JP2899175B2 - 半導体記憶装置 - Google Patents

半導体記憶装置

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JP2899175B2
JP2899175B2 JP17724792A JP17724792A JP2899175B2 JP 2899175 B2 JP2899175 B2 JP 2899175B2 JP 17724792 A JP17724792 A JP 17724792A JP 17724792 A JP17724792 A JP 17724792A JP 2899175 B2 JP2899175 B2 JP 2899175B2
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    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11CSTATIC STORES
    • G11C29/00Checking stores for correct operation ; Subsequent repair; Testing stores during standby or offline operation
    • G11C29/70Masking faults in memories by using spares or by reconfiguring
    • G11C29/78Masking faults in memories by using spares or by reconfiguring using programmable devices
    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11CSTATIC STORES
    • G11C11/00Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor
    • G11C11/005Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor comprising combined but independently operative RAM-ROM, RAM-PROM, RAM-EPROM cells

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は半導体記憶装置に関し、
特に、ROM及びRAMが同一チップ上に混在している
半導体記憶装置の冗長手段に関する。また、ROM及び
RAMが同一ライン(行ラインまたは列ライン)上に混
在する半導体記憶装置の冗長手段に関する。
【0002】
【従来の技術】図14は、ROMメモリセル35及びR
AMメモリセル34が同一チップ上に混在している半導
体記憶装置の回路の一部を示している。図14には、そ
の半導体記憶装置のメモリセルアレイ1、行デコーダ
2、列デコーダ3、データ読み出し回路5、ワードライ
ン30及びビットラインペア47等が模式的に示されて
いる。
【0003】メモリセルアレイ1内では、メモリセルが
列ライン及び行ライン上に配されている。この明細書で
は、「列ライン」は、ビットラインペア47に対応し、
「行ライン」はワードライン30に対応している。図示
されている半導体記憶装置では、同一列ライン上にRO
Mメモリセル35及びRAMメモリセル34が自由に混
在している。
【0004】図14のメモリブロックは、256本のワ
ードライン30を有している。行デコーダ2が行アドレ
スRA0−RA7をデコードすることにより、256本
のワードライン30から1本のワードライン30を選択
する。行アドレス(RA0−RA7)の全てが「0」の
ときに選択されるワードライン30を0番のワードライ
ン30とし、行アドレス(RA0−RA7)の全てが
「1」のときに選択されるワードライン30を255番
のワードライン30とする。メモリセルアレイ1のライ
ンの内の一つのラインを指定する第1アドレス信号(列
アドレス信号)、及びそのライン上の一つのアドレスを
指定する第2アドレス(行アドレス信号)によって、メ
モリセルアレイ1内の一つのアドレスが指定される。
【0005】行デコーダ2及び列デコーダ3の一例が図
11に示されている。行デコーダ2は、行アドレス信号
をデコードし、複数のワードライン30のうちの一つの
ワードライン30をアクティブにする。列デコーダは列
アドレス信号をデコードし、複数の列選択信号線46の
内の一つをアクティブにする。選択された(アクティブ
にされた)ワードライン30に属するメモリセルが、ビ
ットラインペア47に対して電気的に接続され、それら
のメモリセルに記憶されているデータによりビットライ
ンペア47に電位差が生じる。
【0006】この電位差は、センスアンプ37により増
幅される。列選択信号線46によって選択されたビット
ラインペア47の電位差はトランスファゲートを介して
データ線ペア(以下、「データ線」と略記する)6に出
力される。データ線6に出力された電位差は、データ線
読み出し回路5により増幅され出力回路4に送られる。
【0007】この半導体記憶装置は、一つのメモリセル
アレイ内にROMメモリセル及びRAMメモリセルの両
方を有している。このため、必然的に、図示されている
メモリブロック内の同一ライン上にROMメモリセル及
びRAMメモリセルが混在している。
【0008】図14に示されるメモリブロックを複数個
備えている半導体記憶装置の構成が、図17に示されて
いる。図18は、同一チップ上にROM及びRAMの両
方を有している半導体記憶装置であって、各メモリブロ
ックがROMメモリセル及びRAMメモリセルのいずれ
か一方を備えている半導体記憶装置の構成が示されてい
る。
【0009】次に、メモリセル34及び35の構造につ
いて、図20を参照しながら説明する。図20(a)
は、RAMメモリセル34の第1構成例を示している。
このRAMメモリセル34は、公知のDRAMメモリセ
ルである。その読み出し動作等の動作は、公知である。
図20(b)は、ROMメモリセル35の第1構成例を
示している。このROMメモリセルは、図20(a)に
示されるDRAMメモリセルの記憶ノードa1の電位
を、Vcc又はGNDに固定したものである。図20
(a)のDRAMメモリセルを動作させるのと同様の方
法で読み出し動作等の動作を行うことが可能である。こ
のROMメモリセル35については、前半工程(ウェハ
プロセス)においてデータ書き込みが行われる。すなわ
ち、フォトマスクにより図中の矢印の部分の接続を各R
OMメモリセル35毎に変化させることにより、「1」
又は「0」のデータが記憶させられる。
【0010】図20(c)は、RAMメモリセル34の
第2構成例を示している。このRAMメモリセル34
は、公知のSRAMメモリセルである。その読み出し動
作等の動作は、公知である。図20(d)は、ROMメ
モリセル35の第2構成例を示している。ROMメモリ
セルは、図20(c)に示されるSRAMメモリセルの
フリップフロップのノードc1及びc2の電位を、それ
ぞれ、Vcc及びGND、又はGND及びVccに固定した
ものである。従って、図20(c)のSRAMメモリセ
ルを動作させるのと同様の方法で読み出し動作等の動作
を行うことが可能である。
【0011】図15は、冗長手段を備えた従来のRAM
メモリセルブロックの一部を示している。図14に示さ
れている半導体記憶装置の各要素に対応する要素につい
ては、同じ参照番号がつけられている。
【0012】冗長を達成するためには、不良ビットを含
むライン(不良ライン)を不活性にし、かつ、その不良
ラインが選択されたときに、その不良ラインのかわりに
冗長RAMビットライン347が選択される。冗長RA
Mビットライン347内の冗長RAMメモリセル34
は、通常、メモリセルアレイ1内の普通のRAMメモリ
セル34に隣接して配列されている。これは、冗長RA
Mメモリセル34の構造が、メモリセル内の普通のRA
Mメモリセル34の構造と同じ構造で良いからである。
これらの冗長RAMメモリセル34に対しては、通常の
RAMメモリセル34について実行するのと同様にして
読み出し動作等の動作を実行することができる。
【0013】冗長RAM用列デコーダ303の回路例
は、図21に示されている。このデコーダによれば、置
換すべき不良ラインの列アドレスを、ウェハテスト後の
後半工程においてプログラムすることが可能である。プ
ログラムされた冗長列アドレスと、外部入力された列ア
ドレスが一致するときに、冗長RAM列選択信号を出力
する。プログラムは、複数のアドレスプログラム用ヒュ
ーズのうちからアドレスに応じて選択されたヒューズを
溶断することにより実行される。尚、図21に示されて
いるデコーダが行デコーダとして使用されるときは、上
記説明の「列アドレス」は「行アドレス」となる。
【0014】以下に、上記冗長RAMビットライン34
7を有する半導体記憶装置の冗長置換を説明する。ま
