JP2882484B2 - 高耐食性稀土類鉄系磁石及びその製造方法 - Google Patents
高耐食性稀土類鉄系磁石及びその製造方法Info
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Description
【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野］ 本発明は、耐食性に優れたパラキシリレン重合膜また
はクロロパラキシリレン重合膜被覆稀土類鉄系磁石及び
その製造方法に関する。
はクロロパラキシリレン重合膜被覆稀土類鉄系磁石及び
その製造方法に関する。
［従来の技術］ 従来、高エネルギー積磁石としてSm−Co系磁石が用い
られてきたが、コスト、機械加工性、エネルギー積とい
う点で一層有利な稀土類鉄系磁石が最近注目されてい
る。特に原子比で稀土類元素８〜30％、B2〜28％、及び
Fe残部並びに不可避的に不純物を含む稀土類鉄系磁石が
効果的である。
られてきたが、コスト、機械加工性、エネルギー積とい
う点で一層有利な稀土類鉄系磁石が最近注目されてい
る。特に原子比で稀土類元素８〜30％、B2〜28％、及び
Fe残部並びに不可避的に不純物を含む稀土類鉄系磁石が
効果的である。
ところが、稀土類鉄系磁石は酸化し易いNd、Feを多く
含むため、酸、アルカリ等の薬品に腐食されまた水分に
より錆びやすく、耐食性という点ではSm−Co系に比べ劣
っていた。このため、かかる磁石を有効利用すべく、め
っき、プラズマ重合による成膜、樹脂膜塗布等の種々の
表面保護方法が検討されている。
含むため、酸、アルカリ等の薬品に腐食されまた水分に
より錆びやすく、耐食性という点ではSm−Co系に比べ劣
っていた。このため、かかる磁石を有効利用すべく、め
っき、プラズマ重合による成膜、樹脂膜塗布等の種々の
表面保護方法が検討されている。
［発明が解決しようとする課題］ しかしながら、湿式めっき等の表面処理では、酸、ア
ルカリ等による前処理工程或いはめっき工程中に表面が
侵されたり、たとえめっきができても、内部に侵入した
薬品の影響により、内部腐食が発生するという問題があ
った。しかも結晶粒間が侵食される結果、磁気特性が低
下するという重大な欠点があった。
ルカリ等による前処理工程或いはめっき工程中に表面が
侵されたり、たとえめっきができても、内部に侵入した
薬品の影響により、内部腐食が発生するという問題があ
った。しかも結晶粒間が侵食される結果、磁気特性が低
下するという重大な欠点があった。
一方、プラズマ重合法により稀土類鉄系磁石の表面に
重合膜を設ける方法が知られているが（特開昭63−681
1）、この方法では表面保護のために膜厚を大きくする
と膜の内部応力により膜が剥離しやすくなるという問題
がある。また、特に、重合材料に酸素を構成元素とする
アクリル酸等を用いると活性酸素によるプラズマエッチ
ングが起り、膜の緻密さ及び硬度が低下する。この結
果、得られる膜はガスバリヤー、防錆膜としての機能に
欠けるという問題があった。
重合膜を設ける方法が知られているが（特開昭63−681
1）、この方法では表面保護のために膜厚を大きくする
と膜の内部応力により膜が剥離しやすくなるという問題
がある。また、特に、重合材料に酸素を構成元素とする
アクリル酸等を用いると活性酸素によるプラズマエッチ
ングが起り、膜の緻密さ及び硬度が低下する。この結
果、得られる膜はガスバリヤー、防錆膜としての機能に
欠けるという問題があった。
また、特許公開公報第55−103714号に記載されている
ようにポリパラキシリレンを真空蒸着法により永久磁石
の全周にコーチィングする方法が開示されているが、こ
の方法は蒸着膜の磁石に対する付着性及び膜の緻密性が
十分でないため防錆等の腐食の目的には満足できるもの
でなかった。
ようにポリパラキシリレンを真空蒸着法により永久磁石
の全周にコーチィングする方法が開示されているが、こ
の方法は蒸着膜の磁石に対する付着性及び膜の緻密性が
十分でないため防錆等の腐食の目的には満足できるもの
でなかった。
