JP2895988B2 - 半導体装置の製造方法 - Google Patents
半導体装置の製造方法Info
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Description
脂封止を行う半導体装置の製造方法に関する。
進み、パッケージにおいても多様かしてきており、ガー
ドリングを有する半導体装置がある。このような半導体
装置を樹脂封止する場合、樹脂注入の経路が長いことか
ら、封止不良を防ぐ必要がある。
置の斜視図を示す。図6において、半導体装置1におけ
るセンターパッケージ2をガードリング3により取り囲
む形状に形成される。そして、センターパッケージ2よ
り延出するリード2aが、センターパッケージ2とガー
ドリング3により形成される開口部4の底部の配線基板
5上に取り付けられ、その信号ラインの端子6が該ガー
ドリング3の側面に表出する。
ング3は、該半導体装置1の温度特性等の試験のために
形成されるもので、試験終了後は分離される。
合、センターパッケージとガードリングを別工程で行う
と、熱収縮の関係から、リード2aが変形する虞れがあ
り、同時に封止する必要がある。
型の概念図を示す。図7(A)は上金型を示しており、
図7(B)は下金型を示している。図7(A)の上金型
10には、中央部分にポット(スプルー)11が設けら
れており、センターキャビティ13a1 の周囲にリング
部キャビティ12b1 が形成されたキャビティ121 が
所定数配列される。また、図7(B)の下金型13に
は、上金型10のキャビティ121 に対応したキャビテ
ィ122 (センターキャビティ12a2 、リング部キャ
ビティ12b2 )が形成され、カル部14から4本のラ
ンナ15が形成されてそれぞれのキャビティ122 に連
通する。なお、キャビティ122 のセンターキャビティ
12a2 とリング部キャビティ12b2 間には、連通す
るランナ16が形成される。
う場合、ポット11内にタブレット状の樹脂を挿入し、
溶解させた後にカル部14からプランジャ(図示せず)
の押圧でランナ15,16を介してキャビティ121 ,
122 に注入するものである。この場合、まず外側のガ
ードリング3に樹脂が注入された後に、センターパッケ
ージ2へ樹脂が注入されるという経路をとる。
金型を説明するための図を示す。図8(A)は斜視図で
あり、図8(B)は断面図である。図8(A)は、下金
型20にはセンターキャビティ21a1 及びその周囲に
リング部キャビティ21b1 で形成されたキャビティ2
11 が複数個形成され、それぞれのリング部キャビティ
21b1 にゲート22を介してカル部23が形成され
る。
ティ211 に対応したキャビティ212 (センタキャビ
ティ21a2 、リング部キャビティ21b2 )がそれぞ
れ形成される。また、各カル部23の上方にポット25
が形成され、該各ポット25内をプランジャ26が摺動
する。
25は、まずポット25内にタブレット状の樹脂を挿入
し、溶解させた後にプランジャ26の押圧力により、カ
ル部23からゲート22を介してリング部キャビティ2
1b1 ,21b2 に注入する。そして、リング部キャビ
ティ21b1 ,21b2 が充満した後にセンターキャビ
ティ21a1 ,21a2 に注入されて樹脂封止が行われ
るものである。この場合、マルチポット方式は、樹脂の
粘度が高く、短時間で樹脂封止を行うものに適用され
る。
に示す樹脂封止は、溶解した樹脂がリング部キャビティ
21b1 ,12b2 ,21b1 ,21b2 を充填させた
後にセンターキャビティ12a1 ,12a2 ,21
a1 ,21a2 に注入されることから、樹脂の時間等を
厳格に管理して封止しなければならない。すなわち、セ
ンターキャビティ12a1 ,12a2 ,21a1 ,21
a2 に樹脂が注入されるころには、該樹脂が硬化してし
まい、センターパッケージ2(図6)にボイド(気泡)
や未充填等を生じさせるという問題がある。
もので、センターパッケージに生じるボイドや未充填等
を防止する半導体装置を提供することを目的とする。
明図を示す。図1において、本発明は、金型の上金型及
び下金型で形成れるセンターキャビティ及びリング部キ
ャビティの、該センターキャビティにデバイスを位置さ
せて樹脂を注入し、ガードリングを形成させて樹脂モー
ルドを行うものであって、第1の工程では、前記上金型
または下金型の何れかに形成された前記センターキャビ
ティに連通するポット部に、固形状の樹脂を挿入して溶
解させる。第2の工程では、該溶解した樹脂を押圧して
該センターキャビティに充填する。そして、第3の工程
では、該センターキャビティの充填後に、前記リング部
キャビティに該溶解した樹脂を充填するものである。
下金型の何れかに、センターキャビティに連通するポッ
ト部を形成させている。このポット部に樹脂を挿入して
溶解させ、センターキャビティに充填したセンターパッ
ケージを形成し、その後にリング部キャビティに充填し
てガードリングを形成させる。
填させて先にデバイスの樹脂モールドすることから、セ
ンターパッケージのモールド樹脂にボイドや未充填を生
じることを防止することが可能となる。そして、信頼性