ず、不良ビットの存在する列(ビットラインペア47)
の列アドレスを、冗長RAM列デコーダ303にプログ
ラムする。ペアのヒューズ1組が列アドレスの1ビット
に対応している(図21)。このペアのヒューズのうち
の一方をレーザトリミングにより溶断することにより、
不良列アドレスを記憶させることができる。また、この
溶断と同時に、冗長RAM列活性化ヒューズを溶断す
る。このヒューズが切断されると、ノード13aは、電
源たち上げ時にHレベルに確定される。このヒューズが
切断されていないと、ノード13aは、常にLレベルで
ある。制御端子付きインバータ13b、及び制御端子付
きバッファ13cは、制御端子13aがLレベルのとき
は、出力がハイインピーダンスとなり、制御端子13a
がHレベルのときは、出力される。従って、冗長RAM
活性化ヒューズが溶断されていると、プログラムされた
冗長列アドレスと、外部入力された列アドレスが一致す
るとき、冗長RAM列選択信号が出力される。また、冗
長RAM活性化ヒューズが溶断されていないと、AND
の入力が常にLレベルであるため、冗長RAM列選択信
号は出力されない。
【0015】また、図11の列デコーダで、不良ビット
ラインの列アドレスが選択されないように、不良列アド
レスが不活性化される。すなわち、図11の列デコーダ
の不良列の列選択信号に対応するヒューズをレーザトリ
ミングにより溶断する。これにより、不良列の列選択信
号46は出力されなくなる。また、不良ライン上のRO
M部のデータを冗長ROMビットライン247上の対応
する行アドレスのROMメモリセル36にプログラムす
る。すなわち、ヒューズを必要な行アドレスについて溶
断する。こうして、RAMの冗長が実現される。
【0016】図16は、冗長手段を備えた従来のROM
の一部を示している。図14に示されている半導体記憶
装置の各要素に対応する要素については、同じ参照番号
がつけられている。
【0017】冗長を達成するためには、不良ビットを含
むビットライン147(不良ライン)を不活性にし、か
つ、その不良ラインが選択されたときに、その不良ライ
ンのかわりに冗長ROMビットライン247が選択され
る。冗長ROMビットライン247の冗長ROMメモリ
セル36は、通常、メモリセルアレイ1の外に、普通の
ROMメモリセル35とは独立して配列されている。こ
れは、冗長ROMメモリセル36のサイズが、メモリセ
ルアレイ1内の普通のROMメモリセル35のサイズよ
りも大きいからである。普通の行デコーダ2とは独立し
て、冗長ROMビットライン247のための第2の冗長
ROM用行デコーダ203bを備えている。
【0018】このROMの例は、図15に示されるRA
Mの回路と次の点で異なっている。この例では列デコー
ダにより選択されるのはビットラインペア47ではな
く、ビットライン147である。また、センスアンプ3
7が各ビットライン147ごとに設けられているのでは
なく、メモリセルアレイ1ごとに設けられている。ビッ
トライン群のうち列デコーダ3により選択されたビット
ラインがセンスアンプに接続される。
【0019】冗長ROM用列デコーダ203の回路例
は、図21に示されている。このデコーダによれば、置
換すべき不良ラインの列アドレスを、ウェハテスト後の
後半工程においてプログラムすることが可能である。プ
ログラムされた冗長列アドレスと、外部入力された列ア
ドレスが一致するときに、冗長ROM列選択信号を出力
する。プログラムは、複数のアドレスプログラム用ヒュ
ーズのうちからアドレスに応じて選択されたヒューズを
溶断することにより実行される。
【0020】次に、冗長ROMビットライン247につ
いて、更に詳しく説明する。
【0021】冗長ROMビットライン247上のROM
メモリセル36は、その一例が図20(e)に示されて
いる。ウェハプロセス及びウェハテストの終了後に行わ
れる後半工程において、図20(e)に示されるヒュー
ズをレーザトリミングにより溶断するかしないかに応じ
て、ROMデータをROMメモリセル36に書き込むこ
とができる。図20(e)のメモリセルは、図20
(f)に示された公知のマスクROMのメモリセルと比
較すると、その構成が理解し易い。図20(e)のメモ
リセルにおいてヒューズが溶断されているか否かは、図
20(f)のマスクROMのメモリセルの閾値が高いか
否かに対応する。従って、図20(e)の冗長メモリセ
ルの読み出し等の動作は、公知のマスクROMのメモリ
セルの読み出し等の動作と同様にして実行することがで
きる。
【0022】以下に、上記冗長ROMビットラインを有
する半導体記憶装置の冗長置換を説明する。
【0023】まず、不良ビットの存在する列、すなわ
ち、ビットラインの列アドレスを、図21の冗長ROM
列デコーダにプログラムする。ペアのヒューズ1組が列
アドレスの1ビットに対応している。このペアのヒュー
ズのうちの一方をレーザトリミングにより溶断すること
により、不良列アドレスを記憶させることができる。ま
た、この溶断と同時に、冗長ROM列活性化ヒューズを
溶断する。このヒューズが切断されると、ノード13a
は、電源たち上げ時にHレベルに確定される。このヒュ
ーズが切断されていないと、ノード13aは、常にLレ
ベルである。制御端子付きインバータ13b、及び制御
端子付きバッファ13cは、制御端子13aがLレベル
のときは、出力がハイインピーダンスとなり、制御端子
13aがHレベルのときは、出力される。従って、冗長
ROM活性化ヒューズが溶断されていると、プログラム
された冗長列アドレスと、外部入力された列アドレスが
一致するとき、冗長ROM列信号48が出力される。ま
た、冗長ROM活性化ヒューズが溶断されていないと、
ANDの入力が常にLレベルであるため、冗長ROM列
選択信号48は出力されない。
【0024】また、図11の列デコーダで、不良ビット
ラインの列アドレスが選択されないように、不良列アド
レスが不活性化される。すなわち、図14の列デコーダ
3の不良列の列選択信号に対応するヒューズをレーザト
リミングにより溶断する。これにより、不良列の列選択
信号46は出力されなくなる。また、不良ライン上のR
OM部のデータを冗長ROMビットライン247上の対
応する行アドレスのROMメモリセル36にプログラム
する。すなわち、ヒューズを必要な行アドレスのメモリ
セルについて溶断する。
【0025】図12は、第2の冗長ROM用行デコーダ
202bを示している。行アドレスと冗長ROM列選択
信号48を受けて、冗長ROM列選択信号48がアクテ
イブなときに、複数の冗長ROM用行選択信号線31の
うちの指定された1本をアクテイブにする。このように
して、冗長ROM用行選択信号31により選択されたR
OMメモリセル36が冗長ROMビットライン247に
接続される。冗長ROMビットライン247のデータ
は、冗長ROMビットライン読み出し回路205によっ
て読み出され、出力回路4に伝達される。センスアンプ
37は、冗長ROM列選択信号がアクティブでないとき
に働き、冗長ROMビットライン読み出し回路205
は、冗長ROM選択信号がアクティブなときに働く。こ
うして、ROMの冗長が実現される。
【0026】
【発明が解決しようとする課題】ROM及びRAMが混
在した半導体記憶装置を製造するためには、その歩留り
を向上させるために、製造工程で発生した不良メモリセ
ルをスペアメモリセルにより置き換える冗長技術が不可
欠となる。しかし、従来のRAMの冗長は、RAMメモ
リセルのみからなるメモリセルアレイのための冗長救済
に有効な技術であり、また、従来のROMの冗長は、R
OMメモリセルのみからなるメモリセルアレイのための
冗長救済に有効な技術である。
【0027】混在したRAM及びROMを有している半
導体記憶装置の冗長手段としては、RAM及びROMの
ための冗長手段を備えている必要がある。より具体的に
は、図18に示されるような、同一チップ上にROM及
びRAMが混在している半導体記憶装置では、図19に
示すように、各メモリセルアレイ毎に、ROMまたはR
AMのための冗長手段を設ける必要がある。
【0028】また、図17に示されるような同一メモリ
セルアレイ内にROM及びRAMが混在している半導体
記憶装置では、図22に示すように、ROM及びRAM
が混在する不良ライン(行または列)を例えば冗長RA
Mラインにより置換すると、置換されたラインのメモリ
セルは、すべてRAMとなってしまう。一方、図23に
示されるように、そのような不良ラインを冗長ROMラ
インにより置換すると、置換されたラインのメモリセル
は、すべてROMとなってしまう。
【0029】また、図24に示すように、不良ラインを
冗長ROMラインと冗長RAMラインとで置換すると、
置換した冗長ROMライン上のアドレスと冗長RAMラ
イン上のアドレスとが、バッティングしてしまうという
問題が生じる。このことを図24を参照しながら説明す
る。
【0030】図24は、同一ライン上にROMメモリセ
ルとRAMメモリセルとが混在し、また、ROMのデー
タ書き込みが前半工程で行われる半導体記憶装置の冗長
