JP2911753B2 - 多座標接触系で異なった接触力の比率を検出して補償する校正方法 - Google Patents

多座標接触系で異なった接触力の比率を検出して補償する校正方法

Info

Publication number
JP2911753B2
JP2911753B2 JP6171293A JP17129394A JP2911753B2 JP 2911753 B2 JP2911753 B2 JP 2911753B2 JP 6171293 A JP6171293 A JP 6171293A JP 17129394 A JP17129394 A JP 17129394A JP 2911753 B2 JP2911753 B2 JP 2911753B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
contact
coordinate
contact system
calibration
motion
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
JP6171293A
Other languages
English (en)
Other versions
JPH07151538A (ja
Inventor
ルドルフ・シユテットナー
クルト・フアイヒテインガー
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Dr Johannes Heidenhain GmbH
Original Assignee
Dr Johannes Heidenhain GmbH
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Family has litigation
First worldwide family litigation filed litigation Critical https://patents.darts-ip.com/?family=6494672&utm_source=google_patent&utm_medium=platform_link&utm_campaign=public_patent_search&patent=JP2911753(B2) "Global patent litigation dataset” by Darts-ip is licensed under a Creative Commons Attribution 4.0 International License.
Application filed by Dr Johannes Heidenhain GmbH filed Critical Dr Johannes Heidenhain GmbH
Publication of JPH07151538A publication Critical patent/JPH07151538A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP2911753B2 publication Critical patent/JP2911753B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G01—MEASURING; TESTING
    • G01B—MEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
    • G01B21/00—Measuring arrangements or details thereof, where the measuring technique is not covered by the other groups of this subclass, unspecified or not relevant
    • G01B21/02—Measuring arrangements or details thereof, where the measuring technique is not covered by the other groups of this subclass, unspecified or not relevant for measuring length, width, or thickness
    • G01B21/04—Measuring arrangements or details thereof, where the measuring technique is not covered by the other groups of this subclass, unspecified or not relevant for measuring length, width, or thickness by measuring coordinates of points
    • G01B21/042—Calibration or calibration artifacts

