JP2895609B2 - レーザ加工ノズルへのガス供給装置 - Google Patents

レーザ加工ノズルへのガス供給装置

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JP2895609B2
JP2895609B2 JP2289681A JP28968190A JP2895609B2 JP 2895609 B2 JP2895609 B2 JP 2895609B2 JP 2289681 A JP2289681 A JP 2289681A JP 28968190 A JP28968190 A JP 28968190A JP 2895609 B2 JP2895609 B2 JP 2895609B2
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明夫 島田
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Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明はレーザ加工機におけるレーザ加工ノズルへの
ガス供給装置に関する。
[従来の技術] レーザ加工機における例えば切断加工では、まずワー
クにピアッシングを行ってから所定の加工に入る。その
とき、レーザ加工ノズルより噴出させるアシストガスと
して、ワーク材質など加工条件に応じてピアッシング時
には主に酸素が用いられ、加工時にはエアーまたは酸素
或は窒素などが用いられ、たいていの場合ピアッシング
時と加工時とは種類の違うガスが使用される。また、ピ
アッシング時と加工時のガス圧もそれぞれ加工条件に適
した圧力に設定調整される。このようにガス圧の違う2
種類のガスを加工用ノズルに選択的に送り込むために、
一般にガス供給ユニットから2本のガス供給路を設け、
それぞれに切替弁等を設けてピアッシング用ガスまたは
加工用ガスのいずれかを選択的に同一ノズルに供給でき
るようにしている。
従来では、第2図に示すようにガス供給ユニット1の
出力端に接続されたピアッシング用ガス供給路2と加工
用ガス供給路3中にそれぞれスプリングリターン式のパ
イロット形電磁弁4、5を設け、例えばコントローラか
らの指令によってそれぞれの電磁弁4、5を開閉切替さ
せている。また、ピアッシング用ガスと加工用ガスのガ
ス圧が大きく違った場合に開側のガス圧の逆圧によって
閉側の電磁弁のスプリングが負かされ弁が開いてしまう
の防ぐため、各供給路2、3のそれぞれの電磁弁4、5
より下流側においてチェック弁6、7を設けている。
[発明の解決すべき問題点] しかし、このような従来の回路では、例えばピアッシ
ング用ガス圧を1.5kg/cm2、加工用ガス圧を0.4kg/cm2
どとしていわゆる低圧加工を行う場合に、ピアッシング
時において比較的高いピアッシング用ガスの逆圧が加工
用ガス供給側のチェック弁7にかかりチェック弁7に食
付きを起こすことがあった。このため、ピアッシングか
ら加工に移るとき、ピアッシング用ガス供給側の電磁弁
4を閉、加工用ガス供給側の電磁弁5を開にしても上記
チェック弁7が食い付いたまま開かずノズル8から加工
用ガスが出てこないことが度々あった。
また、このようなガス圧が1kg/cm2以下の低圧加工に
おいては、電磁弁5がパイロット式のため圧力が安定せ
ず、しかもチェック弁7のクラッキング圧(最低作動
圧)が影響して圧力損失が大きく、したがって効率の良
い安定した良好な加工ができないという問題点があっ
た。
[問題点を解決するための手段] そこで、本発明は従来のパイロット式の電磁弁の代り
に直動形の電磁弁を用いたパイロット圧による圧力変動
をなくすとともに、従来の2個のチェック弁も同様の直
動形の電磁弁に替え、逆圧による弁の食付きおよびクラ
ッキング圧による圧力損失をなくすようにしたものであ
る。
すなわち、本発明は第1図に示すように、ガス供給ユ
ニット1からたがいに並列に接続されたピアッシング用
ガス供給路2および加工用ガス供給路3を介してピアッ
シング用ガスまたは加工用ガスを選択的にレーザ加工ノ
ズル8へ送り込むガス供給装置において、各ガス供給路