置換を模式的に示している。不良ラインを冗長置換する
ために、不良ライン上のROMとRAMの両方を置換す
るために、冗長RAMラインと、後半工程にてデータ書
き込みが可能な冗長ROMラインとの両方が必要とな
る。冗長RAMラインと冗長ROMラインとが不良ライ
ンにより置き換えられると、不良ライン上のアドレスに
は、冗長RAMラインと冗長ROMラインとが重複して
割り付けられることになる。このため、第1のアドレス
によって、元の不良ラインが指定されたときに、冗長R
AMラインと冗長ROMラインとが両方とも選択され、
バッティングが生じる。
【0031】このように、同一ライン上にROMメモリ
セル及びRAMメモリセルが重複せずに自由に混在して
いる半導体記憶装置では、そのようなラインが不良であ
る場合に、その不良ラインを冗長救済することが不可能
であった。このため、同一ライン上にROMメモリセル
及びRAMメモリセルが重複せずに自由に混在している
半導体記憶装置の製造歩留りは悪く、そのような半導体
記憶装置を現実に製造することは困難であった。
【0032】本発明は、上記課題を解決するためになさ
れたものであり、その目的とするところは、同一ライン
上にROMメモリセル及びRAMメモリセルが重複せず
に自由に混在している半導体記憶装置であって、不良ラ
インと冗長メモリとを置換してもバッティングの生じな
い半導体記憶装置を提供することにある。
【0033】
【課題を解決するための手段】本発明の半導体記憶装置
は、1チップ上に形成された複数のメモリセルを備えた
半導体記憶装置であって、該複数のメモリセルの各々
は、ROMメモリセルまたはRAMメモリセルであり、
該ROMメモリセルを冗長置換するためのROM冗長手
段と、該RAMメモリセルを冗長置換するためのRAM
冗長手段と、を更に備えていることにより、上記目的が
達成される。
【0034】前記ROMメモリセルと前記RAMメモリ
セルの両方をそれぞれ有する複数のメモリセルアレイを
備え、前記ROM冗長手段と前記RAM冗長手段の両方
が、該メモリセルアレイ毎に設けられていてもよい。
【0035】また、本発明の他の半導体記憶装置は、メ
モリセルが複数の行ライン及び列ラインに配されたメモ
リセルアレイを備えており、該複数のラインから一つの
ラインを指定するための第1アドレス信号、及び、指定
された該ライン上の一つのアドレスを指定するための第
2アドレス信号に応じて、該メモリセルアレイの任意の
アドレスが選択される半導体記憶装置において、該複数
のラインのうちの少なくとも一つのラインは、重複せず
に配されたROM部及びRAM部を有しており、該少な
くとも一つのラインのうちの不良ライン上のROM部の
み又はRAM部のみを置換するための冗長ラインを備え
ていることにより、上記目的が達成される。
【0036】前記冗長ラインとしての冗長ROMライン
と、前記不良ライン上のROM部のアドレスが、前記第
1アドレス信号と前記第2アドレス信号とによって指定
された場合に、該冗長ROMライン上の、該第2アドレ
ス信号に対応するアドレスを選択し、しかも、該冗長R
OMラインにより置換された該不良ライン上のRAM部
のアドレスが、該第1アドレス信号と該第2アドレス信
号とによって指定された場合には、該冗長ROMライン
上の、該第2アドレス信号に対応するアドレスを選択し
ない手段と、を備えていてもよい。
【0037】前記冗長ラインとしての冗長RAMライン
を備え、前記不良ライン上のRAM部のアドレスが前記
第1アドレス信号と前記第2アドレス信号とによって指
定された場合には、該冗長RAMライン上の、該第2ア
ドレス信号に対応するアドレスを選択し、該不良ライン
上のROM部のアドレスが該第1アドレス信号と該第2
アドレス信号とによって指定された場合には、該冗長R
AMラインの、該第2アドレス信号に対応するアドレス
を選択しない手段を、更に備えていてもよい。
【0038】前記冗長ラインとしての冗長ROMライン
及び冗長RAMラインを備え、前記不良ライン上のRO
M部のアドレスが前記第1アドレス信号と前記第2アド
レス信号とによって指定された場合には、該冗長ROM
ライン上の、該第2アドレス信号に対応するアドレスを
選択し、該不良ライン上のRAM部のアドレスが該第1
アドレス信号と該第2アドレス信号とによって指定され
た場合には、該冗長RAMライン上の、該第2アドレス
信号に対応するアドレスを選択する手段を、更に備えて
いてもよい。
【0039】前記第2アドレス信号によって指定される
アドレスのそれぞれが前記ROM部及び前記RAM
何れであるかを、ROMデータ書込み時に記憶し得る記
憶手段を備えていてもよい。
【0040】前記第1アドレス信号を受けて、前記不良
ラインの指定を検出する冗長ROMデコーダと、該冗長
ROMデコーダの出力を受け取り、前記記憶手段の記憶
内容に応じて、該ラインの該ROM部が該1アドレス信
号及び前記第2アドレス信号により指定されているとき
は、該冗長ROMラインの選択を示す信号を出力し、該
ラインの該RAM部が該1アドレス信号及び該第2アド
レス信号により指定されているときは、該冗長ROMラ
インの非選択を示す信号を出力する制御手段と、を備え
ていてもよい。
【0041】前記第1アドレス信号を受けて、前記不良
ライン上の指定を検出する冗長RAMデコーダと、該冗
長RAMデコーダの出力を受け取り、前記記憶手段の記
憶内容に応じて、該ラインの該RAM部が該1アドレス
信号及び前記第2アドレス信号により指定されていると
きは、該冗長RAMラインを選択する信号を出力し、該
ラインの該ROM部が該1アドレス信号及び該第2アド
レス信号により指定されているときは、該冗長RAMラ
インを選択しない信号を出力する制御手段と、を備えて
いてもよい。
【0042】前記不良ラインのアドレスのそれぞれがR
OM部又はRAM部の何れであるかを、冗長置換時にプ
ログラムし得るプログラム手段を備えててもよい。
【0043】前記第2のアドレス信号を受け取り、前記
プログラム手段のプログラム内容に応じて、前記第1及
び第2アドレス信号により指定されるアドレスが、前記
不良ラインのROM部であれば、該冗長ROMライン上
の、該第2アドレス信号に対応するアドレスを選択する
信号を出力し、該ラインの該RAM部が該1アドレス信
号及び該第2アドレス信号により指定されているとき
は、該冗長ROMライン上の、該第2アドレス信号に対
応するアドレスを選択する信号を出力しないデコーダを
備えていてもよい。
【0044】前記第2アドレス信号を受け取り、前記プ
ログラム手段のプログラム内容に応じて、前記第1アド
レス及び該第2アドレス信号により指定されるアドレス
が、前記不良ラインのRAM部であれば、該冗長RAM
ライン上の、該第2アドレス信号に対応するアドレスを
選択する信号を出力し、該不良ラインの該ROM部が該
第1アドレス信号及び該第2アドレス信号により指定さ
れているときは、該冗長RAMライン上の、該第2アド
レス信号に対応するアドレスを選択する信号を出力しな
いデコーダを備えていてもよい。
【0045】前記第2アドレス信号を受け取り、該第2
アドレスによって指定されるアドレスについての前記記
憶手段の記憶内容を読み出し、該記憶内容に応じた出力
をつくるROM/RAM判定手段を備えていてもよい。
【0046】前記第2アドレス信号を受け取り、該第2
アドレスによって指定されるアドレスについての前記
ログラム手段のプログラム内容を読み出し、該プログラ
内容に応じた出力をつくるROM/RAM判定手段を
備えていてもよい。
【0047】
【実施例】以下に、本発明を実施例について説明する。
【0048】(第1実施例)図1は、本発明による半導
体記憶装置の第1実施例の構成を示している。図1に
は、メモリセルアレイ1、行デコーダ2、列デコーダ
3、出力回路4、データ線読み出し回路5、ワードライ
ン30及びビットラインペア47等が示されている。こ
の半導体記憶装置は、冗長手段として、冗長ROMビッ
トライン247、冗長ROMビットライン読み出し回路
205、第2の冗長ROM用行デコーダ202b、及び
冗長ROM用列デコーダ203を備えている。
【0049】メモリセルアレイ1内では、メモリセルが
列ライン及び行ライン上に配列されている。本実施例で
は、ビットラインペア47に平行なライン(列ライン)
上にROMメモリセル35及びRAMメモリセル34が
混在している。また、同一ライン上には、ROMメモリ
セル35のみ、または、RAMメモリセル34のみが配
列されている。メモリブロックは、例えば256本のワ
ードライン30を有している。行デコーダ2が行アドレ
ス(RA0−RA7)をデコードすることにより、25
6本のワードライン30から1本のワードライン30を
選択する。
【0050】本実施例では、メモリセルアレイ1の複数
のライン(列ライン)の内の一つのラインを指定する第
1アドレス信号(列アドレス信号)、及びそのライン上
の一つのアドレスを指定する第2アドレス(行アドレス
信号)によって、メモリセルアレイ1内の一つのアドレ
スが指定される。行デコーダ2は、行アドレス信号をデ