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Length Measuring Devices With Unspecified Measuring Means (AREA)
  • A Measuring Device Byusing Mechanical Method (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】この発明は、数値制御装置と共に
多座標測定装置の中に使用される測定接触系で異なった
座標方向の接触力の比率を検出して補償する校正方法に
関する。
【０００２】
【従来の技術】多座標接触系は座標測定機械や工作機械
でも試験品を測定するために使用される。その理由は、
数値制御される工作機械と多座標測定装置の間の機械的
な構造や運動特性に類似性があることから、加工品の測
定に関して工作機械の機能を拡張することが思い付くか
らである。これには、先ず適当な三次元接触系を機械的
にも信号技術的にも工作機械に合わせる必要がある。接
触系は工具の代わりに工具交換マガジン中に装填され、
工具のように交換され、位置決めされる。機械の距離測
定系と信号技術的に結び付けると、加工機械を座標測定
機械として原理的に利用できる。距離測定系および電子
的な三次元接触系に関連して空間的な基準ベースである
工作機械の座標系により空間的な測定が可能になる。し
かし、工作機械は、空間的な基準ベースの系統的な幾何
学誤差（実質上機械の案内誤差）および目盛板の系統的
な誤差を検出し、測定時に補償することに成功した時、
初めて加工品を空間的に測定するのに適する。これに
は、機械の上記の固有な誤差を適当な比較測定系（例え
ばレーザー干渉計）で求め、修正マトリックスにして機
能的に拡張された制御部に記憶する。接触した瞬間に距
離測定系から受け取った座標の三元値の各々を記憶され
た修正値と共に処理する。更に、この制御部に組み込ま
れているあるいはこの制御部に合わせてある電算機ユニ
ットの役目は接触座標値を加工品の実際の寸法へ処理す
ること、目標値と実測値の偏差の計算、これ等の偏差を
周辺機器に出力して保管すること、および最終段階で加
工誤差を補償するために修正されたＮＣデータを計算し
て引き渡すことにある。
【０００３】従って、修正されたＮＣデータを求めるこ
とには三次元接触系のパラータを計算することも付属し
ている。ここで考察する電子接触系の重要な構成は、一
定値だけ傾けることのできるバネ付勢された接触ピンに
ある。接触ボールの傾きが接触ピンの上下ストローク内
の各位置で検出できれば、測定された接触系に付いて語
ることができる。これ等の接触系は距離測定系と共に接
触ピンの傾きを求めるために装備されている。
【０００４】それ故、接触ピンを交換する毎に校正を行
う必要がある。何故なら、接触系の機構のために、接触
力は異なった座標方向で異なるため、接触ピンの長さや
その曲がりを接触測定時に相殺する必要があるためであ
る。特に、接触ピンが傾いた時の力と距離の関係を決め
る種々のバネ比率を校正する必要がある。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】この発明の課題は、校
正作業を容易にし、校正結果を改善できる方法を提供す
ることにある。
【０００６】
【課題を解決するための手段】上記の課題は、この発明
により、数値制御装置と共に多座標測定装置１の中に使
用される測定接触系で３つの座標方向Ｘ，Ｙ，Ｚの接触
力の比率を検出して補償する校正方法にあって、以下の
過程、 ・接触系６のパラメータを前記制御装置に入力し、 ・校正ゲージ３のパラメータを前記制御装置に入力し、 ・接触系６を用いて校正ゲージ３の校正面９，１０，１
１を接触測定し、二つの座標方向Ｘ／Ｚ；Ｙ／Ｚで決ま
る第一面内で接触運動が行われ、この接触測定で前記二
つの座標方向Ｘ／Ｚに接触ピン７の異なる傾きが生じ、
二つの座標方向（Ｙ／Ｚ）で決まる第二面内で接触運動
が行われ、このうちの一方のみが第一面を決め、この接
触測定で前記二つの座標方向Ｙ／Ｚに接触ピン７の異な
る傾きが生じ、 ・接触系６により最初の接触運動にこれとは異なる運動
が重なり、 ・接触系６の傾き距離を求め、 ・接触系６の傾き距離から、これ等の接触力の比率を求
め、この関係から修正係数を求め、 ・修正係数を前記制御装置に入力し、 ・制御装置により接触系６の接触誤差を自動的に補償す
る、が行われることによって解決されている。
【０００７】この発明による他の有利な構成は、特許請
求の範囲の従属請求項に記載されている。
【０００８】
【実施例】以下、添付図面を参照し実施例に関してこの
発明をより詳しく説明する。図１には、検査物体３を納
める載置台２を伴う三座標測定機械１が示してある。こ
の検査物体３は直交する機械の３軸に向けて機械のスタ
ンド４に対して移動する。検査物体３を有する載置台２
の移動を測定するため、測長装置５が三座標測定機械１
に設けてある。検査物体３の個々の表面をに接触測定す
るため、機械のスタンド４には、機械の３軸に作用する