別の表面保護方法として高分子樹脂膜を稀土類鉄系磁
石の表面に塗布する方法が知られているが（特開昭61−
198221号公報、同56−81908号公報、同60−63901号
等）、この方法では耐食性及び磁石への接着性を同時に
満足できないという問題があった。即ち、高分子樹脂膜
は、一般に透湿性及び酸素透過性を有し、また、稀土類
鉄系磁石との親和性に欠ける。例えば、エポキシ樹脂は
耐食性に欠け、弗素樹脂では被覆の際に磁石の酸化を招
く高温焼付けを必要とするという問題があった。
石の表面に塗布する方法が知られているが（特開昭61−
198221号公報、同56−81908号公報、同60−63901号
等）、この方法では耐食性及び磁石への接着性を同時に
満足できないという問題があった。即ち、高分子樹脂膜
は、一般に透湿性及び酸素透過性を有し、また、稀土類
鉄系磁石との親和性に欠ける。例えば、エポキシ樹脂は
耐食性に欠け、弗素樹脂では被覆の際に磁石の酸化を招
く高温焼付けを必要とするという問題があった。
従って、前記従来技術では、稀土類鉄系磁石に密着で
き且つ満足な耐食機能を発揮する保護膜を備えた稀土類
鉄系磁石を得ることができなかった。
き且つ満足な耐食機能を発揮する保護膜を備えた稀土類
鉄系磁石を得ることができなかった。
そこで、本発明の目的は、耐食性に優れる保護膜を稀
土類鉄系磁石に強固に密着してなる稀土類鉄系磁石及び
その製造方法を提供することにある。
土類鉄系磁石に強固に密着してなる稀土類鉄系磁石及び
その製造方法を提供することにある。
［課題を解決するための手段］ 上記問題点を解決するため本発明者らは鋭意検討研究
を重ねた結果、稀土類鉄系磁石の表面を予めプラズマ処
理し、次いで該表面上にパラキシリレン重合膜またはク
ロロパラキシリレン重合膜を成膜することにより重合膜
が強固に密着し且つ耐食性に優れた稀土類鉄系磁石が得
られることを見出した。
を重ねた結果、稀土類鉄系磁石の表面を予めプラズマ処
理し、次いで該表面上にパラキシリレン重合膜またはク
ロロパラキシリレン重合膜を成膜することにより重合膜
が強固に密着し且つ耐食性に優れた稀土類鉄系磁石が得
られることを見出した。
すなわち、本発明は、プラズマ処理した稀土類鉄系金
属磁石の表面にパラキシリレン重合膜またはクロロパラ
キシリレン重合膜を成膜してなる高耐食性稀土類鉄系磁
石を提供するものである。
属磁石の表面にパラキシリレン重合膜またはクロロパラ
キシリレン重合膜を成膜してなる高耐食性稀土類鉄系磁
石を提供するものである。
更に、本発明は、稀土類鉄系磁石の表面をプラズマ処
理した後、該表面上にパラキシリレン重合膜またはクロ
ロパラキシリレン重合膜を成膜する高耐食性稀土類鉄系
磁石の製造方法をも提供するものである。
理した後、該表面上にパラキシリレン重合膜またはクロ
ロパラキシリレン重合膜を成膜する高耐食性稀土類鉄系
磁石の製造方法をも提供するものである。
本発明に従い、本発明の稀土類鉄系磁石を製造するに
は、まず稀土類鉄系磁石の表面をプラズマ処理する。か
かるプラズマ処理は以下に記載するようにパラキシリレ
ン重合膜またはクロロパラキシリレン重合膜の稀土類鉄
系磁石への接着力を付与するための処理である。
は、まず稀土類鉄系磁石の表面をプラズマ処理する。か
かるプラズマ処理は以下に記載するようにパラキシリレ
ン重合膜またはクロロパラキシリレン重合膜の稀土類鉄
系磁石への接着力を付与するための処理である。
プラズマ処理する稀土類鉄系磁石としては、Nd−Fe−
Ｂ系、Nd−Fe−Ｂ−Zr系、メッシュメタル、Ｒ−Ｔ−Ｂ
またはＲ−Ｔ−Ｂ−Ｍ（式中、Ｒは稀土類元素、ＴはF
e,Coを主体とする遷移金属、ＭはZr,Nb,Mo,Hf,Ta,Wの少
なくとも１種）系等を挙げることができるが特にこれら
に限定されない。また、これらの磁石は、機械的に粉砕
した微粒子を有機バインダ等で結合したいわゆるボンド
磁石、粉砕した微粒子を高温焼結したいわゆる焼結磁石
等の任意の製法で得られた稀土類鉄系磁石を用いること
ができる。
Ｂ系、Nd−Fe−Ｂ−Zr系、メッシュメタル、Ｒ−Ｔ−Ｂ
またはＲ−Ｔ−Ｂ−Ｍ（式中、Ｒは稀土類元素、ＴはF