コードし、複数のワードライン30のうちの一つのワー
ドライン30をアクティブにする。列デコーダ3は列ア
ドレス信号をデコードし、複数の列選択信号線46の内
の一つをアクティブにする。この結果、選択された(ア
クティブにされた)ワードライン30に属するメモリセ
ルが、ビットラインペア47に電気的に接続され、それ
らのメモリセル34又は35に記憶されているデータに
よりビットラインペア47に電位差が生じる。この電位
差は、センスアンプ37により増幅される。列選択信号
線46によって選択されたビットラインペア47の電位
差はトランスファゲートを介してデータ線6に出力され
る。データ線6に出力された電位差は、データ線読み出
し回路5により増幅され出力回路4に送られる。
【0051】本実施例は、更に、複数の記憶手段(以
下、「第1手段」と略記することがある。)11と、R
OM/RAM判定手段(以下、「第2手段」と略記する
ことがある。)12と、制御手段(以下、「第3手段」
と略記することがある。)13とを備えている。
【0052】各記憶手段11は、ビットラインペア47
上の個々の行アドレスが、ROM及びRAMの何れであ
るかを、前半工程(ウェハプロセス)において、ROM
データの書き込みと同様にして記憶する。記憶手段11
は、ワードライン30の各々について設けられており、
ワードライン30毎に異なる記憶内容を有する、すなわ
ち、ROMかRAMかの設定をすることが可能である。
各記憶手段11は、例えば、閾値の高低が制御されたト
ランジスタを有しており、閾値に応じて、記憶手段11
が対応しているワードライン30に接続されているメモ
リセルがROM及びRAMの何れであるかが特定され
る。また、各記憶手段11は、例えば、ソース(拡散)
と接地電位配線との間にコンタクトホールを有するトラ
ンジスタを有しており、コンタクトホールの有無に応じ
て、記憶手段11が対応するワードライン30に接続さ
れているメモリセルがROM及びRAMの何れであるか
が特定される。
【0053】以下の説明を簡単化するため、本明細書に
於いては、トランジスタの閾値の高い状態、または、上
記コンタクトホールの無い状態を「オープン状態」、閾
値の低い状態、または、上記コンタクトホールの有る状
態を「ショート状態」と表現することとする。
【0054】行アドレスがROMであれば、記憶手段1
1が有するその素子はオープン状態にされ、行アドレス
がRAMであればショート状態に設定される。その設定
は、ROMメモリセルに対するデータ書き込みを行う場
合と同様にして、フォトマスク上へのデータ書き込みを
行うことにより行われる。
【0055】第2手段12は、記憶手段11に接続され
たノード100と、ノード100を所定の電位にプルア
ップするプルアップ素子101と、ノード100の電位
に基づいて出力102をつくる2段インバータとを有し
ている。第2手段12は、記憶手段11の記憶内容を記
憶手段11から読み出し、その記憶内容を制御手段13
へ出力する。行アドレスによって選択されたワードライ
ン30の電位が立ち上がると、その行アドレスに対応す
る記憶手段11がオープン状態かショート状態かに応じ
て、ノード100の電位が変化する。より詳細には、指
定された行アドレスに対応する記憶手段11がオープン
状態にあれば、プルアップ素子によりノード100の電
位がHレベルに保持される。その結果、第2手段12の
出力102は、Hレベルになる。逆に、指定された行ア
ドレスに対応する記憶手段11がショート状態にあれ
ば、ノード100の電位がLレベルにプルダウンされ
る。その結果、第2手段12の出力102は、Lレベル
になる。
【0056】制御手段13は、AND回路とインバータ
とを有しており、冗長ROM用列デコーダ203の出力
48と第2手段12の出力102を受け取り、両者がと
もにHレベルであれば、冗長ROMビットラインの選択
を示すように、出力信号(選択信号)103をHレベル
(アクテイブ)にする。なお、冗長ROM用列デコーダ
203の出力48がHレベルになるのは、もとの不良ラ
インが選択されるときに対応している。また、第2手段
12の出力102がHレベルになるのは、不良ライン上
のROM部が指定されたときである。従って、冗長RO
M用列デコーダ203の出力48と第2手段12の出力
102がともにHレベルとなるのは、不良ラインのRO
M部が指定されたときである。こうして、制御手段13
は、冗長ROMビットライン247により置換された不
良ラインのROM部のアドレスが、第1アドレス信号
(列選択信号)と第2アドレス信号(行選択信号)とに
よって指定された場合に、冗長ROMビットライン24
7の選択を示す信号を出力する。また、制御手段13
は、冗長ROMビットライン247により置換された不
良ラインのRAM部のアドレスが、第1アドレス信号と
第2アドレス信号とによって指定された場合には、冗長
ROMビットライン247の非選択を示す信号を出力す
る。
【0057】制御手段13の出力信号103は、冗長R
OMビットライン読み出し回路205の制御端子に入力
される。また、出力信号103をインバータにより反転
させることにより形成された出力信号103の反転信号
が、データ線読み出し回路5の制御端子に入力される。
冗長ROMビットライン読み出し回路205及びデータ
線読み出し回路5は、それぞれの制御端子がHレベルの
ときだけ、データ入力端子の電位差を増幅し、増幅され
たデータを出力回路4に送る。従って、冗長ROMビッ
トライン読み出し回路205及びデータ線読み出し回路
5は、出力信号103に応じて、いずれか一方のみが動
作し、冗長ROMビットライン247及びデータ線6の
いずれか一方のデータが出力回路4に送られる。
【0058】このようにして、本発明の第1実施例で
は、行及び列アドレス信号が、不良ライン上のROM部
のアドレスを指定しているきには、冗長ROMビットラ
イン247上の対応する行アドレスが選択され、そのデ
ータが出力回路4に伝達される。一方、行及び列アドレ
ス信号が、不良ライン上のRAM部のアドレスを指定し
ているきには、冗長ROMビットライン247上のどの
アドレスも選択されず、そのライン上のデータは出力回
路4に伝達されない。このため、アドレスのバッティン
グが防止される。本実施例以下、第8実施例までは、R
OM冗長とRAM冗長の何れか一方を備えた半導体記憶
装置の例を示す。第9実施例において、ROM冗長とR
AM冗長とを兼ね備え、両者のバッティングを防止する
半導体記憶装置の例を示す。
【0059】(第2実施例)以下に、図2を参照しなが
ら、本発明の第2実施例を説明する。図2に於いて、第
1実施例の各要素に対応する要素には、同一の番号が付
けられている。他の実施例を示す図に於いても、同様で
ある。
【0060】本実施例では、ワードライン30に平行な
ライン(行ライン)上にROMメモリセル35及びRA
Mメモリセル34が混在している。第2実施例と第1実
施例との主要な相違点は、記憶手段11がワードライン
30毎にではなくビットラインペア47毎に設けられて
いることにある。各記憶手段11は、ワードライン30
上の個々の列アドレスが、ROM及びRAMの何れであ
るかを、前半工程(ウェハプロセス)において、ROM
データの書き込みと同様にして記憶する。記憶手段11
は、第1実施例の記憶手段11と同様に、電気的にオー
プン又はショートの2状態を取り得る素子を有してお
り、その2状態の各々に応じて、ROM及びRAMの何
れであるかが特定される。
【0061】本実施例での冗長の対象は、ワードライン
30である。不良ワードラインは、冗長ROMビットラ
イン247により置き換えられる。冗長ROMビットラ
イン247は、一つの行に相当する。不良ワードライン
は、図11に示される行デコーダ2の回路の不良アドレ
スのヒューズをレーザトリミングにより溶断することに
より、非活性化される。
【0062】本実施例は、第1実施例と同様に、記憶手
段11(第1手段)と記憶手段11の記憶内容を読み出
す読み出し手段(第2手段)12と制御手段(第3手
段)13とを備えている。本実施例の第2手段12は、
列選択信号46に応じて選択されたビットラインペア4
7について、ROMかRAMかの記憶内容を記憶手段1
1から読み出す。より詳細には、第2手段12は、記憶
手段11に接続されたノード100と、ノード100を
所定の電位にプルアップするプルアップ素子101と、
ノード100の電位に基づいて出力102をつくる2段
インバータとを有している。
【0063】本実施例は、第2の冗長ROM用列デコー
ダ203b及び冗長ROM用行デコーダ202を備えて
いる。第2の冗長ROM用列デコーダは203bは、列
アドレスを受け取り、冗長ROM用列選択信号31を出
力する。
【0064】本実施例によれば、列アドレスに応じて列
選択信号46がアクティブになると、その列アドレスに
対応する記憶手段11がオープン状態かショート状態か
に応じて、第2手段12のノード100の電位が変化す
る。より詳細には、指定された列アドレスに対応する記