多座標接触系６が固定されている。
【０００９】検査物体としては、図２と図３にそれぞれ
断面図と平面図にして示す校正ゲージ３を用いる。校正
作業では、上に述べた多座標接触系６の接触ピン７が校
正ゲージ３と接触している。
【００１０】校正ゲージ３には穴８があり、この穴８に
は円筒状のリング面９，平坦な底面１０および円錐領域
１１がある。校正方法を始めるには、種々のデータを多
座標接触系６と校正ゲージ３のパラメータとして入力す
る。これ等は、特に接触ピン７の一端にある接触ボール
の半径１２と校正ゲージ３の円箇状領域９の半径であ
る。校正ゲージ３の穴の深さ、つまり端面と平坦な底面
１０までの間隔を円筒状領域９の半径と等しくなるよう
に選ぶと特に有利である。この処置により一度記憶して
おけば、校正サイクルのシーケンスは接触ボール１２の
直径に無関係になる。何故なら、穴８の深さと半径が等
しいためシーケンスが単純化できるからである。
【００１１】接触系６の接触ピン７が校正ゲージ３の平
坦な底面１０上に位置決めされると、校正サイクルがＺ
方向の接触作業と共に始まる。次いで、リング面９の所
定の高さまで戻る動作の後には、リング面９が−Ｘ，＋
Ｘ；−Ｙ，＋Ｙの方向に接触測定されて、校正ゲージの
中心が求まり、次いでこのゲージの中に接触ボール１２
が存在する。
【００１２】中心からもう一度リング面９に接触測定し
て、前記の座標方向で修正係数、例えば曲げに対する修
正係数を求める。もう一度中心に戻して、接触方向が円
錐面１１に垂直になるように、中心からこの円錐面１１
を接触測定する。この場合、接触測定は一度平面ＸＺ
で、また一度平面ＹＺで行う。
【００１３】この接触測定時に生じる接触ピンの傾きは
座標ＸＺあるいはＹＺで異なった傾きとなり、この原因
は実質上多座標接触系６の機構に帰する。接触測定によ
り一定しない摩擦の影響も生じ、この影響が異なった接
触力を正確に補償することを困難にする。接触力は傾き
の距離に逆比例するが、摩擦によりこれが乱される。
【００１４】摩擦の影響を低減するため、接触による接
触運動に移動運動が重なるので、摩擦は無くなるか、あ
るいは少なくとも著しく低減する。最初の接触運動に重
なるこの移動運動は、最初の接触方向とはずれた方向、
例えば最初の接触方向に垂直になるべきである。しか
し、摩擦をなくすためには小さな振動でも十分である。
【００１５】この処置により接触が摩擦なしになると、
傾き距離に関する接触力の比率を求めることができる。
これから算出される修正値は校正過程の終わりで機械の
制御部に導入される。その結果、多座標接触系１の誤差
は自動的に補償される。
【００１６】場合によっては、不慮の停電後、あるいは
電源の切ったり入れたりした後の校正過程の前に比較過
程を設けてもよい。これは増分測定系の場合周知である
方法にある。
【００１７】電源を入れた後には測定する接触系が未知
の任意の位置にあり、何か任意の位置の値が表示される
かあるいは制御部に記憶される。固定点に対してこの位
置を求めるため、接触系は主要な全ての座標方向でそれ
ぞれ一つの基準マーク上を移動する。この基準マークに
より、あるいはこの基準マークのところで、偶然生じる
測定が零となる。つまり、付属する全ての記憶器がリセ
ットされる。次いで、接触系は再び初期位置に戻る。
【００１８】その場合、基準マークから初期位置までの
距離を測定し、任意の記憶器に記憶する。上記の距離は
後の全ての測定値で共に計算される値である。何故な
ら、この値は接触系の理論的な原点を表す基準マークか
ら接触系の実際の位置のずれを表すからである。
【００１９】それ故、このオプションを多座標測定装置
の電源を入れた後に基本的に利用すると有利である。
【００２０】
【発明の効果】以上、説明したように、この発明の多座
標接触系の校正方法により、校正過程が容易になり、校
正結果を改善できる。
【図面の簡単な説明】
【図１】 三座標測定装置の模式的な正面図、
【図２】 この発明による方法を実施する校正ゲージの
断面図、
【図３】 この発明による方法を実施する校正ゲージの
平面図である。
【符号の説明】
１ 三座標測定装置 ２ 載置台 ３ 検査物体（校正ゲージ） ４ 機械のスタンド ５ 測長装置 ６ 多座標接触系 ７ 接触ピン ８ 穴 ９ 円筒状領域（リング面） １０ 底面 １１ 円錐領域（円錐面） １２ 接触ボール
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 ルドルフ・シユテットナー ドイツ連邦共和国、83308 トロストベ ルク、シユヴアルツアウアーストラー セ、21 (72)発明者 クルト・フアイヒテインガー ドイツ連邦共和国、83349 パリング、 カッツヴアルヒエンストラーセ、26 (56)参考文献 特開 平３−261815（ＪＰ，Ａ) 特開 平２−253113（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.6，ＤＢ名) G01B 21/00 - 21/32 G01B 5/00 - 5/30