を余り必要としないガードリング部にボイドや未充填等
の発生を追い出すものである。これにより、ガードリン
グを有する半導体装置の信頼性を向上させることが可能
となる。
を示す。図2(A)において、上金型30a及び下金型
30bにより構成される金型30の、該上金型30aと
下金型30bでセンターキャビティ31及びその周囲に
ゲート32aを介してリング部キャビティ32が形成さ
れる。また、下金型30bのセンターキャビティ31の
下部に連通するポット部33が形成され、該ポット部3
3内をプランジャ34が摺動する。なお、金型30は、
図示しないが加熱手段により所定温度に加熱される。
ターキャビティ31上に連通するポット部33を設けた
もので、ポット部33内をプランジャ34が摺動する。
ドフレーム35aにチップ35bが搭載されてワイヤボ
ンディングされたデバイス35が下金型30bのセンタ
ーキャビティ31内に位置するように載置される。この
場合、リードフレーム35aのチップ35bを搭載する
ダイパッドの底面がポット部33に向くように配置され
(反対向きでも良い)、リードフレーム35aの延出す
るリードがリング部キャビティ32を通って載置され
る。この状態で、ポット部33内に封止用の固形状(タ
ブレット状)の樹脂が挿入され、金型30の熱により溶
解される。
して、先にセンターキャビティ31内に充填し、センタ
ーパッケージ2(図6)を形成する。センターキャビテ
ィ31の充填が終了すると、ゲート32aを介して樹脂
はリング部キャビティ32に注入されてガードリング3
(図6)を形成するものである。
キャビティ31から注入されることから、形成されるセ
ンターパッケージ2にはボイドや未充填上端の発生を防
止することができる。この場合、リング部キャビティ3
2に廻り込む樹脂は、ある程度の時間が経過しているこ
とから硬化が起こり始めてガードリング3にボイドや未
充填状態を生じる場合がある。ガードリング3は前述の
ように半導体装置の試験用のためだけのものであって後
に分離するものであることから、ボイドや未充填を生じ
ていても該半導体装置の性能に影響を及ぼすものではな
い。従って、ガードリングを有する半導体装置の不良を
減少させ、信頼性を向上させることができる。
ターキャビティ31に対する一つのポット部33を形成
させたもので前述のマルチポット方式を採用したもので
ある。
成図を示す。図3(A)は下金型の一部斜視図であり、
図3(B)は金型の断面図である。図3(A),(B)
は、センターキャビティ31にそれぞれポット部を形成
するマルチポット方式で樹脂モールドを行い、それぞれ
のリング部キャビティ32には単一のポット部(図示せ
ず)によりランナ37及びゲート38を介して樹脂モー
ルドを行うものである。この場合、リング部キャビティ
32に注入する樹脂を信頼性より成形性を重視した低粘
度の樹脂を用いてもよい。また、ポット部33は上金型
30aに形成してもよい。また、該単一のポット部は上
金型30a及び下金型30bの何れに形成してもよい。
ずガードリング3においてもボイドや未充填の発生を防
止することができる。
構成断面図を示す。図4は、センターキャビティ31と
リング部キャビティ32をそれぞれ別にマルチポット方
式で樹脂モールドを行う場合を示している。図4におい
て、下金型30bにセンターキャビティ用のポット部3
3の他にリング部キャビティ用のポット部39を形成
し、ポット部39内をプランジャ40が摺動可能に設け
られている。そして、ポット部39上方にカル部41を
形成し、カル部41よりゲート42を介してリング部キ
ャビティ32に連通させている。そして、ポット部39
内に固形状の樹脂43を挿入し、溶解させてプランジャ
40によりリング部キャビティ32に注入するものであ
る。
39を上金型30aに形成してもよく、また、注入する
樹脂43を、樹脂36と異なる性質のものを用いてもよ
い。ここで、図5に、本発明の他の実施例の構成断面図
を示す。図5は、センターキャビティのみを示してお
り、リング部キャビティは省略している。図5におい
て、上金型30aのセンターキャビティ32上方にポッ
ト部33が形成されるのは図1以下と同様である(下金
型30bに設けてもよい)。そして、下金型30b(上
金型30aでもよい)にポット部44を形成し、ポット
部44内をプランジャ45が摺動可能に設けられる。ま
た、ポット部44の上方には上金型30aによるカル部
46が形成され、ゲート47を介してセンターキャビテ
ィ31に連通されて溶解され、プランジャ45によりゲ
ート47を介してセンターキャビティ31に注入され
る。
6に超低応力樹脂を用い、ポット部33内で溶解させて
プランジャ34で軽く押して注入しチップ35b、ワイ
ヤの周辺を固めておく。そして、樹脂48に成形性の良
好な樹脂を用いてポット部44よりセンターキャビティ
31に注入させるものである。
頼性、成形性を飛躍的に向上させることができる。
キャビティに連通するポット部を形成し、ポット部内で
溶解させた樹脂をセンターキャビティに充填した後にリ
ング部キャビティに充填することにより、センターキャ
ビティで形成されるセンターパッケージにボイドや未充