憶手段11がオープン状態にあれば、プルアップ素子1
01によりノード100の電位がHレベルに保持される
結果、第2手段の出力102は、Hレベルになる。逆
に、指定された列アドレスに対応する記憶手段11がシ
ョート状態にあれば、ノード100の電位がLレベルに
プルダウンされる結果、第2手段の出力102は、Lレ
ベルになる。
【0065】制御手段(第3手段)13は、冗長ROM
用行デコーダ202の出力と第2手段12の出力102
を受け取り、両者がともにHレベルであれば、冗長RO
Mビットライン247の選択を示すように、出力信号1
03をHレベル(アクテイブ)にする。なお、冗長RO
M用行デコーダ202の出力がHレベルになるのは、も
との不良行ラインが選択されたときである。また、第2
手段12の出力102がHレベルになるのは、不良行ラ
イン上のROM部が指定されたときである。従って、冗
長ROM用行デコーダ202の出力と第2手段12の出
力102がともにHレベルとなるのは、不良行ラインの
ROM部が指定されたときである。こうして、制御手段
13は、冗長ROMビットライン247により置換され
た不良行ラインのROM部のアドレスが、第1アドレス
信号(列選択信号)と第2アドレス信号(行選択信号)
とによって指定された場合に、冗長ROMビットライン
247の選択を示す信号を出力する。また、制御手段1
3は、冗長ROMビットライン247により置換された
不良ラインのRAM部のアドレスが、第1アドレス信号
と第2アドレス信号とによって指定された場合には、冗
長ROMビットライン247の非選択を示す信号を出力
する。
【0066】以上説明したように、本実施例によれば、
行及び列アドレス信号が、元の不良ライン上のROM部
のアドレスを指定しているきには、制御手段13の出力
103がHレベルになるため、冗長ROMビットライン
読みだし回路205が動作し、冗長ROMビットライン
247上のデータが出力回路4に読み出される。このと
き、データ線読み出し回路5は動作しない。また、行及
び列アドレス信号が、元の不良ライン上のRAM部のア
ドレスを指定しているきには、制御手段13の出力10
3がLレベルになるため、冗長ROMビットライン読み
だし回路205は動作せず、冗長ROMビットライン2
47上のデータが出力回路に読み出されない。
【0067】(第3実施例)以下に、図3を参照しなが
ら、本発明の第3実施例を説明する。本実施例は、冗長
RAMライン347、記憶手段11、ROM/RAM判
定手段12及び第2の制御手段14を有している。
【0068】本実施例の第1手段(記憶手段)11は、
第1実施例の記憶手段11と同様の構成を有している
が、本実施例の第2手段(ROM/RAM判定手段)1
2のインバータの段数(3段)は、第1実施例の第2手
段12のインバータの段数(2段)よりも1段多い。イ
ンバータが1段追加されることにより、第2手段12の
出力102’は、第1実施例の第2手段12の出力10
2を反転させたものとなる。このように第2手段12の
出力102’を第1実施例の第2手段12の出力102
とを逆にするのは、第1実施例ではROMが冗長救済さ
れるのに対して、本実施例ではRAMが冗長救済される
ためである。
【0069】この結果、行アドレスがRAM部を指定し
たときは、第2手段12の出力102’は、Hレベルと
なる。第2の制御手段(第4手段)14は、AND回路
である。第2の制御手段14は、第2手段12の出力1
02’と冗長RAM用列デコーダ303の出力50とを
受け取り、両方がHレベルの場合にのみ、冗長RAM列
選択信号49をアクテイブにする。このとき、列デコー
ダ3の不良列ラインに対する列選択信号46は、図11
に示されているヒューズの溶断によって、アクティブに
はなり得ないようにされている。
【0070】このように、本発明の第3実施例では、行
及び列アドレス信号が、不良ライン上のRAM部のアド
レスを指定しているきには、冗長RAMビットライン3
47が選択され、データ線6に接続される結果、データ
が出力回路4に伝達される。一方、行及び列アドレス信
号が、不良ライン上のROM部のアドレスを指定してい
るきには、冗長RAMビットライン347上は選択され
ず、データは出力回路4に伝達されない。
【0071】(第4実施例)以下に、図4を参照しなが
ら、本発明の第4実施例を説明する。本実施例では、ワ
ードライン30に平行なライン上にROMメモリセル3
5及びRAMメモリセル34が混在している。この点
で、本実施例は第2実施例に類似した構成を有してい
る。第4実施例と第2実施例との主要な相違点は、第2
実施例の冗長がROM部について行われるのに対して、
本実施例の冗長がRAM部について行われることにあ
る。
【0072】本実施例も、第1実施例と同様に、第1手
段11、第2手段12及び第3手段13を有しており、
また、冗長RAMライン330を有している。本実施例
では、行及び列アドレス信号が、元の不良ライン上のR
OM部のアドレスを指定しているきには、第2手段12
の出力102がLレベルになる。冗長RAMワードライ
ン330のRAMメモリセル34は、メモリセルアレイ
1と共通のビットラインペア47に接続されており、共
通のセンスアンプ37、データ線6、データ線読み出し
回路5により、読み出し等の動作が実行される。不良ワ
ードラインは、第2実施例と同様に、図11に示される
行デコーダ2の不良アドレスのヒューズをレーザトリミ
ングにより溶断することにより、非活性化される。本実
施例では、不良ワードラインのROM部のアドレスが指
定されたときだけ、制御手段13の出力104がLレベ
ルになる。このとき、出力104を受けたデータ線読み
出し回路5は動作せず、データ線6のデータは出力回路
4に送られない。
【0073】このように第4実施例によれば、行及び列
アドレス信号が、元の不良ライン上のRAM部のアドレ
スを指定しているきには、冗長RAMワードライン33
0のデータが出力回路4に読み出される。一方、行及び
列アドレス信号が、元の不良ライン上のROM部のアド
レスを指定しているきには、冗長RAMワードライン3
30のデータは出力回路4に読み出されない。
【0074】(第5実施例)以下に、図5を参照しなが
ら、本発明の第5実施例を説明する。本実施例では、ビ
ットラインペア47に平行なライン上にROMメモリセ
ル35及びRAMメモリセル34が混在している。この
点で、本実施例は第3実施例に類似した構成を有してい
る。第5実施例と第3実施例との主要な相違点は、第3
実施例の冗長がRAM部について行われるのに対して、
本実施例の冗長がROM部について行われること、及
び、第3実施例ではROMかRAMかの記憶をROMデ
ータの記憶と同様にして前半工程で行うのに対して、第
5実施例では、ROMかRAMかの記憶を、冗長置換の
ための処理工程と同様にして後半工程で行うことにあ
る。
【0075】本実施例の第1冗長ROM用行デコーダ2
02aは、図12に示されている第2の冗長ROMデコ
ーダとは異なる構成を有している。図13は、第1の冗
長デコーダの構成例を示している。この第1の冗長デコ
ーダは、ROM(又はRAM)用列デコーダとしても、
また、ROM(又はRAM)用行デコーダとしても用い
られ得る。本実施例では、図13に示されるデコーダが
第1冗長ROM用行デコーダ202aとして使用されて
いる。
【0076】図13に示されるように、第1の冗長RO
Mデコーダは、ウェハテスト後の後半工程でレーザトリ
ミングによりプログラム可能な複数のヒューズをプログ
ラム手段(以下、「第5手段」と略記することがあ
る。)として備えている。不良ビットラインペア上のR
OMに対応する行アドレスに対しては、ヒューズを溶断
せず、RAMに対応する行アドレスに対しては、ヒュー
ズを溶断する。ヒューズが溶断された行アドレスでは、
冗長ROM用行選択信号31はアクテイブにはなり得な
い。従って、不良アドレスが指定される場合において、
ROMが行アドレスにより指定されれば、該当する冗長
ROM用行選択信号31がアクティブになり、RAMが
指定されれば、冗長ROM用行選択信号は31は全て非
アクティブなLレベルになる。
【0077】第5実施例は、第1実施例の第2手段12
と類似の構成を有するROM/RAM判定手段(第6手
段)16を備えている。第6手段6は、wired−O
R回路となっている。この第6手段16は、ソース/ド
レインの一方が接地され、かつ、ゲートが各冗長ROM
用行選択信号31に応じて開閉するトランジスタと、こ
れら複数のトランジスタのソース/ドレインの他方に共
通に接続されたノード150と、ノード150を所定の
電位にプルアップするプルアップ素子151と、ノード
150の電位に基づいて出力152をつくる3段インバ
ータとを有している。
【0078】第6手段16は、第1冗長ROM用行デコ
ーダ202a内のプログラム内容に応じて、出力152
を制御手段13へ出力する。何れかの冗長ROM用行選
択信号31の電位がHレベルになれば、ノード150は
Lレベルになる。すべての冗長ROM用行選択信号31
の電位がLレベルであれば、ノード150はHレベルに