Claims (3)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 数値制御装置と共に多座標測定装置
    （１）の中に使用される測定接触系で３つの座標方向
    （Ｘ，Ｙ，Ｚ）の接触力の比率を検出して補償する校正
    方法において、以下の過程、 ・接触系（６）のパラメータを前記制御装置に入力し、 ・校正ゲージ（３）のパラメータを前記制御装置に入力
    し、 ・接触系（６）を用いて校正ゲージ（３）の校正面
    （９，１０，１１）を接触測定し、二つの座標方向（Ｘ
    ／Ｚ；Ｙ／Ｚ）で決まる第一面内で接触運動が行われ、
    この接触測定で前記二つの座標方向（Ｘ／Ｚ）に接触ピ
    ン（７）の異なる傾きが生じ、二つの座標方向（Ｙ／
    Ｚ）で決まる第二面内で接触運動が行われ、このうちの
    一方のみが第一面を決め、この接触測定で前記二つの座
    標方向（Ｙ／Ｚ）に接触ピン（７）の異なる傾きが生
    じ、 ・接触系（６）により最初の接触運動にこれとは異なる
    運動が重なり、 ・接触系（６）の傾き距離を求め、 ・接触系（６）の傾き距離から、これ等の接触力の比率
    を求め、この関係から修正係数を求め、 ・修正係数を前記制御装置に入力し、 ・制御装置により接触系（６）の接触誤差を自動的に補
    償する、 が行われることを特徴とする校正方法。
  2. 【請求項２】 最初の接触運動に重なる運動は、最初の
    接触方向に対して或る角度なす、好ましくは垂直をなす
    直線運動であることを特徴とする請求項１に記載の校正
    方法。
  3. 【請求項３】 最初の接触運動に重なる運動は振動運動
    であることを特徴とする請求項１に記載の校正方法。
JP6171293A 1993-08-07 1994-07-22 多座標接触系で異なった接触力の比率を検出して補償する校正方法 Expired - Fee Related JP2911753B2 (ja)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE4326551A DE4326551C2 (de) 1993-08-07 1993-08-07 Kalibrier-Verfahren zum Ermitteln und Kompensieren unterschiedlicher Antastkraft-Verhältnisse bei Mehrkoordinaten-Tastsystemen
DE4326551:0 1993-08-07