e,Coを主体とする遷移金属、ＭはZr,Nb,Mo,Hf,Ta,Wの少
なくとも１種）系等を挙げることができるが特にこれら
に限定されない。また、これらの磁石は、機械的に粉砕
した微粒子を有機バインダ等で結合したいわゆるボンド
磁石、粉砕した微粒子を高温焼結したいわゆる焼結磁石
等の任意の製法で得られた稀土類鉄系磁石を用いること
ができる。
プラズマ処理用ガスとして、Ar,He,Ne等の希ガス、
H2,N2,O2,CO,CO2,H2O,NO2,NOX,NH3のガス等を挙げるこ
とができ、これらを単独または混合して用いることがで
きる。このうち、稀土類鉄系磁石の表面処理には、パラ
キシリレン重合膜またはクロロパラキシリレン重合膜の
接着性を改善すること及びWBL（弱境界層）の除去とい
う理由からAr等の希ガス、O2,CO,NOX等の含酸素ガスが
好ましい。
H2,N2,O2,CO,CO2,H2O,NO2,NOX,NH3のガス等を挙げるこ
とができ、これらを単独または混合して用いることがで
きる。このうち、稀土類鉄系磁石の表面処理には、パラ
キシリレン重合膜またはクロロパラキシリレン重合膜の
接着性を改善すること及びWBL（弱境界層）の除去とい
う理由からAr等の希ガス、O2,CO,NOX等の含酸素ガスが
好ましい。
プラズマ処理の条件としては、通常、ガス圧力を0.01
〜10Torr、電源として直流または交流電源を使用でき、
交流周波数として50Hz〜GHzを使用できる。使用電力は1
0w〜10kw、処理時間は0.5秒〜10分に設定することがで
きる。これらの条件は、被処理磁石、パラキシリレン重
合膜またはクロロパラキシリレン重合膜の膜厚及び用い
るプラズマガスの種類により任意に変えることができ
る。接触角としては30゜以下にするのが好ましい。
〜10Torr、電源として直流または交流電源を使用でき、
交流周波数として50Hz〜GHzを使用できる。使用電力は1
0w〜10kw、処理時間は0.5秒〜10分に設定することがで
きる。これらの条件は、被処理磁石、パラキシリレン重
合膜またはクロロパラキシリレン重合膜の膜厚及び用い
るプラズマガスの種類により任意に変えることができ
る。接触角としては30゜以下にするのが好ましい。
本発明の方法に従えば、上記プラズマ処理した稀土類
鉄系磁石の表面にパラキシリレン重合膜またはクロロパ
ラキシリレン重合膜を成膜する。
鉄系磁石の表面にパラキシリレン重合膜またはクロロパ
ラキシリレン重合膜を成膜する。
ここに、パラキシリレン重合膜またはクロロパラキシ
リレン重合膜は、例えば、米国ユニオン・カーバイド社
で開発された熱可塑性樹脂パリレン（商標名）であり、
パリレンＮ（ポリパラキシリレン）、パリレンＣ（ポリ
モノクロロパラキシリレン）、パリレンＤ（ポリジクロ
ロパラキシリレン）の３種が知られている。本発明にお
いてはパリレンＣがガス透過性が低いという理由から一
層好ましい。
リレン重合膜は、例えば、米国ユニオン・カーバイド社
で開発された熱可塑性樹脂パリレン（商標名）であり、
パリレンＮ（ポリパラキシリレン）、パリレンＣ（ポリ
モノクロロパラキシリレン）、パリレンＤ（ポリジクロ
ロパラキシリレン）の３種が知られている。本発明にお
いてはパリレンＣがガス透過性が低いという理由から一
層好ましい。
かかるパリレン等の重合膜を稀土類鉄系磁石の表面に
成膜するには、通常、以下の操作に従う。
成膜するには、通常、以下の操作に従う。
すなわち、パリレンＮの成膜を例にすると、ｐ−キシ
リレンの２量体を用意し、それを蒸発炉中に導入して20
0℃以下、1Torr以下で蒸発させ、得られたガス状のｐ−
キシリレンを分解炉に導入して700℃以下、0.5Torr以下
で熱分解させる。次いで、該分解ガスを、稀土類鉄系磁
石を配置した蒸着室に導いて、常温、0.01〜0.2Torrの
条件下で磁石表面に蒸着させる。パリレンＣ、Ｄの成膜
の場合も同様の操作に基づく。かかるの操作は、パリレ
ン蒸着装置モデル1010（ユニオン・カーバイド社製）を
用いて行なうことができる。
リレンの２量体を用意し、それを蒸発炉中に導入して20