プルアップされたままであるので、出力152はLレベ
ルになる。
【0079】制御手段13は、第1冗長ROM用列デコ
ーダ203の出力48と第6手段16の出力152を受
け取り、両者がともにHレベルであれば、冗長ROMビ
ットライン読み出し回路を動作させるために信号103
をHレベル(アクテイブ)にする。なお、冗長ROM用
列デコーダ203の出力48がHレベルになるのは、も
との不良ラインが選択されるときに対応している。ま
た、第6手段16の出力152がHレベルになるのは、
不良ライン上のROM部が指定されたときである。従っ
て、冗長ROM用列デコーダ203の出力48と第2手
段12の出力102がともにHレベルとなるのは、不良
ラインのROM部が指定されたときである。こうして、
制御手段13は、冗長ROMビットライン247により
置換された不良ラインのROM部のアドレスが、第1ア
ドレス信号(列選択信号)と第2アドレス信号(行選択
信号)とによって指定された場合に、冗長ROMビット
ライン247の非選択を示す信号を出力する。また、制
御手段13は、冗長ROMビットライン247により置
換された不良ラインのRAM部のアドレスが、第1アド
レス信号と第2アドレス信号とによって指定された場合
には、冗長ROMビットライン247の非選択を示す信
号を出力する。制御手段13の出力信号103は、冗長
ROMビットライン読み出し回路205の制御端子に入
力される。また、選択信号103をインバータにより反
転させることにより形成された選択信号103の反転信
号が、データ線読み出し回路5の制御端子に入力され
る。冗長ROMビットライン読み出し回路205及びデ
ータ線読み出し回路5は、それぞれの制御端子がHレベ
ルのときだけ、データ入力端子の電位差を増幅し、増幅
されたデータを出力回路4に送る。従って、冗長ROM
ビットライン読み出し回路205及びデータ線読み出し
回路5は、出力信号103に応じて、いずれか一方のみ
が動作し、冗長ROMビットライン247及びデータ線
6のいずれか一方のデータが出力回路4に送られる。
【0080】(第6実施例)以下に、図6を参照しなが
ら、本発明の第6実施例を説明する。本実施例では、ワ
ードライン30に平行なライン上にROMメモリセル3
5及びRAMメモリセル34が混在している。この点
で、本実施例は、ビットラインペア47に平行なライン
上にROMメモリセル35及びRAMメモリセル34が
混在している第5実施例と異なっている。また、本実施
例の構成は、第2実施例に類似した構成を有している。
第6実施例と第2実施例との主要な相違点は、各ビット
ラインペア47毎にROMかRAMかを記憶する手段の
構成の相違にある。
【0081】本実施例は、図13に示される構成を有す
る第1冗長ROM用列デコーダ203aを有している。
第5実施例の有する第1冗長ROM用行デコーダ202
aと同様に、第1冗長ROM用列デコーダ203aは、
ウェハテスト後の後半工程でレーザトリミングによりプ
ログラム可能なヒューズを備え、不良ビットラインペア
上でROMである行アドレスに対しては、ヒューズを溶
断せず、RAMである行アドレスに対しては、ヒューズ
を溶断する。ヒューズが溶断された行アドレスでは、冗
長ROM用行選択信号31はアクテイブにはなり得な
い。従って、不良アドレスが指定される場合において、
ROMが行アドレスにより指定されれば、該当する冗長
ROM用行選択信号31がアクティブになり、RAMが
指定されれば、冗長ROM用行選択信号は31は全て非
アクティブなLレベルになる。
【0082】また、第6実施例は、第5実施例と同様
に、第6手段16を備えている。何れかの冗長ROM用
行選択信号31の電位がHレベルになれば、第6手段の
ノード150はLレベルになり、出力152はHレベル
になる。すべての冗長ROM用行選択信号31の電位が
Lレベルであれば、ノード150はHレベルにプルアッ
プされたままであるので、出力152はLレベルにな
る。この出力152は、第2実施例の第2手段12の出
力102と同様の機能を果たす。他の動作については、
第2の実施例の動作と同様である。
【0083】(第7実施例)以下に、図7を参照しなが
ら、本発明の第7実施例を説明する。本実施例では、ビ
ットラインペア47に平行なライン上にROMメモリセ
ル35及びRAMメモリセル34が混在している。本実
施例の構成は、第3実施例に類似した構成を有してい
る。
【0084】本実施例は、図13に示されるデコーダの
構成を有する第1冗長RAM用行デコーダ302aと、
冗長RAMビットライン347とを備えている。本実施
例はRAMの冗長に関するため、不良ビットラインペア
上でRAMである行アドレスに対しては、第1冗長RA
M用行デコーダ302a(図13)内のヒューズを溶断
せず、ROMである行アドレスに対しては、ヒューズを
溶断する。従って、不良アドレスが指定されたときに、
行アドレスによってRAMが指定されれば、該当する冗
長RAM用行選択信号31がアクティブ(Hレベル)に
なり、ROMが指定されれば、冗長RAM用行選択信号
31は全て非アクティブ(Lレベル)になる。さらに、
冗長RAM用行選択信号31少なくとも一つがアクティ
ブになれば、ノード150はLレベルにプルダウンさ
れ、第6手段16の出力152はHレベルになる。ま
た、冗長RAM用行選択信号31の全てが非アクティブ
になれば、ノード150は、Hレベルにプルアップされ
たままであり、第6手段16の出力152は、Hレベル
になる。第6手段16の出力152は、第3実施例の第
2手段12の出力102’と同様の機能を果たす。すな
わち、出力152は、冗長用RAM用列デコーダ103
の出力とともに、第2の制御手段(AND回路)14に
入力される。
【0085】(第8実施例)以下に、図8を参照しなが
ら、本発明の第8実施例を説明する。
【0086】本実施例は、冗長RAMメモリセルの読み
出し等の動作を行うため、通常のメモリセルのためのセ
ンスアンプ37等とは別のセンスアンプ37、データ線
6、冗長RAMデータ線読み出し回路305を備えてい
る。冗長RAMデータ線読み出し回路305は、通常の
データ線読み出し回路5と同様の構成を有している。従
って、冗長RAMワードライン330のRAMメモリセ
ル34の読み出し動作は、通常のRAMメモリセル34
の読み出し動作と同様である。本実施例は、図3に示さ
れる第1冗長RAM用列デコーダ303aを備えてい
る。本実施例はRAMの冗長に関するため、不良ビット
ラインペア上でRAMである行アドレスに対しては、第
1冗長RAM用列デコーダ303a(図13)内のヒュ
ーズを溶断せず、ROMである行アドレスに対しては、
ヒューズを溶断する。第1冗長RAM用列デコーダ30
3a、及び第6手段16の動作は、基本的に第6実施例
について説明した動作と同様である。
【0087】(第9実施例)以下に、図9を参照しなが
ら、本発明の第9実施例を説明する。
【0088】本実施例は、第3実施例と第5実施例とを
組み合わせた機能を有する半導体記憶装置である。本実
施例は、冗長RAMに関する回路として、第3実施例の
回路と同様の回路を備えている。ただし、本実施例で
は、第5実施例の第6手段16の出力152と、第2手
段の出力102’とは、互いに反転されたものとなるた
め、本実施例は、第6手段16と第2手段12のうち、
第2手段12のみを備え、第6手段16を備えていな
い。
【0089】また、本実施例は、冗長ROMに関する回
路として、第5実施例の回路と同様の回路を備えてい
る。ただし、本実施例では、第5実施例の第6手段の出
力152の代わりに、第2手段の出力102’をインバ
ータにより反転された反転信号102”を使用してい
る。
【0090】本実施例は、第2のアドレス信号(行アド
レス信号)によって指定されるライン上の個々のアドレ
スがROMであるか又はRAMであるかを、ROMデー
タの書き込みと同様に、前半工程で、記憶し又は設定す
る記憶手段11を有している。
【0091】行アドレスによって選択されたワードライ
ン30の電位が立ち上がると、その行アドレスに対応す
る記憶手段11がオープン状態かショート状態かに応じ
て、ノード100の電位が変化する。より詳細には、指
定された行アドレスに対応する記憶手段11がオープン
状態にあれば、プルアップ素子によりノード100の電
位がHレベル保持される。その結果、第2手段の出力1
02’は、Lレベルになる。すなわち、ROMであれば
オープン状態、RAMであればショート状態に設定され
る。
【0092】記憶手段11がショート状態にあれば、ノ
ード100の電位はLレベルにプルダウンされる。その
結果、第2手段の出力102’は、Hレベルになる。
【0093】従って、第2手段の出力102’は、選択
された行アドレスがROMであれば、Lレベルに、選択
された行アドレスがRAMであれば、Hレベルになる。
【0094】本実施例は、更に、第1のアドレス信号
(列アドレス信号)を受けて、不良ラインの指定を検出
する冗長RAM用列デコーダ303と第2の制御手段