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH07151538A JPH07151538A (ja) 1995-06-16
JP2911753B2 true JP2911753B2 (ja) 1999-06-23

Family

ID=6494672

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP6171293A Expired - Fee Related JP2911753B2 (ja) 1993-08-07 1994-07-22 多座標接触系で異なった接触力の比率を検出して補償する校正方法

Country Status (4)

Country Link
US (1) US5501096A (ja)
EP (1) EP0638781B1 (ja)
JP (1) JP2911753B2 (ja)
DE (2) DE4326551C2 (ja)

Families Citing this family (42)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
GB9401692D0 (en) * 1994-01-28 1994-03-23 Renishaw Plc Performing measurement or calibration on positioning machines
ITBO940167A1 (it) * 1994-04-19 1995-10-19 Marposs Spa Sistema per il rilevamento di dimensioni lineari e metodo di verifica del relativo funzionamento
JP3292225B2 (ja) * 1994-09-19 2002-06-17 株式会社安川電機 産業用ロボットの基準位置決め方法
US5657549A (en) * 1995-10-04 1997-08-19 Shen; Yin-Lin Method of improving accuracy of touch trigger probe
DE19539148A1 (de) * 1995-10-20 1997-04-24 Zeiss Carl Fa Verfahren zur Koordinatenmessung von Werkstücken
JP3081174B2 (ja) * 1997-07-08 2000-08-28 株式会社東京精密 真円度測定機及びその検出器感度校正方法
US5837880A (en) * 1997-08-20 1998-11-17 Sperry Rail Service, Inc. Compact ultrasonic calibration block
US6176117B1 (en) * 1998-12-01 2001-01-23 Industrial Technology Research Institute Calibration instrument for micro-positively-sensed force and calibration method therefor
DE29903815U1 (de) 1999-02-22 1999-07-15 Herz System- und Anlagentechnik GmbH, 29499 Zernien Vorrichtung zur Steuerung des relativen Hubs eines an Objekten angreifenden Hubgeräts
US6810597B2 (en) * 1999-04-08 2004-11-02 Renishaw Plc Use of surface measuring probes
GB9907868D0 (en) * 1999-04-08 1999-06-02 Renishaw Plc Method of calibrating a scanning system
US6415644B1 (en) 1999-04-29 2002-07-09 General Electric Company Ultrasonic calibration apparatus
US6546640B2 (en) * 2000-01-18 2003-04-15 Mitutoyo Corporation Traverse linearity compensation method and rotational accuracy compensation method of measuring device
US7625335B2 (en) * 2000-08-25 2009-12-01 3Shape Aps Method and apparatus for three-dimensional optical scanning of interior surfaces
US6457251B1 (en) * 2000-08-31 2002-10-01 Xilinx Inc. Method and apparatus for calibrating device pick-up heads used in integrated circuit handler systems
US6434845B1 (en) 2000-09-05 2002-08-20 University Of North Carolina At Charlotte Dual-axis static and dynamic force characterization device
EP1322909B2 (de) * 2000-09-28 2016-12-21 Carl Zeiss Industrielle Messtechnik GmbH Koordinatenmessgerät
US6510725B2 (en) * 2000-10-13 2003-01-28 Mitutoyo Corporation Apparatus and method of inspecting gage
DK1368986T3 (da) * 2001-03-02 2012-02-27 3Shape As Fremgangsmåde til modellering af specialfremstillede ørestykker
DE10111919A1 (de) * 2001-03-13 2002-09-19 Boegl Max Bauunternehmung Gmbh Fahrwegträger
GB0106245D0 (en) * 2001-03-14 2001-05-02 Renishaw Plc Calibration of an analogue probe
GB0126232D0 (en) * 2001-11-01 2002-01-02 Renishaw Plc Calibration of an analogue probe
DE10157174A1 (de) * 2001-11-22 2003-06-05 Wolfgang Madlener Verfahren und Vorrichtung zum räumlichen Vermessen von Werkstücken an einer Werkzeugmaschine
GB0322115D0 (en) 2003-09-22 2003-10-22 Renishaw Plc Method of error compensation
GB0329098D0 (en) * 2003-12-16 2004-01-21 Renishaw Plc Method of calibrating a scanning system
JP4275632B2 (ja) * 2005-03-01 2009-06-10 新日本工機株式会社 パラレルメカニズム機構のキャリブレーション方法、キャリブレーションの検証方法、キャリブレーションの検証プログラム、データ採取方法及び空間位置補正における補正データ採取方法
JP4950443B2 (ja) * 2005-06-14 2012-06-13 東芝機械株式会社 キャリブレーションゲージ
DE102005032749A1 (de) * 2005-07-13 2007-01-18 Carl Zeiss Industrielle Messtechnik Gmbh Verfahren zum Antasten eines Werkstücks mit einem Koordinatenmessgerät und Koordinatenmessgeräte
DE202005014635U1 (de) * 2005-09-15 2007-02-01 Jeromin, Johannes Kalibrierlehre zur Kalibrierung eines Messschiebers
FR2899503B1 (fr) * 2006-04-11 2008-12-26 Process Conception Ing Sa Dispositif de recalage en butee d'un outil de machine d'usinage et de la piece usinee
EP1860398B1 (en) * 2006-05-24 2013-01-09 Rolls-Royce plc Calibration block
CN102413984B (zh) * 2009-04-28 2014-03-19 三菱电机株式会社 工件测定方法、放电加工方法以及放电加工装置
EP2755095B1 (de) * 2010-02-15 2016-04-20 Carl Zeiss Industrielle Messtechnik GmbH Verfahren zum Regeln eines Messvorgangs mittels virtueller Oberflächen
WO2014191016A1 (de) * 2013-05-27 2014-12-04 Carl Zeiss Industrielle Messtechnik Gmbh Vorrichtung und verfahren zur kalibrierung eines koordinatenmessgeräts
GB201311600D0 (en) * 2013-06-28 2013-08-14 Renishaw Plc Calibration of a contact probe
US9952044B2 (en) * 2015-02-02 2018-04-24 Rolls-Royce North American Technologies, Inc. Multi-axis calibration block
DE102017103938A1 (de) * 2017-02-24 2018-08-30 Carl Zeiss Industrielle Messtechnik Gmbh Vorrichtung zum Messen der Rauheit einer Werkstückoberfläche
EP3421167A1 (de) 2017-06-26 2019-01-02 Fronius International GmbH Verfahren und vorrichtung zur abtastung einer werkstückoberfläche eines metallischen werkstückes
CN113021077A (zh) * 2019-12-09 2021-06-25 北京精雕科技集团有限公司 一种数控机床在机测量系统的精度校准方法
CN111220310B (zh) * 2020-03-06 2024-06-25 西南交通大学 一种接触网补偿装置运行监测与异常报警系统及方法
JP2022160911A (ja) * 2021-04-07 2022-10-20 株式会社ミツトヨ 校正方法
CN116183233A (zh) * 2023-04-06 2023-05-30 中国航发常州兰翔机械有限责任公司 一种叶轮内、外子午线的测量和评价方法