0℃以下、1Torr以下で蒸発させ、得られたガス状のｐ−
キシリレンを分解炉に導入して700℃以下、0.5Torr以下
で熱分解させる。次いで、該分解ガスを、稀土類鉄系磁
石を配置した蒸着室に導いて、常温、0.01〜0.2Torrの
条件下で磁石表面に蒸着させる。パリレンＣ、Ｄの成膜
の場合も同様の操作に基づく。かかるの操作は、パリレ
ン蒸着装置モデル1010（ユニオン・カーバイド社製）を
用いて行なうことができる。
上記パラキシリレン重合膜またはクロロパラキシリレ
ン重合膜の膜厚としては、十分な耐食性を確保するため
に、0.5〜50μｍが好ましく、特に１〜20μｍが好まし
い。
ン重合膜の膜厚としては、十分な耐食性を確保するため
に、0.5〜50μｍが好ましく、特に１〜20μｍが好まし
い。
こうして本発明の高耐食性稀土類鉄系磁石を得るが、
上記方法において、プラズマ処理前あるいは処理後に、
磁石の表面を超音波洗浄等の手段で洗浄しても良い。
上記方法において、プラズマ処理前あるいは処理後に、
磁石の表面を超音波洗浄等の手段で洗浄しても良い。
［作用］ 前記のように稀土類鉄系磁石は一般に高分子樹脂との
密着性に欠け、特にパラキシリレン重合膜またはクロロ
パラキシリレン重合膜については著しい。本発明者らは
稀土類鉄系磁石を予めプラズマ処理することにより、パ
ラキシリレン等を重合膜が稀土類鉄系磁石にきわめて強
固に接着することを見出した。
密着性に欠け、特にパラキシリレン重合膜またはクロロ
パラキシリレン重合膜については著しい。本発明者らは
稀土類鉄系磁石を予めプラズマ処理することにより、パ
ラキシリレン等を重合膜が稀土類鉄系磁石にきわめて強
固に接着することを見出した。
即ち、プラズマ処理により磁石表面が接触角が低下す
ることにより、パラキシリレン等の重合膜に対する濡れ
性が改善される。また、プラズマ処理によりWBL層が除
去され、また磁石表面がエッチングされることによりパ
ラキシリレン等の重合膜の接着性が改善される。更に、
プラズマ中のイオン、ラジカル等により磁石の表面には
クロロパラキシリレン等の重合膜と化学結合可能な各種
のラジカル、OH基等の官能基が生じ、これらの種と重合
膜が反応しやすくなる。かかる作用によりパラキシリレ
ン等の重合膜の稀土類鉄系磁石への密着力が付与された
もの考えられる。
ることにより、パラキシリレン等の重合膜に対する濡れ
性が改善される。また、プラズマ処理によりWBL層が除
去され、また磁石表面がエッチングされることによりパ
ラキシリレン等の重合膜の接着性が改善される。更に、
プラズマ中のイオン、ラジカル等により磁石の表面には
クロロパラキシリレン等の重合膜と化学結合可能な各種
のラジカル、OH基等の官能基が生じ、これらの種と重合
膜が反応しやすくなる。かかる作用によりパラキシリレ
ン等の重合膜の稀土類鉄系磁石への密着力が付与された
もの考えられる。
一方、パラキシリレン等の重合膜は、ガス及び水蒸気
透過性がきわめて低い樹脂であり、真空蒸着の際に材料
表面に不純物の混入が少なく、ピンホールが少ない均一
の膜厚の薄膜を形成できる等の種々の利点を有する。従
って、上記のプラズマ処理により、かかる重合膜の優れ
た特性を稀土類鉄系磁石の表面に的確に付与することが
できる。
透過性がきわめて低い樹脂であり、真空蒸着の際に材料
表面に不純物の混入が少なく、ピンホールが少ない均一
の膜厚の薄膜を形成できる等の種々の利点を有する。従
って、上記のプラズマ処理により、かかる重合膜の優れ
た特性を稀土類鉄系磁石の表面に的確に付与することが
できる。
更に本発明の方法は酸、アルカリ等を用いないため、
稀土類鉄系磁石の特性を変化させず、長期安定性に優れ
た稀土類鉄系磁石を提供することができる。また、本発
明に係るパラキシリレン等の重合膜は磁石を機械的な衝
撃から保護するが、密着性の向上に伴い一層優れた耐衝
撃性をもたらすことができる。
稀土類鉄系磁石の特性を変化させず、長期安定性に優れ
た稀土類鉄系磁石を提供することができる。また、本発
明に係るパラキシリレン等の重合膜は磁石を機械的な衝