(AND回路)14とを備えている。第2の制御手段1
4は、記憶手段11の記憶内容に応じて、行アドレスが
不良ライン上のRAM部のアドレスが指定されていると
きは、Hレベルの出力102’を、ROM部のアドレス
が指定されているときは、Lレベルの出力102’を受
け取る。第2の制御手段14は、冗長RAM列選択信号
49を出力する。この冗長RAM列選択信号49は、行
及び列アドレスが不良ラインのRAM部を指定している
ときは、Hレベルとなり、ROM部を指定しているとき
は、Lレベルとなる。
【0095】こうして、本実施例の冗長RAMビットラ
イン347は、不良ラインと置換された後、行及び列ア
ドレス信号が不良ライン上のRAM部のアドレスを指定
しているとき、データ線6に接続され、行及び列アドレ
ス信号が不良ライン上のROM部のアドレスを指定して
いるとき、データ線6に接続されない。
【0096】本実施例では、置換すべき不良ライン上の
個々の行アドレスがROMかRAMかを、冗長置換のた
めの処理と同様に、後半工程でプログラム可能なヒュー
ズ(第5手段)15を第1冗長ROM用行デコーダ20
2a内に有している。第1冗長ROM用行デコーダ20
2aの内部回路の一例は図13に示されている。不良ラ
インのある行アドレスのメモリセルがROMであれば、
このヒューズは切断されない。不良ラインのある行アド
レスのメモリセルがRAMであれば、このヒューズは切
断される。図13に示されるように、デコーダ内のヒュ
ーズが切断されていないときは、行アドレスをデコード
した行アドレスデコード信号481がLレベルになれ
ば、ノード482がプルダウンされるので、冗長ROM
用行選択信号31が出力される。一方、ヒューズが切断
されていると、行アドレスをデコードした行アドレスデ
コード信号481がLレベルになっても、ノード482
はプルダウンされず、Hレベルに保持されるために、冗
長ROM用行選択信号31は出力されない。
【0097】このように、本実施例の第1冗長ROM用
行デコーダ202aは、ヒューズの切断又は非切断に応
じて、行及び列アドレス信号が不良ライン上のROM部
のアドレスを指定しているときには、冗長ROM用行選
択信号31を冗長ROMビットライン247に対して出
力し、行及び列アドレス信号が、元の不良ライン上のR
AM部のアドレスを指定しているときは、アクティブな
冗長ROM用行選択信号31を冗長ROMビットライン
247に対して出力しない。この結果、本実施例では、
冗長ROMビットライン247が不良ビットラインと置
換されたあと、行及び列アドレス信号が、不良ライン上
のROM部のアドレスを指定している時、冗長ROMビ
ットライン247上の、行アドレス信号に対応するメモ
リセルが選択され、行及び列アドレス信号が、不良ライ
ン上のRAM部のアドレスを指定している時、冗長RO
Mビットライン247上のどのメモリセルも選択されな
い。
【0098】本実施例の半導体記憶装置は、データ線読
み出し回路5と冗長ROMビットライン読み出し回路2
05との切り替えが、制御手段13により行われてい
る。行及び列アドレス信号が、不良ライン上のROM部
のアドレスを指定している時、制御手段13の出力、す
なわち、冗長ROMビットライン読み出し回路205の
制御端子はHレベルになり、データ線読み出し回路5の
制御端子は、Lレベルになる。また、行及び列アドレス
信号が、不良ライン上のROM部のアドレスを指定して
いる時、制御手段13の出力、すなわち、冗長ROMビ
ットライン読み出し回路205の制御端子はLレベルに
なり、データ線読み出し回路5の制御端子は、Hレベル
になる。
【0099】従って、不良ラインのROM部のアドレス
が選択されたときは、冗長ROMビットライン247の
メモリセルのデータが出力回路4に伝達され、不良ライ
ンのRAM部のアドレスが選択されたときは、冗長RA
Mビットライン347のメモリセルのデータが出力回路
に伝達される。
【0100】以上述べたように、本実施例の半導体記憶
装置は、同一の不良ラインを上記冗長ROMビットライ
ン247と冗長RAMビットライン347上のアドレス
の選択と上記冗長ROMライン上のアドレスの選択とが
バッティングしない。このことを、図10を参照しなが
ら、以下に説明する。
【0101】同一ライン上にROMとRAMとが自由に
混在し、また、ROMのデータ書き込みが前半工程で行
われるような半導体記憶装置では、不良ラインを置換す
るためには、後半工程にてデータ入れ替えが可能な冗長
ROMラインと冗長RAMラインの両方を備えているこ
とが好ましい。本実施例によれば、冗長ROMライン及
び冗長RAMラインを不良ラインと置き換える場合、も
との不良ラインのROMであったアドレスには、冗長R
OMラインの対応するアドレスが割り当てられる。ま
た、もとの不良ラインのRAMであったアドレスには、
冗長RAMラインの対応するアドレスが割り当てられ
る。このため、第1アドレスによって、もとの不良ライ
ンが指定されたときに、冗長ROMラインと冗長RAM
ラインの両方が選択されるということはなく、アドレス
のバッティングは起こらない。
【0102】なお、上記実施例のうち、第1、第2、第
5及び第6実施例は、ROMの冗長に関する実施例であ
り、第3、第4、第7及び第8実施例は、RAMの冗長
に関する実施例である。従って、第1、第2、第5及び
第6実施例の何れかと、第3、第4、第7及び第8実施
例の何れかとを組み合わせることにより、ROM及びR
AMの両方についての冗長が可能である。第9実施例
は、第5実施例と第3実施例とを組み合わせたものであ
り、ROM及びRAMの両方についての冗長が可能な例
の一つである。
【0103】また、第1、第2、第3及び第4実施例
は、ROMかRAMかの記憶をROMデータの記憶と同
様にして前半工程で行う実施例であり、第5、第6、第
7及び第8実施例は、ROMかRAMかの記憶を、冗長
置換のための処理工程と同様にして後半工程で行う実施
例である。
【0104】また、第1、第3、第5及び第7実施例
は、ビットラインペア上にROM及びRAMが混在して
いる実施例であり、第2、第4、第6及び第8実施例
は、ワードライン上にROM及びRAMが混在している
実施例である。
【0105】
【発明の効果】本発明によれば、同一ラインにROM及
びRAMが重複せずに自由に混在している半導体記憶装
置に於いても、そのようなラインを冗長救済することが
可能となる。このため、同一ライン上にROM及びRA
Mが重複せずに自由に混在している半導体記憶装置を高
い歩留りで製造することが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の第1実施例を示す図である。
【図2】本発明の第2実施例を示す図である。
【図3】本発明の第3実施例を示す図である。
【図4】本発明の第4実施例を示す図である。
【図5】本発明の第5実施例を示す図である。
【図6】本発明の第6実施例を示す図である。
【図7】本発明の第7実施例を示す図である。
【図8】本発明の第8実施例を示す図である。
【図9】本発明の第9実施例を示す図である。
【図10】第9実施例の効果を説明するための図であっ
て、同一ラインにROM部及びRAM部が混在する不良
ラインを冗長RAMメモリ及び冗長ROMメモリにより
置換する冗長置換を模式的に示す図である。
【図11】列デコーダ及び行デコーダの構成を示す図で
ある。
【図12】行デコーダの構成を示す図である。
【図13】第1の冗長ROM(RAM)用行(列)デコ
ーダの構成を示す図である。
【図14】同一ライン上にROMメモリセル及びRAM
メモリセルが混在している半導体記憶装置を示す図であ
る。
【図15】RAMメモリセルからなるメモリセルアレイ
とRAM用冗長メモリとを備えた従来の半導体記憶装置
を示す図である。
【図16】ROMメモリセルからなるメモリセルアレイ
とROM用冗長メモリとを備えた従来の半導体記憶装置
を示す図である。
【図17】同一メモリセルアレイ内にRAMメモリセル
及びRAMメモリセルが混在する半導体記憶装置の構成
を示す図である。
【図18】RAMメモリセルアレイ及びRAMメモリセ
ルアレイを備えた半導体記憶装置の構成を示す図であ
る。
【図19】RAMメモリセルアレイ及びRAMメモリセ
ルアレイと、ROM冗長メモリ及びRAM冗長メモリ
と、を備えた半導体記憶装置の構成を示す図である。
【図20】ROMメモリセル及びRAMメモリセルの構
成例を示す図であり、(a)はRAMメモリセルを、
(b)はROMメモリセルを、(c)はSRAMメモリ
セルを、(d)は他のROMメモリセルを、(e)は冗
長ROMメモリセルを、(f)はマスクROMメモリセ
ルを示している。
【図21】冗長RAM(ROM)列(行)デコーダの構
成を示す図である。
【図22】同一ラインにROM部及びRAM部が混在す
る不良ラインを冗長RAMメモリにより置換する冗長置
換を模式的に示す図である。
【図23】同一ラインにROM部及びRAM部が混在す
る不良ラインを冗長ROMメモリにより置換する冗長置
換を模式的に示す図である。