填状態が生じることを防止することができ、半導体装置
の信頼性、成形性を向上させることができる。
る。
の図である。
Claims (4)
- 【請求項1】 金型(30)の上金型(30a)及び下
金型(30b)で形成れるセンターキャビティ(31)
及びリング部キャビティ(32)の、該センターキャビ
ティ(31)にデバイス(35)を位置させて樹脂を注
入し、ガードリングを形成させて樹脂モールドを行う半
導体装置の製造方法において、 前記上金型(30a)または下金型(30b)の何れか
に形成された前記センターキャビティ(31)に連通す
るポット部(33)に、樹脂(36)を挿入して溶解さ
せる工程と、 該溶解した樹脂(36)を押圧して該センターキャビテ
ィ(31)に充填する工程と、 該センターキャビティ(31)の充填後に、前記リング
部キャビティ(32)に該溶解した樹脂(36)を充填
する工程と、 を含むことを特徴とする半導体装置の製造方法。 - 【請求項2】 金型(30)の上金型(30a)及び下
金型(30b)で形成れる複数のセンターキャビティ
(31)及びリング部キャビティ(32)の、該センタ
ーキャビティ(31)にデバイス(35)を位置させて
樹脂を注入し、ガードリングを形成させて樹脂モールド
を行う半導体装置の製造方法において、 前記上金型(30a)または下金型(30b)の何れか
に形成された複数の前記センターキャビティ(31)の
それぞれに連通するポット部(33)に、樹脂(36)
を挿入して溶解させる工程と、 該溶解した樹脂(36)を押圧して該センターキャビテ
ィ(31)に充填する工程と、 該上金型(30a)または下金型(30b)の何れかに
形成され、複数の前記リング部キャビティ(32)に連
通する該ポット部(33)と異なる単一のポット部に、
樹脂を挿入して溶解させる工程と、 該単一のポット部内で溶解した樹脂を押圧して該複数の
リング部キャビティ(32)内に充填する工程と、 を含むことを特徴とする半導体装置の製造方法。 - 【請求項3】 金型(30)の上金型(30a)及び下
金型(30b)で形成れる複数のセンターキャビティ
(31)及びリング部キャビティ(32)の、該センタ
ーキャビティ(31)にデバイス(35)を位置させて
樹脂を注入し、ガードリングを形成させて樹脂モールド
を行う半導体装置の製造方法において、 前記上金型(30a)または下金型(30b)の何れか
に形成された複数の前記センターキャビティ(31)の
それぞれに連通するポット部(33)に、樹脂(36)
を挿入して溶解させる工程と、 該溶解した樹脂(36)を押圧して該センターキャビテ
ィ(31)に充填する工程と、 前記上金型(30a)または下金型(30b)の何れか
に形成された複数の前記リング部キャビティ(32)の
それぞれに連通するポット部(39)に、樹脂(43)
を挿入して溶解させる工程と、 該ポット部(39)内で溶解した樹脂(43)を押圧し
て該リング部キャビティ(32)に充填する工程と、 を含むことを特徴とする半導体装置の製造方法。 - 【請求項4】 前記樹脂(36)に超低応力樹脂を用い
て、前記センターキャビティ(31)のデバイス(3
5)の周辺部のみに充填して硬化させると共に、 該センターキャビティ(31)に連通する他のポット部
(44)より成形性良好な樹脂(48)により、該セン
ターキャビティ(31)に充填することを特徴とする請
求項1,2または3記載の半導体装置の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP16052691A JP2895988B2 (ja) | 1991-07-01 | 1991-07-01 | 半導体装置の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP16052691A JP2895988B2 (ja) | 1991-07-01 | 1991-07-01 | 半導体装置の製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0513487A JPH0513487A (ja) | 1993-01-22 |
JP2895988B2 true JP2895988B2 (ja) | 1999-05-31 |
Family
ID=15716872
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP16052691A Expired - Lifetime JP2895988B2 (ja) | 1991-07-01 | 1991-07-01 | 半導体装置の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2895988B2 (ja) |
-
1991
- 1991-07-01 JP JP16052691A patent/JP2895988B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0513487A (ja) | 1993-01-22 |
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