撃から保護するが、密着性の向上に伴い一層優れた耐衝
撃性をもたらすことができる。
［実施例］ 実施例１ Nd15Fe77B6からなる組成の合金を作製し、粗粉砕した
後、ジェットミルを用いて平均粒径3.5μｍの磁性粉末
に微粉砕した。本磁性粉末を10kOeの磁場中で1.5トン/c
m2の圧力で成形した。その後Arガス雰囲気中で1100℃、
２時間焼結を行ない、続いて600℃、1hrの時効処理を行
なった。
後、ジェットミルを用いて平均粒径3.5μｍの磁性粉末
に微粉砕した。本磁性粉末を10kOeの磁場中で1.5トン/c
m2の圧力で成形した。その後Arガス雰囲気中で1100℃、
２時間焼結を行ない、続いて600℃、1hrの時効処理を行
なった。
得られた成形体の磁気特性は第１表に示す通りであ
る。
る。
次いで、この成形体をプラズマ照射装置に装入し、プ
ラズマガスにO2を用い、ガス圧を0.1Torr、RF電源（13.
56MHz）100wの条件で成形体の表面をプラズマ処理し
た。表面の接触角は10゜であった。
ラズマガスにO2を用い、ガス圧を0.1Torr、RF電源（13.
56MHz）100wの条件で成形体の表面をプラズマ処理し
た。表面の接触角は10゜であった。
次に、パリレン蒸着装置（モデル1010）を用いて上記
成形体にパリレンＣを成膜した。この際、クロロ−ｐ−
キシリレンの２量体を蒸発炉中に導入して150℃、1Torr
で蒸発させ、得られたガス状のクロロ−ｐ−キシリレン
を熱分解炉に導入して650℃、0.3Torrで熱分解させた。
さらに、該分解ガスを上記成形体を配置した蒸着室に導
いて、25℃、0.05Torrの条件下で成形体表面に膜厚が２
μｍになるように蒸着させた。
成形体にパリレンＣを成膜した。この際、クロロ−ｐ−
キシリレンの２量体を蒸発炉中に導入して150℃、1Torr
で蒸発させ、得られたガス状のクロロ−ｐ−キシリレン
を熱分解炉に導入して650℃、0.3Torrで熱分解させた。
さらに、該分解ガスを上記成形体を配置した蒸着室に導
いて、25℃、0.05Torrの条件下で成形体表面に膜厚が２
μｍになるように蒸着させた。
こうして本発明のパリレン被覆稀土類鉄系磁石を得た
（試料１）。
（試料１）。
比較例１ 比較のためプラズマ処理を行なわない以外は、実施例
１と同様にして磁石成形体を製造したパリレン樹脂を上
記成型体表面に蒸着した（比較試料１）。
１と同様にして磁石成形体を製造したパリレン樹脂を上
記成型体表面に蒸着した（比較試料１）。
しかし、パリレン樹脂は密着性がなく簡単にはがれ
た。
た。
実施例２ 原料を秤量し、溶融し、鋳造して、合金組成がNd9Fe
79.5Zr4B7.5（合金１）及びNd8.5Fe80Zr3.5B8（合金
２）の２種類の合金インゴッドを製造した。これらをそ
れぞれ高周波溶解し、Ar雰囲気中Cu単ロール（周速20m/
秒）の表面に射出して高速急冷して合金薄帯を得た。こ
れをAr雰囲気中、700℃で30分間熱処理した後、スタン
プミルで50〜200μｍの平均粒子径となるように粉砕し
て磁石粉末を得た。
79.5Zr4B7.5（合金１）及びNd8.5Fe80Zr3.5B8（合金
２）の２種類の合金インゴッドを製造した。これらをそ
れぞれ高周波溶解し、Ar雰囲気中Cu単ロール（周速20m/
秒）の表面に射出して高速急冷して合金薄帯を得た。こ
れをAr雰囲気中、700℃で30分間熱処理した後、スタン
プミルで50〜200μｍの平均粒子径となるように粉砕し
て磁石粉末を得た。
上記、磁石粉末に対して、2.5wt％のエポキシ樹脂を
混合し、5ton/cm2で加圧成形し、次いで180℃の温度で
樹脂硬化を行なった。得られた成形体の磁気特性は第２
表に示す通りである。
混合し、5ton/cm2で加圧成形し、次いで180℃の温度で
樹脂硬化を行なった。得られた成形体の磁気特性は第２
表に示す通りである。
次いで、この成形体をプラズマ照射装置に装入し、プ
ラズマガスにArを用い、ガス圧を0.05Torr、RF電源（1
3.56MHz）電力200wの条件で成形体の表面をプラズマ処
理した。表面積の接触角は12゜であった。