【図24】同一ラインにROM部及びRAM部が混在す
る不良ラインを冗長RAMメモリ及び冗長ROMメモリ
により置換する冗長置換を模式的に示す図である。
【符号の説明】
1 メモリセルアレイ 2 行デコーダ 3 列デコーダ 4 出力回路 5 データ線読み出し回路 6 データ線、 11 記憶手段(第1手段) 12 ROM/RAM判定手段(第2手段) 13 制御手段(第3手段) 14 第2の制御手段(第4手段) 15 ヒューズ(第5手段) 16 ROM/RAM判定手段(第6手段) 30 ワードライン 31 冗長ROM(RAM)行(列)選択信号 34 RAMメモリセル 35 ROMメモリセル 36 冗長ROMメモリセル 37 センスアンプ 46、461、462 列選択信号 47 ビットラインペア 48、481、482 選択信号 101、151 プルアップ素子 100、150 ノード 202 冗長ROM用行デコーダ 202a 第1の冗長ROM用行デコーダ 202b 第2の冗長ROM用行デコーダ 203 冗長ROM用列デコーダ 203a 第1の冗長ROM用列デコーダ 203b 第2の冗長ROM用列デコーダ 205 冗長ROMビットライン読み出し回路 247 冗長ROMビットライン 302 冗長RAM用行デコーダ 302a 第1の冗長RAM用行デコーダ 303 冗長RAM用列デコーダ 303a 第1の冗長RAM用列デコーダ 347 冗長RAMビットライン

Claims (14)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】1チップ上に形成された複数のメモリセル
    を備えた半導体記憶装置であって、 該複数のメモリセルの各々は、ROMメモリセルまたは
    RAMメモリセルであり、 該ROMメモリセルを冗長置換するためのROM冗長手
    段と、 該RAMメモリセルを冗長置換するためのRAM冗長手
    段と、 を更に備えている半導体記憶装置。
  2. 【請求項2】前記ROMメモリセルと前記RAMメモリ
    セルの両方をそれぞれ有する複数のメモリセルアレイを
    備えており、 前記ROM冗長手段と前記RAM冗長手段の両方が、該
    メモリセルアレイ毎に設けられている請求項1に記載の
    半導体記憶装置。
  3. 【請求項3】メモリセルが複数の行ライン及び列ライン
    に配されたメモリセルアレイを備えており、該複数のラ
    インから一つのラインを指定するための第1アドレス信
    号、及び、指定された該ライン上の一つのアドレスを指
    定するための第2アドレス信号に応じて、該メモリセル
    アレイの任意のアドレスが選択される半導体記憶装置に
    おいて、 該複数のラインのうちの少なくとも一つのラインは、重
    複せずに配されたROM部及びRAM部を有しており、 該少なくとも一つのラインのうちの不良ライン上のRO
    M部のみ又はRAM部のみを置換するための冗長ライン
    を備えた半導体記憶装置。
  4. 【請求項4】前記冗長ラインとしての冗長ROMライン
    と、 前記不良ライン上のROM部のアドレスが、前記第1ア
    ドレス信号と前記第2アドレス信号とによって指定され
    た場合に、該冗長ROMライン上の、該第2アドレス信
    号に対応するアドレスを選択し、しかも、該冗長ROM
    ラインにより置換された該不良ライン上のRAM部のア
    ドレスが、該第1アドレス信号と該第2アドレス信号と
    によって指定された場合には、該冗長ROMライン上
    の、該第2アドレス信号に対応するアドレスを選択しな
    い手段と、 を備えた請求項3に記載の半導体記憶装置。
  5. 【請求項5】前記冗長ラインとしての冗長RAMライン
    を備え、 前記不良ライン上のRAM部のアドレスが前記第1アド
    レス信号と前記第2アドレス信号とによって指定された
    場合には、該冗長RAMライン上の、該第2アドレス信
    号に対応するアドレスを選択し、該不良ライン上のRO
    M部のアドレスが該第1アドレス信号と該第2アドレス
    信号とによって指定された場合には、該冗長RAMライ
    ン上の、該第2アドレス信号に対応するアドレスを選択
    しない手段を、更に備えた請求項3に記載の半導体記憶
    装置。
  6. 【請求項6】前記冗長ラインとしての冗長ROMライン
    及び冗長RAMラインを備え、 前記不良ライン上のROM部のアドレスが前記第1アド
    レス信号と前記第2アドレス信号とによって指定された
    場合には、該冗長ROMライン上の、該第2アドレス信
    号に対応するアドレスを選択し、該不良ライン上のRA
    M部のアドレスが該第1アドレス信号と該第2アドレス
    信号とによって指定された場合には、該冗長RAMライ
    ン上の、該第2アドレス信号に対応するアドレスを選択
    する手段を、更に備えた請求項3に記載の半導体記憶装
    置。
  7. 【請求項7】前記第2アドレス信号によって指定される
    アドレスのそれぞれが前記ROM部及び前記RAM部の
    何れであるかを、ROMデータ書込み時に記憶し得る記
    憶手段を備えている請求項4から請求項6のいずれかに
    記載の半導体記憶装置。
  8. 【請求項8】前記第1アドレス信号を受けて、前記不良
    ラインの指定を検出する冗長ROMデコーダと、 該冗長ROMデコーダの出力を受け取り、前記記憶手段
    の記憶内容に応じて、該ラインの該ROM部が該1アド
    レス信号及び前記第2アドレス信号により指定されてい
    るときは、該冗長ROMラインの選択を示す信号を出力
    し、該ラインの該RAM部が該1アドレス信号及び該第
    2アドレス信号により指定されているときは、該冗長R
    OMラインの非選択を示す信号を出力する制御手段と、 を備えている請求項7に記載の半導体記憶装置。
  9. 【請求項9】前記第1アドレス信号を受けて、前記不良
    ラインの指定を検出する冗長RAMデコーダと、 該冗長RAMデコーダの出力を受け取り、前記記憶手段
    の記憶内容に応じて、該ラインの該RAM部が該1アド
    レス信号及び前記第2アドレス信号により指定されてい
    るときは、該冗長RAMラインを選択する信号を出力
    し、該ラインの該ROM部が該1アドレス信号及び該第
    2アドレス信号により指定されているときは、該冗長R
    AMラインを選択しない信号を出力する制御手段と、 を備えている請求項7に記載の半導体記憶装置。
  10. 【請求項10】前記不良ライン上のアドレスのそれぞれ
    がROM部又はRAM部の何れであるかを、冗長置換時
    にプログラムし得るプログラム手段を備えている請求項
    4から請求項6のいずれかに記載の半導体記憶装置。
  11. 【請求項11】前記第2のアドレス信号を受け取り、前
    記プログラム手段のプログラム内容に応じて、前記第1
    及び第2アドレス信号により指定されるアドレスが、前
    記不良ラインのROM部であれば、該冗長ROMライン
    上の、該第2アドレス信号に対応するアドレスを選択す
    る信号を出力し、該ラインの該RAM部が該1アドレス
    信号及び該第2アドレス信号により指定されているとき
    は、該冗長ROMライン上の、該第2アドレス信号に対
    応するアドレスを選択する信号を出力しないデコーダを
    備えている請求項10に記載の半導体記憶装置。
  12. 【請求項12】前記第2アドレス信号を受け取り、前記
    プログラム手段のプログラム内容に応じて、前記第1ア
    ドレス及び該第2アドレス信号により指定されるアドレ
    スが、前記不良ラインのRAM部であれば、該冗長RA
    Mライン上の、該第2アドレス信号に対応するアドレス
    を選択する信号を出力し、該不良ラインの該ROM部が
    該第1アドレス信号及び該第2アドレス信号により指定
    されているときは、該冗長RAMライン上の、該第2ア
    ドレス信号に対応するアドレスを選択する信号を出力し
    ないデコーダを備えている請求項10に記載の半導体記
    憶装置。
  13. 【請求項13】前記第2アドレス信号を受け取り、該第
    2アドレスによって指定されるアドレスについての前記
    記憶手段の記憶内容を読み出し、該記憶内容に応じた出
    力をつくるROM/RAM判定手段を備えている請求項
    7に記載の半導体記憶装置。
  14. 【請求項14】前記第2アドレス信号を受け取り、該第
    2アドレスによって指定されるアドレスについての前記
    プログラム手段のプログラム内容を読み出し、該プログ
    ラム内容に応じた出力をつくるROM/RAM判定手段
    を備えている請求項10に記載の半導体記憶装置。
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