2、3中にそれぞれ切替用の直動形電磁弁9、10を設け
るとともに、これら各電磁弁9、10より下流側において
それぞれ逆止用の直動形電磁弁11、12をその接続ポート
P、Aを電磁弁9,10とは逆向きにして接続し、切替指令
によって同一供給路中の上記2つの電磁弁9と11または
10と12を同時に開閉動作させるように構成している。
[作用] まず、ピアッシング開始においてピアッシング用ガス
供給路2中の2つの電磁弁9、11が同時に開に切り替わ
るとともに、ガス供給ユニット1よりこのピアッシング
用ガス供給路2を介し所定圧のピアッシング用ガスが加
工ノズル8に供給される。このガスが加工ノズル8のガ
ス噴射孔からワークWに高速噴射されながらレンズLで
集光されたレーザ光によりワークWにピアッシングが行
われる。このときピアッシング用ガスの一部が加工用ガ
ス供給路3へ逆流しても閉状態の逆向きの電磁弁12によ
って流れが完全に阻止され、電磁弁10まで到らない。
ピアッシングが終り次に加工に移るとき、ピアッシン
グ用ガス供給路2の2つの電磁弁9、11は同時に閉に切
り替わり、その後加工用ガス供給路3の2つの電磁弁1
0、12が同時に開に切り替わる。各電磁弁9、10、11、1
2はすべて直動形であるのですぐに切替動作し、しかも
開側は確実に開状態を維持できる。これによりガス供給
ユニット1より所定圧の加工用ガスが加工用ガス供給路
3の開状態の電磁弁10、12を通過してすぐに加工ノズル
8に供給される。このガスが加工ノズル8のガス噴射孔
からワークWに高速噴射されながらレンズLで集光され
たレーザ光によりワークWに所定の加工が行われる。こ
のとき加工用ガスの一部がピアッシング用ガス供給路2
へ逆流しても閉状態の逆向きの電磁弁11によって流れが
完全に阻止され、電磁弁9まで到らない。
加工が終了すると、加工用ガス供給路3側の2つの電
磁弁10、12が同時に閉に切り替わり、加工用ガスのノズ
ル8への供給が完全に停止される。
[発明の効果] 本発明によれば、開閉切替用および逆止用の弁は全て
直動形の電磁弁を用いたので、たとえ低圧加工において
もピアッシング開始時或はピアッシングから加工へ移る
とき、切替指令と同時に確実に開閉動作がなされ、しか
も逆止用の電磁弁は切替用の電磁弁と同時に開閉される
ので、供給ガス圧に関係なくガスを通過させることがで
き遅れなく加工ノズルに供給できる。しかも逆止用の弁
に逆圧による食付きを生じるおそれは全くなく、開指令
で必ず開くためノズルよりガスが出ないという異常事態
が起きることもなく、よって時間的ロスなく効率的に確
実に加工が開始できる。また、各電磁弁による圧力損失
もなく安定した供給圧力が維持でき、ピアッシング時お
よび加工時におけるアシストガスのガス圧、ガス種類の
変更にも関係なく確実にガス供給が行え、いかなる加工
においても常に安定した良好な加工が可能となる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明のガス供給装置を示す回路図、第2図は
従来装置を示す回路図である。 1…ガス供給ユニット、2…ピアッシング用ガス供給
路、3…加工用ガス供給路、8…レーザ加工ノズル、
9、10…切替用の直動形電磁弁、11、12…逆止用の直動
形電磁弁、P、A…接続ポート。

Claims (1)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】ガス供給ユニットからたがいに並列に接続
    されたピアッシング用ガス供給路および加工用ガス供給
    路を介してピアッシング用ガスまたは加工用ガスを選択
    的にレーザ加工ノズルへ送り込むガス供給装置におい
    て、各ガス供給路中にそれぞれ切替用の直動形電磁弁を
    設けるとともに、これら各電磁弁より下流側においてそ
    れぞれ逆止用の直動形電磁弁をその接続ポートを切替用
    の直動形電磁弁とは逆向きにして接続し、切替指令によ
    って同一供給路中の上記2つの電磁弁を同時に開閉動作
    させることを特徴とするレーザ加工ノズルへのガス供給
    装置。
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