ラズマガスにArを用い、ガス圧を0.05Torr、RF電源（1
3.56MHz）電力200wの条件で成形体の表面をプラズマ処
理した。表面積の接触角は12゜であった。
次いで、パリレン蒸着装置（モデル1010）を用いて上
記成形体にパリレンＣを成膜した。この際、クロロ−ｐ
−キシリレンの２量体を蒸発炉中に導入して150℃、1To
rrで蒸発させ、得られたガス状のクロロ−ｐ−キシリレ
ンを分解炉に導入して650℃、0.3Torrで熱分解させた。
さらに、該分解ガスを上記成形体を配置した蒸着室に導
いて、25℃、0.05Torrの条件下で成形体表面に２μｍの
膜厚になるように蒸着させた（試料２）。
記成形体にパリレンＣを成膜した。この際、クロロ−ｐ
−キシリレンの２量体を蒸発炉中に導入して150℃、1To
rrで蒸発させ、得られたガス状のクロロ−ｐ−キシリレ
ンを分解炉に導入して650℃、0.3Torrで熱分解させた。
さらに、該分解ガスを上記成形体を配置した蒸着室に導
いて、25℃、0.05Torrの条件下で成形体表面に２μｍの
膜厚になるように蒸着させた（試料２）。
比較例２ 比較のためプラズマ処理を行なわなかった以外は、実
施例２と同様にして磁石成形体を製造してパリレン樹脂
を上記成形体表面に蒸着した（比較試料２） しかし、接着性が悪く簡単にはがれた。
施例２と同様にして磁石成形体を製造してパリレン樹脂
を上記成形体表面に蒸着した（比較試料２） しかし、接着性が悪く簡単にはがれた。
クロスカット試験 こうして得られた試料１、２及び比較試験１、２につ
いて磁石に対するパリレン被膜の接着性を評価するため
に以下のようなクロスカット試験を行なった：試料の表
面に1mm間隔で碁盤の目状にナイフ傷を入れ、接着テー
プを張り、引き剥したときのパリレン樹脂膜の剥れの度
合いを観察する。
いて磁石に対するパリレン被膜の接着性を評価するため
に以下のようなクロスカット試験を行なった：試料の表
面に1mm間隔で碁盤の目状にナイフ傷を入れ、接着テー
プを張り、引き剥したときのパリレン樹脂膜の剥れの度
合いを観察する。
試料１及び２は殆ど剥離しなかったのに対して、比較
試料１及び２は部分的に剥離していた。
試料１及び２は部分的に剥離していた。
試験結果を第３表中に示す。
耐湿性試験 本発明の稀土類鉄系磁石につき防錆性を評化するため
に以下に示すような条件で耐湿性試験を行なった。
に以下に示すような条件で耐湿性試験を行なった。
環境条件：温度85℃、90％RH 得られた試験結果を第３表中に示す。
表面試験 1000時間耐湿性試験後の試料を光学顕微鏡を用いて倍
率50倍、400倍で観察した。
率50倍、400倍で観察した。
第３表の結果より、本発明の稀土類鉄系磁石は保護膜
としてのパラキシリレン等の重合膜の接着性が改善され
ており、耐食性が大幅に向上していることがわかる。
としてのパラキシリレン等の重合膜の接着性が改善され
ており、耐食性が大幅に向上していることがわかる。
［発明の効果］ 以上説明してきたように本発明の方法によれば、緻密
でピンホールが無いパリレン樹脂膜を強固に磁石表面に
接着してなる希土類鉄性磁石を提供できる。また本発明
の希土類鉄性磁石は従来の希土類鉄性磁石に比べ耐食性
において一層優れ且つ希土類磁石本来の磁気特性を保持
する。更に本発明による磁石における被覆は磁石表面と
強固に密着しているために耐衝撃性にも優れている。
でピンホールが無いパリレン樹脂膜を強固に磁石表面に
接着してなる希土類鉄性磁石を提供できる。また本発明
の希土類鉄性磁石は従来の希土類鉄性磁石に比べ耐食性
において一層優れ且つ希土類磁石本来の磁気特性を保持
する。更に本発明による磁石における被覆は磁石表面と
強固に密着しているために耐衝撃性にも優れている。
従って、本発明の高耐食性希土類鉄性磁石は錆等の腐
食が発生しやすい苛酷な条件に有用であり、当業界にお
ける本発明の技術的価値は極めて高い。
食が発生しやすい苛酷な条件に有用であり、当業界にお
ける本発明の技術的価値は極めて高い。
フロントページの続き (72)発明者 柴原 正典 東京都中央区日本橋１丁目13番１号 テ ィーディーケイ株式会社内 (72)発明者 中谷 賢示 東京都中央区日本橋１丁目13番１号 テ ィーディーケイ株式会社内 (56)参考文献 特開 昭63−9107（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.6，ＤＢ名) H01F 41/02
Claims (6)
- 【請求項１】プラズマ処理した稀土類鉄系磁石の表面に
パラキシリレン重合膜またはクロロパラキシリレン重合
膜を熱分解原料からのプラズマを用いない蒸着で成膜し
てなる高耐食性稀土類鉄系磁石。 - 【請求項２】上記高耐食性稀土類鉄系磁石がボンド磁石
である請求項１に記載の高耐食性稀土類鉄系磁石。 - 【請求項３】上記高耐食性稀土類鉄系磁石が焼結磁石で
ある請求項１に記載の高耐食性稀土類鉄系磁石。 - 【請求項４】稀土類鉄系磁石の表面をプラズマ処理した
後、該表面上にパラキシリレン重合膜またはクロロパラ
キシリレン重合膜を熱分解原料からのプラズマを用いな
い蒸着で成膜する高耐食性稀土類鉄系磁石の製造方法。 - 【請求項５】上記高耐食性稀土類鉄系磁石がボンド磁石
である請求項４に記載の高耐食性稀土類鉄系磁石の製造
方法。 - 【請求項６】上記高耐食性稀土類鉄系磁石が焼結磁石で
ある請求項４に記載の高耐食性稀土類鉄系磁石の製造方
法。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1067521A JP2882484B2 (ja) | 1989-03-22 | 1989-03-22 | 高耐食性稀土類鉄系磁石及びその製造方法 |
| US07/497,549 US5154978A (en) | 1989-03-22 | 1990-03-22 | Highly corrosion-resistant rare-earth-iron magnets |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1067521A JP2882484B2 (ja) | 1989-03-22 | 1989-03-22 | 高耐食性稀土類鉄系磁石及びその製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02248012A JPH02248012A (ja) | 1990-10-03 |
| JP2882484B2 true JP2882484B2 (ja) | 1999-04-12 |
Family
ID=13347366
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1067521A Expired - Fee Related JP2882484B2 (ja) | 1989-03-22 | 1989-03-22 | 高耐食性稀土類鉄系磁石及びその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2882484B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100347842B1 (ko) * | 2000-05-03 | 2002-08-13 | 민용기 | 자석의 제조방법 및 그 제조물 |
| EP3319098A1 (en) * | 2016-11-02 | 2018-05-09 | Abiomed Europe GmbH | Intravascular blood pump comprising corrosion resistant permanent magnet |
-
1989
- 1989-03-22 JP JP1067521A patent/JP2882484B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH02248012A (ja) | 1990-10-03 |
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