epoxy |
DE69523010T2 (de) * | 1994-10-04 | 2002-07-04 | Nec Corp | Mittels automatischer Bandmontage hergestelltes Halbleitergehäuse |
US5585671A (en) * | 1994-10-07 | 1996-12-17 | Nagesh; Voddarahalli K. | Reliable low thermal resistance package for high power flip clip ICs |
JP2926537B2 (ja) * | 1994-12-15 | 1999-07-28 | 株式会社日立製作所 | マルチチップモジュ−ルの冷却装置 |
-
1997
- 1997-03-28 JP JP9078171A patent/JP2914342B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
1998
- 1998-03-27 CA CA002233481A patent/CA2233481C/en not_active Expired - Fee Related
- 1998-03-27 AU AU59693/98A patent/AU729475B2/en not_active Ceased
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- 1998-03-27 DE DE69802132T patent/DE69802132T2/de not_active Expired - Fee Related
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN105609474A (zh) * | 2014-11-19 | 2016-05-25 | 株式会社电装 | 具有导热构件的电子装置 |
CN105609474B (zh) * | 2014-11-19 | 2020-05-08 | 株式会社电装 | 具有导热构件的电子装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US5990550A (en) | 1999-11-23 |
AU5969398A (en) | 1998-10-01 |
EP0871352B1 (en) | 2001-10-24 |
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CA2233481A1 (en) | 1998-09-28 |
DE69802132D1 (de) | 2001-11-29 |
CA2233481C (en) | 2002-01-15 |
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