Family Cites Families (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
SU1095065A2 (ru) * 1979-11-05 1984-05-30 Вильнюсский Филиал Экспериментального Научно-Исследовательского Института Металлорежущих Станков Измерительна головка
JPS57127805A (en) * 1981-01-31 1982-08-09 Osaka Kiko Co Ltd Device for measuring three-dimensional shape
US4523450A (en) * 1981-11-07 1985-06-18 Carl-Zeiss-Stiftung, Heidenheim/Brenz Method of calibrating probe pins on multicoordinate measurement machines
JPS59200923A (ja) * 1983-04-28 1984-11-14 Ishida Scales Mfg Co Ltd スパン調整方法
GB8411437D0 (en) * 1984-05-04 1984-06-13 Renishaw Plc Co-ordinate positioning apparatus
US4663852A (en) * 1985-09-19 1987-05-12 Digital Electronic Automation, Inc Active error compensation in a coordinated measuring machine
US4771237A (en) * 1986-02-19 1988-09-13 Panametrics Method and apparatus for calibrating a displacement probe using a polynomial equation to generate a displacement look-up table
DE3637410A1 (de) * 1986-11-03 1988-05-11 Zeiss Carl Fa Verfahren zur messung von drehtischabweichungen
SE461548B (sv) * 1988-02-18 1990-02-26 Johansson Ab C E Foerfarande och anordning foer bestaemning av och korrigering foer laegesfel vid maetning av en punkts laege eller vid positionering till en punkt med ett bestaemt laege
US4924715A (en) * 1988-03-10 1990-05-15 Nawsir Inc. Contact sensing system
DE58903515D1 (de) * 1988-10-03 1993-03-25 Zeiss Carl Fa Pruefkoerper fuer koordinatenmessgeraete.
US5134781A (en) * 1991-01-14 1992-08-04 Baker Stephen H Geometric simulator for coordinate measuring machine
US5259119A (en) * 1991-09-17 1993-11-09 Mitutoyo Corporation Automatic inner diameter measuring apparatus and zero adjustment thereof

Also Published As

Publication number Publication date
US5501096A (en) 1996-03-26
DE59406719D1 (de) 1998-09-24
DE4326551C2 (de) 1997-04-17
EP0638781A1 (de) 1995-02-15
EP0638781B1 (de) 1998-08-19
JPH07151538A (ja) 1995-06-16
DE4326551A1 (de) 1995-02-16

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2911753B2 (ja) 多座標接触系で異なった接触力の比率を検出して補償する校正方法
US7131207B2 (en) Workpiece inspection method
CN109655023B (zh) 用于确定工具定位机器的状态的系统
US4945501A (en) Method for determining position within the measuring volume of a coordinate measuring machine and the like and system therefor
US7543393B2 (en) Method of calibrating a scanning system
EP0275428B1 (en) Method for calibrating a coordinate measuring machine and the like
EP0858015B1 (en) Measuring method and measuring instrument with a trigger probe
JP5042409B2 (ja) 走査システムを校正する方法
EP1792139B1 (en) The use of surface measurement probes
JP3396409B2 (ja) ワークの形状寸法測定方法及び装置
JP2020196051A (ja) 工作機械対象物の位置計測方法及び位置計測システム
JPH08105702A (ja) ２つの回転軸を有する座標測定装置の校正方法
US7096751B2 (en) Measuring apparatus and accuracy analyzing apparatus having the same
EP0279926B1 (en) Method for determining position within the measuring volume of a coordinate measuring machine and the like and system therefor
JPH1190787A (ja) 工作機械におけるワークの形状寸法測定方法及び装置
JP2017223574A (ja) 産業機械
KR101823052B1 (ko) 자동 선반 가공 후 자동 보정을 위한 가공물 측정 방법
US20190277615A1 (en) Measurement apparatus
JPH01202611A (ja) 三次元測定方法及び測定装置
JP2002039743A (ja) 測定機
US20230384076A1 (en) Calibration master installing jig and measuring method for calibration master in machine tool
JP2984222B2 (ja) 多面体の位置測定装置
JP4669639B2 (ja) 移動装置
JP2005069775A (ja) 三次元形状測定方法
JPH0244002B2 (ja)

Legal Events

Date Code Title Description
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 19990302

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees